JP2004146634A - Resin board fabricating process and resin multilayer board fabricating process - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、両主面または内部に配線を有する樹脂基板の製造方法、および樹脂多層基板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、電子機器の小型化に伴い、LSIなどの半導体素子を高密度に実装できる多層配線基板が求められている。このため、多層配線基板においては、微細な配線ピッチで高密度に配線を形成することが重要な課題となっている。
【0003】
一方、多層配線基板の中でも、軽量、低誘電率といった点から樹脂多層基板が注目されている。この樹脂多層基板において高密度配線を実現する方法としては、金属板などの支持体上に形成された配線パターンを、樹脂シート上に転写する方法が知られている。
【0004】
図19は、従来の樹脂基板の製造方法における配線パターンの転写工程を示す断面図である。従来は、以下のようにして配線パターンを転写していた。まず、図19(a)に示すように、あらかじめビア導体としての導電体509が充填された樹脂シート501と、配線パターン503が形成された支持体502とを準備する。次に、図19(b)に示すように、樹脂シート501の主面上に支持体502を圧着する。次に、図19(c)に示すように、樹脂シート501から支持体502を除去し、樹脂シート501の主面上に配線パターン503を転写する。(例えば、特許文献1参照。)
【0005】
【特許文献1】
特開平10−84186号公報(段落番号0026、図1)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記の転写方法では、樹脂シート501と支持体502とを圧着する際に、配線パターン503と導電体509との間に、樹脂シート501の樹脂成分が流れ込むことがあったり、また導電体509が変形することがあるため、配線パターン503と導電体509との接続抵抗が増大してしまうという問題があった。
【0007】
本発明は、上記の問題を解決し、配線パターンとビア導体との接続抵抗を低減することができる樹脂基板の製造方法、および樹脂多層基板の製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る第1の樹脂基板の製造方法は、プリプレグ状態の樹脂シートと、配線パターン転写用の支持体と、を準備する工程と、前記支持体の一方主面上に配線パターンを形成し、前記配線パターンを貫通するレーザー通過孔を形成する工程と、前記樹脂シートの一方主面と、前記支持体の配線パターンが形成された一方主面と、を合わせるようにして、前記樹脂シートと前記支持体とを圧着する工程と、前記樹脂シートから前記支持体を除去する工程と、前記レーザー通過孔を介して、レーザーにより前記樹脂シートを貫通する貫通孔を形成する工程と、前記貫通孔に導電体を充填する工程と、を備えることを特徴とする。
【0009】
本発明に係る第2の樹脂基板の製造方法は、プリプレグ状態の樹脂シートと、配線パターン転写用の支持体と、を準備する工程と、前記支持体の一方主面上に配線パターンを形成し、前記配線パターンを貫通するレーザー通過孔を形成する工程と、前記樹脂シートの一方主面と、前記支持体の配線パターンが形成された一方主面と、を合わせるようにして、前記樹脂シートと前記支持体とを圧着する工程と、前記レーザー通過孔を介して、レーザーにより前記樹脂シートと前記支持体とを貫通する貫通孔を形成する工程と、前記貫通孔に導電体を充填する工程と、前記樹脂シートから前記支持体を除去する工程と、を備えることを特徴とする。
【0010】
また、前記第1、第2の樹脂基板の製造方法において、前記レーザー通過孔は、前記支持体と前記配線パターンとを厚み方向に貫通するように形成されることが好ましい。
【0011】
また、前記第1、第2の樹脂基板の製造方法においては、前記貫通孔に導電体を充填する工程の後に、前記樹脂シートを厚み方向に加圧する工程を備えることが好ましい。
【0012】
また、前記第1の樹脂基板の製造方法においては、前記貫通孔に導電体を充填する工程の後に、前記樹脂シートを厚み方向に加圧する工程を備え、前記樹脂シートから前記支持体を除去する工程と、前記樹脂シートを厚み方向に加圧する工程との間に、前記樹脂シートを熱処理する工程を備えることが好ましい。
【0013】
また、前記第1、第2の樹脂基板の製造方法において、前記支持体の一方主面上には、前記配線パターンと電気的に接続されるように回路部品が実装されており、前記樹脂シートと前記支持体とを圧着する工程において、樹脂シートに前記回路部品を埋没させることが好ましい。
【0014】
本発明に係る樹脂多層基板の製造方法は、前記第1、第2の樹脂基板の製造方法により、複数の樹脂基板を作製する工程と、内部に導電体が埋め込まれた樹脂シートからなる接着層を準備する工程と、前記樹脂基板の主面と前記接着層の主面とを合わせるようにして、かつ、2つの前記樹脂基板の間に前記接着層が配置されるように、前記樹脂基板と前記接着層とを圧着する工程と、を備えることを特徴とする。
【0015】
【発明の実施の形態】
(実施形態1)
以下、本発明に係る第1の樹脂基板の製造方法について、その一実施形態を説明する。図1〜図7は、本実施形態における工程断面図である。
【0016】
まず、図1に示すように、プリプレグ状態の樹脂シート101と、配線パターン転写用の支持体102とを準備する。支持体102の一方主面上には、配線パターン103が形成されている。また、配線パターン103には、配線パターン103を厚み方向に貫通するレーザー通過孔104が形成されている。
【0017】
樹脂シート101は、無機フィラーと熱硬化性樹脂とを混合したものからなる。無機フィラーとしては、例えば、Al2O3,SiO2,TiO2などを用いることができる。これらの無機フィラーを用いることにより、樹脂基板の放熱性を向上させるとともに、樹脂基板の流動性を調節することができる。また、熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シアネート樹脂などを用いることができる。中でも、エポキシ樹脂は、耐熱性、耐湿性に優れているため好ましい。
【0018】
なお、プリプレグ状態とは、熱硬化性樹脂が未硬化の状態、すなわち、樹脂シート101が一定の流動性を有する状態のことを意味する。樹脂シート101は、最終的には、硬化した状態で樹脂基板や樹脂多層基板の一部を構成する。ただし、樹脂基板や樹脂多層基板の製造過程において、どの工程で樹脂シート101を硬化させるかは目的に応じて任意に決定されるものである。したがって、本願明細書において、「樹脂シート」とは、最初の準備段階ではプリプレグ状態のものを意味するが、その後の工程では必ずしもプリプレグ状態のものを意味するわけではない。
【0019】
支持体102は、樹脂シート101の一方主面上に配線パターン103を転写するために用いられるため、ある程度の離型性を有することが好ましい。支持体102としては、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム、PEN(ポリエチレンナフタレート)フィルム、PPS(ポリフェニレンサルファイド)フィルム、PEEK(ポリエーテルエーテルケトン)フィルム、PI(ポリイミド)フィルム、などを用いることができる。
