JP2004181893A - 記録ヘッドの製造方法と記録ヘッド及びインクジェット記録装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ノズル基板40を、インク吐出側表面に撥水膜405を有し、ノズル46を形成するノズル形成部材401と、ノズル基板40のインク吐出側と反対の面に接合されるインク液室の一方の面を構成する液室構成部材402とで構成し、ノズル形成部材401と液室構成部材402を接合するとき、ノズル形成部材401と複数の液室構成部材402が一体に配列された液室構成部材ウエハ409を接合したのち、ノズル形成部材401にノズル46を加工して所定サイズに切断してチップ状にする。
【選択図】 図9
Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、インク滴をノズルから吐出させて文字や画像を記録する記録ヘッドの製造方法と記録ヘッド及びインクジェット記録装置、特に製作工数と不良の発生の低減に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
【特許文献1】特許第2914146号公報
【特許文献2】特開平6−87216号公報
【特許文献3】特開平10−305582号公報
ノンインパクト記録装置は記録時の騒音発生が無視できる程度に小さい点でオフィス用等として注目されている。そのうち高速記録可能で、かつ普通紙に特別の定着処理を要せずに記録できるインクジェット記録装置が近年多く使用されている。このインクジェット記録装置のなかで特にオンデマンド方式は従来のインパクト方式の記録装置などと比べると、動作音が小さいことや、高精細な画像を出力できることなどの特徴を有し、近年は急速に普及している。
【0003】
このインクジェット記録装置に使用する記録ヘッドは、ノズルからインク滴を吐出させて記録を行うため、ノズルの形状や精度がインク滴の噴射特性におおきな影響を与える。また、ノズル孔を形成しているノズル形成部材の表面の特性もインク滴の噴射特性に影響を与える。例えば、ノズル形成部材表面のノズル孔周辺部にインクが付着して不均一なインクだまりが発生すると、インク滴の吐出方向が曲げられたり、インク滴の大きさにバラツキが生じたり、あるいはインク滴の飛翔速度が不安定になる等の不都合が生じる。
【0004】
そこで例えば特許文献1に示すように、ノズル形成部材の一方の面に粘着部材を貼り付け、その反対側面からレーザビームを照射し、ノズル形成部材の一部が残るように加工した後、粘着部材をはがして残った一部を除去して、ノズル孔の出射側に未加工な部分をなくしてインク滴の飛翔方向のばらつきが生じないようにしたり、特許文献2に示すように、ノズル形成部材の表面に含フッ素重合体からなるコーティング層を設け、その背面側からエキシマレーザを照射してノズル孔加工を行うとともにノズル孔上のコーティング層を除去したり、特許文献3に示すように、ノズル形成部材の一方の面にテトラフルオロエチレンを成分とする共重合体を含む有機樹脂層で撥水膜を形成し、ノズル形成部材の表面の均一性を高め、インク滴の飛翔特性の安定化を図るようにしている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ノズル形成部材として樹脂材料を使用する場合、前記のように撥水膜を樹脂材料の表面に形成するが、樹脂材料と撥水剤との密着性があまり良くないため、直接塗布して使用することは非常に困難である。そこで樹脂材料の表面を粗面化して微細な凹凸を形成し、その上に撥水剤を塗布して密着力の向上を図ったりしているが、十分な密着力の確保には至っていなかった。すなわち、塗布後の初期には撥水性は得られているが、ノズルプレート表面やノズル開口部に付着したインク滴やゴミ等の除去のために行われるワイピング動作によって表面が擦られるため、密着性が十分でないと、徐々に撥水層のはがれが発生し、撥水性が劣化してしまう。また、フッ素系撥水剤を使用する場合などでは、ノズル形成部材である樹脂材料等の表面に、SiO2膜を形成し、その上にフッ素系撥水剤を塗布して密着力を向上することも試みられている。この場合、SiO2膜厚をある程度厚く、例えば200Å以上にしないと十分な密着力を得ることができない。
