JP4407609B2 - Electronic circuit equipment - Google Patents

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Description

本発明は、半導体チップや電子部品を多層構成からなる回路基板内に内蔵した電子回路装置に関する。   The present invention relates to an electronic circuit device in which a semiconductor chip and an electronic component are built in a circuit board having a multilayer structure.

近年、携帯端末に代表される電子機器の高性能化、小型化の要求に伴い、薄型・高密度化された電子回路装置が必要となってきている。しかし、電子機器の高性能化、小型化の進展は著しく、これまでのように部品の小型化、回路基板の配線の狭ピッチ化や多層化あるいは電子部品の実装の高密度化では、このような電子機器の高性能化、小型化に対応することが困難となってきている。そこで、半導体チップや受動部品等を含む種々の電子部品を内蔵した基板に、3次元に回路パターンを施す電子部品内蔵基板が注目されている。この回路基板も多層構成で、かつ薄型とすることが要求される。   In recent years, with the demand for high performance and miniaturization of electronic devices typified by portable terminals, thin and high density electronic circuit devices have become necessary. However, the progress of high performance and miniaturization of electronic equipment has been remarkable, and this is the case with miniaturization of components, narrowing of circuit board wiring pitch, multilayering, and high density mounting of electronic components. It has become difficult to cope with the high performance and downsizing of electronic devices. Therefore, attention has been paid to an electronic component built-in substrate in which a circuit pattern is three-dimensionally provided on a substrate incorporating various electronic components including a semiconductor chip and passive components. This circuit board is also required to have a multilayer structure and be thin.

以下、従来の電子回路装置について、図面を参照しながら説明する。   A conventional electronic circuit device will be described below with reference to the drawings.

図9は、従来の電子回路装置の一例について、その構成および製造方法を説明するための工程断面図である。   FIG. 9 is a process cross-sectional view for explaining the configuration and manufacturing method of an example of a conventional electronic circuit device.

まず、図9(a)に示すように、樹脂材料からなる基板(以下、樹脂基板とよぶ)41の両面に、導体配線41a、41bとなるパターンを形成する。なお、必要に応じて樹脂基板41の所定の場所に両面を貫通し、それぞれの面に形成された導体配線41a、41bを接続するためのスルーホール導体41cを形成する。   First, as shown in FIG. 9A, patterns to be conductive wirings 41a and 41b are formed on both surfaces of a substrate 41 (hereinafter referred to as a resin substrate) made of a resin material. If necessary, through-hole conductors 41c are formed so as to pass through both surfaces at predetermined positions of the resin substrate 41 and connect the conductor wirings 41a and 41b formed on the respective surfaces.

次に、図9(b)に示すように、半導体チップ42の電極端子42aを導体配線41aに一致させて接続する。電極端子42aは半田バンプや金ボールバンプ等で形成されており、電極端子42aと導体配線41aとの接続は半田接続、異方導電性フィルムあるいは異方導電性樹脂を用いて行う。   Next, as shown in FIG. 9B, the electrode terminals 42a of the semiconductor chip 42 are connected so as to coincide with the conductor wiring 41a. The electrode terminal 42a is formed of a solder bump, a gold ball bump, or the like, and the connection between the electrode terminal 42a and the conductor wiring 41a is performed using solder connection, an anisotropic conductive film or an anisotropic conductive resin.

次に、図9(c)に示すように、樹脂基板41の全面にカーテンコート法等によって層間絶縁層43を形成する。層間絶縁層43の厚みは、少なくとも半導体チップ42の側面を覆う程度以上とする。その後、所定の導体配線44を形成する。導体配線44は、例えば、層間絶縁層43の全面に銅メッキ層を形成した後、フォトエッチング工程によって形成することができる。   Next, as shown in FIG. 9C, an interlayer insulating layer 43 is formed on the entire surface of the resin substrate 41 by a curtain coating method or the like. The thickness of the interlayer insulating layer 43 is set to be at least enough to cover at least the side surface of the semiconductor chip 42. Thereafter, a predetermined conductor wiring 44 is formed. The conductor wiring 44 can be formed by, for example, a photoetching process after a copper plating layer is formed on the entire surface of the interlayer insulating layer 43.