【0020】
配線パターン103は、Cu,Ag,Au,Ag−Pt,Ag−Pdなどの金属からなる。配線パターン103は、例えば、以下のようにして形成される。
【0021】
まず、図2(a)に示すように、一方主面上に粘着剤(図示せず)が塗布された支持体102に、配線パターン103用の金属箔103aを接着する。
【0022】
次に、図2(b)に示すように、支持体102に接着された金属箔103a上に、ノボラック樹脂などからなるフォトレジスト材をスピンコートし、フォトレジスト層105を形成する。
【0023】
次に、フォトレジスト層105をプリベークした後、図2(c)に示すように、フォトレジスト層105上に所定形状のフォトマスク106を当接させ、露光する。
【0024】
次に、ホウ酸水溶液などの現像液を用いて現像した後、ポストベークを行い、図2(d)に示すように、フォトレジスト層105をパターニングする。
【0025】
次に、図2(e)に示すように、金属箔103aのうちフォトレジスト層105で覆われていない部分を、塩化第2鉄水溶液などのエッチング液でエッチングし、配線パターン103を形成する。
【0026】
次に、図2(f)に示すように、配線パターン103上に残存しているフォトレジスト層105を、水酸化ナトリウム水溶液などのレジスト剥離液により除去する。このようにして、フォトリソグラフィーおよびエッチングにより、支持体102上に配線パターン103を形成する。
【0027】
なお、上記のレーザー通過孔104の形成方法では、レーザー通過孔104が微細な場合、エッチング処理が困難になることがある。このような場合、以下のようにしてレーザー通過孔を形成してもよい。まず、図3(a)に示すように、一方主面上に配線パターン103が形成された支持体102を準備する。次に、図3(b)に示すように、メカパンチャーで支持体102および配線パターン103を貫通する貫通孔を形成することにより、配線パターン103にレーザー通過孔104aを形成する。
【0028】
次に、図4(a)に示すように、樹脂シート101の一方主面と、支持体102の配線パターン103が形成された一方主面と、を合わせるようにして、樹脂シート101と支持体102とを圧着する。なお、本実施形態では、樹脂シート101の両主面に支持体102を圧着している。
【0029】
樹脂シート101と支持体102とを圧着する際には、基本的に熱圧着を行う。例えば、加熱プレス機などを用いて、所定の温度、圧力により、樹脂シート101と支持体102とを一定時間加熱、加圧する。この加熱により、樹脂シート101に含まれる熱硬化性樹脂が硬化する。
【0030】
なお、熱圧着を行う場合は、温度の制約を考慮する必要がある。例えば、支持体102の一方主面上に粘着剤を塗布する場合、熱圧着の温度により粘着剤が変性してしまうと、後工程で樹脂シート101から支持体102を除去する際、配線パターン103上に粘着剤が残留してしまうことがある。したがって、樹脂シート101に含まれる熱硬化性樹脂や粘着剤の種類に応じて、適切な加熱条件を設定することが重要である。
【0031】
次に、図4(b)に示すように、樹脂シート101から支持体102を除去する。この結果、樹脂シート103の両主面上に、配線パターン103が転写される。
【0032】
次に、図5(a)に示すように、樹脂シート101の一方主面上にマスク部材107を配置する。次に、図5(b)に示すように、レーザー通過孔104を介して、レーザーにより、樹脂シート101とマスク部材107とを貫通する貫通孔108を形成する。このとき、レーザーはレーザー通過孔104を通過するため、レーザーが配線パターン103上で反射するのを防ぐことができる。
【0033】
マスク部材107により、後工程において、貫通孔108に導電体を充填する際に、樹脂シート101の主面上に導電体が付着するのが防止される。マスク部材107としては、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム、PEN(ポリエチレンナフタレート)フィルムなどを用いることができる。
【0034】
貫通孔108は、レーザーパンチャーを用いてレーザーにより形成される。このようにレーザーを用いることにより、短時間で複数の貫通孔108を形成することができるため、樹脂基板の量産性が向上する。また、レーザーとしては、CO2レーザー、YAGレーザー、エキシマレーザーなどを用いることができるが、中でも、安価なCO2レーザーを用いることが好ましい。また、CO2レーザーは金属からなる配線パターン103上で特に反射しやすいため、CO2レーザーを用いた場合には、本発明の効果が顕著に発揮される。
【0035】
次に、図6(a)に示すように、マスク部材107を介して、貫通孔108に導電体109を充填する。導電体109は、樹脂基板の表面または内部に形成される配線を立体的に接続するビア導体として機能する。導電体109としては、例えば、金属粒子と熱硬化性樹脂とを混合した導電性ペーストを用いることができる。金属粒子としては、Au,Ag,Cu,Niなどを用いることができる。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シアネート樹脂などを用いることができる。なお、導電体109は、導電性ペーストに限られるものではなく、半田ボールや金ボールなどの金属体であってもよい。
【0036】
貫通孔108に導電体109を充填する方法としては、例えば、マスク部材107表面に導電性ペーストを流し込み、マスク部材107表面においてスキージを摺動させる方法がある。なお、マスク部材107を用いず、直接、貫通孔108に導電体109を充填することも可能である。また、本実施形態では、マスク部材107を配置してから貫通孔108を形成しているが、樹脂シート101に貫通孔108を形成した後、貫通孔108に対応する位置に孔が形成されたマスク部材107を配置してもよい。
【0037】
次に、樹脂シート101からマスク部材107を除去し、導電体109を所定時間、所定温度で乾燥させる。
【0038】
この結果、図6(b)に示すように、任意の度合いで硬化された樹脂シート101と、樹脂シート101の一方主面上に柱状に突出した突出部109aを有する導電体109と、からなる樹脂基板110が得られる。
【0039】
また、この後、樹脂シート101を厚み方向に加圧することが好ましい。これにより、図7に示すように、導電体109の突出部が押し延ばされ、釘状の頭部109bが形成される。さらに、この際、配線パターン103および導電体109を保護するために、樹脂シート101の両主面に保護部材(図示せず)を配置してから加圧を行うことが好ましい。樹脂シート101を加圧する手段としては、例えば、真空プレス機を用いることができる。保護部材としては、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム、PEN(ポリエチレンナフタレート)フィルムなどを用いることができる。
【0040】
このように導電体109の一端に釘状の頭部109bを形成することにより、配線パターン103の主面と、導電体109の一端に形成された釘状の頭部109bの下側主面と、が面接触により電気的に接続される。したがって、配線パターン103と導電体109との接続面積が増えるため、配線パターン103と導電体109との接続抵抗が低減する。また、樹脂基板110表面が平坦化されるため、樹脂基板110を多層化しやすくすることができる。
【0041】