また、ノズル孔加工をエキシマレーザ加工等で行う場合、ノズル形成部材の樹脂材料としてポリイミド等を使用すればエキシマレーザによる加工性を確保できるが、SiO2膜はエキシマレーザによる加工性が悪いため、きれいなノズル孔加工ができなくなり、異形ノズル孔が発生してしまう。
【0006】
また、ノズル形成部材と液室構成部材は、1ヘッド単位(1チップ単位)に切断分割してから接合しているため、ノズル形成部材と液室構成部材とも分割後の部品の取り扱いや接合やエキシマレーザ加工及び洗浄などの各工程がチップ単位となり、量産ではその取り扱いだけで時間を要し、記録ヘッドの生産効率が悪くなってしまう。
【0007】
この発明はかかる短所を改善し、ノズル形成部材に対する撥水層の密着性向上とエキシマレーザによる加工性の向上を図るとともに、製作工数と不良の発生の低減を図ることができる記録ヘッドの製造方法と記録ヘッド及びインクジェット記録装置を提供することを目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
この発明の記録ヘッドの製造方法は、インク滴を吐出する複数のノズルを有するノズル基板と、前記各ノズルが連通する複数のインク液室とを有し、各ノズルに対応するエネルギーを発生するアクチュエータを駆動して前記ノズルからインク滴を吐出させる記録ヘッドの製造方法において、前記ノズル基板は、インク吐出側表面に撥水膜を有し、ノズルを形成するノズル形成部材と、ノズル基板のインク吐出側と反対の面に接合されるインク液室の一方の面を構成する液室構成部材を有し、ノズル形成部材と液室構成部材を接合するとき、ノズル形成部材と複数の液室構成部材が一体に配列された液室構成部材集合体を接合したのちノズル形成部材にノズルを加工して所定サイズに切断してチップ状にして、前記アクチュエータと接合することを特徴とする。
【0009】
前記ノズル形成部材を樹脂フィルムで形成することが望ましい。また、撥水膜は、SiO2膜とフッ素系撥水剤とで構成すると良い。さらに、液室構成部材集合体をSiウエハで構成する。
【0010】
また、ノズル形成部材と液室構成部材集合体の接合にエポキシ系接着剤を使用することが望ましい。
【0011】
また、ノズル形成部材にエキシマレーザ加工でノズルを加工する。このノズルを加工するとき、ノズル形成部材の撥水膜の表面にUV硬化型粘着テープを貼り付け、液室構成部材側からエキシマレーザを照射してノズルを加工する。
【0012】
さらに、ノズルを加工したノズル形成部材と液室構成部材を所定サイズに切断するとき、UV硬化型粘着テープの厚さ方向の一部も切断して、ノズル形成部材と液室構成部材を確実に切断するとともに後処理を容易にする。
【0013】
この発明の記録ヘッドは前記製造方法で製造され、安定した吐出特性でインクを吐出することを特徴とする。
【0014】
この発明のインクジェット記録装置は、前記記録ヘッドを有し、良質な画像を安定して記録することを特徴とする。
【0015】
【発明の実施の形態】
図1はこの発明のインクジェット記録装置の構成図である。図に示すように、インクジェット記録装置1は、印字機構部2と給紙カセット3と手差しトレイ4及び排紙トレイ5を有し、給紙カセット3又は手差しトレイ4から送られた記録用紙6に印字機構部2で所定の画像等を記録して排紙トレイ5に排紙する。
【0016】
印字機構部2は、図2の斜視図に示すように、本体の左右の側板に横架した主ガイドロッド11と従ガイドロッド12とに摺動自在に保持したキャリッジ13と、キャリッジ13にインク滴吐出方向を下方に向けて装着し、イエロー(Y)、シアン(C)、マゼンタ(M)、ブラック(Bk)の各色のインク滴を吐出する記録ヘッド14と、キャリッジ13の上側に着脱自在に装着し、記録ヘッド14に各色のインクを供給するインクカートリッジ15を有する。キャリッジ13は、主走査モータ16の回転軸に連結された駆動プーリ17と従動プーリ18の間に巻き回されたタイミングベルト19に連結され、主走査モータ16の正逆回転により主走査方向に往復移動する。インクカートリッジ15は上方に大気と連通する大気導入口が設けられ、下方には記録ヘッド14へインクを供給する供給口が設けられ、内部にはインクが充填された多孔質体を有しており、多孔質体により記録ヘッド14へ供給するインクをわずかな負圧に維持している。
