JP2004238370A - スルフェンアミド化合物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】Ｎ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物の新規な製造法の提供。
【解決手段】下記一般式（リ）で示されるＮ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物を製造する方法において、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物とアミン化合物を反応させることにより製造する。
【化１】
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。Ｒ２、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示し、Ｒ２とＲ３が互いに連結して窒素原子と共に環を形成していてもよい。ただし、Ｒ２とＲ３の両方が水素原子ではない。）
【選択図】 なし
【解決手段】下記一般式（リ）で示されるＮ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物を製造する方法において、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物とアミン化合物を反応させることにより製造する。
【化１】
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。Ｒ２、Ｒ３は水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示し、Ｒ２とＲ３が互いに連結して窒素原子と共に環を形成していてもよい。ただし、Ｒ２とＲ３の両方が水素原子ではない。）
【選択図】 なし
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、Ｎ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物とアミン類を反応させることによりＮ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物を効率よく製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
スルフェンアミド化合物は、種々の機能性を持つ化合物である（非特許文献１）。たとえば、ゴムの加硫化剤（特許文献１，特許文献２）、発芽前処理用除草剤（特許文献３）、殺菌剤（特許文献４）等の作用を有することが知られている。
また、Ｎ−モノ置換−２−アルコキシカルボニルフェニルスルフェンアミド化
合物の場合は、下記反応式（ヘ）に示すように塩基の存在下において容易に環化して（特許文献５，非特許文献２）、抗菌・抗バクテリア作用等の生理活性を持つことが知られている１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン化合物を製造することができる。
【化７】
【０００３】
従来、スルフェンアミド類は、メルカプト基やジスルフィド基を有する化合物を塩素ガスと処理をした後に得られる塩化スルフェニル化合物とアミン類を反応させる方法や、クロラミン化合物とメルカプト化合物を反応させる方法により製造されてきたが、いずれの方法も、出発原料を製造するにあたり有毒な塩素ガスを用いなければならず、また塩素ガスは製造装置の腐食の問題もあり、取り扱い上困難な場合もあるので、塩素ガスを使用しない安全な製造法の開発が望まれている。
【０００４】
【特許文献１】特開昭６４−４８８３１号公報
【特許文献２】米国特許第２８６６７７７号明細書（１９５５）
【特許文献３】特開昭５３−３１６４３号明細書
【特許文献４】特開昭５５−５１０５３号公報
【特許文献５】特開昭４６−５５１６号公報
【非特許文献１】Ｃｈｅｍ． Ｒｅｖ． ８９， ６８９ （１９８９）
【非特許文献２】Ｊ． Ｏｒｇ． Ｃｈｅｍ．， ４０， ２０２９ （１９７５）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、スルフェンアミド化合物を製造するにあたり、従来から行われてきた方法で用いられてきた、有毒で取り扱いの困難な塩素ガスを用いるという欠点を克服し、塩素を用いることなく、かつ、Ｎ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物を製造するための工業的に有利な方法を提供することを目的としてなされたものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、Ｎ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法について鋭意研究を重ねた結果、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物とアミン類を反応することにより、安全かつ容易に、Ｎ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物が得られることを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明によれば、下記一般式（イ）で表されるＮ−置換スルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）で表されるＮ−アシルスルフェンアミド化合物と下記一般式（ハ）で表されるアミン類を反応させることを特徴とするＮ−置換スルフェンアミド化合物の製造方法が提供される。
【化８】
（式中、Ｒ１は、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。Ｒ２は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）
【化９】
（式中、Ｒ１は、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは、０または１〜４の整数である。Ｒ４は、炭素数１〜１２のペルフルオロアルキル基を示す。）
【化１０】
（式中、Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。）
【０００８】
また、本発明によれば、下記一般式（ニ）で表されるＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）で表されるＮ−アシルスルフェンアミド化合物と、下記一般式（ホ）で表されるアミン類を反応させることを特徴とするＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法が提供される。
【化１１】
