JP2004225443A - 高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法 - Google Patents

高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法 Download PDF

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Abstract

【課題】改良するべき地盤にケーシングのガイドによるボーリング孔を穿孔する穿孔工程と、穿孔されたボーリング孔内に挿入された切削ロッドから高圧ジェット水を地盤中に噴射して地盤切削を行うとともに汚染土を切削ロッドの周囲を通して地上に排出する噴射切削工程と、この地盤切削箇所に流動化硬化材を打設する流動化硬化材打設工程とからなる高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法において、流動化硬化材充填前の空洞、または、施工直後の未固結部分改良部への土被り地盤の落下を防止して安全にかつ確実に施工を行うことができ、また、汚染土壌と改良土壌とを確実に置換できる。
【解決手段】穿孔工程と噴射切削工程と流動化硬化材打設工程とからなる地盤改良は、第1ステージ(B−1)の地盤改良とその下方に位置する第2ステージ(B−2)以下の工程とに分け、第1ステージ(B−1)の地盤改良はルーフ固結体として第2ステージ(B−2)以下の固結体に先行して施工する。
【選択図】 図5

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
化学工場、製油工場、または工場跡地などで多く見られる地盤汚染物質の種類としては、揮発性有機化合物、油、重金属などがあり、従来、それぞれの汚染物質に対応した浄化処理技術が実施されている。
【0003】
汚染土壌地盤を掘削により地上に搬出し、良質な地盤に置換する場合、地上から全面掘削する方法が一般であり、従来の掘削方法としては、▲1▼開削による掘削、▲2▼ライナープレート(深礎工)による掘削、▲3▼オールケーシング工法による掘削等がある。しかし、汚染地盤中の汚染物質を完全に浄化除去するためには、多大な労力・費用を要しており、例えば、汚染地域全域を完全に掘削してその掘削土を浄化する方法(掘削置換法)の場合には、完全を期すために汚染されていない部分まで掘削する必要があり、その掘削量は膨大となることが多く、しかも、掘削した汚染土の処理(焼却処理)費用も嵩む。
【0004】
また、揚水ばっき法や土壌ガス吸引法のように、地盤中に井戸を設置して周辺の汚染物質を回収する方法については、高濃度(例えば環境基準の数千〜数万倍)の汚染物質を低濃度に低下させることには有効な方法ではあるが、機能的にさらにそれ以下に低下させることは困難であり、長期間(例えば3年〜5年)では再度汚染物質が蓄積し、再度の浄化の必要も生じる。
【0005】
汚染地盤を処理費用が嵩まず、また長期間を必要とせずに浄化することができる汚染地盤の浄化処理方法として、高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工事としては、下記特許文献がある。
【0006】
【特許文献1】
特開2001−162262号公報
【特許文献2】
特開2001−311140号公報
【0007】
前記特許文献1は、汚染物質が深部の難透水層まで侵入した場合の汚染地盤の浄化処理方法であって、地中の汚染地盤内の所定深さまで削孔する削孔工程と、その削孔内にウォータージェット装置を挿入してウォータージェットによって水を還流する水噴射工程と、水の還流によって汚染物質を地上に排出除去する汚染物質排出工程と、さらにウォータージェット装置によって透水材料を噴射し透水材料と置換する透水材料置換工程とを有することを特徴とする汚染地盤の浄化処理方法である。
【0008】
この特許文献1の方法によれば、地盤中の汚染部分のみをピンポイントで浄化・除去することができ、余計な掘削作業が不要であるので、処理費用が嵩まず、また長期間を必要とせずに汚染土壌を浄化することができる。
【0009】
前記特許文献2は、改良するべき地盤にボーリング孔を穿孔する穿孔工程と、穿孔されたボーリング孔内に挿入された噴射モニタから地盤改良材及び水を地盤中に噴射して地盤の掘削及び地盤改良材との混合を行いつつ前記噴射モニタを引き上げて地中固結体を造成する噴射工程とを含み、該噴射工程に先立って前記水に還元剤を混合する工程を含むことを特徴とする有害物質処理工法である。