また、樹脂シート101を厚み方向に加圧する工程においては、樹脂シート101がある程度の硬度を有することが好ましく、樹脂シート101が完全に硬化していることが特に好ましい。樹脂シート101が流動的であると、加圧により樹脂シート101が変形し、導電体109が横方向に肥大して、導電体109の体積抵抗が増加するおそれがある。したがって、この加圧工程の前に、樹脂シート101を熱処理してある程度硬化させておけば、導電体109の体積抵抗の増加を抑制することができる。
【0042】
樹脂シート101を熱処理するタイミングは、樹脂シート101を厚み方向に加圧する工程より前であればいつでもよい。上述したが、図3(a)に示したように、樹脂シート101と支持体102とを圧着する際に熱圧着を行うことも、この熱処理に含まれる。
【0043】
また、上述したように、樹脂シート101と支持体102とを熱圧着する際には、加熱条件に十分配慮する必要がある。ところが、樹脂シート101と支持体102上に塗布される粘着剤とを選択する上で、粘着剤を変性させない程度の温度で、樹脂シート101を十分に硬化させることができない場合が生じうる。このような場合、図4(b)に示したように、支持体102を除去してから、樹脂シート101を熱処理することが好ましい。また、マスク部材107の中にも熱に弱く変性しやすいものがあるため、樹脂シート101単体で熱処理を行うことが特に好ましい。
【0044】
このようにして製造された樹脂基板110は、そのまま回路部品実装用の基板として用いることができる。この場合、樹脂シート101としては完全に硬化させたものを用いる。また、後述するが、樹脂基板110を一つの樹脂層とし、これを多層化して樹脂多層基板を製造してもよい。この場合、樹脂シート101としては完全に硬化させたものを用いてもよいし、ある程度硬化させたものを用いてもよい。
【0045】
以上のように、本発明に係る第1の樹脂基板の製造方法によれば、樹脂シート101に配線パターン103を転写した後に、樹脂シート101に貫通孔108を形成し、貫通孔108に導電体109を充填し、ビア導体を形成する。したがって、配線パターン103と導電体109との間に、樹脂シート101の樹脂成分が流れ込むことがなく、配線パターンとビア導体との接続抵抗を低減することができる。
【0046】
(実施形態2)
次に、本発明に係る第2の樹脂基板の製造方法について、その一実施形態を説明する。図8は、本実施形態における工程断面図である。
【0047】
まず、図8(a)に示すように、プリプレグ状態の樹脂シート201と、肺炎パターン転写用の支持体202を準備する。支持体202の一方主面上には、配線パターン203が形成されている。また、配線パターン203には、配線パターン203を厚み方向に貫通するレーザー貫通孔204が形成されている。
【0048】
次に、図8(b)に示すように、樹脂シート201の両主面に支持体202を圧着する。次に、図8(c)に示すように、樹脂シート201と支持体202とを貫通する貫通孔208を形成する。次に、図8(d)に示すように、支持体202を介して、貫通孔208に導電体209を充填する。本実施形態においては、支持体202がマスク部材として機能する。
【0049】
次に、樹脂シート201から支持体202を除去し、樹脂シート201の両主面上に配線パターン203を転写する。次に、導電体209を所定時間、所定温度で乾燥させる。
【0050】
この結果、図8(e)に示すように、任意の度合いで硬化された樹脂シート201と、樹脂シート201の両主面上に柱状に突出した突出部209aを有する導電体209と、からなる樹脂基板210が得られる。
【0051】
また、この後、樹脂シート201を厚み方向に加圧することが好ましい。これにより、図8(f)に示すように、導電体208の突出部が押し延ばされ、釘状の頭部208bが形成される。また、実施形態1と同様に、樹脂シート201を厚み方向に加圧する工程の前に、樹脂シート201を熱処理する工程を備えることが好ましい。
【0052】
なお、その他の各工程や構成要件については実施形態1と同様であり、説明を省略する。
【0053】
以上のように、本発明に係る第2の樹脂基板の製造方法によれば、樹脂シート201に配線パターン203を転写した後に、樹脂シート201に貫通孔208を形成し、貫通孔208に導電体209を充填し、ビア導体を形成する。したがって、配線パターン203と導電体209との間に、樹脂シート201の樹脂成分が流れ込むことがなく、配線パターンとビア導体との接続抵抗を低減することができる。
【0054】
また、本発明に係る第2の樹脂基板の製造方法では、支持体202を介して導電体209を貫通孔208に充填するため、第1の樹脂基板の製造方法に比べて、マスク部材が不要になるという利点がある。
【0055】
(実施形態3)
次に、本発明に係る第2の樹脂基板の製造方法について、その変形例を説明する。図9は、本実施形態における工程断面図である。
【0056】
本実施形態における樹脂基板の製造方法は、実施形態4とほぼ同様である。実施形態4では、支持体202と配線パターン203とを貫通するレーザー通過孔204aがあらかじめ形成されている。レーザー通過孔204aは、例えば、実施形態1の図3で示した方法により形成することができる。
【0057】
なお、その他の各工程や構成要件については実施形態4と同様であり、説明を省略する。
【0058】
(実施形態4)
次に、本発明に係る第1、第2の樹脂基板の製造方法について、その応用例を説明する。図10〜図15は、本実施形態における工程断面図である。なお、本実施形態は、実施形態1に基づいた内容となっているが、その他の実施形態にも適用することができる。
【0059】
まず、図10(a)に示すように、一方主面上に配線パターン303が形成された支持体302aを準備する。配線パターン303には、配線パターン303を厚み方向に貫通するレーザー通過孔304が形成されている。
【0060】
次に、図10(b)に示すように、支持体302aの一方主面上に、配線パターン303と電気的に接続されるように、チップ型の回路部品311を実装する。回路部品311としては、トランジスタ、IC、LSIなどの能動素子や、チップコンデンサ、チップ抵抗、チップサーミスタ、チップインダクタなどの受動素子を用いることができる。また、回路部品311を実装する方法としては、半田付けや導電性接着剤を用いる方法などが挙げられる。なお、回路部品311の端子電極は図示していない。
【0061】
次に、図11に示すように、プリプレグ状態の樹脂シート301と、回路部品311が実装された支持体302aと、レーザー通過孔304を有する配線パターン303が形成された支持体302bと、を準備する。
【0062】
次に、図12(a)に示すように、樹脂シート301の両主面に支持体302a,302bを圧着する。また、このとき、樹脂シート301に回路部品311を埋没させる。次に、図12(b)に示すように、樹脂シート301から支持体302a,302bを除去し、樹脂シート301の両主面上に配線パターン303を転写する。
【0063】
本実施形態においては、樹脂シート301に回路部品311を埋没させるため、樹脂シート301が特に変形しやすい。したがって、この時点で、樹脂シート301を熱処理し、完全に硬化させておくことが好ましい。また、上述したように、支持体302a,302bを残したまま熱処理を行うと問題が生じる場合があるため、支持体302a,302bを除去した後に熱処理を行うことが好ましい。また、樹脂プレプレグシート301単体を熱処理することが特に好ましい。
【0064】