（式中、Ｒ１は、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは、０または１〜４の整数である。Ｒ２、Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示し、Ｒ２とＲ３が互いに連結して窒素原子と共に環を形成していてもよい。）
【化１２】
（式中、Ｒ１は、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは、０または１〜４の整数である。Ｒ４は炭素数１〜１２のペルフルオロアルキル基を示す。）
【化１３】
（式中、Ｒ２、Ｒ３は炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。Ｒ２とＲ３は互いに連結して窒素原子と共に環を形成していてもよい。）
【０００９】
【発明実施の形態】
本発明は、特定のスルフェンアミド化合物を製造する方法である。
この目的生成物であるスルフェンアミド化合物は、下記一般式（イ）で表されるＮ−置換スルフェンアミド化合物である。
【化１４】
本発明の製造目的化合物であるＮ−置換スルフェンアミド化合物の置換基は、以下の通りである。
（１）Ｒ１は、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。
具体的なアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、ジメチルブチル基、エチルブチル基、ヘプチル基、オクチル基などを挙げることができる。
具体的なシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。
具体的なアルコキシル基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
具体的なアルコキシカルボニル基としてはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基、ベンジロキシカルボニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、ｎは０または１〜４の整数である。
（２）Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。
具体的なアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、ジメチルブチル基、エチルブチル基、オクチル基、デカン基、ウンデカン基、ドデカン基などを挙げることができる。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的なシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。これらのシクロアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的な芳香族基としては、フェニル基、クメニル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、メシチル基、トリル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基等の置換基を有していてもよい。
【００１０】
また、この目的生成物の化合物は、下記一般式（ニ）で表されるＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物である。
【化１５】
本発明の目的化合物であるＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物の置換基は、以下の通りである。
（１）Ｒ１は、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。
具体的なアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、ジメチルブチル基、エチルブチル基、ヘプチル基、オクチル基などを挙げることができる。
具体的なシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。
具体的なアルコキシル基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
具体的なアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基、ベンジロキシカルボニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、ｎは０または１〜４の整数である。
（２）Ｒ２、Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を示す。
具体的なアルキル基としては、具体的なアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、ジメチルブチル基、エチルブチル基、オクチル基、デカン基、ウンデカン基、ドデカン基などを挙げることができる。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的なシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。これらのシクロアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的な芳香族基としては、フェニル基、クメニル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、メシチル基、トリル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基等の置換基を有していてもよい。
（３） Ｒ２、Ｒ３が、互いに連結して窒素原子と共に環を形成してるアミン類の例として、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン等が挙げられる。
【００１１】
本発明の目的生成物であるスルフェンアミド化合物の代表例は、以下のとおりである。
Ｎ−ベンジル−２−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−（ｐ−クロロベンジル）−２−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−ブチル−２−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−シクロヘキシル−２−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−クミル−２−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−（ｐ−トリル）−２−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）−２−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−ベンジル−４−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）−４−メチルベンゼンスルフェンアミド。
