JP2004163923A - 感放射線性樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
着色がなく可視光に対する透過率が高く、十分な耐溶剤性を有する透明硬化樹脂パターンを形成し得て、また形状のよい透明硬化樹脂パターンを形成し得る感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
バインダー樹脂として、不飽和カルボン酸から導かれる構成単位(a1)およびオキセタニル基を有する不飽和化合物(ただし、不飽和カルボン酸を除く。)から導かれる構成単位(a2)を含む共重合体(A)、
キノンジアジド化合物(B)および
カチオン重合開始剤(C)としてヘキサフルオロアンチモネートアニオンとオニウムカチオンとからなる塩を含有する感放射線性樹脂組成物。
【選択図】 なし
Description
また、カチオン重合開始剤としては、ヘキサフルオロホスフェートアニオンからなるオニウム塩が一般的に使用されている(例えば、特許文献3など参照。)。しかし、感放射線性樹脂組成物を用いて形成したパターンを熱処理により硬化する際、硬化するよりもパターンの熱変形のほうが著しく速く、熱硬化後に透明硬化樹脂パターンの解像度、形状を維持できないという問題があった。
すなわち、本発明は、バインダー樹脂として、不飽和カルボン酸から導かれる構成単位(a1)およびオキセタニル基を有する不飽和化合物(ただし、不飽和カルボン酸を除く。)から導かれる構成単位(a2)を含む共重合体(A)、
キノンジアジド化合物(B)および
カチオン重合開始剤(C)としてヘキサフルオロアンチモネートアニオンとオニウムカチオンとからなる塩を含有する感放射線性樹脂組成物、前記の感放射線性樹脂組成物により形成された透明硬化樹脂パターン、ならびに前記の感放射線性樹脂組成物を塗布し、マスクを介して放射線を照射した後、現像して所定のパターンを形成し、次いで放射線を照射することを特徴とする透明硬化樹脂パターンの製造方法を提供する。
オキセタニル基とは、オキセタン(トリメチレンオキシド)環を有する基を意味する。
構成単位(a2)としては、3−エチル−3−メタクリロキシメチルオキセタンが特に好ましい。
また、オレフィン性二重結合を有するカルボン酸エステルから導かれる構成単位(a31)、芳香族ビニル化合物から導かれる構成単位(a32)およびシアン化ビニル化合物から導かれる構成単位(a33)からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位(a3)を含むことが好ましい。
前記の構成単位(a3)としては、例えば、重合性の炭素−炭素不飽和結合から導かれる構成単位が挙げられる。
前記のオレフィン性二重結合を有するカルボン酸エステルから導かれる構成単位(a31)としては、不飽和カルボン酸エステルから導かれる構成単位を用いることもでき、例えば、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ペンチルアクリレート、ペンチルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどの不飽和カルボン酸エステル;
アミノエチルアクリレートなどの不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル;
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステルなどが挙げられる。
前記の芳香族ビニル化合物から導かれる構成単位(a32)としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエンなどの芳香族ビニル化合物が挙げられる。
前記のシアン化ビニル化合物から導かれる構成単位(a33)としては、例えば、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロロニトリルなどのシアン化ビニル化合物などが挙げられる。
前記のN−置換マレイミド化合物から導かれる構成単位(a34)としては、例えば、N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−ブチルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ベンジルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−(4−アセチルフェニル)マレイミド、N−(2,6−ジエチルフェニル)マレイミド、N−(4−ジメチルアミノ−3,5−ジニトロフェニル)マレイミド、N−スクシンイミジル−3−マレイミドベンゾエート、N−スクシンイミジル−3−マレイミドプロピオネート、N−スクシンイミジル−4−マレイミドブチレート、N−スクシンイミジル−6−マレイミドカプロエート、N−(1−アニリノナフチル−4)−マレイミド、N−[4−(2−ベンズオキサゾリル)フェニル]マレイミド、N−(9−アクリジニル)マレイミドなどのN−置換マレイミド化合物などが挙げられる。
中でも、(a31)、(a32)、(a33)および(a34)からなる群から選ばれる少なくとも一種の構成単位(a3)としては、ジシクロペンタニルメタクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレート、N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミドが特に好ましい。