次に、図13に示すように、樹脂シート301の一方主面上にマスク部材307を配置した後、レーザー通過孔304を介して、レーザーにより、樹脂シート301およびマスク部材307を貫通する貫通孔308を形成する。
【0065】
次に、図14(a)に示すように、マスク部材307を介して、貫通孔308に導電体309を充填する。次に、樹脂シート301からマスク部材307を除去し、導電体309を所定時間、所定温度で乾燥させる。この結果、図14(b)に示すように、任意の度合いで硬化された樹脂シート301と、樹脂シート301の一方主面上に柱状に突出した突出部309aを有する導電体309と、からなる樹脂基板310が得られる。
【0066】
また、この後、樹脂シート301を厚み方向に加圧することが好ましい。これにより、図15に示すように、導電体309の突出部が押し延ばされ、釘状の頭部309bが形成される。
【0067】
なお、その他の各工程や構成要件については実施形態1と同様であり、説明を省略する。
【0068】
(実施形態5)
次に、本発明に係る第1、第2の樹脂基板の製造方法について、その応用例を説明する。図16〜図18は、本実施形態における工程断面図である。なお、本実施形態は、実施形態4に基づいた内容となっているが、その他の実施形態にも適用することができる。
【0069】
まず、実施形態4の樹脂基板の製造方法により、図15に示すように、樹脂シート301と、樹脂シート301の両主面上に形成された配線パターン303と、樹脂シート301を厚み方向に貫通する導電体309と、樹脂シート301に埋設された回路部品311と、を備える樹脂基板310を準備する。なお、導電体309の両端には釘状の頭部309bが形成されている。
【0070】
次に、図16に示すように、導電体409が埋め込まれた樹脂シート401からなる接着層412を準備する。接着層412は、例えば、以下のようにして作製される。まず、図17(a)に示すように、プリプレグ状態の樹脂シート401の両主面にマスク部材407を貼り付ける。次に、図17(b)に示すように、レーザーにより、樹脂シート401とマスク部材407を貫通する貫通孔408を形成する。次に、図17(c)に示すように、貫通孔408に導電体409を充填し、所定時間、所定温度で乾燥させる。次に、図17(d)に示すように、樹脂シート401からマスク部材407を除去して、接着層412を作製する。
【0071】
次に、図18に示すように、樹脂基板310と接着層412とを交互に積層し、圧着することにより、樹脂多層基板413を作製する。樹脂多層基板413において、接着層412に埋め込まれた導電体409は、樹脂基板310の配線パターン303または導電体309と電気的に接続されている。
【0072】
なお、樹脂基板310と接着層412とを圧着する際には、樹脂基板310および接着層412のすべてを積層してから一括で圧着してもよいし、樹脂基板310および接着層412を順次積層、圧着し、これを繰り返してもよい。
【0073】
また、樹脂基板310と接着層412とを圧着する際には、基本的に熱圧着を行う。このとき、上述したように、樹脂基板310を構成する樹脂シート301は、完全に硬化していることが好ましい。一方、接着層412は、樹脂基板310どうしを接着する役割を果たすため、熱圧着を行うまでは、接着層412を構成する樹脂シート301をあまり硬化させず、一定の流動性を持たせることが好ましい。樹脂基板310と接着層412とを熱圧着する際には、樹脂基板310および接着層412を完全に熱硬化させる。
【0074】
なお、その他の各工程や構成要件については実施形態4と同様であり、説明を省略する。
【0075】
【実施例】
(実施例1)
実施形態1に記載された内容に基づき、以下のようにして樹脂基板を作製した。
まず、支持体として厚さ80μmのPETフィルムを準備し、PETフィルムの一方主面上に厚さ20μmのアクリル樹脂系の粘着剤を塗布し、厚さ100μmの粘着剤つきPETフィルムを作製した。
【0076】
次に、粘着剤が塗布されたPETフィルムの主面上に、両面が粗面化された厚さ18μmの銅箔を接着した。次に、フォトリソグラフィーおよびエッチングにより、銅箔をパターンニングして、所定の配線パターンと直径200μmのレーザー通過孔とを形成した。
【0077】
次に、樹脂シートとして、シリカと液状エポキシ樹脂を混合してなる、厚さ400μmのシート状のエポキシプリプレグを準備した。次に、真空プレス機により、樹脂シートの両主面に、配線パターンが形成されたPETフィルムを圧着した。加圧条件は、120℃、1.0MPa、5分間とした。
【0078】
次に、樹脂シートからPETフィルムを除去した。次に、樹脂シートを170℃で10分間熱処理し、樹脂シートを構成するエポキシプリプレグを硬化させた。
【0079】
次に、樹脂シートの一方主面上に、マスク部材として厚さ20μmのPETフィルムを貼り付け、レーザー通過孔を介して、CO2レーザーにより、樹脂シートに貫通孔を形成した。
【0080】
次に、スキージにより、PETフィルムを介して貫通孔に導電体を充填し、ビア導体を形成した。導電体としては、導電ペースト(タツタ電線株式会社製AE1244)を用いた。
【0081】
次に、樹脂シートからPETフィルムを除去し、樹脂シートを100℃で30分間熱処理し、導電ペーストを乾燥させた。
【0082】
次に、樹脂シートの両主面上に、保護部材として厚さ20μmのPETフィルムを貼り付け、真空プレス機により樹脂シートを厚み方向に加圧した。加圧条件は、170℃、1.0MPa、5分間とした。次に、PETフィルムを除去することにより、樹脂基板を得た。
【0083】
(実施例2)
実施形態4に記載された内容に基づき、以下のようにして、回路部品が内蔵された樹脂基板を作製した。
まず、実施例1と同様にして、厚さ100μmの粘着剤つきPETフィルムの主面上に、両面が粗面化された厚さ18μmの銅箔を接着し、所定の配線パターンと直径200μmのレーザー通過孔とを形成した。
【0084】
次に、配線パターンの一部に導電性接着剤(ニホンハンダ株式会社製NH041A−2)を塗布し、その上に回路部品として、寸法0.3mm×0.3mm×0.6mmのチップコンデンサを実装した。
【0085】
次に、樹脂シートとして、実施例1と同じ厚さ400μmのシート状のエポキシプリプレグを準備した。次に、真空プレス機により、樹脂シートの両主面に、配線パターンが形成されチップコンデンサが実装されたPETフィルムを圧着した。加圧条件は、120℃、1.0MPa、5分間とした。
【0086】
次に、樹脂シートからPETフィルムを除去した。次に、樹脂シートを170℃で10分間熱処理し、樹脂シートを構成するエポキシプリプレグを硬化させた。
【0087】
次に、樹脂シートの一方主面上に、マスク部材として厚さ20μmのPETフィルムを貼り付け、レーザー通過孔を介して、CO2レーザーにより樹脂シートに貫通孔を形成した。
【0088】
次に、スキージにより、PETフィルムを介して貫通孔に導電体を充填し、ビア導体を形成した。導電体としては、導電ペースト(タツタ電線株式会社製AE1244)を用いた。
【0089】
次に、樹脂シートからPETフィルムを除去し、樹脂シートを100℃で30分間熱処理し、導電ペーストを乾燥させた。
【0090】
次に、樹脂シートの両主面上に、保護部材として厚さ20μmのPETフィルムを貼り付け、真空プレス機により樹脂シートを厚み方向に加圧した。加圧条件は、170℃、1.0MPa、5分間とした。次に、PETフィルムを除去することにより、チップコンデンサが内蔵された樹脂基板を得た。
【0091】
(実施例3)