次に、図9(d)に示すように、半導体チップ42を完全に覆うようにして、カーテンコート法等により、層間絶縁層45を形成する。この方法を繰り返して、図9(e)に示すように、半導体チップ42を内蔵した電子回路装置が構成される。なお、最上層の導体配線48の一部を接続端子として、電子部品49が実装される。また、導体配線間は必要な箇所の層間絶縁層にスルーホール導体を形成して層間に形成されている導体配線同士を接続する(例えば、特許文献1参照)。   Next, as shown in FIG. 9D, an interlayer insulating layer 45 is formed by a curtain coating method or the like so as to completely cover the semiconductor chip 42. By repeating this method, as shown in FIG. 9E, an electronic circuit device incorporating the semiconductor chip 42 is constructed. An electronic component 49 is mounted using a part of the uppermost conductor wiring 48 as a connection terminal. Further, between the conductor wirings, through-hole conductors are formed in the interlayer insulating layer at necessary places, and the conductor wirings formed between the layers are connected (for example, see Patent Document 1).

次に、従来の電子回路の他の例について、図面を参照しながら説明する。   Next, another example of a conventional electronic circuit will be described with reference to the drawings.

図10は、導体配線および接続用突起が形成された配線フィルム同士を、異方導電性フィルムにより接着、積層して構成する電子回路装置を示す図で、(a)はその製造方法を説明するための断面図、(b)は作製された電子回路装置の断面図、(c)は層間接続部の要部断面図である。   FIG. 10 is a diagram showing an electronic circuit device configured by bonding and laminating wiring films on which conductor wirings and connection protrusions are formed with an anisotropic conductive film, and (a) illustrates a manufacturing method thereof. FIG. 4B is a cross-sectional view of the manufactured electronic circuit device, and FIG.

図10において、異方導電性フィルム53は絶縁性樹脂53a中に導電体粒子53bが分散された構成であり、同様に異方導電性フィルム56は絶縁性樹脂56a中に導電体粒子56bが分散された構成からなる。また、配線フィルム54は、この配線フィルム54の表面に形成され、かつ配線フィルム54を貫通して他方の面に突出した突出部を有する導体配線55が形成されている。さらに、配線フィルム57は、配線フィルム54と同様に突出部を有する導体配線58が形成されている。   In FIG. 10, the anisotropic conductive film 53 has a configuration in which the conductive particles 53b are dispersed in the insulating resin 53a. Similarly, the anisotropic conductive film 56 has the conductive particles 56b dispersed in the insulating resin 56a. It consists of made. In addition, the wiring film 54 is formed on the surface of the wiring film 54, and a conductor wiring 55 having a protruding portion that penetrates the wiring film 54 and protrudes to the other surface is formed. Further, the wiring film 57 is formed with a conductor wiring 58 having a protruding portion in the same manner as the wiring film 54.

図10(a)に示すように、導体配線52が形成された樹脂基板51の上に、異方導電性フィルム53、導体配線55が形成された配線フィルム54、異方導電性フィルム56および導体配線58が形成された配線フィルム57を、この順番に位置合わせして重ね、プレス機59の間に設置する。その後、プレス機59による加圧とヒータ60による加熱をすることによって、樹脂基板51上に配線フィルム54、57が積層されると同時に、それぞれの層の導体配線52、55、58がそれぞれ電気的に接続される。   As shown in FIG. 10A, an anisotropic conductive film 53, a wiring film 54 formed with a conductor wiring 55, an anisotropic conductive film 56, and a conductor are formed on a resin substrate 51 on which a conductor wiring 52 is formed. The wiring films 57 on which the wirings 58 are formed are aligned and stacked in this order, and placed between the press machines 59. Thereafter, pressurization by the press machine 59 and heating by the heater 60 cause the wiring films 54 and 57 to be laminated on the resin substrate 51, and at the same time, the conductor wirings 52, 55 and 58 of the respective layers are electrically connected. Connected to.