【0017】
また、給紙カセット3から記録ヘッド14までの記録用紙6の搬送路には、給紙カセット3から記録用紙6を分離給装する給紙ローラ21とフリクションパッド22と、記録用紙6を案内するガイド部材23と、給紙された記録用紙6を反転させて搬送する搬送ローラ24と、搬送ローラ24の外周面に押し付けられる搬送コロ25及び搬送ローラ24からの記録用紙6の送り出し角度を規定する先端コロ26とを有する。搬送ローラ24は副走査モータ27によってギヤ列を介して回転駆動される。記録ヘッド14の下方側には搬送ローラ24から送り出された記録用紙6を案内する印写受け部材28が設けられ、印写受け部材28の搬送方向の下流側には、記録用紙6を送り出すために回転駆動される搬送コロ29と拍車30と、記録用紙6を排紙トレイ5に送り出す排紙ローラ31と拍車32及び排紙経路を形成するガイド部材33,34とが設けられている。
【0018】
このインクジェット記録装置1で記録用紙6に記録するとき、キャリッジ13を移動させながら画像信号に応じて記録ヘッド14を駆動して、停止している記録用紙6にインクを吐出して1行分を記録し、記録用紙6を所定量だけ搬送したのち次の行の記録を行う。そして記録終了信号又は記録用紙6の後端が記録領域に到達した信号を受けて記録動作を終了させ記録用紙6を排紙する。
【0019】
また、キャリッジ13の移動方向の記録領域を外れた位置には、記録ヘッド14の吐出不良を回復するための回復装置35を有する。回復装置35は、キャップ手段と吸引手段とクリーニング手段を有し、キャリッジ13は印字待機中には回復装置35の位置に移動し、記録ヘッド14のノズル部分を覆い、ノズル孔を湿潤状態に保ち、インク乾燥による吐出不良を防止する。また、記録中などに記録と関係しないインクをパージすることにより、全てのノズル孔のインク粘度を一定にして安定した吐出性能を維持する。記録ヘッド14の吐出不良が発生した場合等には、記録ヘッド14のノズル部分を密封し、吸引手段2よりノズルからインクとともに気泡等を吸い出し、ノズル面に付着したインクやゴミ等をクリーニング手段により除去して吐出不良を回復する。このとき吸引されたインクは、本体下部に設置された廃インクタンクに排出する。
【0020】
記録ヘッド14は、図3の分解斜視図に示すように、ノズル基板40と静電アクチュエータ41とFPCケーブル42とフレーム43とフィルタ44及びジョイント部45を有する。ノズル基板40には複数のノズル46を有し、静電アクチュエータ41の上部に設けられている。静電アクチュエータ41は、単結晶シリコン基板や多結晶シリコン基板あるいはSOI基板などのシリコン基板等で形成した流路基板47と、シリコン基板や高機能セラミックスガラス基板あるいはセラミックス基板等で形成され、流路基板47の下側に設けられた電極基板48を有する。流路基板47には、図4の断面図に示すように、加圧室49と、加圧室49の底部をなす第1電極を兼ねた振動板50を形成する凹部を有し、ノズル基板40には流体抵抗部51を形成する溝を有し、流路基板47と電極基板48には共通液室流路52を形成する貫通部を有する。
【0021】
この流路基板47として例えば単結晶シリコン基板を用いた場合、あらかじめ振動板50の厚さにボロンを注入してエッチングストップ層となる高濃度ボロン層を形成し、電極基板48と接合した後、加圧室49となる凹部をKOH水溶液などのエッチング液を用いて異方性エッチングする。このとき高濃度ボロン層がエッチングストップ層となって振動板50が高精度に形成される。また、多結晶シリコン基板で振動板50を形成する場合は、流路基板47上に振動板となる多結晶シリコン薄膜を形成する方法、または、あらかじめ電極基板48を犠牲材料で平坦化し、その上に多結晶シリコン薄膜を成膜した後、犠牲材料を除去することで形成できる。なお、振動板50に別途電極膜を形成してもよいが、上述したように不純物の拡散などによって振動板50が電極を兼ねるようにしている。また、振動板50の電極基板48側の面に絶縁膜を形成することもできる。この絶縁膜としてはSiO2等の酸化膜系絶縁膜やSi3N4等の窒化膜系絶縁膜などを用いることができる。この絶縁膜の成膜は、振動板50の表面を熱酸化して酸化膜を形成したり、成膜手法を用いたりすることができる。さらに、この流路基板47には共通電極を設けている。この共通電極は、Al等の金属をスパッタしてシンタリング(熱拡散)することにより付設しており、流路基板47との導通を確保して、半導体基板よりなる流路基板47とオーミックコンタクトを取っている。
