JP2004167490A - 塗布装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 塗布液に対する摩擦抵抗が少なく、塗布液を安定して均一に可撓性帯状支持体に塗布することのできる塗布装置を提供する。
【解決手段】 第1,第2スロット11,12を形成する溝面11a,11b,12a,12b、及びポケット20,21を塗布液に対する摩擦係数を低減するよう所望の面粗度に研磨加工し、この時、塗布液の流出する方向に沿って、溝面11a,11b,12a,12bを研磨加工した。
【選択図】 図3
【解決手段】 第1,第2スロット11,12を形成する溝面11a,11b,12a,12b、及びポケット20,21を塗布液に対する摩擦係数を低減するよう所望の面粗度に研磨加工し、この時、塗布液の流出する方向に沿って、溝面11a,11b,12a,12bを研磨加工した。
【選択図】 図3
Description
本発明は、走行する可撓性帯状支持体に薄層を塗布する塗布装置に係り、特に、塗布液を吐出する塗布ヘッドに関するものである。
一般に、薄層を形成するための塗布装置の従来技術として、例えば特許文献1(以下、第1の従来技術という)に示されるものがある。
第1の従来技術に示される塗布装置は、図4に示すように塗布ヘッドを有し、この塗布ヘッドが第1スロット1を形成するバックエッジ2及び第1ドクターエッジ3と、この第1ドクターエッジ3と共に第2スロット4を形成する第2ドクターエッジ5とを備えた構成とされている。
塗布ヘッドの内部には、第1スロット1,第2スロット4に連通する断面略円形状をなすポケット6a,6bが形成されている。そして、図示しない給液手段から配管7a,7bを介して矢印方向B1,B2に塗布液がそれぞれ送液され、ポケット6a,6bに液溜めされ、該ポケット6a,6bから第1スロット1,第2スロット4の各流出口に押し出され、矢印方向C1,C2に吐出されるように構成されている。
可撓性帯状支持体8は、図示されぬ可撓性帯状支持体8の送り手段によって、バックエッジ2側から該バックエッジ2,第1ドクターエッジ3,第2ドクターエッジ5に向う矢印方向Aに走行するようになっている。
この可撓性帯状支持体8の走行時、ポケット6a内の第1の塗布液が第1スロット1から吐出され、可撓性帯状支持体8の片面に塗布される。その後、可撓性帯状支持体8の走行方向の下流側に位置し、かつポケット6b内から第2スロット4の流出口に押し出された第2の塗布液が、第1の塗布液の上に重ね塗りされる。このように、可撓性帯状支持体8の走行時、各塗布液が前後して吐出され、可撓性帯状支持体8に二層の塗布液が塗布される。
特公平6−77712号公報
ところで、可撓性帯状支持体8に塗布される塗布液の厚さは、数〜数十ミクロン相当のものであって、これを流通させるスロット1,4は必然的に隘路となる形状であるので、スロット1,4に塗布液が流通する際、塗布液とスロット1,4内面との間に少なからぬ摩擦が生じる。このため、塗布液が流通しにくくなり、スロット1,4の経路が500mmを越えるように長くなると、塗布液の吐出圧にばらつきが発生して塗布液の膜厚を均一に制御しにくくなるという問題が存在していた。また、塗布液が溝面上で固化してしまい、清掃に手間取るという問題も有していた。
本発明は、上記事情に鑑み、塗布液に対する摩擦抵抗が少なく、塗布液を安定して均一に可撓性帯状支持体に塗布することのできる塗布装置を提供することを課題とする。
上記課題を解決するために本発明においては、以下の手段を採用した。
本発明では、一の方向に走行する可撓性帯状支持体の上に塗布液を塗布する塗布ヘッドを備え、前記塗布ヘッドが、前記可撓性帯状支持体の走行方向に順次配置された少なくとも二つの部材を有し、前記部材同士の間に前記塗布液が前記可撓性帯状支持体に向かって流通するスロットが形成された塗布装置であって、前記部材の前記スロットを形成する溝面が、前記塗布液に対する摩擦を低減するよう、所望の面粗度に研磨加工されている。
