JP2004152399A - 半導体記憶装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ロジック混載デバイス等において、効率的なバーンイン試験を実行することが可能な半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】ビット線BLを厚膜トランジスタで構成されるメモリセルを有する第1の領域と、薄膜トランジスタで構成されるセンスアンプを有する第2の領域に分離する分離部を設ける。また、それぞれの領域に対応して電圧供給線VBLaおよびVBLsを設ける。テスト時に、分離部で2つの領域を分離し、電圧供給線からテスト用の電圧を供給する。これに伴い、厚膜および薄膜トランジスタに応じたテスト用の電圧を供給することができ、効率的なバーンイン試験を実行することができる。
【選択図】 図3
【解決手段】ビット線BLを厚膜トランジスタで構成されるメモリセルを有する第1の領域と、薄膜トランジスタで構成されるセンスアンプを有する第2の領域に分離する分離部を設ける。また、それぞれの領域に対応して電圧供給線VBLaおよびVBLsを設ける。テスト時に、分離部で2つの領域を分離し、電圧供給線からテスト用の電圧を供給する。これに伴い、厚膜および薄膜トランジスタに応じたテスト用の電圧を供給することができ、効率的なバーンイン試験を実行することができる。
【選択図】 図3
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体記憶装置に関し、特に信頼性評価のための試験を実行する回路を備えた半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、ワンチップで種々のロジック回路が混載されたロジック混載デバイスが注目されてきている。当該ロジック混載デバイスにおいては、その機能および用途に応じて、異なる種類のトランジスタが用いられる構成が一般的である。具体的には、高速動作および消費電力等の観点から、酸化膜厚が異なる2種類のトランジスタが回路内に混在する構成となっている。一例として、メモリアレイに記憶されたデータのデータ読出に関して、高速動作が要求されるセンスアンプには、薄膜トランジスタを用い、選択メモリセルにアクセスするためのアクセストランジスタには昇圧電圧を印加する目的のため厚膜トランジスタが用いられる。
【0003】
一方、デバイスの信頼性試験に関して説明する。一般に、デバイスの故障は3つの期間に大別され、時間の経過につれて初期故障期間、偶発故障期間、摩耗故障期間等を挙げることができる。初期故障は、使用直後に発生する故障でデバイス作製時の欠陥が現われたものである。マージン系の不良はこの部類に属する。この故障の割合は時間とともに急速に減少していく。その後は低い故障率がある一定期間長く続く偶発故障期間に入る。やがてデバイスは耐用寿命に近づき急激に故障率が増大する(摩耗故障期間)。デバイスは、偶発故障期間内で使用することが望ましくこの領域が耐用期間となる。したがって、デバイスの信頼性を高めるためには偶発故障が低く一定でかつ偶発故障期間が長く続くことが要求される。
【0004】
一方で、初期故障を予め除去するために、デバイスに一定時間の加速動作エージングを行ない不良品を除去するスクリーニングを行なう必要性がある。これを短期間で効果的に行なうためには、初期故障率が時間に対して急速に減少し早く偶発故障に入ることが望ましい。現在このスクリーニング手法の1つとして一般に高温動作試験(バーンイン試験)を行なっており特にウェハ状態においてはウェハレベルバーンイン試験が効果的である。これは実デバイスを用いて、トランジスタ等の誘電体膜を直接評価することができる方式であり、配線間ショートをはじめ、あらゆる不良要因を高温かつ高電界のストレスを印加することにより加速的に顕在化させることができる。特開2001−250398号公報においては、当該ウェハレベルバーンイン試験において、メモリアレイ内のビット線をプリチャージするためのプリチャージ電圧供給線を用いてバーンイン試験を実行する構成が示されている。
【0005】
【特許文献1】
特開2001−250398号公報(11頁、図6)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した2種類の異なるトランジスタが混在するロジック混載デバイス等においては、たとえば厚膜トランジスタのバーンイン試験用の電圧(バーンイン電圧)を薄膜トランジスタに適用すると薄膜トランジスタが破壊されてしまうという問題がある。
【0007】
本発明は、上記のような問題を解決するものであって、ロジック混載デバイス等において、効率的なバーンイン試験を実行することが可能な半導体記憶装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る半導体記憶装置は、記憶データに応じた電荷が蓄積される複数のメモリセルと、ビット線と、周辺回路と、分離部と、第1および第2の電圧供給線と、電圧制御回路とを含む。ビット線は、データ読出時に、複数のメモリセルのうちの選択メモリセルと接続される。周辺回路は、データ読出時にビット線と接続されて選択メモリセルに対してデータ読出を実行する。分離部は、必要に応じて複数のメモリセルおよび周辺回路に対応するビット線を第1および第2の領域にそれぞれ電気的に分離する。第1の電圧供給線は、第1の領域のビット線に対応して設けられる。第2の電圧供給線は、第2の領域のビット線に対応して設けられる。電圧制御回路は、第1および第2の電圧供給線に対して供給する電圧を制御する。また、電圧制御回路は、動作時に第1および第2の電圧供給線に対して同一の電圧を供給し、テスト時に、第1および第2の電圧供給線に対してそれぞれ異なる電圧を供給する。
【0009】
また、半導体記憶装置は、記憶データに応じた電荷が蓄積されるメモリセルと、ビット線と、電圧供給線と、電圧制御回路とを含む。ビット線は、データ読出時に、メモリセルの記憶データに応じた電圧レベルを伝達する。電圧供給線は、メモリセルに対してセルプレート電圧を供給する。メモリセルは、アクセストランジスタと、キャパシタとを含む。アクセストランジスタは、ストレージノードとビット線との間に設けられ、データ読出時にターンオンする。キャパシタは、ストレージノードと電圧供給線との間に設けられ、電荷を保持する。テスト時において、アクセストランジスタをターンオフする。電圧制御回路は、テスト時において、電圧供給線およびビット線にそれぞれ異なる電圧を供給する。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付し、その説明は繰返さない。
【0011】
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置1の全体構成図である。
【0012】
半導体記憶装置1は、大容量のデータを保持するメモリとして用いられるDRAM部10と、種々の論理計算を実行するロジック回路部11と、高速にデータを処理するためのメモリとして用いられるSRAM部12と、各部の接続等に用いられる周辺回路帯13とを備える。また、半導体記憶装置1は、デバイス周辺に設けられた複数の外部パッドPDをさらに備える。
【0013】
図2は、本発明の実施の形態1に従うDRAM部10の概念図である。
図2を参照して、本発明の実施の形態1に従うDRAM部10は、電源供給ピン60,61,61aと、データの入出力に用いられる入出力ピン62,63と、DRAM部10の制御に用いられる制御信号が入力される複数の制御信号ピンで構成される制御信号ピン群65とを備える。
【0014】
また、DRAM部10は、内部回路に動作電圧等を供給する電源制御回路15と、データを記憶するためのメモリセルが集積配置されたメモリアレイ20aおよび20bと、メモリアレイ20aに対応して設けられ入出力ピン62との間でデータの入出力を実行するための入出力回路50aと、入出力ピン63とメモリアレイ20bとの間でデータの入出力を実行するための入出力回路50bと、DRAM部10全体の動作を制御する制御回路40とを備える。電源制御回路15は、電源供給ピン60,61,61aのそれぞれから接地電圧GND、電源電圧Vccおよび高電源電圧VddHの供給を受ける。
【0015】
また、DRAM部10は、制御信号ピン群65の信号ピンから入力されるロウアドレスRAおよびコラムアドレスCAの入力をバッファ処理して制御回路40に対して出力するアドレスバッファ45と、制御信号ピン群65の信号ピンから入力されるクロック信号CLKおよびクロックイネーブル信号CKEの入力を受けて、制御回路40や他の周辺回路に内部クロック信号を出力するクロックバッファ46と、制御信号ピン群65の信号ピンから入力され、データ書込に関する制御信号/WE、データ読出に関する制御信号/RE、試験モードに関する制御信号TMおよびプリチャージモードに関する制御信号/PREの入力をバッファ処理して制御回路40に対して出力する制御信号バッファ47とを備える。なお、上記の「/」の記号は、反転、否定、相補等を示すものとする。以下についても同様である。
【0016】
図3は、本発明の実施の形態1に従うメモリアレイ20aおよびその周辺回路領域の回路構成図である。ここでは、メモリアレイ20aについて説明するがメモリアレイ20bについても同様でありその説明は繰り返さない。
【0017】
図3を参照して、本発明のメモリアレイ20aは、行列状に集積配置されたメモリセルMCを有する。
【0018】
本発明のメモリアレイ20aは、隣接する2つのメモリセル列にそれぞれ対応して、互いに相補のビット線BL,/BLが設けられる。また、メモリセル行にそれぞれ対応して複数のワード線が設けられ、ビット線BL,/BLに対応するメモリセルは、互いに異なるワード線と接続される。本例においては、ビット線/BLに対応する2つのメモリセルMCは、ワード線WL0,WL3とそれぞれ接続されている。また、ビット線BLに対応する2つのメモリセルMCは、ワード線WL1,WL2とそれぞれ接続されている。他の部分についても同様の構成である。
【0019】
また、メモリアレイ20aは、ビット線BL,/BLをプリチャージするとともにイコライズするためのイコライズユニットEQUaを有する。イコライズユニットEQUaは、トランジスタ70〜72を有する。トランジスタ70は、ビット線BLとビット線/BLとの間に配置され、そのゲートは選択線BLEQと電気的に結合される。トランジスタ71および72は、直列にビット線BLとビット線/BLとの間に配置され、それぞれのゲートは選択線BLEQと電気的に結合される。また、トランジスタ71および72の接続ノードは、プリチャージ電圧の電圧供給線VBLaと電気的に結合される。なお、トランジスタ70〜72は、一例としてNチャンネルMOSトランジスタとする。
【0020】
また、メモリアレイ20aは、ビット線BL,/BL毎に設けられ、センスアンプSAとビット線BL,/BLとの電気的な接続を制御する選択ゲートBIUを有する。また、選択ゲートBIUは、センスアンプSAの両側にそれぞれ配置され、一方側がメモリアレイ20aの選択ゲートとして機能し、他方がメモリアレイ20bの選択ゲートとして機能する。すなわち、本例における、センスアンプSAは、いわゆるシェアドセンスアンプを構成し、メモリアレイ20aおよび20bの選択に応じて、対応する選択ゲートBIUが活性化される。
【0021】
選択ゲートBIUは、トランジスタ75および76を有する。トランジスタ75および76は、ビット線BL,/BLとセンスアンプSAとの間の電気的な接続を制御し、そのゲートはそれぞれ選択線BLIの入力を受ける。なお、トランジスタ75および76は、一例としてNチャンネルMOSトランジスタとする。
【0022】
センスアンプ帯27は、ビット線BL,/BLごとに設けられたセンスアンプSAと、イコライズユニットEQUsと、センスアンプSAに対して電源電圧Vccを供給するトランジスタ91と、センスアンプSAに対して接地電圧GNDを供給するトランジスタ90とを含む。トランジスタ90および91は、それぞれ制御信号S0および/S0に応答して活性化される。なお、トランジスタ90および91は、一例としてそれぞれNチャンネルMOSトランジスタおよびPチャンネルMOSトランジスタとする。
【0023】
イコライズユニットEQUsは、トランジスタ80〜82を含む。トランジスタ80は、トランジスタ90および91との間に配置され、そのゲートは、選択線SEQと電気的に結合される。トランジスタ81および82は、トランジスタ90および91の間に直列に接続され、そのゲートは、選択線SEQと電気的に結合される。トランジスタ81および82の接続ノードは、プリチャージ電圧の供給を受ける電圧供給線VBLsと電気的に結合される。なお、トランジスタ80〜82は、一例としてNチャンネルMOSトランジスタとする。
【0024】
ここで、本発明の実施の形態1に従うメモリセルMCについて説明する。
図4は、本発明の実施の形態1に従う隣接する2個のメモリセルMCの断面構造図である。一例としてビット線BLに対応する隣接する2個のメモリセルMCを挙げることができる。
【0025】
本例においては、ロジック混載デバイスで一般的に用いられるCOB(Capacitor Over Bit line)構造のメモリセルMCについて説明する。いわゆるメモリセルのキャパシタの上層にビット線が形成される構造である。
【0026】
図4を参照して、メモリセルMCを形成するためにN型の半導体基板SUBb上にP型の半導体基板SUBaが形成される。メモリセルMCに含まれるアクセストランジスタATは、半導体基板SUBa上に形成され、N型領域である不純物領域100および101と、サイドウォールで覆われたゲート領域103とを有する。不純物領域100は、コンタクトホール105に形成される金属膜を介して上部に形成されるキャパシタCPと電気的に結合される。キャパシタCPはキャパシタCPを覆うように形成されたセルプレート電圧供給線CPL(以下、電圧供給線CPLとも称する)と電気的に結合される。また、不純物領域101は、コンタクトホール106に形成される金属膜を介してキャパシタCPよりもさらに上層に形成された金属層M1に形成されるビット線BLと電気的に結合される。一方、ワード線は、アクセストランジスタATのゲート電圧を制御するために設けられるので、電流を積極的に流す必要はない。したがって、集積度を高める観点から、ワード線WL、ゲート103と同一の配線層に、ポリシリコン層やポリシリサイド層などを用いて形成されるのが一般的である。なお、ポリシリコン層やポリシリサイド層などは比較的高抵抗であるため上層のアルミ等の金属配線層M2で図示しないコンタクトホール等により裏打ちすることにより抵抗を下げる構成が一般的に用いられている。
【0027】