Ｎ−ベンジル−２−ニトロスルフェナモイルベンゼン。
Ｎ−ベンジル−４−ニトロスルフェナモイルベンゼン。
Ｓ−ピロリジノ−２−メルカプト安息香酸メチル等。
【００１２】
本発明の一方の出発物質は、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物である。この化合物は、下記一般式（ロ）で示される公知物質である。
【化１６】
本発明の一方の出発物質である、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物の置換基は、以下の通りである。
（１）Ｒ１は、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。
具体的なアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、ジメチルブチル基、エチルブチル基、ヘプチル基、オクチル基などを挙げることができる。
具体的なシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。
具体的なアルコキシル基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
具体的なアルコキシカルボニル基としてはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基、ベンジロキシカルボニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、ｎは０または１〜４の整数である。
（２）Ｒ４は炭素数１〜１２のペルフルオロアルキル基を示す。
具体的なペルフフオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
【００１３】
前記Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物は、公知の方法によりＮ−無置換スルフェンアミド化合物とペルフルオロカルボン酸無水物を塩基存在下混合することにより得ることができる。
【００１４】
本発明の他の一方の出発物質は、下記一般式（ハ）で表されるアミン化合物である。
【化１７】
前記、第１級アミン化合物の置換基は、以下の通りである。
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。
具体的な脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、ジメチルブチル基、エチルブチル基、オクチル基、デカン基、ウンデカン基、ドデカン基などを挙げることができる。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的な脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。これらのシクロアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的な芳香族炭化水素基としては、フェニル基、クメニル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、メシチル基、トリル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基等の置換基を有していてもよい。
【００１５】
前記アミン化合物は、対応するアルコール化合物、ハロゲン化合物、ニトリル化合物、アルデヒド化合物、ニトロ化合物から製造されるが、市販の化合物が用いられる。
【００１６】
また、本発明の他の一方の出発物質は、下記一般式（ホ）で表されるアミン化合物である。
【化１８】
前記、第２級アミン化合物の置換基は、以下の通りである。
（１）Ｒ２、Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。Ｒ２とＲ３は互いに連結して窒素原子と共に環を形成していてもよい。
具体的なアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、ジメチルブチル基、エチルブチル基、オクチル基、デカン基、ドデカン基などを挙げることができる。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的なシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。これらのシクロアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的な芳香族基としては、フェニル基、クメニル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、メシチル基、トリル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基等の置換基を有していてもよい。
（２）Ｒ２、Ｒ３が、互いに連結して窒素原子と共に環を形成してるアミン類の例として、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン等が挙げられる。
【００１７】
前記アミン化合物は、対応するアルコール化合物、ハロゲン化合物、ニトリル化合物、アルデヒド化合物、ニトロ化合物から製造されるが、市販の化合物が用いられる。
【００１８】
本発明の新規な合成反応は次のような反応式（ト）、（チ）によって表すことができる。
【化１９】
【００１９】
本発明のＮ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法は、前記の原料物質を反応させて反応させる。この反応では、好ましくは反応溶媒の存在下で実施される。
この反応溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール等を挙げることができる。また、これらの溶媒は単独または混合溶媒の形で使用される。
【００２０】
前記製造方法の温度は、０℃〜１５０℃付近の範囲の温度で行うことができる。この範囲未満の温度が低い場合には、反応時間が遅くなる。この範囲を超えると、温度が高すぎるので、分解反応や副反応が多くなる。このようなことから、前記５０℃〜１２０℃の範囲で反応を行うことがが好ましい。
反応時間は、反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常は１〜２４時間で十分である。
反応終了後、溶媒を留去し、目的生成物を取り出すことができる。
【００２１】
【実施例】
次に、本発明を実施例により詳細に説明する。
なお、本発明の実施例は、本発明の理解を容易にするために代表的な反応例をあげたものであり、本発明はこれだけに限定されるものではない。