本発明では、一の方向に走行する可撓性帯状支持体の上に塗布液を塗布する塗布ヘッドを備え、前記塗布ヘッドが、前記可撓性帯状支持体の走行方向に順次配置された少なくとも二つの部材を有し、前記部材同士の間に前記塗布液が前記可撓性帯状支持体に向かって流通するスロットが形成された塗布装置であって、前記部材の前記スロットを形成する溝面が、前記塗布液に対する摩擦を低減するよう、所望の面粗度に研磨加工されている。
このように、部材のスロットを形成する溝面が研磨加工され、塗布液に対する摩擦係数が低減されるように所望の面粗度に形成されていると、塗布液の流通するスロットの経路が長くなっても、塗布液の供給時、該塗布液を円滑に供給することができるため、スロットから吐出される塗布液の吐出圧を部材の延在する方向で一様にし、かつ、それぞれの位置で時間的にも安定させることができる。こうして、塗布液の均一な膜厚の制御を良好に実現することが可能となる。
また、溝面上での塗布液の液離れが良好となるので、溝面上で塗布液が付着して固化したりするのを防止でき、溝面の清掃を容易に行うことができる
また、溝面上での塗布液の液離れが良好となるので、溝面上で塗布液が付着して固化したりするのを防止でき、溝面の清掃を容易に行うことができる
また本発明では、前記溝面は、前記塗布液の流通する方向に沿って研磨加工されている。あるいは、前記溝面に、前記塗布液に対する摩擦を低減する被覆膜が形成されている。
このように、部材の溝面が,塗布液の流通方向に沿って研磨加工されたり、摩擦係数を低減する被覆膜を有していたりすると、塗布液の流通がいっそう円滑となり、吐出圧の安定化をいっそう図ることができる。
このように、部材の溝面が,塗布液の流通方向に沿って研磨加工されたり、摩擦係数を低減する被覆膜を有していたりすると、塗布液の流通がいっそう円滑となり、吐出圧の安定化をいっそう図ることができる。
以下、本発明の実施の形態を、図面に基づいて説明する。塗布装置は、塗布ヘッド10を有し、この塗布ヘッド10が第1スロット11を形成するバックエッジ13及び第1ドクターエッジ14と、第1ドクターエッジ14と共に第2スロット12を形成する第2ドクターエッジ15とを備えて構成されている。
これらバックエッジ13,第1,第2ドクターエッジ14,15は、可撓性帯状支持体19の走行方向Aに沿い順次配置され、しかも先端部には超硬合金からなるバックエッジ先端16,第1,第2ドクターエッジ先端17,18がそれぞれ装着されている。
ここで、バックエッジ先端16,第1,第2ドクターエッジ先端17,18は超硬合金で構成されている。
これらバックエッジ13,第1,第2ドクターエッジ14,15は、可撓性帯状支持体19の走行方向Aに沿い順次配置され、しかも先端部には超硬合金からなるバックエッジ先端16,第1,第2ドクターエッジ先端17,18がそれぞれ装着されている。
ここで、バックエッジ先端16,第1,第2ドクターエッジ先端17,18は超硬合金で構成されている。
可撓性帯状支持体19は、図示されぬ可撓性帯状支持体19の送り手段によって、バックエッジ13側から該バックエッジ13,第1ドクターエッジ14,第2ドクターエッジ15に向う矢印方向Aに走行するようになっている。
そして、この可撓性帯状支持体19の走行時、図示しない給液手段によって塗布液が供給され、該塗布液がポケット20,21及び第1スロット11,第2スロット12を流通することにより、可撓性帯状支持体19の片面に塗布液が重ねて塗布されるように構成されている。
この場合の塗布液としては、本例では、積層セラミックスコンデンサのグリーンシートに用いられる母材シートを形成するためのものであり、例えば、誘電体セラミックス粉の含有液、及びその組成を若干変えた誘電体含有液等の二種類からなっている。
そして、この可撓性帯状支持体19の走行時、図示しない給液手段によって塗布液が供給され、該塗布液がポケット20,21及び第1スロット11,第2スロット12を流通することにより、可撓性帯状支持体19の片面に塗布液が重ねて塗布されるように構成されている。
この場合の塗布液としては、本例では、積層セラミックスコンデンサのグリーンシートに用いられる母材シートを形成するためのものであり、例えば、誘電体セラミックス粉の含有液、及びその組成を若干変えた誘電体含有液等の二種類からなっている。