実施形態5に記載された内容に基づき、以下のようにして、樹脂多層基板を作製した。
まず、樹脂シートとして、シリカと液状エポキシ樹脂を混合してなる、厚さ100μmのシート状のエポキシプリプレグを準備した。
【0092】
次に、樹脂シートの両主面に、マスク部材として厚さ20μmのPETフィルムを貼り付けた。次に、CO2レーザーにより、樹脂シートとPETフィルムとを貫通する直径300μmの貫通孔を形成した。
【0093】
次に、貫通孔に導電体として導電ペースト(タツタ電線株式会社製AE1244)を充填し、樹脂シートを60℃で30分間熱処理し、導電ペーストを乾燥させた。次に、樹脂シートからPETフィルムを除去し、接着層を作製した。
【0094】
次に、実施例2と同様にして樹脂基板を作製した。次に、樹脂基板が最上層および最下層となるように、3つの樹脂基板と2つの接着層とを交互に積層し、圧着した。加圧条件は、まず80℃、1.0MPa、5分間で熱圧着し、ある程度接着層を硬化させた後、170℃、2.0MPa、60分間で熱圧着した。これにより、樹脂基板と接着層とが積層されてなる樹脂多層基板が得られた。
【0095】
【発明の効果】
本発明に係る樹脂基板の製造方法によれば、樹脂シートに支持体を圧着した後に、樹脂シートに貫通孔を形成し、貫通孔に導電体を充填し、ビア導体を形成する。したがって、配線パターンと導電体との間に、樹脂シートの樹脂成分が流れ込むことがなく、配線パターンとビア導体との接続抵抗を低減することができる。
【0096】
同時に、あらかじめ配線パターンを貫通するレーザー通過孔を形成しておくことにより、配線パターン上におけるレーザーの反射を防止することができる。したがって、レーザーを用いて、短時間で複数の貫通孔を形成することができるため、樹脂基板の量産性が向上する。
【0097】
また、貫通孔に導電体を充填した後に、樹脂シートを厚み方向に加圧することにより、導電体の突出部を平坦化させることができる。したがって、配線パターンとビア導体との電気的接触をより良好にすることができるとともに、樹脂基板を多層化しやすくすることができる。さらに、この加圧工程を行う前に、樹脂シートを熱処理して、ある程度硬化させることにより、加圧による樹脂シートの変形を防止し、ビア導体の体積抵抗の増加を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態1における樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図2】本発明の実施形態1における樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図3】本発明の実施形態1における樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図4】本発明の実施形態1における樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図5】本発明の実施形態1における樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図6】本発明の実施形態1における樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図7】本発明の実施形態1における樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図8】本発明の実施形態2における樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図9】本発明の実施形態3における樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図10】本発明の実施形態4における樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図11】本発明の実施形態4における樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図12】本発明の実施形態4における樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図13】本発明の実施形態4における樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図14】本発明の実施形態4における樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図15】本発明の実施形態4における樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図16】本発明の実施形態5における樹脂多層基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図17】本発明の実施形態5における樹脂多層基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図18】本発明の実施形態5における樹脂多層基板の製造方法を示す工程断面図である。
【図19】従来の樹脂基板の製造方法を示す工程断面図である。
【符号の説明】
101 樹脂シート
102 支持体
103 配線パターン
104 レーザー通過孔
107 マスク部材
108 貫通孔
109 導電体
110 樹脂基板
311 回路部品
412 接着層
413 樹脂多層基板[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing a resin substrate having wiring on both main surfaces or inside, and a method for manufacturing a resin multilayer substrate.
[0002]
[Prior art]
In recent years, with the miniaturization of electronic devices, a multilayer wiring board on which semiconductor elements such as LSIs can be mounted at a high density has been demanded. For this reason, in a multilayer wiring board, it is an important subject to form wiring at a high density with a fine wiring pitch.
[0003]
On the other hand, among multilayer wiring boards, resin multilayer boards have been receiving attention because of their light weight and low dielectric constant. As a method of realizing high-density wiring in this resin multilayer substrate, a method of transferring a wiring pattern formed on a support such as a metal plate onto a resin sheet is known.