下記実施例によって製造されるＮ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物は、既知のものについては融点および各種スペクトルデータを比較することより、未知のものについては各種スペクトルを主要な判定基準として同定した。
【００２２】
実施例１
内容積３０ｍｌのガラス製容器中にＮ−トリフルオロアセチル−２−スルフェナモイル安息香酸メチル（８３．８ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）とベンジルアミン（４８ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を、テトラヒドロフラン（３ｍｌ）に溶解させ、７時間、還流下に加熱を行った。
反応終了後、テトラヒドロフランを、減圧下に留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより、Ｎ−ベンジル−２−スルフェナモイル安息香酸メチル、８１．２ｍｇを得た（収率９９％）。
【００２３】
実施例２
実施例１において，溶媒をテトラヒドロフランの代わりにジオキサンを用いて同様な操作を行い、Ｎ−ベンジル−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（収量７０．５ｍｇ、収率８６％）。
【００２４】
実施例３
実施例１において，ベンジルアミンの代わりにｐ−クロロベンジルアミン（６３．７ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を用いて７時間加熱還流を行い，同様な操作を行うことにより，Ｎ−（ｐ−クロロベンジル）−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを収量６７．４ｍｇ、収率７３％で得た。
【００２５】
実施例４
実施例３において，溶媒としてテトラヒドロフランに替えて、メタノールを用いて５時間加熱還流を行い，同様な操作を行うことにより，Ｎ−（ｐ−クロロベンジル）−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（５８．２ｍｇ、収率６３％）。
【００２６】
実施例５
実施例１のベンジルアミンに替えて、ｔ−ブチルアミン（３３ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を用いて封管中４時間加熱を行い，同様な操作を行うことにより，Ｎ−ブチル−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（収量６４ｍｇ、収率８９％）。
【００２７】
実施例６
実施例１において，ベンジルアミンに替えてシクロヘキシルアミン（４４．６ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を用い、還流下に４時間加熱し、同様な操作を行うことにより，Ｎ−シクロヘキシル−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（収量６０．５ｍｇ、収率７６％）。
【００２８】
実施例７
実施例１において，ベンジルアミンに替えてクミルアミン（６０．９ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を用いて、還流下に２１時間加熱し、同様な操作を行うことによりＮ−クミル−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（収量３６．２ｍｇ、収率４０％）。
【００２９】
実施例８
実施例１において，ベンジルアミンに替えてｐ−トルイジン（４８．２ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を用い，溶媒として用いたテトラヒドロフランをトルエンに替えて、還流下に１０時間加熱し、同様な操作を行うことによりＮ−（ｐ−トリル）−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（収量３２．８ｍｇ、収率４０％）。
【００３０】
実施例９
実施例１において，ベンジルアミンに替えてｐ−クロロアニリン（５７．４ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を用い，溶媒としてテトラヒドロフランをトルエンに替えて、還流下に１５時間加熱を行い，同様な操作を行うことによりＮ−（ｐ−クロロフェニル）−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（収量５２ｍｇ、収率５９％）。
【００３１】
実施例１０
実施例１において，ベンジルアミンをピロリジン（３２ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）に替えて、還流下に３時間加熱し，同様な操作を行うことによりＳ−ピロリジノ−２−メルカプト安息香酸メチルを得た（収量６２ｍｇ、収率８７％）。
【００３２】
実施例１１
実施例１において、Ｎ−トリフルオロアセチル−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを替えて、Ｎ−トリフルオロアセチル−４−スルフェナモイル安息香酸メチル（８３．８ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を用い、溶媒としてテトラヒドロフランを替えて、トルエンを用い、還流下に２時間加熱し、同様な操作を行うことによりＮ−ベンジル−４−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（収量７０．５ｍｇ、収率７９％）。
【００３３】
実施例１２
内容積３０ｍｌのガラス製容器中にＮ−トリフルオロアセチル−４−メチルスルフェナモイルベンゼン（７０．６ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）とｐ−クロロアニリン（５７．４ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）をジオキサン（３ｍｌ）に溶解させ、３時間加熱還流を行った。
反応終了後、ジオキサンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することによりＮ−（ｐ−クロロフェニル）−４−メチルベンゼンスルフェンアミドを得た（収量５９．２ｍｇ、収率７９％）。
【００３４】
実施例１３
実施例１１において、Ｎ−トリフルオロアセチル−４−スルフェナモイル安息香酸メチルを替えてＮ−トリフルオロアセチル−２−ニトロスルフェナモイルベンゼン（８３．８ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を用いて、還流下に４時間加熱を行い，同様な操作を行うことによりＮ−ベンジル−２−ニトロスルフェナモイルベンゼンを得た（収量４７．６ｍｇ、収率６１％）。