また、隣接するメモリセルについても同様に形成され、隣接するメモリセルMCのアクセストランジスタは、半導体基板SUBa上に形成され、N型領域である不純物領域101および102と、ゲート領域104とを有する。不純物領域102は、コンタクトホール107に形成される金属膜を介して上部に形成されるキャパシタCPを介してセルプレート電圧供給線と電気的に結合される。したがって、不純物領域101を隣接する2つのメモリセル間で共有することができるためメモリセルのレイアウト面積を縮小し、高集積化を図ることができる。なお、このCOB構造型のメモリセルは、図4に示される様にその構造上、ビット線BLとセルプレート電圧供給線とが相対的に近接したものとなっている。
【0028】
図5は、電源制御回路15に含まれる本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の概念図である。電圧供給回路は、電圧供給線VBLa,VBLsおよびCPLのそれぞれに所望の電圧を供給する。
【0029】
図5を参照して、本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路は、ビット線をプリチャージするためのプリチャージ電圧VBLを発生するVBL発生回路150と、セルプレート電圧VCPを発生するVCP発生回路160と、トランジスタTR0〜TR3と、インバータIV0と、外部パッドPD0,PD1と、切換制御ユニット200とを含む。
【0030】
トランジスタTR0は、VCP発生回路160とノードN1との間に配置され、そのゲートはインバータIV0を介する制御信号WLBIEの反転信号の入力を受ける。トランジスタTR1は、ノードN0とVBL発生回路150との間に配置され、そのゲートはインバータIV0を介する制御信号WLBIEの反転信号の入力を受ける。トランジスタTR2は、ノードN0とノードN4との間に配置され、そのゲートはインバータIV0を介する制御信号WLBIEの反転信号の入力を受ける。トランジスタTR3は、ノードN1とノードN4との間に配置され、そのゲートは制御信号WLBIEの入力を受ける。切換制御ユニット200は、ノードN0およびノードN1に対応して設けられ、入力される制御信号に応答してそれぞれ電圧供給線VBLaおよび電圧供給線CPLに供給する電圧を切換える。
【0031】
制御信号WLBIEは、必要に応じてバーンイン試験時に活性化される制御信号である。一例として制御信号WLBIEが「H」レベルに設定された場合、これに伴い、トランジスタTR0およびTR1がターンオフされる。したがって、VBL発生回路150およびVCP発生回路160からの電圧の供給が停止する。一方、トランジスタTR3はターンオンし、ノードN1とノードN4とが電気的に結合される。これに伴い、バーンイン試験時には、外部パッドPD0およびPD1を用いてバーンイン電圧を電圧供給線VBLa,VBLsおよびCPLに対して供給することができる。
【0032】
切換制御ユニット200は、インバータIV1と、トランジスタTR4〜TR9と、AND回路AD0,AD1とを含む。トランジスタTR4は、ノードN0とノードN3との間に配置され、そのゲートはインバータIV1を介する制御信号CBSの反転信号の入力を受ける。トランジスタTR5は、ノードN1とノードN2との間に配置され、そのゲートはインバータIV1を介する制御信号CBSの反転信号の入力を受ける。
【0033】
トランジスタTR6は、ノードN0とノードN3との間に配置され、そのゲートはAND回路AD0の出力信号の入力を受ける。トランジスタTR7は、ノードN3と接地電圧GNDとの間に配置され、そのゲートはAND回路AD1の出力信号の入力を受ける。トランジスタTR8は、ノードN0とノードN2との間に配置され、そのゲートはAND回路AD1の出力信号の入力を受ける。トランジスタTR9は、ノードN2と接地電圧GNDとの間に配置され、そのゲートはAND回路AD0の出力信号の入力を受ける。AND回路AD0は、制御信号CBTおよび制御信号CBSの入力を受けてそのAND論理演算結果をトランジスタTR6およびトランジスタTR9のゲートにそれぞれ出力する。AND回路AD1は、制御信号CBSおよび制御信号CBTの反転信号の入力を受けて、そのAND論理演算結果をトランジスタTR6およびTR8のゲートにそれぞれ出力する。
【0034】
また、ノードN3と電圧供給線VBLaとが電気的に結合される。また、ノードN4と電圧供給線VBLsとが電気的に結合される。さらに、ノードN2と電圧供給線CPLとが電気的に結合される。
【0035】
切替制御ユニット200は、上述したように制御信号CBSおよびCBTの論理レベルに応じて各電圧供給線に供給する電圧を切替える。
【0036】
具体的には、制御信号CBSの入力(「H」レベル)に応じて切替制御ユニット200が機能し、制御信号CBTの論理レベルに応じて電圧供給線VBLaおよびCPLに供給する電圧が切替えられる。一例として制御信号CBSが「H」レベルのときにトランジスタTR4を介するノードN0とノードN3とが電気的に切り離される。また、トランジスタTR5を介するノードN1とノードN2とが電気的に切り離される。この場合において、制御信号CBT(「H」レベル)に応答して、トランジスタTR6がオンし、トランジスタTR6を介してノードN3と、外部パッドPD0と電気的に接続されたノードN0とが電気的に結合される。また、トランジスタTR9のオンに応答して、ノードN2は、接地電圧GNDと電気的に結合される。すなわち、電圧供給線VBLaは、外部パッドPD0からの電圧の供給を受ける。一方、電圧供給線CPLは、接地電圧GNDの供給を受ける。
【0037】
一方、制御信号CBT(「L」レベル)に応答して、トランジスタTR7がオンする。これに伴い、電圧供給線VBLaは、接地電圧GNDの供給を受ける。また、トランジスタTR8のオンに応答して、ノードN2と、外部パッドPD0と接続されたノードN0とが電気的に結合される。これに伴い、電圧供給線CPLは、外部パッドPD0からの供給を受ける。
【0038】
図6は、本発明の実施の形態1に従うVBL発生回路150の回路構成図である。
【0039】
図6を参照して、VBL発生回路150は、トランジスタ151〜154と、抵抗155,156とを有する。
【0040】
抵抗155は、電源電圧VccとノードNN1との間に配置される。また、トランジスタ151は、ノードNN1とトランジスタ152との間に配置され、そのゲートは、ノードNN1と電気的に結合される。また、トランジスタ152は、ノードNN2とトランジスタ151との間に配置され、そのゲートは、ノードNN2と電気的に結合される。抵抗156は、接地電圧GNDとノードNN2との間に配置される。トランジスタ153は、電源電圧Vccと出力ノードN3との間に配置され、そのゲートは、ノードNN1と電気的に結合される。トランジスタ154は、出力ノードNN3と接地電圧GNDとの間に配置され、そのゲートは、ノードNN2と電気的に結合される。なお、トランジスタ151,153は、一例としてNチャンネルMOSトランジスタとする。また、トランジスタ152および154は、一例としてPチャンネルMOSトランジスタとする。
【0041】
VBL発生回路150は、電源電圧Vccの半分の電圧1/2Vccをプリチャージ電圧として電圧供給線VBLa,VBLsに供給する。具体的には、トランジスタ151および152のオン抵抗が等しい場合、抵抗155および156の抵抗比に応じた電圧レベルが出力ノードNN3に生成される。この場合、抵抗155および156の抵抗比を1対1に設定することにより、出力ノードNN3の電圧レベルを電圧1/2Vccに調整することが可能である。
【0042】
VCL発生回路160についても同様の構成であり、電圧1/2Vccをセルプレート電圧として電圧供給線CPLに供給する。具体的な回路構成等については、VBL発生回路150と同様であるのでその説明は繰り返さない。
【0043】
図7は、通常動作時および電圧供給線CPL−ビット線BL間にストレスを掛ける場合の制御信号と各電圧供給線との関係を示す図である。
【0044】
まず、通常動作時について説明する。通常動作時においては、制御信号WLBIE、CBSおよびCBTは、全て「L」レベルに設定される。なお、当該通常動作時は、ビット線BL,/BLをイコライズし、所定レベルにプリチャージするプリチャージ期間やセンスアンプをプリチャージするプリチャージ期間を含むものとする。
【0045】
図8は、通常動作時における本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【0046】
図7および図8に示されるように、入力された制御信号WLBIE,CBSおよびCBTに応答してトランジスタTR1およびTR4を介して電圧供給線VBLaにVBL発生回路150からのプリチャージ電圧が供給される。同様に、トランジスタTR1およびTR2を介して電圧供給線VBLsにVBL発生回路150からのプリチャージ電圧が供給される。また、トランジスタTR0およびTR5を介して電圧供給線CPLにVCP発生回路160からのセルプレート電圧が供給される。通常動作時において、電圧供給線VBLa,VBLsおよびCPLには、同一の電圧1/2Vccがそれぞれ供給される。
【0047】
次に、ウェハレベルバーンイン試験時(WLBI)において、電圧供給線CPL−ビット線BL間にストレスを掛ける場合について説明する。まず、電圧供給線CPLに電源電圧Vccよりも高い電源電圧Vccbを印加するとともに、ビット線BLに対して接地電圧GNDを印加する場合について説明する。以下、CPL−VBLaストレスとも称することとする。
【0048】
当該試験モードにおいては、制御信号WLBIE,CBSは、「H」レベルに設定され、制御信号CBTは、「L」レベルに設定される。
【0049】
図9は、CPL−VBLaストレスを実行する場合の本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【0050】
図7および図9に示されるように、制御信号CBSおよびCBTに応答して、トランジスタTR8がオンし、ノードN2と外部パッドPD0とが電気的に結合される。また、トランジスタTR7がオンし、接地電圧GNDと電圧供給線VBLaとが電気的に結合される。また、制御信号WLBIEに応答して、トランジスタT3がオンし、ノードN1とノードN4とが電気的に結合される。
【0051】
本例においては、外部パッドPD0にテスト用の電源電圧Vccbが供給される。また、外部パッドPD1に対して電圧1/2Vccが供給される。
【0052】
また、当該試験時においては、選択線BLEQおよびSEQは「H」レベルに設定されている。これに伴い、イコライズユニットEQUsには外部パッドPD1からプリチャージ電圧1/2Vccが供給され、センスアンプSAはプリチャージされる。一方、イコライズユニットEQUaは、ビット線BL,/BLと電圧供給線VBLaとが電気的に結合される。したがって、ビット線BL,/BLは、電圧供給線VBLaから接地電圧GNDの供給を受ける。一方、電圧供給線CPLは、外部パッドPD0から電源電圧Vccbの供給を受ける。この場合において、各メモリセルMCと接続された全てのワード線WLは、非活性化状態に設定されるものとする。
【0053】
本構成により、電圧供給線CPLに対して電源電圧Vccbが供給され、ビット線BL,/BLに対して接地電圧GNDが供給されるため、両者間に高電界のストレスが印可される。これにより、ビット線BLと電圧供給線CPLとの間の配線不良等をテストすることができる。特に上述したようにロジック混載デバイスで一般的に用いられるCOB構造のメモリセルにおいては、ビット線BLとセルプレート電圧供給線との間は上述したように近接した構造である。したがって、両者間の間でショートする可能性が高く、特に、当該試験モードを実行することにより精度の高い不良結果を得ることができ、有効なバーンイン試験を実行することができる。
【0054】
なお、全てのワード線WLは、非活性化状態であるため高電界のストレスがメモリセル内のキャパシタに印加されることがなく、メモリセル内のキャパシタを破壊することなく当該試験モードを実行することができる。
【0055】
一方、センスアンプSAは、電圧供給線VBLsにより電圧1/2Vccのプリチャ−ジ電圧が供給されるためプリチャージ状態であり、誤作動を生じさせることなく効率的なバーンイン試験を実行することができる。
【0056】
次に、ビット線BLに高電圧を印加するとともに電圧供給線CPLに対して低電圧を印加する試験モードについて説明する。以下、VBLa−CPLストレスとも称することとする。
【0057】
当該試験モードにおいては、制御信号WLBIE,CBSは「H」レベルに設定され、制御信号CBTは「H」レベルに設定される。
【0058】
図10は、CPL−VBLaストレスを実行する場合の本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【0059】
図7および図10に示されるように、制御信号CBSおよびCBTに応答して、トランジスタTR9がオンし、ノードN2と接地電圧GNDとが電気的に結合される。また、トランジスタTR6がオンし、外部パッドPD0と接続されたノードN0とノードN3とが電気的に結合される。また、制御信号WLBIEに応答して、トランジスタT3がオンし、外部パッドPD1と接続されたノードN1とノードN4とが電気的に結合される。
【0060】
本例においても同様に、外部パッドPD0にテスト用の電源電圧Vccbが供給される。また、外部パッドPD1に対して電圧1/2Vccが供給される。
【0061】
また、選択線BLEQおよびSEQは「H」レベルに設定されている。したがって、センスアンプSAはプリチャージ電圧1/2Vccの供給を受けて、プリチャージ状態である。また、ビット線BL,/BLは、電圧供給線VBLaから電源電圧Vccbの供給を受ける。一方、電圧供給線CPLには、接地電圧GNDが供給される。この場合においても、各メモリセルMCと接続された全てのワード線WLは、非活性化状態に設定される。
【0062】
本構成により、電圧供給線CPLに対して接地電圧GNDが供給され、ビット線BL,/BLに対して電源電圧Vccbが供給されるため、両者間に高電界のストレスが印可される。これに伴い、ビット線BLと電圧供給線CPLとの間の配線不良等をテストすることができる。なお、外部パッドから必要なテスト電圧を供給することができるため簡易に試験を実行することができる。
【0063】
図11は、実施の形態1に従う各種の試験モードおよびその際の制御信号と電圧供給線との関係を示す図である。
【0064】
図11を参照して、この場合において、制御信号WLBIEは、「H」レベルに設定され、制御信号CBSおよびCBTは、「L」レベルに設定される。
【0065】
図12は、各種の試験モードを実行する場合の電圧供給回路の供給経路を模式的に示す図である。
【0066】