【0010】
この特許文献2の方法によれば、地中固結体を造成する際に、還元剤を混入した水が地盤を掘削して、細かく切り刻む。そのため、地盤中の有害物質は還元剤と良好に接触し、還元されて無害化する。従って、造成された地中固結体は完全に無害化されている。そして、無害化された地中固結体で有害物質を含有する領域を包囲すれば、有害物質の拡散は当該地中固結体により抑制される。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、高圧ジェットによるジェットグラウト工法は、周知のごとくボ リングマシンによって目標深度まで削孔したのち、ロッド下端から改良材(グラウト)を超高圧で噴射し、地盤を切削すると同時に土粒子とグラウトを混合攪拌するか、もしくは置換により円柱状の固結体を造成する工法であり、使用するロッドが二重管であるか、三重管であるかで、JSG工法とコラムジェット工法に分類される。
【0012】
JSG工法は図21に示すように羽根ビット2を先端に有するモニター3を設けた二重管1を使用し、空気を伴った超高圧硬化材液6を地盤中に回転して噴射させ地盤を切削し、スライム(排泥)4を地表に排出させると同時に円柱状の固結体5を造成するものであり、コラムジェット工法は図22に示すように、モニター7を設けた三重管8を使用し、空気を伴った超高圧水(高圧ジェット水)9を地盤中に回転して噴射させて地盤を切削し、そのスライム(排泥)4を地表に排出させるとともに硬化材10を同時に排出して充填させ、円柱状の固結体5を造成するものである。
【0013】
前記いずれの工法でも、円柱状の固結体5の形成は健全土壌である土被り部Aの下方の汚染土壌Bになされるが、硬化材10の充填前、または硬化材10の未硬化状態を経て固化するため、土被り部Aが崩壊してしまうおそれがある。図23はその様子を示すもので、(a)は固結体5が単体の場合、(b)は連続する場合であるが、特に、かかる固結体5の未固結部分が横方向で連続する場合には崩壊αは大きなものとなり、ひいては地表面の陥没βにつながるおそれがある。
【0014】
また、前記いずれの工法でも、円柱状の固結体5の形成は隣接するものとの隙間を無くすために一部ラップするようにして施工する。そのため、十分に固結体5が硬化していない状態で次の部分を切削すると、改良済みの隣接位置を切削で荒らすことになり、汚染土壌と改良土壌との置換が十分できないおそれもある。
【0015】
本発明の目的は前記従来例の不都合を解消し、改良するべき地盤にケーシングガイドによるボーリング孔を穿孔する穿孔工程と、穿孔されたボーリング孔内に挿入された切削ロッドから高圧ジェット水を地盤中に噴射して地盤切削を行うとともに汚染土を切削ロッドの周囲を通して地上に排出する噴射切削工程と、この地盤切削箇所に流動化硬化材を打設する流動化硬化材打設工程とからなる高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法において、流動化硬化材充填前の空洞、または、施工直後の未固結部分改良部への土被り地盤の落下を防止して安全にかつ確実に施工を行うことができ、また、汚染土壌と改良土壌とを確実に置換できる高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明は前記目的を達成するため、第1に、改良するべき地盤にケーシングガイドによるボーリング孔を穿孔する穿孔工程と、穿孔されたボーリング孔内に挿入された切削ロッドから高圧ジェット水を地盤中に噴射して地盤切削を行うとともに汚染土を切削ロッドの周囲を通して地上に排出する噴射切削工程と、この地盤切削箇所に流動化硬化材を改良土として打設する流動化硬化材打設工程とからなる高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法において、これらの穿孔工程と噴射切削工程と流動化硬化材打設工程とは、第1ステージの地盤改良とその下方に位置する第2ステージ以下の工程とに分け、第1ステージの地盤改良はルーフ固結体として第2ステージ以下の固結体に先行して施工することを要旨とするものである。
【0017】
第2に、各ステージ毎の汚染土壌の地盤改良での流動化硬化材の打設は、形成される固結体が未硬化状態で重なり合わないように距離間隔を存して行うこと、第3に、第1ステージの地盤改良、第2ステージ以下の地盤改良ともに切削ロッドから高圧ジェット水を地盤中に噴射して地盤切削を行うのに、上下動によるターニングをもってなすこと、第4に、ステージ毎に分割し、上部層からの施工を行うのは、汚染物質の種類に応じて決定することを要旨とするものである。