このような構成単位は、それぞれ単独で、または2種以上を組み合わせて用いられることができる。
前記の共重合体(A)において、不飽和カルボン酸から導かれる構成単位(a1)およびオキセタニル基を有する不飽和化合物(ただし、不飽和カルボン酸を除く。)から導かれる構成単位(a2)の構成比率が、前記の範囲にあると、現像液に対して適正な溶解速度をもちながら、高い硬化性も示す傾向にあり、好ましい。
本発明の感放射線性樹脂組成物における不飽和カルボン酸から導かれる構成単位(a1)およびオキセタニル基を有する不飽和化合物(ただし、不飽和カルボン酸を除く。)から導かれる構成単位(a2)を含む共重合体(A)の含有量は、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して、質量分率で通常50〜94.99%、好ましくは60〜90%である。
2,2’,4,4'−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2’,4,3’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2’,4,3’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,2’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,2’−テトラヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,3,4,4’−テトラヒドロキシ−3’−メトキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,4’−テトラヒドロキシ−3’−メトキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルなどのテトラヒドロキシベンゾフェノン類の1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル;
2,3,4,2’,6’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,3,4,2’,6’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルなどのペンタヒドロキシベンゾフェノン類の1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル;
2,4,6,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,4,6,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、3,4,5,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、3,4,5,3’,4’,5’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルなどのヘキサヒドロキシベンゾフェノン類の1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル;
ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、ビス(2,4−ジヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、ビス(p−ヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、1,1,1−トリ(p−ヒドロキシフェニル)エタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、1,1,1−トリ(p−ヒドロキシフェニル)エタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)メタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2’−ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)プロパン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2’−ビス(2,3,4−トリヒドロキシフェニル)プロパン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、1,1,3−トリス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、1,1,3−トリス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、4,4’−[1−[4−[1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル]フェニル]エチリデン]ビスフェノール−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、ビス