図12に示されるように、制御信号CBSおよびCBTに応答して、トランジスタTR4がオンし、外部パッドPD0と接続されたノードN0とノードN3とが電気的に結合される。また、トランジスタTR5がオンし、外部パッドPD1と接続されたノードN1とノードN2とが電気的に結合される。制御信号WLBIEに応答して、トランジスタTR0およびTR1がターンオフし、VBL発生回路150およびVCP発生回路160からの電圧の供給が停止される。また、制御信号WLBIEに応答して、トランジスタTR3がオンし、外部パッドPD1と接続されたノードN1とノードN4とが電気的に結合される。すなわち、電圧供給線VBLaは、外部パッドPD0からの電圧の供給を受ける。また、電圧供給線VBLsおよびCPLは、外部パッドPD1からの電圧の供給を受ける。
【0067】
まず、全てのワード線WLを並列に活性化させる試験モード(以下、全WL活性化モードとも称する)について説明する。
【0068】
当該全WL活性化モードにおいては、外部パッドPD0は、一例として電源電圧Vccよりも高い電源電圧Vccaと電気的に結合される。これに伴い、電圧供給線VBLaには、電源電圧Vccaが供給される。また、外部パッドPD1には、電圧1/2Vccaが供給される。したがって、電圧供給線CPLおよびVBLsには、電圧1/2Vccaが供給される。また、選択線BLEQは、高電源電圧VddH(「H」レベル)に設定されるためトランジスタ70〜72が全てオンし、ビット線BL,/BLと電圧供給線VBLaとは電気的に結合されている。したがって、ビット線BL,/BLには、電源電圧Vccaが供給される。
【0069】
この場合において、全てのワード線WLに対して高電源電圧VddHを供給する。これに伴い、ワード線WLと電気的に結合された全てのトランジスタがターンオンし、メモリセルのキャパシタに対してデータが書込まれる。すなわち、全てのメモリセルに対してデータ「0」もしくは「1」のデータ書込を実行することができる。本例においては、データ「1」を書込むものとする。これに従い、メモリセルの信頼性試験を実行することができる。具体的には、全メモリセルMCに対して適切な所望のデータ書込を実行し、書込めなかった不良メモリセルMCはリジェクトすることにより、チップの信頼性を向上させることができる。また、トランジスタに対しては、電源電圧Vccよりも高電圧のVddHをバーンイン試験用の電圧としてトランジスタのゲートに印加するため、トランジスタの絶縁膜に対する信頼性試験も実行することができる。
【0070】
また、当該この厚膜トランジスタを有するメモリセルの信頼性試験を実行する場合においては、選択線BLIは、接地電圧GNDと電気的に結合されている。したがって、薄膜トランジスタで構成されるセンスアンプ帯とメモリセルと電気的に接続されたビット線とは絶縁されており、当該試験時において、薄膜トランジスタに電源電圧Vccaが供給されることはなく、薄膜トランジスタを破壊することなく、バーンイン試験を効率的に実行することができる。
【0071】
次に、一部のメモリセルに対する信頼性試験を実行するセルチェッカーモードについて説明する。
【0072】
図13のタイミングチャートを用いて、すべての偶数のワード線WLを活性化させてデータ「1」のデータ書込を実行する信頼性試験について説明する(以下、偶数WL活性化モードとも称する)。上記の全WL活性化モードと比較して異なる点は、偶数ワード線WLに対するメモリセルに対してデータ「1」を書込む点である。
【0073】
具体的には、時刻t1において、外部パッドPD0から電圧供給線VBLaに対して電源電圧Vccaを供給するとともに、偶数ワード線WL0,WL2を活性化させる。これに伴い、偶数ワード線WL0,WL2・・・等に対応するメモリセルにデータ「1」が書込まれる。
【0074】
次に、時刻t2において、外部パッドPD0から電圧供給線VBLaに対して接地電圧GNDを供給するとともに、奇数ワード線WL1,WL3を活性化させる。これに伴い、奇数ワード線WL1,WL3・・・等に対応するメモリセルにデータ「0」が書込まれる。
【0075】
これにより、メモリアレイに対して隣接するメモリセルMC間で異なるデータを保持するデータパターンが書込まれる。これにより、隣接するメモリセルMC間の不良を検出することができる。
【0076】
なお、時刻t3においては、時刻t1で説明した動作が再び実行され、時刻t4においては、時刻t2と同様の動作が繰り返される。すなわち、所定のデータ書込動作を繰り返すことにより、信頼性試験の精度を上げることができる。
【0077】
また、偶数ワード線には、高電源電圧VddHが供給されるが、奇数ワード線には、接地電圧GNDが供給される。したがって、偶数ワード線と奇数ワード線間にストレスを印加することにより、ワード線間の不良を加速するバーンイン試験を実行することができる。
【0078】
次に、図14のタイミングチャートを用いてすべての奇数のワード線WLに対応するメモリセルに対してデータ「1」のデータ書込を実行する信頼性試験について説明する(以下、奇数WL活性化モードとも称する)。
【0079】
上記の偶数WL活性化モードと比較して、ワード線WLの活性化パターンが偶数番目と奇数番目とで入れ替わった点が異なる。これに伴い、偶数WL活性化モードと反対のデータパターンをメモリアレイに対して書込むことが可能となり、上述したのと同様のメモリセルMCの不良を検出することができる。なお、上記のバーンイン試験は、隣接するメモリセル間で異なるデータを書込むことによりいわゆる千鳥格子状のデータパターンがメモリアレイに対して書込まれる。
【0080】
次に、メモリアレイに対してメモリセル列毎に交互に異なるデータが書込まれる試験モードについて説明する(以下、ストライプ型モードとも称する)。
【0081】
図15のタイミングチャート図を用いてストライプ型モードについて説明する。本例においては、5段階のステップで信頼性試験を実行する。
【0082】
時刻t1において、まず最初のステップS1として、全てのメモリセルMCに対してデータ「0」もしくは「1」のデータ書込を実行する。本例においては、データ「0」を書込む。具体的には、外部パッドPD0に接地電圧GNDを供給する。また、選択線BLEQを高電源電圧VddH(「H」レベル)に設定し、ビット線BL,/BLに対して電圧供給線VBLaから接地電圧GNDを供給する。次に、すべてのワード線WLを活性化する。これに伴い、全てのメモリセルMCに対してデータ「0」を書込むことができる。
【0083】
次のステップS2として、ビット線/BLに対応するメモリセルに対して「1」データのデータ書込を実行する。
【0084】
時刻t2において、外部パッドPD0から電圧供給線VBLaに対して電源電圧Vccaを供給する。また、選択線BLEQに対して高電源電圧VddHを供給し、ビット線BL,/BLに対して電圧供給線VBLaから電源電圧Vccaを供給する。
【0085】
次に時刻t3において、ビット線/BLに対応するワード線WLを活性化する。本例においては、ワード線WL0およびWL3に対して高電源電圧VddH(「H」レベル)を供給する。これに伴い、ビット線/BLに対応するメモリセルに対してデータ「1」のデータ書込を実行することができる。
【0086】
次のステップS3として、電圧供給線VBLaからの電圧の供給を停止する。具体的には、時刻t4において、選択線BLEQに対して接地電圧GNDを供給する。これに伴い、ビット線BL,/BLは、互いに電気的に切離されるとともに、電圧供給線VBLaからの電圧の供給を停止する。また、選択線BLIに対して高電源電圧VddHを供給する。これにより、センスアンプ帯27とビット線BL,/BLとが電気的に結合される。
【0087】
次のステップS4としてワード線WLを全て活性化させる。
時刻t5において、ワード線WLは、全て高電源電圧VddH(「H」レベル)に設定される。したがって、メモリセルMCとビット線BLもしくは/BLとが電気的に結合される。
【0088】
次に、ステップS5としてセンスアンプSAを活性化させる。
具体的には、時刻t6において、制御信号S0を電源電圧Vcc(「H」レベル)、制御信号/S0を接地電圧GND(「L」レベル)に設定する。これに伴い、トランジスタ90および91がオンし、クロスカップル型(図示せず)のセンスアンプSAがビット線BL,/BLの電圧レベルを保持する。具体的には、ワード線WL1およびWL2に対応するメモリセルMCのデータ「0」に応じたビット線BLの電圧レベルと、ワード線WL0およびWL3に対応するメモリセルMCのデータ「1」に応じたビット線/BLの電圧レベルを保持する。センスアンプSAを活性化することにより、各メモリセルのキャパシタに記憶された電荷を保持することができる。
【0089】
したがって、各ビット線毎にデータ「0」および「1」のデータが交互に書込まれるため、メモリアレイに対していわゆるストライプ型のデータパターンのデータ書込を実行することができる。
【0090】
上記において説明したようにメモリアレイに対して種々のデータパターンでデータ書込を実行することにより、メモリセルの信頼性試験の精度を向上させることができる。
【0091】
また、本実施の形態1で説明したバーンイン試験において、ストライプ型モードの試験を除き、各試験においては、選択線BLIには、接地電圧GNDが供給される。したがって、薄膜トランジスタで構成されるセンスアンプ帯に電源電圧Vccaが印加されて薄膜トランジスタが破壊されることはなく、効率的にバーンイン試験を実行することができる。さらには、センスアンプ帯は、電圧供給線VBLsから電圧1/2Vccaが供給され、トランジスタ90および91はイコライズされている。これにより、センスアンプSAにおいて誤作動を防止することができる。また、電源電圧Vccaと接地電圧GNDとの間の中間電圧1/2VccaにセンスアンプSAは、プリチャージされている。したがって、厚膜トランジスタと薄膜トランジスタとの境に配置された、選択ゲートBIUに過大なストレスが印可されることがなく、オフ時のリーク電流を抑制し、消費電力を低減することができる。
【0092】
また、2個の外部パッドPDを用いて、3本の電圧供給線VBLa,VBLs,CPLに対して電圧を供給することができ、特に、外部パッドに制約があるデバイス等において、本実施の形態1に従う電圧供給回路を有効に用いることが可能である。また、本構成においては、ビット線のプリチャージ用の電圧供給線を用いてテスト電圧を供給することができるため回路の部品点数を増加させることなく、効率的にバーンイン試験を実行することができる。
【0093】
(実施の形態1の変形例)
上記の実施の形態1においては、外部パッドの制約が厳しいデバイス等において、テスト時に2個の外部パッドを用いて有効なバーンイン電圧を供給する構成について説明した。
【0094】
本実施の形態1の変形例においては、特に外部パッドに制約がないデバイスにおいて、テスト時に、所望のバーンイン電圧を各電圧供給線に供給する構成について説明する。
【0095】
図16は、本発明の実施の形態1の変形例に従う電圧供給回路の構成図である。
【0096】
図16を参照して、本発明の実施の形態1の変形例に従う電圧供給回路は、図5に示される電圧供給回路と比較して、切換制御ユニット200、トランジスタTR2,TR3およびインバータIV0を取り除くとともに、新たにトランジスタTR#および外部パッドPD2を設けた点が異なる。
【0097】
本例においては、VBL発生回路150と電圧供給線VBLa,VBLsとの間にトランジスタTR#およびTR1がそれぞれ設けられ、各々のゲートは、制御信号WLBIEの供給を受ける。また、VCP発生回路160と電圧供給線CPLとの間にトランジスタTR0が設けられ、そのゲートは、制御信号WLBIEの供給を受ける。また、電圧供給線VBLa,VBLsおよびCPLにそれぞれ対応してバッドPD2,PD0およびPD1が設けられる。
【0098】
本例においては、上記の実施の形態1で説明したバーンイン試験を実行する際、制御信号WLBIEを「L」レベルに設定する。これに伴い、VBL発生回路150およびVCP発生回路160から各電圧供給線に対するプリチャージ電圧の供給が停止される。また、図7および図11について説明した所望の電圧を当該外部パッドPD0〜PD2にそれぞれ供給する。これにより、外部パッドに制約がないデバイス等については、簡易に実施の形態1で説明したのと同様のバーンイン試験を実行することができる。
【0099】
(実施の形態2)
本発明の実施の形態1においてはテスト用の外部パッドPD0,PD1を設けることにより、外部パッドから所望のテスト用の電源電圧を供給することにより、バーンイン試験を実行する構成について説明した。
【0100】
しかしながら、一般的にテスト用に用いられる外部パッドPD0,PD1等はパッケージ後にはリジェクトされる構成が一般的である。
【0101】
本発明の実施の形態2においては、外部パッドPD0,PD1を用いることなく、パッケージ後において、バーンインモード(FWBI)を実行する構成について説明する。
【0102】
図17は、本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の概念図である。
図17を参照して、本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路は、図7に示す実施の形態1の電圧供給回路と比較して、AND回路AD2と、切換制御ユニット200と置換される切換制御ユニット200#と、切換制御ユニット210,220とをさらに備える。
【0103】
AND回路AD2は、制御信号CBPの反転信号および制御信号WLBIEの入力をうけて、そのAND論理演算結果を出力する。トランジスタTR3のゲートおよびインバータIV0は、AND回路AD2からの出力信号の入力を受ける。
【0104】
切換制御ユニット200#は、切換制御ユニット200と比較して、AND回路AD3をさらに含む点が異なる。AND回路AD3は、制御信号CBSおよび制御信号CBPの反転信号の入力を受けてそのAND論理演算結果をAND回路AD0およびAD1の入力ノードに出力する。
【0105】
切換制御ユニット210は、トランジスタTR10〜TR13と、AND回路AD4〜AD6とをさらに含む。トランジスタTR10は、電源電圧VccとノードN3との間に配置され、そのゲートはAND回路AD4の出力信号の供給を受ける。トランジスタTR11は、ノードN3と接地電圧GNDとの間に配置され、そのゲートは、AND回路AD6の供給を受ける。トランジスタTR12は、電源電圧VccとノードN2との間に配置され、そのゲートは、AND回路AD6と電気的に結合される。トランジスタTR13は、ノードN2と接地電圧GNDとの間に配置され、そのゲートは、AND回路AD4と電気的に結合される。AND回路AD4は、制御信号CBTとAND回路AD5の出力信号との入力を受けて、そのAND論理演算結果をトランジスタTR10およびTR13のゲートにそれぞれ出力する。AND回路AD6は、制御信号CBTの反転信号とAND回路AD5の出力信号とを受けて、そのAND論理演算結果をトランジスタTR11およびTR12のゲートにそれぞれ出力する。AND回路AD5は、制御信号CBSおよびCBPの入力を受けてそのAND論理演算結果をAND回路AD4およびAD6の入力ノードにそれぞれ出力する。