【0018】
請求項1記載の本発明によれば、高圧ジェットにより部分的な掘削を行い、汚染土壌を地上に搬出するので、汚染土壌の掘削では土被り部は小径の削孔ですむことから、深度が深く部分的な掘削で効率的な施工が可能となり、比較的小さい施工機械で行うので、既設構造物の直下に汚染土壌の掘削も施工スペースがあれば適応可能となる。
【0019】
さらに、施工する部分を最上部である第1ステージとそれ以外の第2ステージ以下に分け、この第1ステージをルーフ固結体として先行して施工することにより、第2ステージ以下を施工する際にこれが上部の土被り部の崩壊を押さえることになる。なお、第1ステージを施工すべきエリアの全域に渡り施工しておけば、より完璧に土被り部の崩壊防護が実現できる。
【0020】
請求項2記載の本発明によれば、各ステージ毎の汚染土壌の地盤改良での流動化硬化材の打設は、形成される固結体が未硬化状態で重なり合わないように距離間隔を存して行うことにより、未硬化状態での改良済みの部分を荒らすこともなく、汚染土壌と改良土との確実な置換が行える。
【0021】
請求項3記載の本発明によれば、切削ロッドから高圧ジェット水を地盤中に噴射して地盤切削を行う際には、切削された汚染土はスライム(排土)として切削ロッドの外周に沿って上昇するのでこれを処理することになるが、上下動によるターニングをもって切削を行うことで排出効率を高め、汚染土を出来る限り排出して削孔水と置き換えることができ、その後の改良土に充填に残った汚染土をなるべく混入することがないようにできる。
【0022】
請求項4記載の本発明によれば、数種の汚染物質が数層に存在する場合でも、この汚染物質の種類に応じてステージ毎に分割し、上部層からの施工を行うようにしたので、上部層の固結体がル フ効果を発揮し、上部汚染土壌の混入がない。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、図面について本発明の実施の形態を詳細に説明する。図1〜図6は本発明の高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法の第1実施形態の各工程を示す側面図であるが、図4に示すように本発明は、穿孔工程と噴射切削工程と流動化硬化材打設工程とからなる地盤改良工法を、第1ステージ(B−1)の地盤改良とその下方に位置する第2ステージ(B−2)およびそれ以下〔第3ステージ(B−3)、第4ステージ(B−4)…〕の工程とに分けて行うこととした。この第1ステージ(B−1)の地盤改良はルーフ固結体として第2ステージ(B−2)以下の固結体に先行して施工する
【0024】
先に、第1ステージ(B−1)の地盤改良の施工を説明する。図1中で、15はモルタルであり、図示は省略するが、ボーリングマシン等の掘削機で地上から第1ステージ(B−1)の上端に到るまで削孔し、削内を打設・充填したものである。また、16は口元装置設置用のジョイント部、17はこのジョイント部16にセットした口元装置(ガイドホール削孔用)である。
【0025】
図1(a)に示すように、ケーシング18によるボーリングマシンで、モルタル15のモルタル充填部を貫通して第1ステージ(B−1)の地盤改良の最深部に到るまでボーリング孔によるガイドホール削孔を行う。モルタル15のモルタル充填部の残りの部分はプロテクトホールとなる。
【0026】
図13〜図17にこのジョイント部16および口元装置(ガイドホール削孔用)17の概要を示す。このうち、ジョイント部16はドーナツ状で適宜間隔でボルト16aを立設したベース板16bを上端板として管体16c(ガス管200a)を設けたものである。
【0027】
また、口元装置(ガイドホール削孔用)17は前記ベース板16bにボルト止めするドーナツ状の脚板17aに円筒状のハウジング17bを立設したものであり、このハウジング17bはパッカ21の配設を行うための上部体22aと、その下に位置し、排出口23を有する下部体22bとかなり、これら相互はフランジ接合として間に図16に示すようなドーナツ状の止水ゴム24を挟み込む。図中27はベース板16bと脚板17a間に挟み込むOリングである。
【0028】
上部体22aはパッカ21の係止用の段部26を下端内周に形成し、さらに、上部内周面にネジ(図示せず)を形成し、図17に示すようなハンドル25aを有する押管25をパッカ21の押さえとしてこのネジを介して螺合できるようにした。
【0029】