【0022】
また、電極基板48には、図5の部分断面図に示すように、酸化膜層48aを形成し、この酸化膜層48aの部分に凹部53を形成して、凹部53の底面に振動板50に対向する第2電極である電極54を設け、振動板50と電極54との間に所定の間隙、例えば0.2μmの間隙を形成している。この電極54の表面にはSiO2膜などの酸化膜系絶縁膜やSi3N4膜などの窒化膜系絶縁膜からなる電極保護膜55を成膜しているが、電極表面54に電極保護膜55を形成しないで、振動板50側に絶縁膜を形成しても良い。
【0023】
この電極基板48の電極54としては、通常半導体素子の形成プロセスで一般的に用いられるAl,Cr,Ni等の金属材料や、Ti,TiN,W等の高融点金属、または不純物により低抵抗化した多結晶シリコン材料などを用いることができる。電極基板48をシリコンウエハで形成する場合には、電極基板48と電極54との間には絶縁層となる酸化膜層48aを形成する必要があるが、電極基板48にガラス等の絶縁性材料を用いる場合には電極54との間に絶縁層を形成する必要はない。また、電極基板48にシリコン基板を用いる場合、電極54としては、不純物拡散領域を用いることができる。この場合、拡散に用いる不純物は基板シリコンの導電型と反対の導電型を示す不純物を用い、拡散領域周辺にpn接合を形成し、電極54と電極基板48とを電気的に絶縁する。
【0024】
この流路基板47と電極基板48との接合は、接着剤による接合も可能であるが、より信頼性の高い物理的な接合、例えば電極基板47がシリコンで形成される場合、酸化膜を介した直接接合法を用いることができる。この直接接合は1000℃程度の高温下で実施する。また、電極基板48がガラスの場合、陽極接合を行うことができる。電極基板48をシリコンで形成して、陽極接合を行う場合には、電極基板48と流路基板47との間に高機能セラミックスガラスを成膜し、この膜を介して陽極接合を行うこともできる。さらに、流路基板47と電極基板48にシリコン基板を使用して金等のバインダーを接合面に介在させた共晶接合で接合することもできる。
【0025】
ノズル基板40は多数のノズル46を2列配置して形成したものであり、吐出面には撥水処理を施している。このノズル基板40は流路基板47に接着剤にて接合している。このノズル基板40の2列に配置したノズル46に対応して加圧室49と振動板50及び電極54なども2列に配置し、各ノズル列の中央部に共通液室流路52を配置して、左右の加圧室49にインクを供給するようにして、簡単な構成で多数のノズル46を有するマルチノズルの記録ヘッド13を構成することができる。
【0026】
電極基板48の電極54の外部に延びた電極パット部54aは、図6の断面図に示すように、異方性導電膜などを介してFPCケーブル42に接続している。FPCケーブル42にはヘッド駆動回路であるドライバIC56を搭載している。そして電極基板48とノズル基板40との間は、エポキシ樹脂等の接着剤を用いたギャップ封止剤57により気密封止している。
【0027】
また、ノズル基板40と静電アクチュエータ41はフレーム43上に接着剤で接合している。このフレーム43には共通液室流路52に外部からインクを供給するためのインク供給穴58を有し、FPCケーブル42等はフレーム43に形成した穴部59に収納される。このフレーム43とノズル基板40との間の接合には、エポキシ樹脂等の接着剤を用いたギャップ封止剤60にて封止し、撥水性を有するノズル基板40表面のインクが電極基板43やFPCケーブル42等に回り込むことを防止している。フレーム43はフィルタ44を介してジョイント部45に連結している。ジョイント部45はインクカートリッジ15が連結され、インクカートリッジ15からフィルタ44とインク供給穴58を通して共通液室流路52にインクが供給される。
【0028】
そして振動板50を共通電極とし、電極54を個別電極として、振動板50と電極54との間に駆動電圧を印加することにより、振動板50と電極54との間に発生する静電力によって振動板50が電極54側に変形変位し、この状態から振動板50と電極54間の電荷を放電させることによって振動板50が復帰変形して、加圧室49の内容積と圧力を変化させてノズル46からインク滴を吐出する。