【0106】
本実施の形態2においては、制御信号CBPが切換制御ユニット200#および210のいずれか一方を必要に応じて選択する選択信号となる。
【0107】
具体的には、制御信号CBP(「L」レベル)に応答して、切換制御ユニット200#は、実施の形態1で説明した切換制御ユニット200と同様の切換動作を制御信号CBSおよびCBTに応答して実行する。一方、切換制御ユニット210は、制御信号CBP(「L」レベル)の場合には、非活性化状態であり、切換動作を実行しない。
【0108】
逆に、制御信号CBP(「H」レベル)に応答して、切換制御ユニット200#は非活性化状態となり、切換動作を実行しない。一方、切換制御ユニット210は、制御信号CBP(「H」レベル)に応答して、制御信号CBSおよびCBTに応答して切換動作を実行する。
【0109】
切換制御ユニット220は、トランジスタTR14〜TR16とNOR回路NRとを含む。トランジスタTR14は、電源電圧VccとノードN5との間に配置され、そのゲートは、制御信号SN1の入力を受ける。トランジスタTR15は、接地電圧GNDとノードN5との間に配置され、そのゲートは、制御信号SN2の入力を受ける。トランジスタTR16は、ノードN3とノードN5と間に配置され、そのゲートは、NOR回路NRの出力信号の入力を受ける。また、NOR回路NRは、制御信号SN1およびSN2の入力を受けてそのNOR論理演算結果をトランジスタTR16のゲートに出力する。
【0110】
切換制御ユニット220は、制御信号SN1およびSN2に応答して、電圧供給線VBLaに対して電源電圧Vccもしくは接地電圧GNDを供給する。
【0111】
当該、切換制御ユニット220は、メモリセルに対するデータ書込の際に用いられる。具体的には、制御信号SN1(「H」レベル)に応答して電圧供給線VBLaに電源電圧Vccが供給される。一方、制御信号SN2(「H」レベル)に応答して電圧供給線VBLaに接地電圧GNDが供給される。それ以外の場合には、制御信号SN1およびSN2は、共に「L」レベルに設定されているためNOR論理演算結果に基づきノードN3とノードN5とは電気的に結合されている。
【0112】
図18は、本発明の実施の形態2に従う電圧供給線CPLおよびビット線BL間にストレスを掛ける場合および通常動作時の制御信号の関係を示す図である。
【0113】
まず通常動作時について説明する。通常動作時においては、制御信号WLBIE、CBS、CBTおよびCBPは、全て「L」レベルに設定される。
【0114】
図19は、通常動作時の本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【0115】
図18および図19に示されるように、制御信号CBPは、「L」レベルであるため上述したように切換制御ユニット200#が選択される。具体的には、上記の実施の形態1で説明したのと同様にトランジスタTR1およびTR4を介して電圧供給線VBLaにVBL発生回路150からのプリチャージ電圧が供給される。同様に、トランジスタTR1およびTR2を介して電圧供給線VBLsにVBL発生回路150からのプリチャージ電圧が供給される。また、トランジスタTR0およびTR5を介して電圧供給線CPLにVCP発生回路160からのセルプレート電圧が供給される。
【0116】
次に、CPL−VBLaストレスについて説明する。CPL−VBLaストレスにおいては、制御信号WLBIE、CBS、CBTおよびCBPは、「H」レベル、「H」レベル、「L」レベル、「H」レベルにそれぞれ設定される。これに伴い、制御信号CBPに応答して切換制御ユニット210が選択される。
【0117】
図20は、CPL−VBLaストレスを実行する場合の本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【0118】
図18および図20に示されるように、制御信号CBS,CBTおよびCBPに応答して、トランジスタTR1およびTR2がオンする。また、トランジスタTR11がオンする。これに伴い電圧供給線VBLaには、接地電圧GNDが供給される。また、トランジスタTR12がオンする。これに伴い、電圧供給線CPLには、電源電圧Vccが供給される。
【0119】
したがって、上記の実施の形態1で説明したのと同様のCPL−VBLaストレスを実行することができる。
【0120】
次に、VBLa−CPLストレスについて説明する。VBLa−CPLストレスにおいては、制御信号WLBIE、CBS、CBTおよびCBPは、「H」レベル、「H」レベル、「H」レベル、「H」レベルにそれぞれ設定される。これに伴い、制御信号CBPに応答して切換制御ユニット210が選択される。
【0121】
図21は、VBLa−CPLストレスを実行する場合の本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【0122】
図18および図21に示されるように、制御信号CBS,CBTおよびCBPに応答して、トランジスタTR1およびTR2がオンする。また、トランジスタTR10がオンする。これに伴い電圧供給線VBLaには、接地電圧GNDが供給される。また、トランジスタTR13がオンする。これに伴い、電圧供給線CPLには、電源電圧Vccが供給される。
【0123】
したがって、上記の実施の形態1で説明したのと同様のVBLa−CPLストレスを実行することができる。なお、上記においては、電源電圧Vcc−GND間のストレスを電圧供給線CPLおよびビット線BL,/BLに印可する構成について説明したが、電源電圧Vccの電圧レベルをいわゆる昇圧回路(図示せず)により、電源電圧Vccbの電圧レベルに昇圧してテストすることも可能である。
【0124】
図22は、実施の形態2に従う各種の試験モードおよびその際の制御信号と電圧供給線との関係を示す図である。
【0125】
図22を参照して、この場合において、制御信号WLBIEは「H」レベルに設定され、制御信号CBS、CBTは「L」レベルに設定され、制御信号CBPは、「H」レベルに設定される。制御信号CBP(「H」レベル)に応答して、切換制御ユニット210が選択されるが制御信号CBSおよびCBTは、ともに「L」レベルであるため、切換制御ユニット210は切換動作を実行しない。したがって、本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路は、図19に示す通常動作時と同様の供給経路に設定される。一方、当該試験モードにおいては、切換制御ユニット220がメモリセルの信頼性試験のために駆動する。その際、制御信号SN1およびSN2のいずれか一方は「H」レベルに設定されるため、切換制御ユニット220のNOR回路NRは、「L」レベルを出力する。したがって、切換制御ユニット220が駆動する際には、トランジスタTR16はターンオフしており、電圧供給線VBLaに対するVBL発生回路150の電圧供給は停止している。
【0126】
具体的には、メモリセルに対してデータ「1」のデータ書込を実行する場合、制御信号SN1およびSN2は、それぞれ「H」レベルおよび「L」レベルに設定される。これに伴い、トランジスタTR16がオフし、トランジスタTR14がオンする。したがって、電圧供給線VBLaには、電源電圧Vccが供給される。
【0127】
一方、メモリセルに対してデータ「0」のデータ書込を実行する場合、制御信号SN1およびSN2は、それぞれ「L」レベルおよび「H」レベルに設定される。これに伴い、トランジスタTR16がオフし、トランジスタTR15がオンする。したがって、電圧供給線VBLaには、接地電圧GNDが供給される。
【0128】
具体的には、全WL活性化モード時、偶数および奇数活性化モード時においては、制御信号SN1(「H」レベル)およびSN2(「L」レベル)が入力される。これに伴い、実施の形態1で説明したのと同様のバーンイン試験を実行することができる。
【0129】
また、ストライプ型モード時においては、ステップS1においては、制御信号SN2(「H」レベル)およびSN1(「L」レベル)が入力される。これに伴い、電圧供給線VBLaには、接地電圧GNDが供給される。また、ステップS2においては、制御信号SN1(「H」レベル)およびSN2(「L」レベル)が入力される。これに伴い、電圧供給線VBLaには、電源電圧Vccが供給される。他のステップS3からS5については、制御信号SN1およびSN2は、ともに「L」レベルに設定される。これに伴い、電圧供給線VBLaには、電圧1/2Vccが供給される。
【0130】
これら、制御信号CBS,CBTおよびCBPならびにSN1,SN2を用いて本実施の形態2に従う電圧供給回路を制御することにより、実施の形態1で説明したのと同様のバーンイン試験を実行することができる。
【0131】
なお、上記においては、電源電圧Vccおよび接地電圧GNDをビット線BL,/BLに供給してデータ書込を実行するメモリセルの信頼性試験について説明したが、電源電圧Vccの電圧レベルをいわゆる昇圧回路(図示せず)により、電源電圧Vccaの電圧レベルに昇圧してデータ書込を実行することも可能である。
【0132】
また、上記の実施の形態においては、厚膜および薄膜トランジスタの2種類のトランジスタを有するデバイス構成について説明したが、厚膜もしくは薄膜のいずれか1種類のトランジスタを用いるデバイス構成についても同様に適用可能である。
【0133】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【0134】
【発明の効果】
この発明は以上説明したように、ビット線を第1および第2の領域に分離し、それぞれに異なる電圧供給線を設ける。また、電圧制御回路は、動作時に第1および第2の電圧供給線に対して同一の電圧を供給し、テスト時にそれぞれ異なる電圧を供給する。したがって、テスト時には、一方および他方の領域に応じた電圧を対応する電圧供給線から供給することが可能であり、効率的なテスト電圧を印可することができる。
【0135】
また、テスト時において、メモリセルに含まれるアクセストランジスタをターンオフする。また、テスト時において、電圧供給線およびビット線に対してそれぞれ異なる電圧を供給する電圧制御回路を設ける。これに伴い、キャパシタに高いストレスを掛けることなくビット線および電圧供給線間にストレスを掛けて信号線間の不良をテストすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置1の全体構成図である。
【図2】本発明の実施の形態1に従うDRAM部10の概念図である。
【図3】本発明の実施の形態1に従うメモリアレイ20aおよびその周辺回路の領域の回路構成図である。
【図4】本発明の実施の形態1に従う隣接する2個のメモリセルMCの断面構造図である。
【図5】電源制御回路15に含まれる本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の概念図である。
【図6】本発明の実施の形態1に従うVBL発生回路150の回路構成図である。
【図7】通常動作時および電圧供給線CPL−ビット線BL間にストレスを掛ける場合の制御信号と各電圧供給線との関係を示す図である。
【図8】通常動作時の本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【図9】CPL−VBLaストレスを実行する場合の本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【図10】CPL−VBLaストレスを実行する場合の本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【図11】実施の形態1に従う各種の試験モードおよびその際の制御信号と電圧供給線との関係を示す図である。
【図12】各種の試験モードを実行する場合の電圧供給回路の供給経路を模式的に示す図である。
【図13】すべての偶数のワード線WLを活性化させて信頼性試験を実行するタイミングチャート図である。
【図14】すべての奇数のワード線WLを活性化させて信頼性試験を実行するタイミングチャート図である。
【図15】ストライプ型モードのタイミングチャート図である。
【図16】本発明の実施の形態1の変形例に従う電圧供給回路の構成図である。
【図17】本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の概念図である。
【図18】本発明の実施の形態2に従う電圧供給線CPLおよびビット線BL間にストレスを掛ける場合および通常動作時の制御信号の関係を示す図である。
【図19】通常動作時の本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【図20】CPL−VBLaストレスを実行する場合の本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【図21】VBLa−CPLストレスを実行する場合の本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【図22】実施の形態2に従う各種の試験モードおよびその際の制御信号と電圧供給線との関係を示す図である。
【符号の説明】
1 半導体記憶装置、10 DRAM部、11 ロジック回路部、12 SRAM部、13 周辺回路帯、15 電源制御回路、20a,20b メモリアレイ、25 デコーダ帯、30a,30b 入出力回路帯、40 制御回路、PD
外部パッド。
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体記憶装置に関し、特に信頼性評価のための試験を実行する回路を備えた半導体記憶装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、ワンチップで種々のロジック回路が混載されたロジック混載デバイスが注目されてきている。当該ロジック混載デバイスにおいては、その機能および用途に応じて、異なる種類のトランジスタが用いられる構成が一般的である。具体的には、高速動作および消費電力等の観点から、酸化膜厚が異なる2種類のトランジスタが回路内に混在する構成となっている。一例として、メモリアレイに記憶されたデータのデータ読出に関して、高速動作が要求されるセンスアンプには、薄膜トランジスタを用い、選択メモリセルにアクセスするためのアクセストランジスタには昇圧電圧を印加する目的のため厚膜トランジスタが用いられる。
【0003】
一方、デバイスの信頼性試験に関して説明する。一般に、デバイスの故障は3つの期間に大別され、時間の経過につれて初期故障期間、偶発故障期間、摩耗故障期間等を挙げることができる。初期故障は、使用直後に発生する故障でデバイス作製時の欠陥が現われたものである。マージン系の不良はこの部類に属する。この故障の割合は時間とともに急速に減少していく。その後は低い故障率がある一定期間長く続く偶発故障期間に入る。やがてデバイスは耐用寿命に近づき急激に故障率が増大する(摩耗故障期間)。デバイスは、偶発故障期間内で使用することが望ましくこの領域が耐用期間となる。したがって、デバイスの信頼性を高めるためには偶発故障が低く一定でかつ偶発故障期間が長く続くことが要求される。