前記ケーシング18によるボーリングマシンでモルタル15のモルタル充填部を貫通してガイドホール削孔を行う場合に、水を吐出しながら行うが、第1ステージ(B−1)での汚染水はケーシング18に沿ってモルタル15のプロテクトホール内を上昇し、口元装置(ガイドホール削孔用)17に入り、排出口23から排出されて処理される。
【0030】
図1(b)に示すようにケーシング18内に噴射モニタから高圧ジェット水を地盤中に噴射する切削ロッド19を挿入し、同図(c)に示すようにケーシング18を引き抜いた後、口元装置(ガイドホール削孔用)17を口元装置(切削・流動化硬化材打設用)20に再セットする。
【0031】
図18〜図20に示すように、口元装置(切削・流動化硬化材打設用)20も前記口元装置(ガイドホール削孔用)17と同じ構成であり、円筒状のハウジング20bは前記ベース板16bにボルト止めするドーナツ状の脚板20aを有し、また、このハウジング20bはパッカ21の配設を行うための上部体22aと、その下に位置し、排出口23を有する下部体22bとからなり、これら相互はフランジ接合として間に図19に示すようなドーナツ状の止水ゴム24を挟み込む。図中27はベース板16bと脚板20a間に挟み込むOリングである。
【0032】
上部体22aはパッカ21の係止用の段部26を下端内周に形成し、さらに、上部内周面にネジ(図示せず)を形成し、図20に示すようなハンドル25aを有する押管25をパッカ21の押さえとしてこのネジを介して螺合できるようにした。
【0033】
切削ロッド19は先端のモニター19a部分から水+空気の高圧ジェット水(ウォータージェット水)28を地盤中に吐出噴射して地盤切削を行うものであり、回転させて上下動することで、円柱状の地盤切削が可能である。
【0034】
図2(a)に示すように、前記切削ロッド19を第1ステージ(B−1)の最深部から上端部まで引き上げて最初の切削を行い、次いで、図2(b)に示すように、下降させ、また、上昇させるなどターニングを行う。
【0035】
この高圧ジェット水(ウォータージェット水)28での第1ステージ(B−1)の切削では、切削された汚染土はスライムとして切削ロッド19の外周に沿ってモルタル15のプロテクトホール内を上昇し、口元装置(切削・流動化硬化材打設用)20に入り、排出口23から排出されて処理される。
【0036】
切削ロッド19を引き抜き、図2(c)に示すように打設管29を挿入し、図3(a)に示すように打設管29で前記第1ステージ(B−1)の切削箇所に流動化硬化材30を打設する。この流動化硬化材30は前記排出口23から排出されて処理された汚染土壌から洗浄処理後の土部分を発生土として再利用し、これに水中不分離材を添加してさらに流動化処理したものである。
【0037】
図3(b)に示すように流動化硬化材30は第1ステージ(B−1)を満たし、余剰のものは打設管29の外周に沿ってモルタル15のプロテクトホール内を上昇し、口元装置(切削・流動化硬化材打設用)20に入り、排出口23から排出される。これにより、流動化硬化材30が高圧ジェット水(ウォータージェット水)28での第1ステージ(B−1)の切削箇所を充填したことを知ることができる。
【0038】
図3(c)に示すように打設管29を引き抜き、口元装置(切削・流動化硬化材打設用)20を撤去し、モルタル15のプロテクトホール内を洗浄して施工を完了する。
【0039】
なお、前記流動化硬化材30は硬化して円柱状の固化体となるが、地盤中での施工は図11に示すように、かかる円柱状の固化体が連続して横並びに施工されるとして、(1) 〜(9) のごとく、1本おきになすもので、流動化硬化材30で形成される固結体が未硬化状態で重なり合わないように距離間隔を存して行う。
【0040】
(1) と(2) と(3) を打設したならば、(1) と(2) に間に(4) を、(2) と(3) の間に(5) を、(3) の隣に(6) を打設し、次いで、列を変え、(1) の下に(7) を、(2) の下に(8) を、(3) の下に(9) を打設し、さらに、(7) と(8) の間に(10)を、(8) と(9) の間に(11)を、(9) の隣に(12)を打設する。
【0041】
その後で、(1) 、(4) 、(7) 、(10)に重なるように(13)を打設し、この(13)に一個分だけ間を置いて、(2) 、(5) 、(8) 、(11)に重なるように(14)を打設し、同様に(14)一個分だけ間を置いて、(3) 、(6) 、(9) 、(12)に重なるように(15)を打設し、これら(13)、(14)、(15)の間に(16)、(17)を打設する。
【0042】