また本実施形態では、スロット11を形成するバックエッジ13の溝面11a及び第1ドクターエッジ14の溝面11b、さらに、スロット14を形成する第1ドクターエッジ14の溝面12a,第2ドクターエッジの溝面12bが、塗布液に対する摩擦係数が低減されるように所望の面粗度に研磨加工されている。
例えば、図2は、所望の面粗度に研磨加工される溝面11bを示すものである。図2に示すように、溝面11bは、第1ドクターエッジ14の溝面14aと、第1ドクターエッジ先端17の溝面17aとを有しており、これらのいずれもが研磨加工されている。同様に、溝面11aは、バックエッジ13の溝面13aと、バックエッジ先端16の溝面16aとを、溝面12aは、第1ドクターエッジ14の溝面14bと、第1ドクターエッジ先端17の溝面17bとを、溝面12bは、第2ドクターエッジ15の溝面15aと、第2ドクターエッジ先端18の溝面18aとを、それぞれ有し、これらの溝面のいすれもが所望の面粗度に研磨加工されている。
加えて、ポケット20,21も、これらの溝面と同様の面粗度にて研磨されている。
研磨加工する際の面粗度は、スロット11,12内を前記塗布液の種類によって適宜選択すればよいが、例えば、グリーンシートに用いられる母材シートを形成するためのものを塗布液に選ぶと、何れも面粗度が1S以下の粗さ、好ましくは0.8S以下の粗さに研磨されるのが望ましい。
なお、図2において、符号22は組立用のボルト穴である。
例えば、図2は、所望の面粗度に研磨加工される溝面11bを示すものである。図2に示すように、溝面11bは、第1ドクターエッジ14の溝面14aと、第1ドクターエッジ先端17の溝面17aとを有しており、これらのいずれもが研磨加工されている。同様に、溝面11aは、バックエッジ13の溝面13aと、バックエッジ先端16の溝面16aとを、溝面12aは、第1ドクターエッジ14の溝面14bと、第1ドクターエッジ先端17の溝面17bとを、溝面12bは、第2ドクターエッジ15の溝面15aと、第2ドクターエッジ先端18の溝面18aとを、それぞれ有し、これらの溝面のいすれもが所望の面粗度に研磨加工されている。
加えて、ポケット20,21も、これらの溝面と同様の面粗度にて研磨されている。
研磨加工する際の面粗度は、スロット11,12内を前記塗布液の種類によって適宜選択すればよいが、例えば、グリーンシートに用いられる母材シートを形成するためのものを塗布液に選ぶと、何れも面粗度が1S以下の粗さ、好ましくは0.8S以下の粗さに研磨されるのが望ましい。
なお、図2において、符号22は組立用のボルト穴である。
さらに、上記研磨加工時には、溝面11a,11b,12a,12bのそれぞれが、塗布液の流通する方向に沿って研磨加工されている。
このように、溝面11a,11b,12a,12b及びポケット20,21が研磨加工され、塗布液に対する摩擦係数が低減されるように所望の面粗度に形成されていると、塗布液の供給時、該塗布液を円滑に供給することができるため、スロット11,12から吐出される塗布液の吐出圧をバックエッジ12、第1,第2ドクターエッジ14,15の延在する方向で一様にし、かつ、それぞれの位置で時間的にも安定させることができる。こうして、塗布液の均一な膜厚の制御を良好に実現することが可能となる。
また、溝面11a,11b,12a,12b上での塗布液の液離れが良好となるので、溝面11a,11b,12a,12b上で塗布液が付着して固化したりするのを防止でき、溝面11a,11b,12a,12bの清掃を容易に行うことができる。
また、溝面11a,11b,12a,12b上での塗布液の液離れが良好となるので、溝面11a,11b,12a,12b上で塗布液が付着して固化したりするのを防止でき、溝面11a,11b,12a,12bの清掃を容易に行うことができる。
さらに、各溝面11a,11b,12a,12bが、塗布液の流出方向に沿って研磨加工されているので、塗布液の流通がいっそう円滑となり、吐出圧の安定化をいっそう図ることもできる。
図3は他の実施形態を示している。
この実施形態では、バックエッジ13,第1,第2ドクターエッジ14,15において第1,第2スロット11,12を形成する溝面11a,11b,12a,12b、及びポケット20,21に被覆膜23が形成されている。