【００３５】
実施例１４
実施例１１において、Ｎ−トリフルオロアセチル−４−スルフェナモイル安息香酸メチルを替えて、Ｎ−トリフルオロアセチル−４−ニトロスルフェナモイルベンゼン（８３．８ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を用いて、還流下に４時間加熱して，同様な操作を行うことにより、Ｎ−ベンジル−４−ニトロスルフェナモイルベンゼンを得た（収量７７．６ｍｇ、収率９６％）。
【００３６】
【発明の効果】
本発明におけるＮ−アシルスルフェンアミド化合物とアミン類の反応により、Ｎ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物を収率よく製造することができる。
しかも、有毒な塩素ガスを用いることなく安全に製造できるので、工業的なＮ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物の合成法として最適である。
【発明の属する技術分野】
本発明は、Ｎ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物とアミン類を反応させることによりＮ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物を効率よく製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
スルフェンアミド化合物は、種々の機能性を持つ化合物である（非特許文献１）。たとえば、ゴムの加硫化剤（特許文献１，特許文献２）、発芽前処理用除草剤（特許文献３）、殺菌剤（特許文献４）等の作用を有することが知られている。
また、Ｎ−モノ置換−２−アルコキシカルボニルフェニルスルフェンアミド化
合物の場合は、下記反応式（ヘ）に示すように塩基の存在下において容易に環化して（特許文献５，非特許文献２）、抗菌・抗バクテリア作用等の生理活性を持つことが知られている１，２−ベンゾイソチアゾリン−３−オン化合物を製造することができる。
【化７】
従来、スルフェンアミド類は、メルカプト基やジスルフィド基を有する化合物を塩素ガスと処理をした後に得られる塩化スルフェニル化合物とアミン類を反応させる方法や、クロラミン化合物とメルカプト化合物を反応させる方法により製造されてきたが、いずれの方法も、出発原料を製造するにあたり有毒な塩素ガスを用いなければならず、また塩素ガスは製造装置の腐食の問題もあり、取り扱い上困難な場合もあるので、塩素ガスを使用しない安全な製造法の開発が望まれている。
【０００４】
【特許文献１】特開昭６４−４８８３１号公報
【特許文献２】米国特許第２８６６７７７号明細書（１９５５）
【特許文献３】特開昭５３−３１６４３号明細書
【特許文献４】特開昭５５−５１０５３号公報
【特許文献５】特開昭４６−５５１６号公報
【非特許文献１】Ｃｈｅｍ． Ｒｅｖ． ８９， ６８９ （１９８９）
【非特許文献２】Ｊ． Ｏｒｇ． Ｃｈｅｍ．， ４０， ２０２９ （１９７５）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、スルフェンアミド化合物を製造するにあたり、従来から行われてきた方法で用いられてきた、有毒で取り扱いの困難な塩素ガスを用いるという欠点を克服し、塩素を用いることなく、かつ、Ｎ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物を製造するための工業的に有利な方法を提供することを目的としてなされたものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、Ｎ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法について鋭意研究を重ねた結果、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物とアミン類を反応することにより、安全かつ容易に、Ｎ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物が得られることを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００７】
すなわち、本発明によれば、下記一般式（イ）で表されるＮ−置換スルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）で表されるＮ−アシルスルフェンアミド化合物と下記一般式（ハ）で表されるアミン類を反応させることを特徴とするＮ−置換スルフェンアミド化合物の製造方法が提供される。
【化８】
【化９】
【化１０】
【０００８】
また、本発明によれば、下記一般式（ニ）で表されるＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）で表されるＮ−アシルスルフェンアミド化合物と、下記一般式（ホ）で表されるアミン類を反応させることを特徴とするＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法が提供される。
【化１１】
【化１２】
【化１３】
【０００９】
【発明実施の形態】
本発明は、特定のスルフェンアミド化合物を製造する方法である。
この目的生成物であるスルフェンアミド化合物は、下記一般式（イ）で表されるＮ−置換スルフェンアミド化合物である。
【化１４】
（１）Ｒ１は、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。
具体的なアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、ジメチルブチル基、エチルブチル基、ヘプチル基、オクチル基などを挙げることができる。
具体的なシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。
具体的なアルコキシル基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
具体的なアルコキシカルボニル基としてはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基、ベンジロキシカルボニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、ｎは０または１〜４の整数である。
（２）Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。