以上が第1ステージ(B−1)の施工であるが、次に、第2ステージ(B−2)以下の施工をこの下方に行う。
【0043】
施工は前記第1ステージ(B−1)の施工と同様であるが、図4(a)に示すように第1ステージ(B−1)の施工の完了後、図4(b)に示すように口元装置(ガイドホール削孔用)17を再度セットして、ケーシング18によるボーリングマシンで、第1ステージ(B−1)の施工部分を貫通して第2ステージ(B−2)の地盤改良の最深部に到るまでボーリング孔によるガイドホール削孔を行う。
【0044】
図4(c)に示すようにケーシング18内に噴射モニタから高圧ジェット水を地盤中に噴射する切削ロッド19を挿入し、同図(d)に示すようにケーシング18を引き抜いた後、口元装置(ガイドホール削孔用)17を口元装置(切削・流動化硬化材打設用)20に再セットする。
【0045】
図5(a)に示すように、切削ロッド19の先端のモニター19a部分から水+空気の高圧ジェット水(ウォータージェット水)28を地盤中に回転させながら吐出噴射して第2ステージ(B−2)の最深部から上端部まで引き上げて円柱状の地盤切削を行い、図5(b)に示すように、下降させ、また、上昇させるなどターニングを行う。この高圧ジェット水(ウォータージェット水)28での第2ステージ(B−2)の切削で、切削された汚染土はスライムとして切削ロッド19の外周に沿って第1ステージ(B−1)の施工部分およびモルタル15のプロテクトホール内を上昇し、口元装置20に入り、排出口23から排出されて処理される。
【0046】
切削ロッド19を引き抜き、図5(c)に示すように打設管29を挿入し、図6(a)に示すように打設管29で第2ステージ(B−2)の切削箇所に前記排出口23から排出されて処理された汚染土壌から洗浄処理後の土部分を発生土として再利用し、これに水中不分離材を添加してさらに流動化処理した流動化硬化材30を打設する。
【0047】
図6(b)に示すように流動化硬化材30は第1ステージ(B−1)を満たし、余剰のものは打設管29の外周に沿ってモルタル15のプロテクトホール内を上昇し、口元装置20に入り、排出口23から排出される。これにより、流動化硬化材30が高圧ジェット水(ウォータージェット水)28での第1ステージ(B−1)の切削箇所を充填したことを知ることができる。
【0048】
図6(c)に示すように打設管29を引き抜き、口元装置20を撤去し、モルタル15のプロテクトホール内を洗浄して施工を完了する。
【0049】
図7〜図10は本発明の第2実施形態を示すもので、前記第1実施形態では第1ステージ(B−1)の直下に第2ステージ(B−2)を施工したが、本実施形態では間隔を空けて、第3ステージ(B−3)の部分を施工する。この第1ステージ(B−1)と第3ステージ(B−3)の間は健全土壌Cの部分である。
【0050】
第3ステージ(B−3)の施工手順は前記第1ステージ(B−1)や第2ステージ(B−2)と同様であるが、図7(a)〜(c)に示すように、ボーリングマシン12やアースドリル等の掘削機で地上から第1ステージ(B−1)の施工部分を貫通して第3ステージ(B−3)の施工部分の上端に到るまで削孔し、削孔14内にモルタル15を打設・充填し(セメンテーション)てモルタル柱を形成する。
【0051】
図8(a)に示すようにジョイント部16に口元装置17(ガイドホール削孔用)をセットし、ケーシング18によるボーリングマシンで、モルタル15のモルタル充填部を貫通して第3ステージ(B−3)の最深部に到るまでボーリング孔によるガイドホール削孔を行う。モルタル15のモルタル充填部の残りの部分は前記健全土壌Cに対するプロテクトホールとなる。
【0052】
図12は本発明の施工順序を示したもので、パターン1は前記第1実施形態のように第1ステージ(B−1)の下に順次第2ステージ(B−2)、第3ステージ(B−3)、第4ステージ(B−4)を施工する場合を示し、パターン2は前記第1実施形態のように第1ステージ(B−1)の下に間を空けて第3ステージ(B−3)を施工する場合を示す。
【0053】
いずれの場合のパタ ンも適宜選択でき、また、数種の汚染物質が数層に存在する場合には、この汚染物質の種類毎に各ステージを設定し、ステージ毎に分割施工することで、上部層の固結体がルーフ効果を発揮し、上部汚染土壌のないようにすることができる。
【0054】
【発明の効果】