このようにして作製された電子回路装置の断面形状を図10(b)に示す。配線フィルム54、57の一方の主面に形成された導体配線55、58は他方の面にまで導出され、かつ突出部が形成されている。図10(c)は、この突出部での層間接続状態を拡大して示している。導体配線55の突出部と導体配線52の間で導電体粒子53bが押しつぶされることによって縦方向に重なり合い、相互に電気的接続される。なお、導体配線55、58の突出部がない箇所では、縦方向に導電体粒子53bが重なり合うことがなく、絶縁性は保持される(例えば、特許文献2参照)。
特開平11−274734号公報 特開平4−177864号公報
FIG. 10B shows a cross-sectional shape of the electronic circuit device thus manufactured. The conductor wirings 55 and 58 formed on one main surface of the wiring films 54 and 57 are led out to the other surface, and a protruding portion is formed. FIG. 10C shows an enlarged interlayer connection state at the protruding portion. When the conductor particles 53b are crushed between the protruding portion of the conductor wiring 55 and the conductor wiring 52, they overlap in the vertical direction and are electrically connected to each other. In addition, in the location where there is no protrusion part of the conductor wiring 55 and 58, the conductor particles 53b do not overlap in the vertical direction, and insulation is maintained (for example, refer to Patent Document 2).
JP 11-274734 A JP-A-4-177864

上記第1の例は、ビルドアップ法を用いた多層構造の電子回路装置であって、多層部分に半導体チップを内蔵し、最上層に半導体チップ以外の電子部品を実装している。この例では、半導体チップの電極端子と樹脂基板の導体配線の接続端子とを接続するために異方導電性部材を用いてもよいとしている。   The first example is an electronic circuit device having a multilayer structure using a build-up method, in which a semiconductor chip is built in the multilayer part, and an electronic component other than the semiconductor chip is mounted on the uppermost layer. In this example, an anisotropic conductive member may be used to connect the electrode terminal of the semiconductor chip and the connection terminal of the conductor wiring of the resin substrate.

しかしながら、この第1の例では、半導体チップの電極端子と導体配線の接続端子とを接続するための部材と層間絶縁層として用いられている部材とは異なっている。このため、それぞれ異なる工程を必要とする。   However, in the first example, the member used for connecting the electrode terminal of the semiconductor chip and the connection terminal of the conductor wiring is different from the member used as the interlayer insulating layer. For this reason, different processes are required.

また、上記第2の例では、樹脂基板と配線フィルム間および配線フィルム同士の接着、および層間の電気的接続に異方導電性フィルムを用いており、層間接続と配線フィルム同士の積層とを同一工程で行うことができる。   In the second example, an anisotropic conductive film is used for adhesion between the resin substrate and the wiring film and between the wiring films, and electrical connection between the layers, and the interlayer connection and the lamination of the wiring films are the same. It can be performed in a process.

しかしながら、この第2の例では、配線フィルムを積層するため、その厚み分だけ全体の厚みが厚くなる。さらに、積層構造の電子回路装置を実現するために、あらかじめ導体配線が形成された配線フィルムを形成しなければならない。しかも、これらの配線フィルム同士を位置合わせして積層することが要求されるが、この工程は比較的複雑である。特に、導体配線や層間接続をファインピッチにする場合には、複数の配線フィルムを精度よく位置合わせし、かつ加圧、加熱時にもずれが生じないようにすることが要求される。しかし、このために高精度の位置合わせ冶具やプレス機等を用いても、ファインパターンを有する電子回路装置の作製は難しいと思われる。   However, in this second example, since the wiring films are laminated, the entire thickness is increased by the thickness. Furthermore, in order to realize an electronic circuit device having a laminated structure, it is necessary to form a wiring film on which conductor wiring is formed in advance. Moreover, it is required to align and laminate these wiring films, but this process is relatively complicated. In particular, when the conductor wiring and the interlayer connection are made to have a fine pitch, it is required to align the plurality of wiring films with high accuracy and to prevent deviation even during pressurization and heating. However, for this reason, it seems difficult to produce an electronic circuit device having a fine pattern even if a high-precision alignment jig or press is used.