[0004]
FIG. 19 is a cross-sectional view showing a step of transferring a wiring pattern in a conventional method for manufacturing a resin substrate. Conventionally, a wiring pattern has been transferred as follows. First, as shown in FIG. 19A, a
[0005]
[Patent Document 1]
JP-A-10-84186 (paragraph number 0026, FIG. 1)
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the transfer method described above, when the
[0007]
An object of the present invention is to solve the above problems and to provide a method of manufacturing a resin substrate and a method of manufacturing a resin multilayer substrate, which can reduce the connection resistance between a wiring pattern and a via conductor.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
A first method for manufacturing a resin substrate according to the present invention includes a step of preparing a resin sheet in a prepreg state and a support for transferring a wiring pattern, and forming a wiring pattern on one main surface of the support. Forming a laser passage hole penetrating through the wiring pattern, and one main surface of the resin sheet, and one main surface of the support on which the wiring pattern is formed, the resin sheet and Press-bonding the support, removing the support from the resin sheet, forming a through-hole through the resin sheet by laser through the laser-passing hole, And filling a conductor with a conductive material.
[0009]
A second method for manufacturing a resin substrate according to the present invention includes a step of preparing a resin sheet in a prepreg state and a support for transferring a wiring pattern, and forming a wiring pattern on one main surface of the support. Forming a laser passage hole penetrating through the wiring pattern, and one main surface of the resin sheet, and one main surface of the support on which the wiring pattern is formed, the resin sheet and A step of crimping the support, a step of forming a through-hole through the resin sheet and the support by a laser through the laser passage hole, and a step of filling the through-hole with a conductor. Removing the support from the resin sheet.
[0010]
In the first and second methods for manufacturing a resin substrate, it is preferable that the laser passage hole is formed so as to penetrate the support and the wiring pattern in a thickness direction.
[0011]
Preferably, the method of manufacturing the first and second resin substrates further includes a step of pressing the resin sheet in a thickness direction after the step of filling the through hole with a conductor.
[0012]
Further, the first method for manufacturing a resin substrate includes a step of pressing the resin sheet in a thickness direction after the step of filling the through hole with a conductor, and removing the support from the resin sheet. Preferably, a step of heat-treating the resin sheet is provided between the step and the step of pressing the resin sheet in the thickness direction.
[0013]
In the first and second methods for manufacturing a resin substrate, a circuit component is mounted on one main surface of the support so as to be electrically connected to the wiring pattern. In the step of pressure-bonding the support and the support, it is preferable that the circuit component is embedded in a resin sheet.
[0014]
The method for manufacturing a resin multilayer board according to the present invention includes the steps of manufacturing a plurality of resin boards by the first and second methods for manufacturing a resin board, and an adhesive layer formed of a resin sheet having a conductor embedded therein. And preparing the main surface of the resin substrate and the main surface of the adhesive layer so that the main surface of the resin substrate is aligned with the main surface of the adhesive layer, and the adhesive layer is disposed between the two resin substrates. Pressure-bonding the adhesive layer and the adhesive layer.
[0015]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
(Embodiment 1)
Hereinafter, an embodiment of a first method for manufacturing a resin substrate according to the present invention will be described. 1 to 7 are process cross-sectional views in the present embodiment.
[0016]
First, as shown in FIG. 1, a
[0017]
The
[0018]
The prepreg state means a state where the thermosetting resin is not cured, that is, a state where the
[0019]
Since the
[0020]
The
[0021]
First, as shown in FIG. 2A, a
[0022]
Next, as shown in FIG. 2B, a photoresist material made of a novolak resin or the like is spin-coated on the
[0023]
Next, after pre-baking the
[0024]
Next, after developing using a developing solution such as a boric acid aqueous solution, post-baking is performed, and the
[0025]
Next, as shown in FIG. 2E, a portion of the
[0026]
Next, as shown in FIG. 2F, the
[0027]
In the above-described method for forming the
[0028]
Next, as shown in FIG. 4A, one main surface of the
[0029]
When pressure bonding the
[0030]
When performing thermocompression bonding, it is necessary to consider temperature restrictions. For example, when applying an adhesive on one main surface of the
[0031]
Next, the
[0032]
Next, as shown in FIG. 5A, a
[0033]
The
[0034]
The through
[0035]
Next, as shown in FIG. 6A, the
[0036]
As a method of filling the through
[0037]
Next, the
[0038]
As a result, as shown in FIG. 6B, the
[0039]
After that, it is preferable to press the
[0040]
By forming the nail-shaped
[0041]
In the step of pressing the
[0042]
The timing of heat-treating the
[0043]
Further, as described above, when thermocompression bonding the
[0044]
The
[0045]
As described above, according to the first method for manufacturing a resin substrate according to the present invention, after the
[0046]
(Embodiment 2)
Next, an embodiment of a second method for manufacturing a resin substrate according to the present invention will be described. FIG. 8 is a process sectional view in the present embodiment.
[0047]
First, as shown in FIG. 8A, a
[0048]
Next, as shown in FIG. 8B, the
[0049]
Next, the
[0050]
As a result, as shown in FIG. 8E, the
[0051]
After that, it is preferable to press the
[0052]
The other steps and components are the same as those of the first embodiment, and the description will not be repeated.
[0053]
As described above, according to the second method for manufacturing a resin substrate of the present invention, after the
[0054]
Further, in the second method for manufacturing a resin substrate according to the present invention, since the
[0055]
(Embodiment 3)
Next, a modified example of the second method for manufacturing a resin substrate according to the present invention will be described. FIG. 9 is a process sectional view in this embodiment.
[0056]
The method for manufacturing a resin substrate according to the present embodiment is substantially the same as that of the fourth embodiment. In the fourth embodiment, a
[0057]
The other steps and components are the same as in the fourth embodiment, and a description thereof will not be repeated.
[0058]
(Embodiment 4)
Next, application examples of the first and second resin substrate manufacturing methods according to the present invention will be described. 10 to 15 are process cross-sectional views in the present embodiment. This embodiment is based on the first embodiment, but can be applied to other embodiments.