以上の述べたように本発明の高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法は、改良するべき地盤にケーシングガイドによるボーリング孔を穿孔する穿孔工程と、穿孔されたボーリング孔内に挿入された切削ロッドから高圧ジェット水を地盤中に噴射して地盤切削を行うとともに汚染土を切削ロッドの周囲を通して地上に排出する噴射切削工程と、この地盤切削箇所に流動化硬化材を打設する流動化硬化材打設工程とからなる高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法において、流動化硬化材充填前の空洞、または、施工直後の未固結部分改良部への土被り地盤の落下を防止して安全にかつ確実に施工を行うことができ、また、汚染土壌と改良土壌とを確実に置換できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法の第1実施形態を示す第1〜3工程を示す側面図である。
【図2】本発明の高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法の第1実施形態を示す第4〜6工程を示す側面図である。
【図3】本発明の高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法の第1実施形態を示す第7〜9工程を示す側面図である。
【図4】本発明の高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法の第1実施形態を示す第10〜13工程を示す側面図である。
【図5】本発明の高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法の第1実施形態を示す第14〜16工程を示す側面図である。
【図6】本発明の高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法の第1実施形態を示す第17〜120程を示す側面図である。
【図7】本発明の高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法の第2実施形態を示す第10〜12工程を示す側面図である。
【図8】本発明の高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法の第2実施形態を示す第13〜15工程を示す側面図である。
【図9】本発明の高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法の第2実施形態を示す第16〜18工程を示す側面図である。
【図10】本発明の高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法の第2実施形態を示す第19〜21工程を示す側面図である。
【図11】各ステージ毎での施工手順を示す説明図である。
【図12】本発明の全体の施工手順を示す説明図である。
【図13】口元装置(ガイドホール削孔用)の縦断側面図である。
【図14】ジョイント部の側面図である。
【図15】ジョイント部の平面図である。
【図16】口元装置(ガイドホール削孔用)の止水ゴムの平面図である。
【図17】口元装置(ガイドホール削孔用)のパッカ部の平面図である。
【図18】口元装置(切削・流動化硬化材打設用)の縦断側面図である。
【図19】口元装置(切削・流動化硬化材打設用)の止水ゴムの平面図である。
【図20】口元装置(切削・流動化硬化材打設用)のパッカ部の平面図である。
【図21】JSG工法の説明図である。
【図22】コラムジェット工法の説明図である。
【図23】土被り部の崩壊を示す説明図である。
【符号の説明】
1…二重管 2…羽根ビット
3…モニター 4…スライム(排泥)
5…円柱状の固結体 6…空気を伴った超高圧硬化材液
7…モニター 8…三重管
9…超高圧水(高圧ジェット水) 10…硬化材
11…ケーシング 12…ボーリングマシン
13…地中固結体形成エリア 14…削孔
15…モルタル 16…ジョイント部
16a…ボルト 16b…ベース板
16c…管体
17…口元装置(ガイドホール削孔用)
17a…脚板 17b…ハウジング
18…ケーシング 19…切削ロッド
19a…モニター
20…口元装置(切削・流動化硬化材打設用)
21…パッカ 22a…上部体
22b…下部体 23…排出口
24…止水ゴム 25…押管
25a…ハンドル 26…段部
27…Oリング 28…高圧ジェット水
29…打設管 30…流動化硬化材

Claims (4)