本発明は、上記の課題を解決するもので、層間の導体配線接続と内蔵する電子部品の電気的接続とを同一の異方導電性樹脂層を用いて行うことにより、簡単な製造工程で部品を内蔵した多層構成の電子回路装置を提供することを目的とする。   SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems, and by performing conductive wiring connection between layers and electrical connection of built-in electronic components using the same anisotropic conductive resin layer, the components can be manufactured with a simple manufacturing process. An object of the present invention is to provide a multi-layered electronic circuit device having a built-in structure.

上記課題を解決するために、本発明の電子回路装置は、少なくとも一方の主面に第1導体配線が形成された樹脂基板と、この第1導体配線を含む一方の主面上に形成された第1異方導電性樹脂層と、この第1異方導電性樹脂層中に圧入され、第1異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって第1導体配線の設定された接続端子と電極端子とが電気的に接続された電子部品と、第1異方導電性樹脂層の表面に形成された第2導体配線と、第1導体配線の設定された接続端子に対しては、第1異方導電性樹脂層中の導電体粒子を介して電気的に接続され、かつ第2導体配線の設定された接続端子に対しては、この接続端子との直接的な接触により電気的に接続された導電性層間接続部材とを備え、第2導体配線を含む第1異方導電性樹脂層上に、さらに第2異方導電性樹脂層が形成され、第2異方導電性樹脂層中に圧入され、第2異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって、第2導体配線の設定された接続端子と電極端子とが電気的に接続された電子部品と、第2異方導電性樹脂層の表面に形成された第3導体配線と、第2導体配線の設定された接続端子に対しては、第2異方導電性樹脂層中の導電体粒子を介して電気的に接続され、かつ第3導体配線の設定された接続端子に対しては、接続端子と直接的な接触により電気的に接続された導電性層間接続部材とを備えた構成からなる。 In order to solve the above-described problems, an electronic circuit device of the present invention is formed on a resin substrate having a first conductor wiring formed on at least one main surface and on one main surface including the first conductor wiring. The first anisotropic conductive resin layer, and the connection terminals and electrodes that are press-fitted into the first anisotropic conductive resin layer and the first conductor wiring is set by the conductive particles in the first anisotropic conductive resin layer For the electronic component in which the terminal is electrically connected, the second conductor wiring formed on the surface of the first anisotropic conductive resin layer, and the connection terminal in which the first conductor wiring is set, the first Electrical connection is established through direct contact with the connection terminal to the connection terminal that is electrically connected through the conductive particles in the anisotropic conductive resin layer and the second conductor wiring is set. the electrically conductive and a interlayer connection member, the first anisotropic conductive resin layer containing a second conductor wiring, and The second anisotropic conductive resin layer is formed on the second anisotropic conductive resin layer and press-fitted into the second anisotropic conductive resin layer, and the conductive particles in the second anisotropic conductive resin layer set the second conductor wiring. For the electronic component in which the terminal and the electrode terminal are electrically connected, the third conductor wiring formed on the surface of the second anisotropic conductive resin layer, and the connection terminal where the second conductor wiring is set The connection terminals that are electrically connected through the conductive particles in the second anisotropic conductive resin layer and that have the third conductor wiring set are electrically connected by direct contact with the connection terminals. It has a configuration including a connected conductive interlayer connection member .

このような構成とすることにより、層間絶縁層の形成、電子部品の電極端子と第1導体配線の接続端子との電気的接続を、同一の材料を用いて同時に行うことができる。また、第1異方導電性樹脂層が電子部品の封止樹脂層ともなるので、封止樹脂層の形成が不要である。したがって、製造工程を簡略化できる。さらに、電子部品を層間絶縁層となる第1異方導電性樹脂層中に埋設することから、全体を薄型にすることができる。さらに多層構成の電子回路装置を容易に実現することができる。 With such a configuration, the formation of the interlayer insulating layer and the electrical connection between the electrode terminal of the electronic component and the connection terminal of the first conductor wiring can be simultaneously performed using the same material. Further, since the first anisotropic conductive resin layer also serves as a sealing resin layer for electronic components, it is not necessary to form a sealing resin layer. Therefore, the manufacturing process can be simplified. Furthermore, since the electronic component is embedded in the first anisotropic conductive resin layer serving as an interlayer insulating layer, the whole can be made thin. Furthermore, an electronic circuit device having a multilayer structure can be easily realized.