【0004】
一方で、初期故障を予め除去するために、デバイスに一定時間の加速動作エージングを行ない不良品を除去するスクリーニングを行なう必要性がある。これを短期間で効果的に行なうためには、初期故障率が時間に対して急速に減少し早く偶発故障に入ることが望ましい。現在このスクリーニング手法の1つとして一般に高温動作試験(バーンイン試験)を行なっており特にウェハ状態においてはウェハレベルバーンイン試験が効果的である。これは実デバイスを用いて、トランジスタ等の誘電体膜を直接評価することができる方式であり、配線間ショートをはじめ、あらゆる不良要因を高温かつ高電界のストレスを印加することにより加速的に顕在化させることができる。特開2001−250398号公報においては、当該ウェハレベルバーンイン試験において、メモリアレイ内のビット線をプリチャージするためのプリチャージ電圧供給線を用いてバーンイン試験を実行する構成が示されている。
【0005】
【特許文献1】
特開2001−250398号公報(11頁、図6)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した2種類の異なるトランジスタが混在するロジック混載デバイス等においては、たとえば厚膜トランジスタのバーンイン試験用の電圧(バーンイン電圧)を薄膜トランジスタに適用すると薄膜トランジスタが破壊されてしまうという問題がある。
【0007】
本発明は、上記のような問題を解決するものであって、ロジック混載デバイス等において、効率的なバーンイン試験を実行することが可能な半導体記憶装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る半導体記憶装置は、記憶データに応じた電荷が蓄積される複数のメモリセルと、ビット線と、周辺回路と、分離部と、第1および第2の電圧供給線と、電圧制御回路とを含む。ビット線は、データ読出時に、複数のメモリセルのうちの選択メモリセルと接続される。周辺回路は、データ読出時にビット線と接続されて選択メモリセルに対してデータ読出を実行する。分離部は、必要に応じて複数のメモリセルおよび周辺回路に対応するビット線を第1および第2の領域にそれぞれ電気的に分離する。第1の電圧供給線は、第1の領域のビット線に対応して設けられる。第2の電圧供給線は、第2の領域のビット線に対応して設けられる。電圧制御回路は、第1および第2の電圧供給線に対して供給する電圧を制御する。また、電圧制御回路は、動作時に第1および第2の電圧供給線に対して同一の電圧を供給し、テスト時に、第1および第2の電圧供給線に対してそれぞれ異なる電圧を供給する。
【0009】
また、半導体記憶装置は、記憶データに応じた電荷が蓄積されるメモリセルと、ビット線と、電圧供給線と、電圧制御回路とを含む。ビット線は、データ読出時に、メモリセルの記憶データに応じた電圧レベルを伝達する。電圧供給線は、メモリセルに対してセルプレート電圧を供給する。メモリセルは、アクセストランジスタと、キャパシタとを含む。アクセストランジスタは、ストレージノードとビット線との間に設けられ、データ読出時にターンオンする。キャパシタは、ストレージノードと電圧供給線との間に設けられ、電荷を保持する。テスト時において、アクセストランジスタをターンオフする。電圧制御回路は、テスト時において、電圧供給線およびビット線にそれぞれ異なる電圧を供給する。
【0010】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付し、その説明は繰返さない。
【0011】
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置1の全体構成図である。
【0012】
半導体記憶装置1は、大容量のデータを保持するメモリとして用いられるDRAM部10と、種々の論理計算を実行するロジック回路部11と、高速にデータを処理するためのメモリとして用いられるSRAM部12と、各部の接続等に用いられる周辺回路帯13とを備える。また、半導体記憶装置1は、デバイス周辺に設けられた複数の外部パッドPDをさらに備える。
【0013】
図2は、本発明の実施の形態1に従うDRAM部10の概念図である。
図2を参照して、本発明の実施の形態1に従うDRAM部10は、電源供給ピン60,61,61aと、データの入出力に用いられる入出力ピン62,63と、DRAM部10の制御に用いられる制御信号が入力される複数の制御信号ピンで構成される制御信号ピン群65とを備える。
【0014】
また、DRAM部10は、内部回路に動作電圧等を供給する電源制御回路15と、データを記憶するためのメモリセルが集積配置されたメモリアレイ20aおよび20bと、メモリアレイ20aに対応して設けられ入出力ピン62との間でデータの入出力を実行するための入出力回路50aと、入出力ピン63とメモリアレイ20bとの間でデータの入出力を実行するための入出力回路50bと、DRAM部10全体の動作を制御する制御回路40とを備える。電源制御回路15は、電源供給ピン60,61,61aのそれぞれから接地電圧GND、電源電圧Vccおよび高電源電圧VddHの供給を受ける。
【0015】
また、DRAM部10は、制御信号ピン群65の信号ピンから入力されるロウアドレスRAおよびコラムアドレスCAの入力をバッファ処理して制御回路40に対して出力するアドレスバッファ45と、制御信号ピン群65の信号ピンから入力されるクロック信号CLKおよびクロックイネーブル信号CKEの入力を受けて、制御回路40や他の周辺回路に内部クロック信号を出力するクロックバッファ46と、制御信号ピン群65の信号ピンから入力され、データ書込に関する制御信号/WE、データ読出に関する制御信号/RE、試験モードに関する制御信号TMおよびプリチャージモードに関する制御信号/PREの入力をバッファ処理して制御回路40に対して出力する制御信号バッファ47とを備える。なお、上記の「/」の記号は、反転、否定、相補等を示すものとする。以下についても同様である。
【0016】
図3は、本発明の実施の形態1に従うメモリアレイ20aおよびその周辺回路領域の回路構成図である。ここでは、メモリアレイ20aについて説明するがメモリアレイ20bについても同様でありその説明は繰り返さない。
【0017】
図3を参照して、本発明のメモリアレイ20aは、行列状に集積配置されたメモリセルMCを有する。
【0018】
本発明のメモリアレイ20aは、隣接する2つのメモリセル列にそれぞれ対応して、互いに相補のビット線BL,/BLが設けられる。また、メモリセル行にそれぞれ対応して複数のワード線が設けられ、ビット線BL,/BLに対応するメモリセルは、互いに異なるワード線と接続される。本例においては、ビット線/BLに対応する2つのメモリセルMCは、ワード線WL0,WL3とそれぞれ接続されている。また、ビット線BLに対応する2つのメモリセルMCは、ワード線WL1,WL2とそれぞれ接続されている。他の部分についても同様の構成である。
【0019】
また、メモリアレイ20aは、ビット線BL,/BLをプリチャージするとともにイコライズするためのイコライズユニットEQUaを有する。イコライズユニットEQUaは、トランジスタ70〜72を有する。トランジスタ70は、ビット線BLとビット線/BLとの間に配置され、そのゲートは選択線BLEQと電気的に結合される。トランジスタ71および72は、直列にビット線BLとビット線/BLとの間に配置され、それぞれのゲートは選択線BLEQと電気的に結合される。また、トランジスタ71および72の接続ノードは、プリチャージ電圧の電圧供給線VBLaと電気的に結合される。なお、トランジスタ70〜72は、一例としてNチャンネルMOSトランジスタとする。
【0020】
また、メモリアレイ20aは、ビット線BL,/BL毎に設けられ、センスアンプSAとビット線BL,/BLとの電気的な接続を制御する選択ゲートBIUを有する。また、選択ゲートBIUは、センスアンプSAの両側にそれぞれ配置され、一方側がメモリアレイ20aの選択ゲートとして機能し、他方がメモリアレイ20bの選択ゲートとして機能する。すなわち、本例における、センスアンプSAは、いわゆるシェアドセンスアンプを構成し、メモリアレイ20aおよび20bの選択に応じて、対応する選択ゲートBIUが活性化される。
【0021】
選択ゲートBIUは、トランジスタ75および76を有する。トランジスタ75および76は、ビット線BL,/BLとセンスアンプSAとの間の電気的な接続を制御し、そのゲートはそれぞれ選択線BLIの入力を受ける。なお、トランジスタ75および76は、一例としてNチャンネルMOSトランジスタとする。
【0022】
センスアンプ帯27は、ビット線BL,/BLごとに設けられたセンスアンプSAと、イコライズユニットEQUsと、センスアンプSAに対して電源電圧Vccを供給するトランジスタ91と、センスアンプSAに対して接地電圧GNDを供給するトランジスタ90とを含む。トランジスタ90および91は、それぞれ制御信号S0および/S0に応答して活性化される。なお、トランジスタ90および91は、一例としてそれぞれNチャンネルMOSトランジスタおよびPチャンネルMOSトランジスタとする。
【0023】
イコライズユニットEQUsは、トランジスタ80〜82を含む。トランジスタ80は、トランジスタ90および91との間に配置され、そのゲートは、選択線SEQと電気的に結合される。トランジスタ81および82は、トランジスタ90および91の間に直列に接続され、そのゲートは、選択線SEQと電気的に結合される。トランジスタ81および82の接続ノードは、プリチャージ電圧の供給を受ける電圧供給線VBLsと電気的に結合される。なお、トランジスタ80〜82は、一例としてNチャンネルMOSトランジスタとする。
【0024】
ここで、本発明の実施の形態1に従うメモリセルMCについて説明する。
図4は、本発明の実施の形態1に従う隣接する2個のメモリセルMCの断面構造図である。一例としてビット線BLに対応する隣接する2個のメモリセルMCを挙げることができる。
【0025】
本例においては、ロジック混載デバイスで一般的に用いられるCOB(Capacitor Over Bit line)構造のメモリセルMCについて説明する。いわゆるメモリセルのキャパシタの上層にビット線が形成される構造である。
【0026】
図4を参照して、メモリセルMCを形成するためにN型の半導体基板SUBb上にP型の半導体基板SUBaが形成される。メモリセルMCに含まれるアクセストランジスタATは、半導体基板SUBa上に形成され、N型領域である不純物領域100および101と、サイドウォールで覆われたゲート領域103とを有する。不純物領域100は、コンタクトホール105に形成される金属膜を介して上部に形成されるキャパシタCPと電気的に結合される。キャパシタCPはキャパシタCPを覆うように形成されたセルプレート電圧供給線CPL(以下、電圧供給線CPLとも称する)と電気的に結合される。また、不純物領域101は、コンタクトホール106に形成される金属膜を介してキャパシタCPよりもさらに上層に形成された金属層M1に形成されるビット線BLと電気的に結合される。一方、ワード線は、アクセストランジスタATのゲート電圧を制御するために設けられるので、電流を積極的に流す必要はない。したがって、集積度を高める観点から、ワード線WL、ゲート103と同一の配線層に、ポリシリコン層やポリシリサイド層などを用いて形成されるのが一般的である。なお、ポリシリコン層やポリシリサイド層などは比較的高抵抗であるため上層のアルミ等の金属配線層M2で図示しないコンタクトホール等により裏打ちすることにより抵抗を下げる構成が一般的に用いられている。
【0027】
また、隣接するメモリセルについても同様に形成され、隣接するメモリセルMCのアクセストランジスタは、半導体基板SUBa上に形成され、N型領域である不純物領域101および102と、ゲート領域104とを有する。不純物領域102は、コンタクトホール107に形成される金属膜を介して上部に形成されるキャパシタCPを介してセルプレート電圧供給線と電気的に結合される。したがって、不純物領域101を隣接する2つのメモリセル間で共有することができるためメモリセルのレイアウト面積を縮小し、高集積化を図ることができる。なお、このCOB構造型のメモリセルは、図4に示される様にその構造上、ビット線BLとセルプレート電圧供給線とが相対的に近接したものとなっている。
【0028】
図5は、電源制御回路15に含まれる本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の概念図である。電圧供給回路は、電圧供給線VBLa,VBLsおよびCPLのそれぞれに所望の電圧を供給する。
【0029】
図5を参照して、本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路は、ビット線をプリチャージするためのプリチャージ電圧VBLを発生するVBL発生回路150と、セルプレート電圧VCPを発生するVCP発生回路160と、トランジスタTR0〜TR3と、インバータIV0と、外部パッドPD0,PD1と、切換制御ユニット200とを含む。
【0030】
トランジスタTR0は、VCP発生回路160とノードN1との間に配置され、そのゲートはインバータIV0を介する制御信号WLBIEの反転信号の入力を受ける。トランジスタTR1は、ノードN0とVBL発生回路150との間に配置され、そのゲートはインバータIV0を介する制御信号WLBIEの反転信号の入力を受ける。トランジスタTR2は、ノードN0とノードN4との間に配置され、そのゲートはインバータIV0を介する制御信号WLBIEの反転信号の入力を受ける。トランジスタTR3は、ノードN1とノードN4との間に配置され、そのゲートは制御信号WLBIEの入力を受ける。切換制御ユニット200は、ノードN0およびノードN1に対応して設けられ、入力される制御信号に応答してそれぞれ電圧供給線VBLaおよび電圧供給線CPLに供給する電圧を切換える。
【0031】
制御信号WLBIEは、必要に応じてバーンイン試験時に活性化される制御信号である。一例として制御信号WLBIEが「H」レベルに設定された場合、これに伴い、トランジスタTR0およびTR1がターンオフされる。したがって、VBL発生回路150およびVCP発生回路160からの電圧の供給が停止する。一方、トランジスタTR3はターンオンし、ノードN1とノードN4とが電気的に結合される。これに伴い、バーンイン試験時には、外部パッドPD0およびPD1を用いてバーンイン電圧を電圧供給線VBLa,VBLsおよびCPLに対して供給することができる。
【0032】