この被覆膜23としては、塗布液の流通を円滑にさせるためのものであって、本例ではダイヤモンドライクカーボン(DLC)がコーティングされているが、それ以外のものでもよく、要は、アブレーション摩耗や、脂肪酸あるいは硫黄含有有機物などによる腐食摩耗等により損傷しにくい材質で構成されることが好ましい。
この実施形態では、バックエッジ13,第1,第2ドクターエッジ14,15において第1,第2スロット11,12を形成する溝面11a,11b,12a,12b、及びポケット20,21に被覆膜23が形成されている。
この被覆膜23としては、塗布液の流通を円滑にさせるためのものであって、本例ではダイヤモンドライクカーボン(DLC)がコーティングされているが、それ以外のものでもよく、要は、アブレーション摩耗や、脂肪酸あるいは硫黄含有有機物などによる腐食摩耗等により損傷しにくい材質で構成されることが好ましい。
このように、バックエッジ13,第1,第2ドクターエッジ14,15の、第1,第2スロット11,12を形成する溝面11a,11b,12a,12bに被覆膜23がそれぞれ形成されると、塗布液の流通が円滑になり、吐出圧を一様に安定させることができるので、前述した実施形態と略同様の効果を得ることができる。
なお、これまで述べた各実施形態においては、二層の塗布液を塗布する塗布装置に適用した例を示したが、無論、一層の塗布液を塗布する装置に適用しても、同様の作用効果が得られる。
以上述べたように、本発明によれば、部材のスロットを形成する溝面が研磨加工され、塗布液に対する摩擦係数を低減するよう所望の面粗度に形成されるので、吐出圧を空間的かつ時間的に安定させることができる。塗布液の流通するスロットが長くなっても、塗布液の均一な膜厚の制御を良好に実現することが可能となる。
また本発明によれば、スロットを形成する溝面が,塗布液の流通方向に沿って研磨加工され、あるいは、摩擦を低減する被覆膜が設けられるので、塗布液の流通がいっそう円滑となり、吐出圧の安定化をいっそう高めることもできる。
10…塗布ヘッド
11,12…スロット
13…バックエッジ
14…第1ドクターエッジ
15…第2ドクターエッジ
16…バックエッジ先端
17…第1ドクターエッジ先端
18…第2ドクターエッジ先端
11a,11b,12a,12b…溝面
20,21…ポケット
23…被覆膜
11,12…スロット
13…バックエッジ
14…第1ドクターエッジ
15…第2ドクターエッジ
16…バックエッジ先端
17…第1ドクターエッジ先端
18…第2ドクターエッジ先端
11a,11b,12a,12b…溝面
20,21…ポケット
23…被覆膜
Claims (3)
- 一の方向に走行する可撓性帯状支持体の上に塗布液を塗布する塗布ヘッドを備え、前記塗布ヘッドが、前記可撓性帯状支持体の走行方向に順次配置された少なくとも二つの部材を有し、前記部材同士の間に前記塗布液が前記可撓性帯状支持体に向かって流通するスロットが形成された塗布装置であって、
前記部材の前記スロットを形成する溝面が、前記塗布液に対する摩擦を低減するよう、所望の面粗度に研磨加工されていることを特徴とする塗布装置。 - 前記溝面は、前記塗布液の流通する方向に沿って研磨加工されていることを特徴とする請求項1記載の塗布装置。
- 前記溝面に、前記塗布液に対する摩擦を低減する被覆膜が形成されていることを特徴とする請求項1記載の塗布装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101350950B1 (ko) | 2011-10-31 | 2014-01-15 | 세메스 주식회사 | 노즐 유닛, 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
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-
2003
- 2003-12-25 JP JP2003430023A patent/JP2004167490A/ja active Pending
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