なお、電子部品としては、ICやLSI等の半導体チップ、チップコンデンサやチップ抵抗等のチップ部品、シート状の基板に薄膜方式あるいは印刷方式により形成したコンデンサ、抵抗、インダクタ等のシート状デバイス、および種々のセンサ等を用いることができる。埋設する電子部品としては、1個に限定されず複数個であってもよい。その場合に、半導体チップのみでなく、半導体チップとチップ部品等の組合せでもよい。本発明の場合には、電子部品と一緒に導電性層間接続部材を埋設するので、比較的厚い電子部品を用いても、層間の電気的接続を確実に行うことができる。   Electronic components include semiconductor chips such as IC and LSI, chip components such as chip capacitors and chip resistors, capacitors formed on a sheet-like substrate by a thin film method or a printing method, sheet devices such as resistors and inductors, and Various sensors can be used. The number of electronic components to be embedded is not limited to one and may be plural. In that case, not only a semiconductor chip but also a combination of a semiconductor chip and a chip component may be used. In the case of the present invention, since the conductive interlayer connecting member is embedded together with the electronic component, the electrical connection between the layers can be reliably performed even if a relatively thick electronic component is used.

また、本発明の電子回路装置は、少なくとも一方の主面に第1導体配線が形成された樹脂基板と、第1導体配線を含む一方の主面上に形成された第1異方導電性樹脂層と、第1
異方導電性樹脂層中に圧入され、第1異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって、第1導
体配線の設定された接続端子と電極端子とが電気的に接続された電子部品と、第1異方導
電性樹脂層の表面に形成された第2導体配線と、第1導体配線の設定された接続端子に対
しては、第1異方導電性樹脂層中の導電体粒子を介して電気的に接続され、かつ第2導体
配線の設定された接続端子に対しては、接続端子と直接的な接触を行うことで電気的に接
続された導電性層間接続部材とを備え、第2導体配線を含む第1異方導電性樹脂層上に、
さらに第2異方導電性樹脂層が形成され、第2異方導電性樹脂層中に圧入され、第2異方
導電性樹脂層中の導電体粒子によって第2導体配線の設定された接続端子に電極端子が電
気的に接続された電子部品を備えた構成からなる。
The electronic circuit device of the present invention includes a resin substrate having a first conductor wiring formed on at least one main surface, and a first anisotropic conductive resin formed on one main surface including the first conductor wiring. Layer and first
The first conductive material is press-fitted into the anisotropic conductive resin layer, and the first conductive resin particles in the first anisotropic conductive resin layer
An electronic component in which a connection terminal and an electrode terminal for which body wiring is set are electrically connected, and a first anisotropic conductor
The second conductor wiring formed on the surface of the electrically conductive resin layer is connected to the set connection terminal of the first conductor wiring.
Then, the second conductor is electrically connected through the conductive particles in the first anisotropic conductive resin layer.
Electrical connection is made to the connection terminals with wiring by making direct contact with the connection terminals.
A conductive interlayer connecting member connected to the first anisotropic conductive resin layer including the second conductor wiring;
Further, a second anisotropic conductive resin layer is formed, press-fitted into the second anisotropic conductive resin layer, and a connection terminal in which the second conductor wiring is set by the conductive particles in the second anisotropic conductive resin layer And an electronic component having an electrode terminal electrically connected thereto .

この構成とすることにより、最上層の導体配線が形成された面上にも同じ異方導電性樹脂層を用いて電子部品を容易に実装することができ、さらに高機能の電子回路装置を実現できる。   With this configuration, electronic components can be easily mounted on the surface on which the uppermost conductor wiring is formed using the same anisotropic conductive resin layer, and a highly functional electronic circuit device is realized. it can.