【0029】
このインクジェット記録装置1の記録ヘッド14のノズル基板40に形成する複数のノズル46はエキシマレーザ加工機70により加工される。エキシマレーザ加工機70は、図7の構成図に示すように、レーザ発振機71から射出されたエキシマレーザビーム72をミラー73,85,78によって反射し加工テーブル80に導く。このレーザビーム72が加工テーブル80に至るまでの光路には、加工物に対して最適なビームが届くように、レーザビーム72を所望のサイズに拡大するビームエキスパンダ74と、レーザビーム72を加工する孔に対応した形状にするマスク76と、マスク76を通過したレーザビームを結像光学系79に導くフィールドレンズ77を有する。加工テーブル80はXYXテーブル等で構成され、加工するノズル基板40を載置して加工位置を位置決めする。
【0030】
このエキシマレーザ加工機70でノズル46を加工するノズル基板40は、図8の部分断面図に示すように、ノズル46を有するノズル形成部材401と加圧室49の一方の面を構成するとともに流体抵抗部51を形成する溝を有する液室構成部材402とを接着剤403で接合し、ノズル形成部材401の表面にSiO2薄膜404と撥水膜405を順次積層して形成する。液室構成部材402にはあらかじめノズル46を加工する位置にノズル連通口406が設けられている。
【0031】
このノズル基板40の製造方法を図9の工程図を参照して説明する。まず、図9(A)に示すように、サイズが500×1000mmのノズル形成部材401を準備する。このノズル形成部材401としてはSiO2等の粒子が添加されていないポリイミドフイルムを使用する。すなわち、一般的なポリイミドフイルムはロールフイルム取扱装置等における取扱性(滑り)からフイルム材料の中にSiO2(シリカ)や燐酸水素カルシウムなどの粒子が添加されている。エキシマレーザでノズル孔を加工する場合、このSiO2等の粒子はエキシマレーザによる加工性が悪く、エキシマレーザでノズル孔を加工する場合、加工したノズルに異形が発生する。このノズル孔の異形発生を防ぐためにノズル形成部材401としてはSiO2等の粒子が添加されていないポリイミドフイルムを使用する。
【0032】
このノズル形成部材401の表面に、(B)に示すように、SiO2薄膜404を形成する。このSiO2薄膜404を形成するときは、比較的熱を加えず、ノズル形成部材401に熱的影響の発生しない範囲の温度で成膜可能な方法で形成する。例えばスパッタリングやイオンビーム蒸着、イオンプレーティング、CVD(化学蒸着法)、P−CVD(プラズマ蒸着法)などが適している。このSiO2薄膜404の膜厚は密着力が確保できる範囲で必要最小限の厚さとして工程時間、材料費を削減する。また、SiO2薄膜404の膜厚があまり厚くなると、エキシマレーザでのノズル孔加工に支障がでてくる場合がある。すなわちノズル形成部材401はきれいに孔形状が加工されていても、SiO2薄膜404の一部が十分に加工されず、加工残りになることがある。したがって、具体的には密着力が確保でき、エキシマレーザ加工時にSiO2薄膜404が残らない範囲として、膜厚1Å〜300Åの範囲が適している。なかでも膜厚10Å〜100Åの範囲が最も適している。
【0033】
このSiO2薄膜404を例えばスパッタリング方法で膜厚を20Åに形成する。すなわちノズル形成部材401の表面にSiをスパッタリングした後、Si表面にO2イオンを当てることによりSiO2薄膜404を形成できる。このようにして形成したSiO2薄膜404はノズル形成部材401に対する密着力が大きくかつ均質で緻密な膜が得られる。したがって撥水膜405との密着性も良く、撥水膜405のワイピング耐久性を向上することができる。
【0034】