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、ビス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−ヒドロキシフェニルメタン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、3,3,3’,3’−テトラメチル−1,1’−スピロビインデン−5,6,7,5’,6’,7’−ヘキサノール−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、3,3,3’,3’−テトラメチル−1,1’−スピロビインデン−5,6,7,5’,6’,7’−ヘキサノール−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステル、2,2,4−トリメチル−7,2’,4’−トリヒドロキシフラバン−1,2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸エステル、2,2,4−トリメチル−7,2’,4’−トリヒドロキシフラバン−1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸エステルなどの(ポリヒドロキシフェニル)アルカン類の1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルなどが挙げられる。
炭素数1〜12のアルコキシル基、ハロゲン原子、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基およびニトロ基からなる群から選ばれる少なくとも1個の置換基で置換されていてもよいナフチル基、
ハロゲン原子、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基およびニトロ基からなる群から選ばれる少なくとも1個の置換基で置換されていてもよい炭素数1〜18の直鎖状アルキル基、
ハロゲン原子、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基およびニトロ基からなる群から選ばれる少なくとも1個の置換基で置換されていてもよい炭素数3〜18の分岐鎖状アルキル基、
ハロゲン原子、カルボキシル基、メルカプト基、シアノ基およびニトロ基からなる群から選ばれる少なくとも1個の置換基で置換されていてもよい炭素数3〜18の環状アルキル基のいずれかを表す。)
一般式(2)で示されるオニウムカチオンとしては、具体的には、トリフェニルスルホニウム、トリス(p−トリル)スルホニウム、トリス(p−イソプロピルフェニル)スルホニウム、トリス(t−ブチルフェニル)スルホニウム、トリス(2,6−ジメチルフェニル)スルホニウム、トリス(p−シアノフェニル)スルホニウム、トリス(p−クロロフェニル)スルホニウム、ジメチル(メトキシ)スルホニウム、ジメチル(エトキシ)スルホニウム、ジメチル(プロポキシ)スルホニウム、ジメチル(ブトキシ)スルホニウム、ジメチル(オクチルオキシ)スルホニウム、ジメチル(オクタデシルオキシ)スルホニウム、ジメチル(イソプロポキシ)スルホニウム、ジメチル(t−ブトキシ)スルホニウム、ジメチル(シクロペンチルオキシ)スルホニウム、ジメチル(シクロヘキシルオキシ)スルホニウム、ジメチル(フルオロメトキシ)スルホニウム、ジメチル(2−クロロエトキシ)スルホニウム、ジメチル(3−ブロモプロポキシ)スルホニウム、ジメチル(4−シアノブトキシ)スルホニウム、ジメチル(8−ニトロオクチルオキシ)スルホニウム、ジメチル(18,18,18−トリフルオロオクタデシルオキシ)スルホニウム、ジメチル(2−ヒドロキシイソプロポキシ)スルホニウム、ジメチル(トリス(トリクロロメチル)メチル)スルホニウム、ジメチル(2−オキソプロピル)スルホニウム、ジメチル(2−オキソブチル)スルホニウム、ジメチル(2−オキソペンチル)スルホニウム、ジメチル(2−オキソヘキシル)スルホニウム、ジメチル(2−オキソヘプチル)スルホニウム、ジメチル(2−オキソオクチル)スルホニウム、ジメチル(3−メチル−2−オキソブチル)スルホニウム、3,3−ジメチル−2−オキソブチルジメチルスルホニウム、2−シクロヘキシル−2−オキソエチルジメチルスルホニウム、2−シクロペンチル−2−オキソエチルジメチルスルホニウム、2−オキソ−2−フェニルエチルジメチルスルホニウム、2−ナフチル−2−オキソエチルジメチルスルホニウム、3,3−ジメチル−2−オキソブチルチアシクロペンタニウム、2−フェニル−2−オキソエチルチアシクロペンタニウム、2−ナフチル−2−オキソエチルチアシクロペンタニウム、ジメチル(4−ヒドロキシフェニル)スルホニウム、ベンジル(4−ヒドロキシフェニル)メチルスルホニウム、(4−ヒドロキシフェニル)(1−ナフチルメチル)メチルスルホニウム、(4−ヒドロキシフェニル)(4−メチルベンジル)メチルスルホニウム、(4−ヒドロキシフェニル)(2−メチルベンジル)メチルスルホニウム、ジメチル(4−アセトフェニル)スルホニウム、ベンジル(4−アセトフェニル)メチルスルホニウム、ジメチル(4−メトキシカルボニルフェニル)スルホニウム、ベンジル(4−メトキシカルボニルフェニル)メチルスルホニウム、ジメチル(4−ベンジロキシカルボニルフェニル)スルホニウム、ベンジル(4−ベンジロキシカルボニルフェニル)メチルスルホニウム、ジフェニル(4−フェニルチオフェニル)スルホニウム、ジフェニル(4−フェニルオキシフェニル)スルホニウム、ビス(ジフェニルスルホニオ)フェニルスルフィド、ビス(ジフェニルスルホニオ)フェニルエーテルなどが挙げられる。