切換制御ユニット200は、インバータIV1と、トランジスタTR4〜TR9と、AND回路AD0,AD1とを含む。トランジスタTR4は、ノードN0とノードN3との間に配置され、そのゲートはインバータIV1を介する制御信号CBSの反転信号の入力を受ける。トランジスタTR5は、ノードN1とノードN2との間に配置され、そのゲートはインバータIV1を介する制御信号CBSの反転信号の入力を受ける。
【0033】
トランジスタTR6は、ノードN0とノードN3との間に配置され、そのゲートはAND回路AD0の出力信号の入力を受ける。トランジスタTR7は、ノードN3と接地電圧GNDとの間に配置され、そのゲートはAND回路AD1の出力信号の入力を受ける。トランジスタTR8は、ノードN0とノードN2との間に配置され、そのゲートはAND回路AD1の出力信号の入力を受ける。トランジスタTR9は、ノードN2と接地電圧GNDとの間に配置され、そのゲートはAND回路AD0の出力信号の入力を受ける。AND回路AD0は、制御信号CBTおよび制御信号CBSの入力を受けてそのAND論理演算結果をトランジスタTR6およびトランジスタTR9のゲートにそれぞれ出力する。AND回路AD1は、制御信号CBSおよび制御信号CBTの反転信号の入力を受けて、そのAND論理演算結果をトランジスタTR6およびTR8のゲートにそれぞれ出力する。
【0034】
また、ノードN3と電圧供給線VBLaとが電気的に結合される。また、ノードN4と電圧供給線VBLsとが電気的に結合される。さらに、ノードN2と電圧供給線CPLとが電気的に結合される。
【0035】
切替制御ユニット200は、上述したように制御信号CBSおよびCBTの論理レベルに応じて各電圧供給線に供給する電圧を切替える。
【0036】
具体的には、制御信号CBSの入力(「H」レベル)に応じて切替制御ユニット200が機能し、制御信号CBTの論理レベルに応じて電圧供給線VBLaおよびCPLに供給する電圧が切替えられる。一例として制御信号CBSが「H」レベルのときにトランジスタTR4を介するノードN0とノードN3とが電気的に切り離される。また、トランジスタTR5を介するノードN1とノードN2とが電気的に切り離される。この場合において、制御信号CBT(「H」レベル)に応答して、トランジスタTR6がオンし、トランジスタTR6を介してノードN3と、外部パッドPD0と電気的に接続されたノードN0とが電気的に結合される。また、トランジスタTR9のオンに応答して、ノードN2は、接地電圧GNDと電気的に結合される。すなわち、電圧供給線VBLaは、外部パッドPD0からの電圧の供給を受ける。一方、電圧供給線CPLは、接地電圧GNDの供給を受ける。
【0037】
一方、制御信号CBT(「L」レベル)に応答して、トランジスタTR7がオンする。これに伴い、電圧供給線VBLaは、接地電圧GNDの供給を受ける。また、トランジスタTR8のオンに応答して、ノードN2と、外部パッドPD0と接続されたノードN0とが電気的に結合される。これに伴い、電圧供給線CPLは、外部パッドPD0からの供給を受ける。
【0038】
図6は、本発明の実施の形態1に従うVBL発生回路150の回路構成図である。
【0039】
図6を参照して、VBL発生回路150は、トランジスタ151〜154と、抵抗155,156とを有する。
【0040】
抵抗155は、電源電圧VccとノードNN1との間に配置される。また、トランジスタ151は、ノードNN1とトランジスタ152との間に配置され、そのゲートは、ノードNN1と電気的に結合される。また、トランジスタ152は、ノードNN2とトランジスタ151との間に配置され、そのゲートは、ノードNN2と電気的に結合される。抵抗156は、接地電圧GNDとノードNN2との間に配置される。トランジスタ153は、電源電圧Vccと出力ノードN3との間に配置され、そのゲートは、ノードNN1と電気的に結合される。トランジスタ154は、出力ノードNN3と接地電圧GNDとの間に配置され、そのゲートは、ノードNN2と電気的に結合される。なお、トランジスタ151,153は、一例としてNチャンネルMOSトランジスタとする。また、トランジスタ152および154は、一例としてPチャンネルMOSトランジスタとする。
【0041】
VBL発生回路150は、電源電圧Vccの半分の電圧1/2Vccをプリチャージ電圧として電圧供給線VBLa,VBLsに供給する。具体的には、トランジスタ151および152のオン抵抗が等しい場合、抵抗155および156の抵抗比に応じた電圧レベルが出力ノードNN3に生成される。この場合、抵抗155および156の抵抗比を1対1に設定することにより、出力ノードNN3の電圧レベルを電圧1/2Vccに調整することが可能である。
【0042】
VCL発生回路160についても同様の構成であり、電圧1/2Vccをセルプレート電圧として電圧供給線CPLに供給する。具体的な回路構成等については、VBL発生回路150と同様であるのでその説明は繰り返さない。
【0043】
図7は、通常動作時および電圧供給線CPL−ビット線BL間にストレスを掛ける場合の制御信号と各電圧供給線との関係を示す図である。
【0044】
まず、通常動作時について説明する。通常動作時においては、制御信号WLBIE、CBSおよびCBTは、全て「L」レベルに設定される。なお、当該通常動作時は、ビット線BL,/BLをイコライズし、所定レベルにプリチャージするプリチャージ期間やセンスアンプをプリチャージするプリチャージ期間を含むものとする。
【0045】
図8は、通常動作時における本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【0046】
図7および図8に示されるように、入力された制御信号WLBIE,CBSおよびCBTに応答してトランジスタTR1およびTR4を介して電圧供給線VBLaにVBL発生回路150からのプリチャージ電圧が供給される。同様に、トランジスタTR1およびTR2を介して電圧供給線VBLsにVBL発生回路150からのプリチャージ電圧が供給される。また、トランジスタTR0およびTR5を介して電圧供給線CPLにVCP発生回路160からのセルプレート電圧が供給される。通常動作時において、電圧供給線VBLa,VBLsおよびCPLには、同一の電圧1/2Vccがそれぞれ供給される。
【0047】
次に、ウェハレベルバーンイン試験時(WLBI)において、電圧供給線CPL−ビット線BL間にストレスを掛ける場合について説明する。まず、電圧供給線CPLに電源電圧Vccよりも高い電源電圧Vccbを印加するとともに、ビット線BLに対して接地電圧GNDを印加する場合について説明する。以下、CPL−VBLaストレスとも称することとする。
【0048】
当該試験モードにおいては、制御信号WLBIE,CBSは、「H」レベルに設定され、制御信号CBTは、「L」レベルに設定される。
【0049】
図9は、CPL−VBLaストレスを実行する場合の本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【0050】
図7および図9に示されるように、制御信号CBSおよびCBTに応答して、トランジスタTR8がオンし、ノードN2と外部パッドPD0とが電気的に結合される。また、トランジスタTR7がオンし、接地電圧GNDと電圧供給線VBLaとが電気的に結合される。また、制御信号WLBIEに応答して、トランジスタT3がオンし、ノードN1とノードN4とが電気的に結合される。
【0051】
本例においては、外部パッドPD0にテスト用の電源電圧Vccbが供給される。また、外部パッドPD1に対して電圧1/2Vccが供給される。
【0052】
また、当該試験時においては、選択線BLEQおよびSEQは「H」レベルに設定されている。これに伴い、イコライズユニットEQUsには外部パッドPD1からプリチャージ電圧1/2Vccが供給され、センスアンプSAはプリチャージされる。一方、イコライズユニットEQUaは、ビット線BL,/BLと電圧供給線VBLaとが電気的に結合される。したがって、ビット線BL,/BLは、電圧供給線VBLaから接地電圧GNDの供給を受ける。一方、電圧供給線CPLは、外部パッドPD0から電源電圧Vccbの供給を受ける。この場合において、各メモリセルMCと接続された全てのワード線WLは、非活性化状態に設定されるものとする。
【0053】
本構成により、電圧供給線CPLに対して電源電圧Vccbが供給され、ビット線BL,/BLに対して接地電圧GNDが供給されるため、両者間に高電界のストレスが印可される。これにより、ビット線BLと電圧供給線CPLとの間の配線不良等をテストすることができる。特に上述したようにロジック混載デバイスで一般的に用いられるCOB構造のメモリセルにおいては、ビット線BLとセルプレート電圧供給線との間は上述したように近接した構造である。したがって、両者間の間でショートする可能性が高く、特に、当該試験モードを実行することにより精度の高い不良結果を得ることができ、有効なバーンイン試験を実行することができる。
【0054】
なお、全てのワード線WLは、非活性化状態であるため高電界のストレスがメモリセル内のキャパシタに印加されることがなく、メモリセル内のキャパシタを破壊することなく当該試験モードを実行することができる。
【0055】
一方、センスアンプSAは、電圧供給線VBLsにより電圧1/2Vccのプリチャ−ジ電圧が供給されるためプリチャージ状態であり、誤作動を生じさせることなく効率的なバーンイン試験を実行することができる。
【0056】
次に、ビット線BLに高電圧を印加するとともに電圧供給線CPLに対して低電圧を印加する試験モードについて説明する。以下、VBLa−CPLストレスとも称することとする。
【0057】
当該試験モードにおいては、制御信号WLBIE,CBSは「H」レベルに設定され、制御信号CBTは「H」レベルに設定される。
【0058】
図10は、CPL−VBLaストレスを実行する場合の本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【0059】
図7および図10に示されるように、制御信号CBSおよびCBTに応答して、トランジスタTR9がオンし、ノードN2と接地電圧GNDとが電気的に結合される。また、トランジスタTR6がオンし、外部パッドPD0と接続されたノードN0とノードN3とが電気的に結合される。また、制御信号WLBIEに応答して、トランジスタT3がオンし、外部パッドPD1と接続されたノードN1とノードN4とが電気的に結合される。
【0060】
本例においても同様に、外部パッドPD0にテスト用の電源電圧Vccbが供給される。また、外部パッドPD1に対して電圧1/2Vccが供給される。
【0061】
また、選択線BLEQおよびSEQは「H」レベルに設定されている。したがって、センスアンプSAはプリチャージ電圧1/2Vccの供給を受けて、プリチャージ状態である。また、ビット線BL,/BLは、電圧供給線VBLaから電源電圧Vccbの供給を受ける。一方、電圧供給線CPLには、接地電圧GNDが供給される。この場合においても、各メモリセルMCと接続された全てのワード線WLは、非活性化状態に設定される。
【0062】
本構成により、電圧供給線CPLに対して接地電圧GNDが供給され、ビット線BL,/BLに対して電源電圧Vccbが供給されるため、両者間に高電界のストレスが印可される。これに伴い、ビット線BLと電圧供給線CPLとの間の配線不良等をテストすることができる。なお、外部パッドから必要なテスト電圧を供給することができるため簡易に試験を実行することができる。
【0063】
図11は、実施の形態1に従う各種の試験モードおよびその際の制御信号と電圧供給線との関係を示す図である。
【0064】
図11を参照して、この場合において、制御信号WLBIEは、「H」レベルに設定され、制御信号CBSおよびCBTは、「L」レベルに設定される。
【0065】
図12は、各種の試験モードを実行する場合の電圧供給回路の供給経路を模式的に示す図である。
【0066】
図12に示されるように、制御信号CBSおよびCBTに応答して、トランジスタTR4がオンし、外部パッドPD0と接続されたノードN0とノードN3とが電気的に結合される。また、トランジスタTR5がオンし、外部パッドPD1と接続されたノードN1とノードN2とが電気的に結合される。制御信号WLBIEに応答して、トランジスタTR0およびTR1がターンオフし、VBL発生回路150およびVCP発生回路160からの電圧の供給が停止される。また、制御信号WLBIEに応答して、トランジスタTR3がオンし、外部パッドPD1と接続されたノードN1とノードN4とが電気的に結合される。すなわち、電圧供給線VBLaは、外部パッドPD0からの電圧の供給を受ける。また、電圧供給線VBLsおよびCPLは、外部パッドPD1からの電圧の供給を受ける。
【0067】
まず、全てのワード線WLを並列に活性化させる試験モード(以下、全WL活性化モードとも称する)について説明する。
【0068】
当該全WL活性化モードにおいては、外部パッドPD0は、一例として電源電圧Vccよりも高い電源電圧Vccaと電気的に結合される。これに伴い、電圧供給線VBLaには、電源電圧Vccaが供給される。また、外部パッドPD1には、電圧1/2Vccaが供給される。したがって、電圧供給線CPLおよびVBLsには、電圧1/2Vccaが供給される。また、選択線BLEQは、高電源電圧VddH(「H」レベル)に設定されるためトランジスタ70〜72が全てオンし、ビット線BL,/BLと電圧供給線VBLaとは電気的に結合されている。したがって、ビット線BL,/BLには、電源電圧Vccaが供給される。
【0069】
この場合において、全てのワード線WLに対して高電源電圧VddHを供給する。これに伴い、ワード線WLと電気的に結合された全てのトランジスタがターンオンし、メモリセルのキャパシタに対してデータが書込まれる。すなわち、全てのメモリセルに対してデータ「0」もしくは「1」のデータ書込を実行することができる。本例においては、データ「1」を書込むものとする。これに従い、メモリセルの信頼性試験を実行することができる。具体的には、全メモリセルMCに対して適切な所望のデータ書込を実行し、書込めなかった不良メモリセルMCはリジェクトすることにより、チップの信頼性を向上させることができる。また、トランジスタに対しては、電源電圧Vccよりも高電圧のVddHをバーンイン試験用の電圧としてトランジスタのゲートに印加するため、トランジスタの絶縁膜に対する信頼性試験も実行することができる。
【0070】
また、当該この厚膜トランジスタを有するメモリセルの信頼性試験を実行する場合においては、選択線BLIは、接地電圧GNDと電気的に結合されている。したがって、薄膜トランジスタで構成されるセンスアンプ帯とメモリセルと電気的に接続されたビット線とは絶縁されており、当該試験時において、薄膜トランジスタに電源電圧Vccaが供給されることはなく、薄膜トランジスタを破壊することなく、バーンイン試験を効率的に実行することができる。
【0071】
次に、一部のメモリセルに対する信頼性試験を実行するセルチェッカーモードについて説明する。
【0072】