[0059]
First, as shown in FIG. 10A, a
[0060]
Next, as shown in FIG. 10B, a chip-
[0061]
Next, as shown in FIG. 11, a
[0062]
Next, as shown in FIG. 12A, the
[0063]
In this embodiment, since the
[0064]
Next, as shown in FIG. 13, after a
[0065]
Next, as shown in FIG. 14A, the
[0066]
After that, it is preferable to press the
[0067]
The other steps and components are the same as those of the first embodiment, and the description will not be repeated.
[0068]
(Embodiment 5)
Next, application examples of the first and second resin substrate manufacturing methods according to the present invention will be described. 16 to 18 are process sectional views in the present embodiment. The present embodiment is based on the fourth embodiment, but can be applied to other embodiments.
[0069]
First, as shown in FIG. 15, a
[0070]
Next, as shown in FIG. 16, an
[0071]
Next, as shown in FIG. 18, a
[0072]
When the
[0073]
When the
[0074]
The other steps and components are the same as in the fourth embodiment, and a description thereof will not be repeated.
[0075]
【Example】
(Example 1)
Based on the content described in Embodiment 1, a resin substrate was manufactured as follows.
First, a PET film having a thickness of 80 μm was prepared as a support, and an acrylic resin-based pressure-sensitive adhesive having a thickness of 20 μm was applied on one main surface of the PET film to produce a PET film with a pressure-sensitive adhesive having a thickness of 100 μm.
[0076]
Next, on the main surface of the PET film to which the adhesive was applied, a copper foil having a thickness of 18 μm, both surfaces of which were roughened, was bonded. Next, the copper foil was patterned by photolithography and etching to form a predetermined wiring pattern and a laser passage hole having a diameter of 200 μm.
[0077]
Next, a 400-μm-thick sheet-like epoxy prepreg prepared by mixing silica and a liquid epoxy resin was prepared as a resin sheet. Next, the PET film on which the wiring pattern was formed was pressed on both main surfaces of the resin sheet by a vacuum press machine. Pressing conditions were 120 ° C., 1.0 MPa, and 5 minutes.
[0078]
Next, the PET film was removed from the resin sheet. Next, the resin sheet was heat-treated at 170 ° C. for 10 minutes to cure the epoxy prepreg constituting the resin sheet.
[0079]
Next, a PET film having a thickness of 20 μm was attached as a mask member on one main surface of the resin sheet, and CO 2 was passed through a laser passage hole. 2 Through holes were formed in the resin sheet by laser.
[0080]
Next, a conductor was filled in the through-hole with a squeegee via a PET film to form a via conductor. A conductive paste (AE1244 manufactured by Tatsuta Electric Wire Co., Ltd.) was used as the conductor.
[0081]
Next, the PET film was removed from the resin sheet, the resin sheet was heat-treated at 100 ° C. for 30 minutes, and the conductive paste was dried.
[0082]
Next, a PET film having a thickness of 20 μm was attached as a protective member on both main surfaces of the resin sheet, and the resin sheet was pressed in the thickness direction by a vacuum press. Pressing conditions were 170 ° C., 1.0 MPa, and 5 minutes. Next, a resin substrate was obtained by removing the PET film.
[0083]
(Example 2)
Based on the contents described in the fourth embodiment, a resin substrate with a built-in circuit component was manufactured as follows.
First, in the same manner as in Example 1, an 18 μm-thick copper foil having both surfaces roughened was adhered onto the main surface of a 100 μm-thick PET film with an adhesive, and a predetermined wiring pattern and a 200 μm-diameter A laser passage hole was formed.
[0084]
Next, a conductive adhesive (NH041A-2 manufactured by Nihon Handa Co., Ltd.) is applied to a part of the wiring pattern, and a chip capacitor of dimensions 0.3 mm × 0.3 mm × 0.6 mm is mounted thereon as a circuit component. did.
[0085]
Next, a sheet-like epoxy prepreg having the same thickness as that of Example 1 and having a thickness of 400 μm was prepared as a resin sheet. Next, a PET film on which a wiring pattern was formed and a chip capacitor was mounted was pressed on both main surfaces of the resin sheet by a vacuum press machine. Pressing conditions were 120 ° C., 1.0 MPa, and 5 minutes.
[0086]
Next, the PET film was removed from the resin sheet. Next, the resin sheet was heat-treated at 170 ° C. for 10 minutes to cure the epoxy prepreg constituting the resin sheet.
[0087]
Next, a PET film having a thickness of 20 μm was attached as a mask member on one main surface of the resin sheet, and CO 2 was passed through a laser passage hole. 2 Through holes were formed in the resin sheet by laser.
[0088]
Next, a conductor was filled in the through-hole with a squeegee via a PET film to form a via conductor. A conductive paste (AE1244 manufactured by Tatsuta Electric Wire Co., Ltd.) was used as the conductor.
[0089]
Next, the PET film was removed from the resin sheet, the resin sheet was heat-treated at 100 ° C. for 30 minutes, and the conductive paste was dried.
[0090]
Next, a PET film having a thickness of 20 μm was attached as a protective member on both main surfaces of the resin sheet, and the resin sheet was pressed in the thickness direction by a vacuum press. Pressing conditions were 170 ° C., 1.0 MPa, and 5 minutes. Next, by removing the PET film, a resin substrate having a built-in chip capacitor was obtained.
[0091]
(Example 3)
Based on the contents described in the fifth embodiment, a resin multilayer substrate was manufactured as follows.
First, as a resin sheet, a sheet-like epoxy prepreg having a thickness of 100 μm and prepared by mixing silica and a liquid epoxy resin was prepared.
[0092]
Next, a PET film having a thickness of 20 μm was attached to both main surfaces of the resin sheet as a mask member. Next, CO 2 A through hole having a diameter of 300 μm penetrating the resin sheet and the PET film was formed by laser.
[0093]
Next, a conductive paste (AE1244 manufactured by Tatsuta Electric Wire Co., Ltd.) was filled in the through hole, and the resin sheet was heat-treated at 60 ° C. for 30 minutes to dry the conductive paste. Next, the PET film was removed from the resin sheet to form an adhesive layer.
[0094]
Next, a resin substrate was manufactured in the same manner as in Example 2. Next, three resin substrates and two adhesive layers were alternately laminated and pressure-bonded such that the resin substrates were the uppermost layer and the lowermost layer. The pressing conditions were as follows: first, thermocompression bonding was performed at 80 ° C. and 1.0 MPa for 5 minutes, and after the adhesive layer was cured to some extent, thermocompression bonding was performed at 170 ° C. and 2.0 MPa for 60 minutes. Thus, a resin multilayer substrate in which the resin substrate and the adhesive layer were laminated was obtained.