好ましくは、ジフェニルヨードニウム、ビス(p−トリル)ヨードニウム、(p−トリル)(p−イソプロピルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−t−ブチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−t−ブチルフェニル)ヨードニウム、トリフェニルスルホニウム、トリス(t−ブチルフェニル)スルホニウムなどが挙げられる。 本発明の感放射線性樹脂組成物における前記のカチオン重合開始剤(C)の含有量は、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して、質量分率で通常0.01〜10%、好ましくは0.1〜5%である。前記のカチオン重合開始剤(C)の含有量が、前記の範囲にあると、熱硬化時の硬化速度を高めて、熱硬化時の解像度低下を抑制する傾向があり、好ましい。
本発明の感放射線性樹脂組成物において、前記の増感剤(D)を含有する場合、その含有量は、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して、質量分率で通常0.01〜10%、好ましくは0.1〜5%である。増感剤(D)の含有量が、前記の範囲にあると、現像後の露光時にカチオン重合開始剤の分解を促進し、熱硬化時の硬化速度を高めることで、熱硬化時の解像度低下を防止し、さらに得られる塗膜の可視光透過率が実用上問題のある程度までは低下しないので好ましい。
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテルなどのジエチレングリコールジアルキルエーテル類;
メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類;
ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素類;
メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、グリセリンなどのアルコール類;
2−ヒドロキシイソブタン酸メチル、乳酸エチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチルなどのエステル類;
γ−ブチロラクトンなどの環状エステル類などが挙げられる。好ましい溶剤としは、2−ヒドロキシイソブタン酸メチル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−エトキシプロピオン酸エチルなどが挙げられ、中でも2−ヒドロキシイソブタン酸メチルが好ましい。
前記の溶剤(H)は、それぞれ単独でまたは2種以上を組合わせて用いられ、その含有量は感放射線性樹脂組成物の合計量に対して、質量分率で通常50〜95%、好ましくは60〜90%である。
撹拌機、冷却管及び温度計を装着した200mLの四つ口フラスコに、以下の原料を仕込んで、窒素気流下、四つ口フラスコを油浴に浸し、フラスコ内温を85〜95℃に保ちながら3時間撹拌して反応を行い、樹脂A1を得た。この樹脂A1のポリスチレン換算重量平均分子量は15,000であった。
メタクリル酸 6.4g
シクロヘキシルメタクリレート 11.7g
3−エチル−3−メタクリロキシメチルオキセタン 17.7g
2−ヒドロキシイソブタン酸メチル 83.3g
アゾビスイソブチロニトリル 0.9g
撹拌機、冷却管及び温度計を装着した200mLの四つ口フラスコに、以下の原料を仕込んで、窒素気流下、四つ口フラスコを油浴に浸し、フラスコ内温を85〜95℃に保ちながら3時間撹拌して反応を行い、樹脂A2を得た。この樹脂A2のポリスチレン換算重量平均分子量は15,000であった。
N−フェニルマレイミド 13.7g
3−エチル−3−メタクリロキシメチルオキセタン 17.8g
2−ヒドロキシイソブタン酸メチル 89.5g
アゾビスイソブチロニトリル 0.9g
撹拌機、冷却管及び温度計を装着した200mLの四つ口フラスコに、以下の原料を仕込んで、窒素気流下、四つ口フラスコを油浴に浸し、フラスコ内温を85〜95℃に保ちながら3時間撹拌して反応を行い、樹脂A3を得た。この樹脂A3のポリスチレン換算重量平均分子量は15,000であった。
N−シクロヘキシルマレイミド 14.2g
3−エチル−3−メタクリロキシメチルオキセタン 17.8g
2−ヒドロキシイソブタン酸メチル 90.7g
アゾビスイソブチロニトリル 0.9g
装置;HLC-8120GPC(東ソー(株)製)
カラム;TSK−GELG2000HXL、TSK−GELG4000HXL直列
カラム温度;40℃
移動相溶媒;テトラヒドロフラン
流速;1.0ml/min
注入量;50μl
検出器;RI
測定試料濃度;0.6質量%(溶媒;テトラヒドロフラン)
校正用標準物質;TSK STANDARD POLYSTYRENE F−40、F−4、F−1、A−2500、A−500(東ソー(株)製)
(A)樹脂A1(100質量部)、
(B)式(4)
(C)スルホニウム塩ヘキサフルオロアンチモネート〔サンエイドSI−100(三新化学工業(株)製)〕(2質量部)、