図13のタイミングチャートを用いて、すべての偶数のワード線WLを活性化させてデータ「1」のデータ書込を実行する信頼性試験について説明する(以下、偶数WL活性化モードとも称する)。上記の全WL活性化モードと比較して異なる点は、偶数ワード線WLに対するメモリセルに対してデータ「1」を書込む点である。
【0073】
具体的には、時刻t1において、外部パッドPD0から電圧供給線VBLaに対して電源電圧Vccaを供給するとともに、偶数ワード線WL0,WL2を活性化させる。これに伴い、偶数ワード線WL0,WL2・・・等に対応するメモリセルにデータ「1」が書込まれる。
【0074】
次に、時刻t2において、外部パッドPD0から電圧供給線VBLaに対して接地電圧GNDを供給するとともに、奇数ワード線WL1,WL3を活性化させる。これに伴い、奇数ワード線WL1,WL3・・・等に対応するメモリセルにデータ「0」が書込まれる。
【0075】
これにより、メモリアレイに対して隣接するメモリセルMC間で異なるデータを保持するデータパターンが書込まれる。これにより、隣接するメモリセルMC間の不良を検出することができる。
【0076】
なお、時刻t3においては、時刻t1で説明した動作が再び実行され、時刻t4においては、時刻t2と同様の動作が繰り返される。すなわち、所定のデータ書込動作を繰り返すことにより、信頼性試験の精度を上げることができる。
【0077】
また、偶数ワード線には、高電源電圧VddHが供給されるが、奇数ワード線には、接地電圧GNDが供給される。したがって、偶数ワード線と奇数ワード線間にストレスを印加することにより、ワード線間の不良を加速するバーンイン試験を実行することができる。
【0078】
次に、図14のタイミングチャートを用いてすべての奇数のワード線WLに対応するメモリセルに対してデータ「1」のデータ書込を実行する信頼性試験について説明する(以下、奇数WL活性化モードとも称する)。
【0079】
上記の偶数WL活性化モードと比較して、ワード線WLの活性化パターンが偶数番目と奇数番目とで入れ替わった点が異なる。これに伴い、偶数WL活性化モードと反対のデータパターンをメモリアレイに対して書込むことが可能となり、上述したのと同様のメモリセルMCの不良を検出することができる。なお、上記のバーンイン試験は、隣接するメモリセル間で異なるデータを書込むことによりいわゆる千鳥格子状のデータパターンがメモリアレイに対して書込まれる。
【0080】
次に、メモリアレイに対してメモリセル列毎に交互に異なるデータが書込まれる試験モードについて説明する(以下、ストライプ型モードとも称する)。
【0081】
図15のタイミングチャート図を用いてストライプ型モードについて説明する。本例においては、5段階のステップで信頼性試験を実行する。
【0082】
時刻t1において、まず最初のステップS1として、全てのメモリセルMCに対してデータ「0」もしくは「1」のデータ書込を実行する。本例においては、データ「0」を書込む。具体的には、外部パッドPD0に接地電圧GNDを供給する。また、選択線BLEQを高電源電圧VddH(「H」レベル)に設定し、ビット線BL,/BLに対して電圧供給線VBLaから接地電圧GNDを供給する。次に、すべてのワード線WLを活性化する。これに伴い、全てのメモリセルMCに対してデータ「0」を書込むことができる。
【0083】
次のステップS2として、ビット線/BLに対応するメモリセルに対して「1」データのデータ書込を実行する。
【0084】
時刻t2において、外部パッドPD0から電圧供給線VBLaに対して電源電圧Vccaを供給する。また、選択線BLEQに対して高電源電圧VddHを供給し、ビット線BL,/BLに対して電圧供給線VBLaから電源電圧Vccaを供給する。
【0085】
次に時刻t3において、ビット線/BLに対応するワード線WLを活性化する。本例においては、ワード線WL0およびWL3に対して高電源電圧VddH(「H」レベル)を供給する。これに伴い、ビット線/BLに対応するメモリセルに対してデータ「1」のデータ書込を実行することができる。
【0086】
次のステップS3として、電圧供給線VBLaからの電圧の供給を停止する。具体的には、時刻t4において、選択線BLEQに対して接地電圧GNDを供給する。これに伴い、ビット線BL,/BLは、互いに電気的に切離されるとともに、電圧供給線VBLaからの電圧の供給を停止する。また、選択線BLIに対して高電源電圧VddHを供給する。これにより、センスアンプ帯27とビット線BL,/BLとが電気的に結合される。
【0087】
次のステップS4としてワード線WLを全て活性化させる。
時刻t5において、ワード線WLは、全て高電源電圧VddH(「H」レベル)に設定される。したがって、メモリセルMCとビット線BLもしくは/BLとが電気的に結合される。
【0088】
次に、ステップS5としてセンスアンプSAを活性化させる。
具体的には、時刻t6において、制御信号S0を電源電圧Vcc(「H」レベル)、制御信号/S0を接地電圧GND(「L」レベル)に設定する。これに伴い、トランジスタ90および91がオンし、クロスカップル型(図示せず)のセンスアンプSAがビット線BL,/BLの電圧レベルを保持する。具体的には、ワード線WL1およびWL2に対応するメモリセルMCのデータ「0」に応じたビット線BLの電圧レベルと、ワード線WL0およびWL3に対応するメモリセルMCのデータ「1」に応じたビット線/BLの電圧レベルを保持する。センスアンプSAを活性化することにより、各メモリセルのキャパシタに記憶された電荷を保持することができる。
【0089】
したがって、各ビット線毎にデータ「0」および「1」のデータが交互に書込まれるため、メモリアレイに対していわゆるストライプ型のデータパターンのデータ書込を実行することができる。
【0090】
上記において説明したようにメモリアレイに対して種々のデータパターンでデータ書込を実行することにより、メモリセルの信頼性試験の精度を向上させることができる。
【0091】
また、本実施の形態1で説明したバーンイン試験において、ストライプ型モードの試験を除き、各試験においては、選択線BLIには、接地電圧GNDが供給される。したがって、薄膜トランジスタで構成されるセンスアンプ帯に電源電圧Vccaが印加されて薄膜トランジスタが破壊されることはなく、効率的にバーンイン試験を実行することができる。さらには、センスアンプ帯は、電圧供給線VBLsから電圧1/2Vccaが供給され、トランジスタ90および91はイコライズされている。これにより、センスアンプSAにおいて誤作動を防止することができる。また、電源電圧Vccaと接地電圧GNDとの間の中間電圧1/2VccaにセンスアンプSAは、プリチャージされている。したがって、厚膜トランジスタと薄膜トランジスタとの境に配置された、選択ゲートBIUに過大なストレスが印可されることがなく、オフ時のリーク電流を抑制し、消費電力を低減することができる。
【0092】
また、2個の外部パッドPDを用いて、3本の電圧供給線VBLa,VBLs,CPLに対して電圧を供給することができ、特に、外部パッドに制約があるデバイス等において、本実施の形態1に従う電圧供給回路を有効に用いることが可能である。また、本構成においては、ビット線のプリチャージ用の電圧供給線を用いてテスト電圧を供給することができるため回路の部品点数を増加させることなく、効率的にバーンイン試験を実行することができる。
【0093】
(実施の形態1の変形例)
上記の実施の形態1においては、外部パッドの制約が厳しいデバイス等において、テスト時に2個の外部パッドを用いて有効なバーンイン電圧を供給する構成について説明した。
【0094】
本実施の形態1の変形例においては、特に外部パッドに制約がないデバイスにおいて、テスト時に、所望のバーンイン電圧を各電圧供給線に供給する構成について説明する。
【0095】
図16は、本発明の実施の形態1の変形例に従う電圧供給回路の構成図である。
【0096】
図16を参照して、本発明の実施の形態1の変形例に従う電圧供給回路は、図5に示される電圧供給回路と比較して、切換制御ユニット200、トランジスタTR2,TR3およびインバータIV0を取り除くとともに、新たにトランジスタTR#および外部パッドPD2を設けた点が異なる。
【0097】
本例においては、VBL発生回路150と電圧供給線VBLa,VBLsとの間にトランジスタTR#およびTR1がそれぞれ設けられ、各々のゲートは、制御信号WLBIEの供給を受ける。また、VCP発生回路160と電圧供給線CPLとの間にトランジスタTR0が設けられ、そのゲートは、制御信号WLBIEの供給を受ける。また、電圧供給線VBLa,VBLsおよびCPLにそれぞれ対応してバッドPD2,PD0およびPD1が設けられる。
【0098】
本例においては、上記の実施の形態1で説明したバーンイン試験を実行する際、制御信号WLBIEを「L」レベルに設定する。これに伴い、VBL発生回路150およびVCP発生回路160から各電圧供給線に対するプリチャージ電圧の供給が停止される。また、図7および図11について説明した所望の電圧を当該外部パッドPD0〜PD2にそれぞれ供給する。これにより、外部パッドに制約がないデバイス等については、簡易に実施の形態1で説明したのと同様のバーンイン試験を実行することができる。
【0099】
(実施の形態2)
本発明の実施の形態1においてはテスト用の外部パッドPD0,PD1を設けることにより、外部パッドから所望のテスト用の電源電圧を供給することにより、バーンイン試験を実行する構成について説明した。
【0100】
しかしながら、一般的にテスト用に用いられる外部パッドPD0,PD1等はパッケージ後にはリジェクトされる構成が一般的である。
【0101】
本発明の実施の形態2においては、外部パッドPD0,PD1を用いることなく、パッケージ後において、バーンインモード(FWBI)を実行する構成について説明する。
【0102】
図17は、本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の概念図である。
図17を参照して、本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路は、図7に示す実施の形態1の電圧供給回路と比較して、AND回路AD2と、切換制御ユニット200と置換される切換制御ユニット200#と、切換制御ユニット210,220とをさらに備える。
【0103】
AND回路AD2は、制御信号CBPの反転信号および制御信号WLBIEの入力をうけて、そのAND論理演算結果を出力する。トランジスタTR3のゲートおよびインバータIV0は、AND回路AD2からの出力信号の入力を受ける。
【0104】
切換制御ユニット200#は、切換制御ユニット200と比較して、AND回路AD3をさらに含む点が異なる。AND回路AD3は、制御信号CBSおよび制御信号CBPの反転信号の入力を受けてそのAND論理演算結果をAND回路AD0およびAD1の入力ノードに出力する。
【0105】
切換制御ユニット210は、トランジスタTR10〜TR13と、AND回路AD4〜AD6とをさらに含む。トランジスタTR10は、電源電圧VccとノードN3との間に配置され、そのゲートはAND回路AD4の出力信号の供給を受ける。トランジスタTR11は、ノードN3と接地電圧GNDとの間に配置され、そのゲートは、AND回路AD6の供給を受ける。トランジスタTR12は、電源電圧VccとノードN2との間に配置され、そのゲートは、AND回路AD6と電気的に結合される。トランジスタTR13は、ノードN2と接地電圧GNDとの間に配置され、そのゲートは、AND回路AD4と電気的に結合される。AND回路AD4は、制御信号CBTとAND回路AD5の出力信号との入力を受けて、そのAND論理演算結果をトランジスタTR10およびTR13のゲートにそれぞれ出力する。AND回路AD6は、制御信号CBTの反転信号とAND回路AD5の出力信号とを受けて、そのAND論理演算結果をトランジスタTR11およびTR12のゲートにそれぞれ出力する。AND回路AD5は、制御信号CBSおよびCBPの入力を受けてそのAND論理演算結果をAND回路AD4およびAD6の入力ノードにそれぞれ出力する。
【0106】
本実施の形態2においては、制御信号CBPが切換制御ユニット200#および210のいずれか一方を必要に応じて選択する選択信号となる。
【0107】
具体的には、制御信号CBP(「L」レベル)に応答して、切換制御ユニット200#は、実施の形態1で説明した切換制御ユニット200と同様の切換動作を制御信号CBSおよびCBTに応答して実行する。一方、切換制御ユニット210は、制御信号CBP(「L」レベル)の場合には、非活性化状態であり、切換動作を実行しない。
【0108】
逆に、制御信号CBP(「H」レベル)に応答して、切換制御ユニット200#は非活性化状態となり、切換動作を実行しない。一方、切換制御ユニット210は、制御信号CBP(「H」レベル)に応答して、制御信号CBSおよびCBTに応答して切換動作を実行する。
【0109】
切換制御ユニット220は、トランジスタTR14〜TR16とNOR回路NRとを含む。トランジスタTR14は、電源電圧VccとノードN5との間に配置され、そのゲートは、制御信号SN1の入力を受ける。トランジスタTR15は、接地電圧GNDとノードN5との間に配置され、そのゲートは、制御信号SN2の入力を受ける。トランジスタTR16は、ノードN3とノードN5と間に配置され、そのゲートは、NOR回路NRの出力信号の入力を受ける。また、NOR回路NRは、制御信号SN1およびSN2の入力を受けてそのNOR論理演算結果をトランジスタTR16のゲートに出力する。
【0110】
切換制御ユニット220は、制御信号SN1およびSN2に応答して、電圧供給線VBLaに対して電源電圧Vccもしくは接地電圧GNDを供給する。
【0111】
当該、切換制御ユニット220は、メモリセルに対するデータ書込の際に用いられる。具体的には、制御信号SN1(「H」レベル)に応答して電圧供給線VBLaに電源電圧Vccが供給される。一方、制御信号SN2(「H」レベル)に応答して電圧供給線VBLaに接地電圧GNDが供給される。それ以外の場合には、制御信号SN1およびSN2は、共に「L」レベルに設定されているためNOR論理演算結果に基づきノードN3とノードN5とは電気的に結合されている。
【0112】
図18は、本発明の実施の形態2に従う電圧供給線CPLおよびビット線BL間にストレスを掛ける場合および通常動作時の制御信号の関係を示す図である。
【0113】
まず通常動作時について説明する。通常動作時においては、制御信号WLBIE、CBS、CBTおよびCBPは、全て「L」レベルに設定される。
【0114】
図19は、通常動作時の本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【0115】