具体的なアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、ジメチルブチル基、エチルブチル基、オクチル基、デカン基、ウンデカン基、ドデカン基などを挙げることができる。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的なシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。これらのシクロアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的な芳香族基としては、フェニル基、クメニル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、メシチル基、トリル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基等の置換基を有していてもよい。
【００１０】
また、この目的生成物の化合物は、下記一般式（ニ）で表されるＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物である。
【化１５】
（１）Ｒ１は、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。
具体的なアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、ジメチルブチル基、エチルブチル基、ヘプチル基、オクチル基などを挙げることができる。
具体的なシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。
具体的なアルコキシル基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
具体的なアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基、ベンジロキシカルボニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、ｎは０または１〜４の整数である。
（２）Ｒ２、Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、または炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を示す。
具体的なアルキル基としては、具体的なアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、ジメチルブチル基、エチルブチル基、オクチル基、デカン基、ウンデカン基、ドデカン基などを挙げることができる。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的なシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。これらのシクロアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的な芳香族基としては、フェニル基、クメニル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、メシチル基、トリル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基等の置換基を有していてもよい。
（３） Ｒ２、Ｒ３が、互いに連結して窒素原子と共に環を形成してるアミン類の例として、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン等が挙げられる。
【００１１】
本発明の目的生成物であるスルフェンアミド化合物の代表例は、以下のとおりである。
Ｎ−ベンジル−２−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−（ｐ−クロロベンジル）−２−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−ブチル−２−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−シクロヘキシル−２−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−クミル−２−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−（ｐ−トリル）−２−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）−２−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−ベンジル−４−スルフェナモイル安息香酸メチル。
Ｎ−（ｐ−クロロフェニル）−４−メチルベンゼンスルフェンアミド。
Ｎ−ベンジル−２−ニトロスルフェナモイルベンゼン。
Ｎ−ベンジル−４−ニトロスルフェナモイルベンゼン。
Ｓ−ピロリジノ−２−メルカプト安息香酸メチル等。
【００１２】
本発明の一方の出発物質は、Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物である。この化合物は、下記一般式（ロ）で示される公知物質である。
【化１６】
（１）Ｒ１は、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数３〜８のシクロアルキル基を示す。炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。
具体的なアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、ジメチルブチル基、エチルブチル基、ヘプチル基、オクチル基などを挙げることができる。
具体的なシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。
具体的なアルコキシル基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
具体的なアルコキシカルボニル基としてはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基、ベンジロキシカルボニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子は、塩素、臭素、フッ素、ヨウ素を挙げることができる。
Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよい。また、ｎは０または１〜４の整数である。
（２）Ｒ４は炭素数１〜１２のペルフルオロアルキル基を示す。
具体的なペルフフオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロブチル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
【００１３】
前記Ｎ−アシルスルフェンアミド化合物は、公知の方法によりＮ−無置換スルフェンアミド化合物とペルフルオロカルボン酸無水物を塩基存在下混合することにより得ることができる。
【００１４】
本発明の他の一方の出発物質は、下記一般式（ハ）で表されるアミン化合物である。