次に、SiO2薄膜404の表面に撥水膜405を形成する。撥水膜405の形成は、(C)に示す撥水剤層405aの形成工程と(D)に示す空中放置工程とを有する。撥水剤層405aはフッ素系撥水材料をスピンコータやロールコータあるいはスクリーン印刷又はスプレーコータなどの方法で塗布するが、より効果的には、真空蒸着で成膜する方法が撥水膜405の密着性を向上し、ワイピング耐久性を向上することができる。さらに、撥水剤層405aを真空蒸着で成膜するとき、SiO2薄膜404を形成した真空チャンバ内で引き続いて形成すると、より撥水膜405の密着性を向上することができる。すなわちSiO2薄膜404を形成後に真空チャンバから取り出すと、SiO2薄膜404の表面に不純物が付着して密着性を損なうためである。この撥水剤層405aを形成するフッ素系撥水材料は種々あるが、例えばシラン変性パーフルオロポリオキセタンを使用することにより、インクに対して必要な撥水性を得ることができる。また、撥水剤層405aの膜厚を10Å〜30Åにすることにより必要とする撥水性を得ることができる。例えば撥水材層405の膜厚を10Åと20Å及び30Åとして撥水性とワイピング耐久性能を調べたところ差は見られなかった。したがって成膜時間やコストなどを考慮すると1Å〜20Åが最も適している。撥水剤層405aを形成後、(D)に示す空中放置工程に入る。この空中放置工程により、フッ素系の撥水剤層405aとSiO2薄膜404とが、空気中の水分を仲介として化学的結合をして撥水膜405になる。
【0035】
このSiO2薄膜404と撥水剤層405aを真空チャンバ内で連続して形成する成膜装置を図10に示す。図10に示す成膜装置は、米国のOPTICAL COATING LABORATORY INC.で開発した、メタモードプロセスと呼ばれる工法を装置化したものであり、ディスプレイなどの反射防止・防汚膜の作製に使用されている。図に示すように、ドラム81の周囲4個所にステーション82a、82b、82c、82dが配置され、全体が真空引きできるチャンバーの中に収容されている。ドラム81の直径は約1mあり、ドラム81の外周部に500×1000mmサイズのシート状の材料が7枚設置して一括処理することができる。このドラム81の外周部にノズル形成部材401を設置し、ステーション82aでSiをスパッタし、その後、ステーション82bでSi表面にO2イオンを当ててSiO2薄膜404を形成する。その後、ステーション82dでシラン変性パーフルオロポリオキセタンを蒸着する。反射防止膜の場合はステーション82cでNbを蒸着し、NbとSiO2を所定の厚さで必要層数重ねた後、ステーション82dでシラン変性パーフルオロポリオキセタンを蒸着するが、撥水膜405は反射防止膜の機能は必要なく、SiO2薄膜404と撥水剤層405aを1層ずつ形成する。
【0036】
次に、(E)に示すように、撥水膜405の表面にUV硬化型粘着テープ407を貼り付ける。このUV硬化型粘着テープ407を撥水膜405に貼るとき、気泡が生じないようにして貼り付ける。例えば撥水膜405とUV硬化型粘着テープ407の間に気泡があると、気泡の位置にあけたノズルは、加工時の付着物などで品質が劣化してしまうから、これを防ぐためである。
【0037】
このUV硬化型粘着テープ407を貼り付けたほぼ500×1000mmサイズのノズル基板シート408を、図11の平面図に示すように、150×120mmサイズに切断し、(F)に示すように、ノズル形成部材401にノズル連通口406を有する液室構成部材402を接着剤403で接合する。この液室構成部材402は、図12の平面図に示すように、一般的に知られている半導体製作用のフォトリソプロセス等を使用して、所定の液室構成パターン、例えば6インチウエハで42個の液室構成部材402のパターンを有する液室構成部材ウエハ409を形成する。この液室構成部材ウエハ409のノズル形成部材401の貼付け面の必要部分に、接着剤薄膜転写装置等で接着剤403を1〜2μm程度塗布し、そこにカットフィルムを貼りつける。このカットフィルムの貼付けは、精度の高い位置合わせは必要なく、チップエリアからフィルムが外れない程度の位置合わせで良い。また、接着剤403は、エポキシ系接着剤、例えば日本エイブルスティック社製エイブルボンド931−1などが薄膜転写に適している。また、硬化にもあまり高い温度に加熱する必要はなく、通常50〜70℃程度であるため、ノズル形成部材401と液室構成部材402との熱膨張係数差も問題にならずに接合することができる。
【0038】