  1. 改良するべき地盤にケーシングガイドによるボーリング孔を穿孔する穿孔工程と、穿孔されたボーリング孔内に挿入された切削ロッドから高圧ジェット水を地盤中に噴射して地盤切削を行うとともに汚染土を切削ロッドの周囲を通して地上に排出する噴射切削工程と、この地盤切削箇所に流動化硬化材を改良土として打設する流動化硬化材打設工程とからなる高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法において、これらの穿孔工程と噴射切削工程と流動化硬化材打設工程とは、第1ステージの地盤改良とその下方に位置する第2ステージ以下の工程とに分け、第1ステージの地盤改良はルーフ固結体として第2ステージ以下の固結体に先行して施工することを特徴とする高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法。
  2. 各ステージ毎の汚染土壌の地盤改良での流動化硬化材の打設は、形成される固結体が未硬化状態で重なり合わないように距離間隔を存して行う請求項1記載の高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法。
  3. 第1ステージの地盤改良、第2ステージ以下の地盤改良ともに切削ロッドから高圧ジェット水を地盤中に噴射して地盤切削を行うのに、上下動によるターニングをもってなす請求項1または請求項2記載の高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法。
  4. ステージ毎に分割し、上部層からの施工を行うのは、汚染物質の種類に応じて決定する請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の高圧ジェットによる汚染土壌の地盤改良工法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009183854A (ja) * 2008-02-06 2009-08-20 Yuji Kaneko 汚染土壌の洗浄方法
JP2011147846A (ja) * 2010-01-19 2011-08-04 Toko Geotech Corp 油汚染土壌に油分散材を高圧噴射撹拌する油汚染対策工法
JP2015212513A (ja) * 2014-04-15 2015-11-26 公益財団法人鉄道総合技術研究所 地盤の液状化対策工法
JP7444724B2 (ja) 2020-07-21 2024-03-06 株式会社竹中工務店 地盤改良体の造成工法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000054368A (ja) * 1998-08-10 2000-02-22 Raito Kogyo Co Ltd 高圧噴射攪拌混合地盤改良工法
JP2001162262A (ja) * 1999-12-09 2001-06-19 Kajima Corp 汚染地盤の浄化処理方法
JP2003010832A (ja) * 2001-07-05 2003-01-14 Oki Corporation:Kk 汚染土壌浄化方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000054368A (ja) * 1998-08-10 2000-02-22 Raito Kogyo Co Ltd 高圧噴射攪拌混合地盤改良工法
JP2001162262A (ja) * 1999-12-09 2001-06-19 Kajima Corp 汚染地盤の浄化処理方法
JP2003010832A (ja) * 2001-07-05 2003-01-14 Oki Corporation:Kk 汚染土壌浄化方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009183854A (ja) * 2008-02-06 2009-08-20 Yuji Kaneko 汚染土壌の洗浄方法
JP2011147846A (ja) * 2010-01-19 2011-08-04 Toko Geotech Corp 油汚染土壌に油分散材を高圧噴射撹拌する油汚染対策工法
JP2015212513A (ja) * 2014-04-15 2015-11-26 公益財団法人鉄道総合技術研究所 地盤の液状化対策工法
JP7444724B2 (ja) 2020-07-21 2024-03-06 株式会社竹中工務店 地盤改良体の造成工法

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