図18および図19に示されるように、制御信号CBPは、「L」レベルであるため上述したように切換制御ユニット200#が選択される。具体的には、上記の実施の形態1で説明したのと同様にトランジスタTR1およびTR4を介して電圧供給線VBLaにVBL発生回路150からのプリチャージ電圧が供給される。同様に、トランジスタTR1およびTR2を介して電圧供給線VBLsにVBL発生回路150からのプリチャージ電圧が供給される。また、トランジスタTR0およびTR5を介して電圧供給線CPLにVCP発生回路160からのセルプレート電圧が供給される。
【0116】
次に、CPL−VBLaストレスについて説明する。CPL−VBLaストレスにおいては、制御信号WLBIE、CBS、CBTおよびCBPは、「H」レベル、「H」レベル、「L」レベル、「H」レベルにそれぞれ設定される。これに伴い、制御信号CBPに応答して切換制御ユニット210が選択される。
【0117】
図20は、CPL−VBLaストレスを実行する場合の本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【0118】
図18および図20に示されるように、制御信号CBS,CBTおよびCBPに応答して、トランジスタTR1およびTR2がオンする。また、トランジスタTR11がオンする。これに伴い電圧供給線VBLaには、接地電圧GNDが供給される。また、トランジスタTR12がオンする。これに伴い、電圧供給線CPLには、電源電圧Vccが供給される。
【0119】
したがって、上記の実施の形態1で説明したのと同様のCPL−VBLaストレスを実行することができる。
【0120】
次に、VBLa−CPLストレスについて説明する。VBLa−CPLストレスにおいては、制御信号WLBIE、CBS、CBTおよびCBPは、「H」レベル、「H」レベル、「H」レベル、「H」レベルにそれぞれ設定される。これに伴い、制御信号CBPに応答して切換制御ユニット210が選択される。
【0121】
図21は、VBLa−CPLストレスを実行する場合の本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【0122】
図18および図21に示されるように、制御信号CBS,CBTおよびCBPに応答して、トランジスタTR1およびTR2がオンする。また、トランジスタTR10がオンする。これに伴い電圧供給線VBLaには、接地電圧GNDが供給される。また、トランジスタTR13がオンする。これに伴い、電圧供給線CPLには、電源電圧Vccが供給される。
【0123】
したがって、上記の実施の形態1で説明したのと同様のVBLa−CPLストレスを実行することができる。なお、上記においては、電源電圧Vcc−GND間のストレスを電圧供給線CPLおよびビット線BL,/BLに印可する構成について説明したが、電源電圧Vccの電圧レベルをいわゆる昇圧回路(図示せず)により、電源電圧Vccbの電圧レベルに昇圧してテストすることも可能である。
【0124】
図22は、実施の形態2に従う各種の試験モードおよびその際の制御信号と電圧供給線との関係を示す図である。
【0125】
図22を参照して、この場合において、制御信号WLBIEは「H」レベルに設定され、制御信号CBS、CBTは「L」レベルに設定され、制御信号CBPは、「H」レベルに設定される。制御信号CBP(「H」レベル)に応答して、切換制御ユニット210が選択されるが制御信号CBSおよびCBTは、ともに「L」レベルであるため、切換制御ユニット210は切換動作を実行しない。したがって、本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路は、図19に示す通常動作時と同様の供給経路に設定される。一方、当該試験モードにおいては、切換制御ユニット220がメモリセルの信頼性試験のために駆動する。その際、制御信号SN1およびSN2のいずれか一方は「H」レベルに設定されるため、切換制御ユニット220のNOR回路NRは、「L」レベルを出力する。したがって、切換制御ユニット220が駆動する際には、トランジスタTR16はターンオフしており、電圧供給線VBLaに対するVBL発生回路150の電圧供給は停止している。
【0126】
具体的には、メモリセルに対してデータ「1」のデータ書込を実行する場合、制御信号SN1およびSN2は、それぞれ「H」レベルおよび「L」レベルに設定される。これに伴い、トランジスタTR16がオフし、トランジスタTR14がオンする。したがって、電圧供給線VBLaには、電源電圧Vccが供給される。
【0127】
一方、メモリセルに対してデータ「0」のデータ書込を実行する場合、制御信号SN1およびSN2は、それぞれ「L」レベルおよび「H」レベルに設定される。これに伴い、トランジスタTR16がオフし、トランジスタTR15がオンする。したがって、電圧供給線VBLaには、接地電圧GNDが供給される。
【0128】
具体的には、全WL活性化モード時、偶数および奇数活性化モード時においては、制御信号SN1(「H」レベル)およびSN2(「L」レベル)が入力される。これに伴い、実施の形態1で説明したのと同様のバーンイン試験を実行することができる。
【0129】
また、ストライプ型モード時においては、ステップS1においては、制御信号SN2(「H」レベル)およびSN1(「L」レベル)が入力される。これに伴い、電圧供給線VBLaには、接地電圧GNDが供給される。また、ステップS2においては、制御信号SN1(「H」レベル)およびSN2(「L」レベル)が入力される。これに伴い、電圧供給線VBLaには、電源電圧Vccが供給される。他のステップS3からS5については、制御信号SN1およびSN2は、ともに「L」レベルに設定される。これに伴い、電圧供給線VBLaには、電圧1/2Vccが供給される。
【0130】
これら、制御信号CBS,CBTおよびCBPならびにSN1,SN2を用いて本実施の形態2に従う電圧供給回路を制御することにより、実施の形態1で説明したのと同様のバーンイン試験を実行することができる。
【0131】
なお、上記においては、電源電圧Vccおよび接地電圧GNDをビット線BL,/BLに供給してデータ書込を実行するメモリセルの信頼性試験について説明したが、電源電圧Vccの電圧レベルをいわゆる昇圧回路(図示せず)により、電源電圧Vccaの電圧レベルに昇圧してデータ書込を実行することも可能である。
【0132】
また、上記の実施の形態においては、厚膜および薄膜トランジスタの2種類のトランジスタを有するデバイス構成について説明したが、厚膜もしくは薄膜のいずれか1種類のトランジスタを用いるデバイス構成についても同様に適用可能である。
【0133】
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【0134】
【発明の効果】
この発明は以上説明したように、ビット線を第1および第2の領域に分離し、それぞれに異なる電圧供給線を設ける。また、電圧制御回路は、動作時に第1および第2の電圧供給線に対して同一の電圧を供給し、テスト時にそれぞれ異なる電圧を供給する。したがって、テスト時には、一方および他方の領域に応じた電圧を対応する電圧供給線から供給することが可能であり、効率的なテスト電圧を印可することができる。
【0135】
また、テスト時において、メモリセルに含まれるアクセストランジスタをターンオフする。また、テスト時において、電圧供給線およびビット線に対してそれぞれ異なる電圧を供給する電圧制御回路を設ける。これに伴い、キャパシタに高いストレスを掛けることなくビット線および電圧供給線間にストレスを掛けて信号線間の不良をテストすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1に従う半導体記憶装置1の全体構成図である。
【図2】本発明の実施の形態1に従うDRAM部10の概念図である。
【図3】本発明の実施の形態1に従うメモリアレイ20aおよびその周辺回路の領域の回路構成図である。
【図4】本発明の実施の形態1に従う隣接する2個のメモリセルMCの断面構造図である。
【図5】電源制御回路15に含まれる本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の概念図である。
【図6】本発明の実施の形態1に従うVBL発生回路150の回路構成図である。
【図7】通常動作時および電圧供給線CPL−ビット線BL間にストレスを掛ける場合の制御信号と各電圧供給線との関係を示す図である。
【図8】通常動作時の本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【図9】CPL−VBLaストレスを実行する場合の本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【図10】CPL−VBLaストレスを実行する場合の本発明の実施の形態1に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【図11】実施の形態1に従う各種の試験モードおよびその際の制御信号と電圧供給線との関係を示す図である。
【図12】各種の試験モードを実行する場合の電圧供給回路の供給経路を模式的に示す図である。
【図13】すべての偶数のワード線WLを活性化させて信頼性試験を実行するタイミングチャート図である。
【図14】すべての奇数のワード線WLを活性化させて信頼性試験を実行するタイミングチャート図である。
【図15】ストライプ型モードのタイミングチャート図である。
【図16】本発明の実施の形態1の変形例に従う電圧供給回路の構成図である。
【図17】本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の概念図である。
【図18】本発明の実施の形態2に従う電圧供給線CPLおよびビット線BL間にストレスを掛ける場合および通常動作時の制御信号の関係を示す図である。
【図19】通常動作時の本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【図20】CPL−VBLaストレスを実行する場合の本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【図21】VBLa−CPLストレスを実行する場合の本発明の実施の形態2に従う電圧供給回路の供給経路を模式的に示す概念図である。
【図22】実施の形態2に従う各種の試験モードおよびその際の制御信号と電圧供給線との関係を示す図である。
【符号の説明】
1 半導体記憶装置、10 DRAM部、11 ロジック回路部、12 SRAM部、13 周辺回路帯、15 電源制御回路、20a,20b メモリアレイ、25 デコーダ帯、30a,30b 入出力回路帯、40 制御回路、PD
外部パッド。
Claims (9)
- 記憶データに応じた電荷が蓄積される複数のメモリセルと、データ読出時に、前記複数のメモリセルのうちの選択メモリセルと接続されるビット線と、
前記データ読出時に前記ビット線と接続されて前記選択メモリセルに対してデータ読出を実行するための周辺回路と、
必要に応じて前記複数のメモリセルおよび前記周辺回路に対応するビット線を第1および第2の領域にそれぞれ電気的に分離するための分離部と、
前記第1の領域のビット線に対応して設けられる第1の電圧供給線と、
前記周辺回路に対応して設けられる第2の電圧供給線と、
前記第1および第2の電圧供給線に供給する電圧を制御する電圧制御回路とを備え、
前記電圧制御回路は、動作時に前記第1および第2の電圧供給線に対して同一の電圧を供給し、テスト時に前記第1および第2の電圧供給線に対してそれぞれ異なる電圧を供給する、半導体記憶装置。 - 前記複数のメモリセルの各々は、ゲート酸化膜を有する第1の電界効果型トランジスタを有し、
前記周辺回路は、前記選択メモリセルの前記記憶データを増幅するためのセンスアンプを含み、
前記センスアンプは、ゲート酸化膜を有する第2の電界効果型トランジスタを少なくとも1つ有し、
前記第1の電界効果型トランジスタのゲート酸化膜は、前記第2の電界効果型トランジスタのゲート酸化膜よりも厚く設計される、請求項1記載の半導体記憶装置。 - 前記分離部は、前記第1の領域のビット線と前記第2の領域のビット線との間を電気的に結合する接続制御部を有し、
前記テスト時は、第1および第2のテスト期間を有し、
前記第1のテスト期間において、前記接続制御部は、第1のテスト信号に応答して、前記第1の領域のビット線と前記第2の領域のビット線とを分離し、
前記第2のテスト期間において、前記接続制御部は、第2のテスト信号に応答して、前記第1の領域のビット線と前記第2の領域のビット線とを電気的に結合する、請求項2記載の半導体記憶装置。 - 前記複数のメモリセルは、行列状に配置され、
前記半導体記憶装置は、メモリセル行にそれぞれ対応して設けられる複数のワード線をさらに備え、
前記テスト時に前記複数のワード線の少なくとも1本は、前記データ読出時よりも高い電圧が供給される、請求項1記載の半導体記憶装置。 - 前記第1の領域と前記第1の電圧供給線との間を接続するためのトランジスタをさらに備え、
前記動作時において、前記第1の電圧供給線には、前記第1の領域のビット線をプリチャージするためのプリチャージ電圧が供給される、請求項1記載の半導体記憶装置。 - 記憶データに応じた電荷が蓄積されるメモリセルと、
データ読出時に、前記メモリセルの前記記憶データに応じた電圧レベルを伝達するビット線と、
前記メモリセルに対してセルプレート電圧を供給するための電圧供給線とを備え、
前記メモリセルは、
ストレージノードと前記ビット線との間に設けられ、前記データ読出時にターンオンするアクセストランジスタと、
前記ストレージノードと前記電圧供給線との間に設けられ、前記電荷を保持するためのキャパシタとを含み、
テスト時において、前記アクセストランジスタをターンオフし、
前記テスト時において、前記電圧供給線および前記ビット線にそれぞれ異なる電圧を供給する電圧制御回路をさらに備える、半導体記憶装置。 - 前記電圧制御回路は、
前記ビット線をプリチャージするために所定電圧を供給する第1の電圧供給回路と、
前記電圧供給線に対して、前記セルプレート電圧を供給するための第2の電圧供給回路と、
前記テスト時において、前記第1および第2の電圧供給回路から前記ビット線および前記電圧供給線へのそれぞれに対する供給を停止するとともに、前記ビット線および前記電圧供給線に対して第1および第2のテスト電圧をそれぞれ供給する切換回路とを含む、請求項6記載の半導体記憶装置。 - 前記切換回路は、前記テスト時において、前記ビット線および前記電圧供給線とそれぞれ接続される第1および第2の外部パッドを有し、
前記第1および第2の外部パッドは、前記テスト時において前記第1および第2のテスト電圧の一方および他方の供給を受ける、請求項7記載の半導体記憶装置。 - 前記メモリセルは、前記ビット線と前記電圧供給線とが相対的に近接した構造(COB構造)で設計される、請求項6記載の半導体記憶装置。
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