(G)2−ヒドロキシイソブタン酸メチル(429質量部)を、23℃で混合した後、孔径1.0μmのポリテトラフルオロエチレン製カートリッジフィルターを通して加圧濾過して、感放射線性樹脂組成物を濾液として得た。
(C)サンエイドSI−100(三新化学工業(株)製)をサンエイドSI−150(三新化学工業(株)製)に変更する以外は実施例1と同様に操作して、感放射線性樹脂組成物を得た。
(C)サンエイドSI−100(三新化学工業(株)製)をアデカオプトマーSP−170(旭電化工業(株)製)に変更する以外は実施例1と同様に操作して、感放射線性樹脂組成物を得た。
(C)サンエイドSI−100(三新化学工業(株)製)をアデカオプトマーSP−172(旭電化工業(株)製)に変更する以外は実施例1と同様に操作して、感放射線性樹脂組成物を得た。
現像後のパターンの断面と基板とがなす角度θは、90度であった。実施例1と同様に操作して測定した光線透過率は99.3%と高い透明性を示し、着色はみられなかった。熱処理後の硬化樹脂パターンの断面と基板とがなす角度θは、56度であった。実施例1と同様の耐溶剤性試験でも浸漬前後で塗膜に変化は見られなかった。
(A)樹脂A1(100質量部)を(A)樹脂A2(100質量部)に変更する以外は実施例4と同様に操作して、感放射線性樹脂組成物を得た。
現像後のパターンの断面と基板とがなす角度θは、90度であった。実施例1と同様に操作して測定した光線透過率は99.5%と高い透明性を示し、着色はみられなかった。熱処理後の硬化樹脂パターンの断面と基板とがなす角度θは、66度であった。実施例1と同様の耐溶剤性試験でも浸漬前後で塗膜に変化は見られなかった。
(A)樹脂A1(100質量部)を(A)樹脂A3(100質量部)に変更する以外は実施例4と同様に操作して、感放射線性樹脂組成物を得た。
現像後のパターンの断面と基板とがなす角度θは、90度であった。実施例1と同様に操作して測定した光線透過率は99.3%と高い透明性を示し、着色はみられなかった。熱処理後の硬化樹脂パターンの断面と基板とがなす角度θは、72度であった。実施例1と同様の耐溶剤性試験でも浸漬前後で塗膜に変化は見られなかった。
(C)サンエイドSI−100(三新化学工業(株)製)をスルホニウム塩ヘキサフルオロホスフェート〔サンエイドSI−110(三新化学工業(株)製)〕を用いる以外は実施例1と同様に操作して、感放射線性樹脂組成物を得た。
12:放射線照射領域
2:基板
3:ポジマスク
4:放射線
5:透明硬化樹脂パターン
Claims (9)
- バインダー樹脂として、不飽和カルボン酸から導かれる構成単位(a1)およびオキセタニル基を有する不飽和化合物(ただし、不飽和カルボン酸を除く。)から導かれる構成単位(a2)を含む共重合体(A)、
キノンジアジド化合物(B)および
カチオン重合開始剤(C)としてヘキサフルオロアンチモネートアニオンとオニウムカチオンとからなる塩を含有する感放射線性樹脂組成物。 - カチオン重合開始剤(C)が、ヨードニウム塩またはスルホニウム塩である請求項1に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 不飽和カルボン酸から導かれる構成単位(a1)およびオキセタニル基を有する不飽和化合物(ただし、不飽和カルボン酸を除く。)から導かれる構成単位(a2)を含む共重合体(A)の含有量が、感放射線性樹脂組成物の固形分に対して、質量分率で50〜94.99%であり、キノンジアジド化合物(B)の含有量が、前記の固形分に対して、質量分率で5〜40%であり、ヘキサフルオロアンチモネートとオニウムカチオンとからなるオニウム塩であるカチオン重合開始剤(C)の含有量が、前記の固形分に対して、質量分率で0.01〜10%である請求項1または2に記載の感放射線性樹脂組成物。
- 共重合体(A)がさらに、オレフィン性二重結合を有するカルボン酸エステルから導かれる構成単位(a31)、芳香族ビニル化合物から導かれる構成単位(a32)、シアン化ビニル化合物から導かれる構成単位(a33)およびN−置換マレイミド化合物から導かれる構成単位(a34)からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位(a3)を含む請求項1〜3のいずれかに記載の感放射線性樹脂組成物。
- 共重合体(A)がさらに、カルボン酸エステルから導かれる構成単位(a31)、芳香族ビニル化合物から導かれる構成単位(a32)およびシアン化ビニル化合物から導かれる構成単位(a33)からなる群から選ばれる少なくとも1種の構成単位(a3)を含む請求項1〜3のいずれかに記載の感放射線性樹脂組成物。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の感放射線性樹脂組成物により形成された透明硬化樹脂パターン。
- 基板上に請求項1〜5のいずれかに記載の感放射線性樹脂組成物を塗布し、マスクを介して放射線を照射した後、現像して所定のパターンを形成し、次いで放射線を照射することを特徴とする透明硬化樹脂パターンの製造方法。
- 250〜330nmの波長の放射線を含む放射線を、現像後のパターンに照射することを特徴とする請求項7に記載の透明硬化樹脂パターンの製造方法。
- 放射線を照射した後、加熱する請求項7または8に記載の透明硬化樹脂パターンの製造方法。
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