【化１７】
Ｒ２は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。
具体的な脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、ジメチルブチル基、エチルブチル基、オクチル基、デカン基、ウンデカン基、ドデカン基などを挙げることができる。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的な脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。これらのシクロアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的な芳香族炭化水素基としては、フェニル基、クメニル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、メシチル基、トリル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基等の置換基を有していてもよい。
【００１５】
前記アミン化合物は、対応するアルコール化合物、ハロゲン化合物、ニトリル化合物、アルデヒド化合物、ニトロ化合物から製造されるが、市販の化合物が用いられる。
【００１６】
また、本発明の他の一方の出発物質は、下記一般式（ホ）で表されるアミン化合物である。
【化１８】
（１）Ｒ２、Ｒ３は、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２の芳香族基を示す。Ｒ２とＲ３は互いに連結して窒素原子と共に環を形成していてもよい。
具体的なアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、２−ヘキシル基、ジメチルブチル基、エチルブチル基、オクチル基、デカン基、ドデカン基などを挙げることができる。これらのアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的なシクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることができる。これらのシクロアルキル基は、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基等の置換基により置換されていてもよい。
具体的な芳香族基としては、フェニル基、クメニル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、メシチル基、トリル基（ｏ，ｍ，ｐがある。）、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらの芳香族基はハロゲン原子、アルコキシル基、ジアルキルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基等の置換基を有していてもよい。
（２）Ｒ２、Ｒ３が、互いに連結して窒素原子と共に環を形成してるアミン類の例として、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン等が挙げられる。
【００１７】
前記アミン化合物は、対応するアルコール化合物、ハロゲン化合物、ニトリル化合物、アルデヒド化合物、ニトロ化合物から製造されるが、市販の化合物が用いられる。
【００１８】
本発明の新規な合成反応は次のような反応式（ト）、（チ）によって表すことができる。
【化１９】
本発明のＮ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法は、前記の原料物質を反応させて反応させる。この反応では、好ましくは反応溶媒の存在下で実施される。
この反応溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトニトリル、アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール等を挙げることができる。また、これらの溶媒は単独または混合溶媒の形で使用される。
【００２０】
前記製造方法の温度は、０℃〜１５０℃付近の範囲の温度で行うことができる。この範囲未満の温度が低い場合には、反応時間が遅くなる。この範囲を超えると、温度が高すぎるので、分解反応や副反応が多くなる。このようなことから、前記５０℃〜１２０℃の範囲で反応を行うことがが好ましい。
反応時間は、反応温度により左右され、一概に定めることはできないが、通常は１〜２４時間で十分である。
反応終了後、溶媒を留去し、目的生成物を取り出すことができる。
【００２１】
【実施例】
次に、本発明を実施例により詳細に説明する。
なお、本発明の実施例は、本発明の理解を容易にするために代表的な反応例をあげたものであり、本発明はこれだけに限定されるものではない。
下記実施例によって製造されるＮ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物は、既知のものについては融点および各種スペクトルデータを比較することより、未知のものについては各種スペクトルを主要な判定基準として同定した。
【００２２】
実施例１
内容積３０ｍｌのガラス製容器中にＮ−トリフルオロアセチル−２−スルフェナモイル安息香酸メチル（８３．８ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）とベンジルアミン（４８ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を、テトラヒドロフラン（３ｍｌ）に溶解させ、７時間、還流下に加熱を行った。
反応終了後、テトラヒドロフランを、減圧下に留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより、Ｎ−ベンジル−２−スルフェナモイル安息香酸メチル、８１．２ｍｇを得た（収率９９％）。
【００２３】
実施例２
実施例１において，溶媒をテトラヒドロフランの代わりにジオキサンを用いて同様な操作を行い、Ｎ−ベンジル−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（収量７０．５ｍｇ、収率８６％）。
【００２４】
実施例３
実施例１において，ベンジルアミンの代わりにｐ−クロロベンジルアミン（６３．７ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を用いて７時間加熱還流を行い，同様な操作を行うことにより，Ｎ−（ｐ−クロロベンジル）−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを収量６７．４ｍｇ、収率７３％で得た。
【００２５】
実施例４
実施例３において，溶媒としてテトラヒドロフランに替えて、メタノールを用いて５時間加熱還流を行い，同様な操作を行うことにより，Ｎ−（ｐ−クロロベンジル）−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（５８．２ｍｇ、収率６３％）。