その後、(G)に示すように、液室構成部材402側からエキシマレーザを照射してノズル46を加工する。このノズル46を加工するとき、ノズル46がきれいに加工されるように、UV硬化型粘着テープ407の一部まで加工できるように加工条件を設定する。このエキシマレーザ加工は単ビーム加工でも良いが、加工速度を向上するために、複数のノズル46を同時に加工できるような光学系及びマスク76を使用すると良い。ノズル46を加工後、UV硬化型粘着テープ407を貼りつけた状態で次工程に送る。
【0039】
このようにウエハ単位でノズル46を形成したのち次工程でチップ毎に切断する。この切断は通常のIC製造工程で使用されているダイシング工程を応用して行う。すなわち、エキシマレーザ加工後のウエハを、UV硬化型粘着テープ407側を加工テーブル側としてダイシングマシンに載置し、図11に示す液室構成部材402のチップ外形に沿ってダイシング加工してノズル基板40を形成する。このときダイシング深さは、UV硬化型粘着テープ407の厚さの中間程度まで切断する深さにするのが良い。このように切断することにより、ノズル基板40を完全に切断することができるとともに次工程のUV硬化型粘着テープ407のエキスパンドを実施し易くすることができる。なお、ダイシングマシンには洗浄ステーションが併設されていて、ダイシング後切粉等の洗浄を連続的に行うと洗浄効果をより向上することができる。このノズル基板40を静電アクチュエータ41に接合する。
【0040】
前記説明では記録ヘッド14に静電アクチュエータ41を使用した場合について説明したが、圧電素子方式やサーマル方式などのアクチュエータを使用しても良い。また、液室構成部材402と静電アクチュエータ41を別部品として構成した場合について説明したが、両機能を統合して、すなわち静電アクチュエータ41の流路基板47のノズル基板40側に対する面に、流路抵抗部51やノズル連通口406を設けても良い。この要にして部品点数を減らすことができ、大幅なコストダウンを図ることができる。
【0041】
【発明の効果】
この発明は以上説明したように、インク滴を吐出する複数のノズルを有するノズル基板を、インク吐出側表面に撥水膜を有し、ノズルを形成するノズル形成部材と、ノズル基板のインク吐出側と反対の面に接合されるインク液室の一方の面を構成する液室構成部材とで構成し、ノズル形成部材と液室構成部材を接合するとき、ノズル形成部材と複数の液室構成部材が一体に配列された液室構成部材集合体を接合したのち、ノズル形成部材にノズルを加工して所定サイズに切断してチップ状にするようにしたから、ノズル形成部材と液室構成部材を接合するときの位置合わせや取り扱い等の処理回数を低減することができ、製作工数を低減するとともに、取り扱い等による不良の発生も低減することができ、記録ヘッドのコストが大幅に低減することができる。
【0042】
また、ノズル形成部材を樹脂フィルムで形成することにより、材料のコストを低減するとともに、ノズルの加工方法の選択範囲を広くすることができる。
【0043】
また、ノズル形成部材の表面に設けた撥水膜をSiO2膜とフッ素系撥水剤とで構成することにより、SiO2膜とフッ素系撥水剤が化学的結合により密着するから、フッ素系撥水剤を非常に薄くすることができ、撥水剤の使用量を低減できるとともに、ワイピング耐久性と加工性を向上することができる。
【0044】
さらに、液室構成部材集合体をSiウエハで構成することにより、複数の液室構成部材の集積化を高精度に置くなうことができ、後工程の加工や切断処理を容易に行うことができる。
【0045】
また、ノズル形成部材と液室構成部材集合体の接合にエポキシ系接着剤を使用することにより、液室構成部材の必要箇所に選択的に塗布することができ、ノズル形成部材のノズル形成部に接着剤を塗布しないで済み、ノズルの加工を容易に行うことができるとともに、塗布厚さのムラによるノズル径にバラツキが発生することを防ぐことができる。
【0046】
また、ノズル形成部材と液室構成部材を接合してからノズル形成部材にエキシマレーザ加工でノズルを加工することにより、精度の良いノズル孔加工することができるとともに、ノズル形成部材と液室構成部材を接合するときに、高精度な位置合わせや接着剤硬化時の加熱熱膨張による位置ズレなどの影響を受けずにノズルを加工することができる。
【0047】