[0095]
【The invention's effect】
According to the method of manufacturing a resin substrate according to the present invention, after the support is pressed onto the resin sheet, a through hole is formed in the resin sheet, the through hole is filled with a conductor, and a via conductor is formed. Therefore, the resin component of the resin sheet does not flow between the wiring pattern and the conductor, and the connection resistance between the wiring pattern and the via conductor can be reduced.
[0096]
At the same time, by forming a laser passage hole penetrating the wiring pattern in advance, it is possible to prevent laser reflection on the wiring pattern. Therefore, a plurality of through holes can be formed in a short time by using a laser, so that mass productivity of the resin substrate is improved.
[0097]
In addition, after filling the through hole with the conductor, the resin sheet is pressed in the thickness direction, so that the protrusion of the conductor can be flattened. Therefore, the electrical contact between the wiring pattern and the via conductor can be improved, and the resin substrate can be easily multilayered. Furthermore, before performing the pressing step, the resin sheet is heat-treated and cured to some extent, thereby preventing deformation of the resin sheet due to pressing and suppressing an increase in volume resistance of the via conductor.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a process cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a resin substrate in Embodiment 1 of the present invention.
FIG. 2 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin substrate according to the first embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin substrate in the first embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin substrate in the first embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin substrate in the first embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin substrate in the first embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin substrate in the first embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin substrate in the second embodiment of the present invention.
FIG. 9 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin substrate in Embodiment 3 of the present invention.
FIG. 10 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin substrate in Embodiment 4 of the present invention.
FIG. 11 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin substrate in Embodiment 4 of the present invention.
FIG. 12 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin substrate in Embodiment 4 of the present invention.
FIG. 13 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin substrate in Embodiment 4 of the present invention.
FIG. 14 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin substrate in Embodiment 4 of the present invention.
FIG. 15 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin substrate in Embodiment 4 of the present invention.
FIG. 16 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin multilayer substrate in the fifth embodiment of the present invention.
FIG. 17 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin multilayer substrate in the fifth embodiment of the present invention.
FIG. 18 is a process sectional view illustrating the method for manufacturing the resin multilayer substrate in the fifth embodiment of the present invention.
FIG. 19 is a process cross-sectional view showing a conventional method for manufacturing a resin substrate.
[Explanation of symbols]
101 resin sheet
102 Support
103 Wiring pattern
104 Laser passage hole
107 Mask member
108 Through hole
109 conductor
110 resin substrate
311 Circuit parts
412 adhesive layer
413 resin multilayer board
Claims (6)
前記支持体の一方主面上に配線パターンを形成し、前記配線パターンを貫通するレーザー通過孔を形成する工程と、
前記樹脂シートの一方主面と、前記支持体の配線パターンが形成された一方主面と、を合わせるようにして、前記樹脂シートと前記支持体とを圧着する工程と、
前記樹脂シートから前記支持体を除去する工程と、
前記レーザー通過孔を介して、レーザーにより前記樹脂シートを貫通する貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔に導電体を充填する工程と、
を備えることを特徴とする、樹脂基板の製造方法。A step of preparing a resin sheet in a prepreg state and a support for transferring a wiring pattern,
Forming a wiring pattern on one main surface of the support, forming a laser passage hole penetrating the wiring pattern,
One main surface of the resin sheet and one main surface on which the wiring pattern of the support is formed, and pressing the resin sheet and the support together,
Removing the support from the resin sheet;
Through the laser passage hole, a step of forming a through hole through the resin sheet by laser,
Filling the through-hole with a conductor,
A method for manufacturing a resin substrate, comprising:
前記支持体の一方主面上に配線パターンを形成し、前記配線パターンを貫通するレーザー通過孔を形成する工程と、
前記樹脂シートの一方主面と、前記支持体の配線パターンが形成された一方主面と、を合わせるようにして、前記樹脂シートと前記支持体とを圧着する工程と、
前記レーザー通過孔を介して、レーザーにより前記樹脂シートと前記支持体とを貫通する貫通孔を形成する工程と、
前記貫通孔に導電体を充填する工程と、
前記樹脂シートから前記支持体を除去する工程と、
を備えることを特徴とする、樹脂基板の製造方法。A step of preparing a resin sheet in a prepreg state and a support for transferring a wiring pattern,
Forming a wiring pattern on one main surface of the support, forming a laser passage hole penetrating the wiring pattern,
One main surface of the resin sheet and one main surface on which the wiring pattern of the support is formed, and pressing the resin sheet and the support together,
Through the laser passage hole, a step of forming a through hole through the resin sheet and the support by laser,
Filling the through-hole with a conductor,
Removing the support from the resin sheet;
A method for manufacturing a resin substrate, comprising:
前記樹脂シートから前記支持体を除去する工程と、前記樹脂シートを厚み方向に加圧する工程との間に、前記樹脂シートを熱処理する工程を備えることを特徴とする、請求項1に記載の樹脂基板の製造方法。After the step of filling the through hole with a conductor, the method includes a step of pressing the resin sheet in a thickness direction,
The resin according to claim 1, further comprising a step of heat-treating the resin sheet between the step of removing the support from the resin sheet and the step of pressing the resin sheet in a thickness direction. Substrate manufacturing method.
前記樹脂シートと前記支持体とを圧着する工程において、前記樹脂シートに前記回路部品を埋没させることを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の樹脂基板の製造方法。Circuit components are mounted on one main surface of the support so as to be electrically connected to the wiring pattern,
3. The method according to claim 1, wherein, in the step of pressing the resin sheet and the support, the circuit component is buried in the resin sheet. 4.
内部に導電体が埋め込まれた樹脂シートからなる接着層を準備する工程と、
前記樹脂基板の主面と前記接着層の主面とを合わせるようにして、かつ、2つの前記樹脂基板の間に前記接着層が配置されるように、前記樹脂基板と前記接着層とを圧着する工程と、
を備えることを特徴とする樹脂多層基板の製造方法。Producing a plurality of resin substrates by the method for producing a resin substrate according to claim 1 or 2;
A step of preparing an adhesive layer made of a resin sheet having a conductor embedded therein,
The resin substrate and the adhesive layer are pressure-bonded so that the main surface of the resin substrate and the main surface of the adhesive layer match, and the adhesive layer is disposed between the two resin substrates. The process of
A method for manufacturing a resin multilayer substrate, comprising:
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