【００２６】
実施例５
実施例１のベンジルアミンに替えて、ｔ−ブチルアミン（３３ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を用いて封管中４時間加熱を行い，同様な操作を行うことにより，Ｎ−ブチル−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（収量６４ｍｇ、収率８９％）。
【００２７】
実施例６
実施例１において，ベンジルアミンに替えてシクロヘキシルアミン（４４．６ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を用い、還流下に４時間加熱し、同様な操作を行うことにより，Ｎ−シクロヘキシル−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（収量６０．５ｍｇ、収率７６％）。
【００２８】
実施例７
実施例１において，ベンジルアミンに替えてクミルアミン（６０．９ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を用いて、還流下に２１時間加熱し、同様な操作を行うことによりＮ−クミル−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（収量３６．２ｍｇ、収率４０％）。
【００２９】
実施例８
実施例１において，ベンジルアミンに替えてｐ−トルイジン（４８．２ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を用い，溶媒として用いたテトラヒドロフランをトルエンに替えて、還流下に１０時間加熱し、同様な操作を行うことによりＮ−（ｐ−トリル）−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（収量３２．８ｍｇ、収率４０％）。
【００３０】
実施例９
実施例１において，ベンジルアミンに替えてｐ−クロロアニリン（５７．４ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）を用い，溶媒としてテトラヒドロフランをトルエンに替えて、還流下に１５時間加熱を行い，同様な操作を行うことによりＮ−（ｐ−クロロフェニル）−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（収量５２ｍｇ、収率５９％）。
【００３１】
実施例１０
実施例１において，ベンジルアミンをピロリジン（３２ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）に替えて、還流下に３時間加熱し，同様な操作を行うことによりＳ−ピロリジノ−２−メルカプト安息香酸メチルを得た（収量６２ｍｇ、収率８７％）。
【００３２】
実施例１１
実施例１において、Ｎ−トリフルオロアセチル−２−スルフェナモイル安息香酸メチルを替えて、Ｎ−トリフルオロアセチル−４−スルフェナモイル安息香酸メチル（８３．８ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を用い、溶媒としてテトラヒドロフランを替えて、トルエンを用い、還流下に２時間加熱し、同様な操作を行うことによりＮ−ベンジル−４−スルフェナモイル安息香酸メチルを得た（収量７０．５ｍｇ、収率７９％）。
【００３３】
実施例１２
内容積３０ｍｌのガラス製容器中にＮ−トリフルオロアセチル−４−メチルスルフェナモイルベンゼン（７０．６ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）とｐ−クロロアニリン（５７．４ｍｇ，０．４５ｍｍｏｌ）をジオキサン（３ｍｌ）に溶解させ、３時間加熱還流を行った。
反応終了後、ジオキサンを減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒 塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することによりＮ−（ｐ−クロロフェニル）−４−メチルベンゼンスルフェンアミドを得た（収量５９．２ｍｇ、収率７９％）。
【００３４】
実施例１３
実施例１１において、Ｎ−トリフルオロアセチル−４−スルフェナモイル安息香酸メチルを替えてＮ−トリフルオロアセチル−２−ニトロスルフェナモイルベンゼン（８３．８ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を用いて、還流下に４時間加熱を行い，同様な操作を行うことによりＮ−ベンジル−２−ニトロスルフェナモイルベンゼンを得た（収量４７．６ｍｇ、収率６１％）。
【００３５】
実施例１４
実施例１１において、Ｎ−トリフルオロアセチル−４−スルフェナモイル安息香酸メチルを替えて、Ｎ−トリフルオロアセチル−４−ニトロスルフェナモイルベンゼン（８３．８ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を用いて、還流下に４時間加熱して，同様な操作を行うことにより、Ｎ−ベンジル−４−ニトロスルフェナモイルベンゼンを得た（収量７７．６ｍｇ、収率９６％）。
【００３６】
【発明の効果】
本発明におけるＮ−アシルスルフェンアミド化合物とアミン類の反応により、Ｎ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物を収率よく製造することができる。
しかも、有毒な塩素ガスを用いることなく安全に製造できるので、工業的なＮ−置換あるいはＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物の合成法として最適である。
Claims (2)
- 下記一般式（イ）で表されるＮ−置換スルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）で表されるＮ−アシルスルフ
ェンアミド化合物と、下記一般式（ハ）で表されるアミン類を反応させることを特徴とするＮ−置換スルフェンアミド化合物の製造方法。
- 下記一般式（ニ）で表されるＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）で表されるＮ−アシルスルフェンアミド化合物と、下記一般式（ホ）で表されるアミン類を反応させることを特徴とするＮ，Ｎ−ジ置換スルフェンアミド化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004238370A true JP2004238370A (ja) | 2004-08-26 |
| JP4006520B2 JP4006520B2 (ja) | 2007-11-14 |
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