さらに、ノズルを加工するとき、ノズル形成部材の撥水膜の表面に、エキシマレーザによる加工性が良好なUV硬化型粘着テープを貼り付け、液室構成部材側からエキシマレーザを照射してノズルを加工することにより、ノズルの形状を高精度に加工することができる。
【0048】
また、ノズルを加工したノズル形成部材と液室構成部材を所定サイズに切断するとき、UV硬化型粘着テープの厚さ方向の一部も切断することにより、ノズル形成部材と液室構成部材を確実に切断するとともに後処理を容易にすることができる。
【0049】
また、この製造方法で作製した記録ヘッドは高精度なノズルを有し、安定した吐出特性でインクを吐出することができる。
【0050】
また、この記録ヘッドをインクジェット記録装置に使用することにより、良質な画像を安定して記録することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明のインクジェット記録装置の構成図である。
【図2】印字機構部の構成を示す斜視図である。
【図3】記録ヘッドの分解斜視図である。
【図4】ノズル基板と静電アクチュエータの構成を示す断面図である。
【図5】ノズル基板と静電アクチュエータの構成を示す部分断面図である。
【図6】記録ヘッドの構成を示す断面図である。
【図7】エキシマレーザ加工機の構成図である。
【図8】ノズル基板の構成を示す断面図である。
【図9】ノズル基板の製造方法を示す工程図である。
【図10】SiO2膜と撥水膜の成膜装置の構成図である。
【図11】ノズル基板シートの構成を示す平面図である。
【図12】液室構成部材ウエハの構成を示す平面図である。
【符号の説明】
1;インクジェット記録装置、2;印字機構部、3;給紙カセット、
4;手差しトレイ、5;排紙トレイ、6;記録用紙、13;キャリッジ、
14;記録ヘッド、15;インクカートリッジ、40;ノズル基板、
41;静電アクチュエータ、42;FPCケーブル、43;フレーム、
44;フィルタ、45;ジョイント部、46;ノズル、47;流路基板、
48;電極基板、49;加圧室、50;振動板、51;流体抵抗部、
52;共通液室流路、401;ノズル形成部材、402;液室構成部材、
403;接着剤、404;SiO2薄膜、405;撥水膜、
407;UV硬化型粘着テープ。
Claims (10)
- インク滴を吐出する複数のノズルを有するノズル基板と、前記各ノズルが連通する複数のインク液室とを有し、各ノズルに対応するエネルギーを発生するアクチュエータを駆動して前記ノズルからインク滴を吐出させる記録ヘッドの製造方法において、
前記ノズル基板は、インク吐出側表面に撥水膜を有し、ノズルを形成するノズル形成部材と、ノズル基板のインク吐出側と反対の面に接合されるインク液室の一方の面を構成する液室構成部材を有し、
ノズル形成部材と液室構成部材を接合するとき、ノズル形成部材と複数の液室構成部材が一体に配列された液室構成部材集合体を接合したのちノズル形成部材にノズルを加工して所定サイズに切断してチップ状にして、前記アクチュエータと接合することを特徴とする記録ヘッドの製造方法。 - 前記ノズル形成部材は樹脂フィルムで形成されている請求項1記載の記録ヘッドの製造方法。
- 前記撥水膜は、SiO2膜とフッ素系撥水剤とで構成した請求項1又は2記載の記録ヘッドの製造方法。
- 前記液室構成部材集合体をSiウエハで構成した請求項1乃至3のいずれかに記載の記録ヘッドの製造方法。
- 前記ノズル形成部材と液室構成部材集合体の接合にエポキシ系接着剤を使用した請求項1乃至4のいずれかに記載の記録ヘッドの製造方法。
- 前記ノズル形成部材にエキシマレーザ加工でノズルを加工した請求項1乃至5のいずれかに記載の記録ヘッドの製造方法。
- 前記ノズル形成部材の撥水膜の表面にUV硬化型粘着テープを貼り付け、液室構成部材側からエキシマレーザを照射してノズルを加工する請求項6記載の記録ヘッドの製造方法。
- 前記ノズルを加工したノズル形成部材と液室構成部材を所定サイズに切断するとき、UV硬化型粘着テープの厚さ方向の一部も切断する請求項7記載の記録ヘッドの製造方法。
- 請求項1乃至8のいずれかに記載の記録ヘッドの製造方法で作製したことを特徴とする記録ヘッド。
- 請求項9記載の記録ヘッドを有することを特徴とするインクジェット記録装置。
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