また、上記構成において、第3導体配線を含む第2異方導電性樹脂層上に、さらに第3異方導電性樹脂層が形成され、第3異方導電性樹脂層中に圧入され、第3異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって第3導体配線の設定された接続端子と電極端子とが電気的に接続された電子部品を備えた構成としてもよい。   In the above configuration, a third anisotropic conductive resin layer is further formed on the second anisotropic conductive resin layer including the third conductor wiring, and is press-fitted into the third anisotropic conductive resin layer. It is good also as a structure provided with the electronic component by which the connection terminal in which the 3rd conductor wiring was set, and the electrode terminal were electrically connected by the conductor particle in 3 anisotropically conductive resin layers.

この構成とすることにより、最上層の導体配線が形成された面上にも同じ異方導電性樹脂層を用いて電子部品を容易に実装することができ、さらに高機能の電子回路装置を実現できる。   With this configuration, electronic components can be easily mounted on the surface on which the uppermost conductor wiring is formed using the same anisotropic conductive resin layer, and a highly functional electronic circuit device is realized. it can.

また、本発明の電子回路装置は、少なくとも一方の主面に第1導体配線が形成された第1樹脂基板と、第1導体配線を含む一方の主面上に形成された第1異方導電性樹脂層と、第1異方導電性樹脂層中に圧入され、第1異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって第1導体配線の設定された接続端子に電極端子が電気的に接続された電子部品と、第1異方導電性樹脂層の表面に積層され、両面に形成された導体配線のうちの一方の導体配線が第1異方導電性樹脂層中に圧入された第2樹脂基板と、第1導体配線の設定された接続端子と第2樹脂基板の一方の導体配線の設定された接続端子とを、第1異方導電性樹脂層中の導電体粒子を介して電気的に接続する導電性層間接続部材とを備え、第2樹脂基板の他方の導体配線を含む第2樹脂基板面上に、さらに第2異方導電性樹脂層が形成され、第2異方導電性樹脂層中に圧入され、第2異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって、他方の導体配線の設定された接続端子と電極端子とが電気的に接続された電子部品と、第2異方導電性樹脂層の表面に形成された第2導体配線と、他方の導体配線の設定された接続端子に対しては、第2異方導電性樹脂層中の導電体粒子を介して電気的に接続され、かつ第2導体配線の設定された接続端子に対しては、接続端子と直接的な接触により電気的に接続された導電性層間接続部材とを備え、第2導体配線を含む第2異方導電性樹脂層上に、さらに第3異方導電性樹脂層が形成され、第3異方導電性樹脂層中に圧入され、第3異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって、第2導体配線の設定された接続端子と電極端子とが電気的に接続された電子部品を備えた構成からなる。 The electronic circuit device of the present invention includes a first resin substrate having a first conductor wiring formed on at least one main surface, and a first anisotropic conductive film formed on one main surface including the first conductor wiring. The electrode terminals are electrically connected to the connection terminals set in the first conductor wiring by the conductive particles in the first anisotropic conductive resin layer and the conductive particles in the first anisotropic conductive resin layer. The second electronic component is laminated on the surface of the first anisotropic conductive resin layer, and one of the conductor wires formed on both surfaces is press-fitted into the first anisotropic conductive resin layer. Electrical connection between the resin substrate, the connection terminal set with the first conductor wiring, and the connection terminal set with one conductor wiring of the second resin substrate through the conductor particles in the first anisotropic conductive resin layer and a conductive interlayer connection member for connecting the second resin substrate surface including the other conductor wires of the second resin substrate Further, a second anisotropic conductive resin layer is formed, press-fitted into the second anisotropic conductive resin layer, and the other conductor wiring is set by the conductive particles in the second anisotropic conductive resin layer. The electronic component in which the connection terminal and the electrode terminal are electrically connected, the second conductor wiring formed on the surface of the second anisotropic conductive resin layer, and the connection terminal on which the other conductor wiring is set The connection terminals that are electrically connected via the conductive particles in the second anisotropic conductive resin layer and that are set with the second conductor wiring are electrically connected to the connection terminals by direct contact. A third anisotropic conductive resin layer is formed on the second anisotropic conductive resin layer including the second conductor wiring, and a third anisotropic conductive resin is provided. The second conductor wiring is set by the conductive particles in the third anisotropic conductive resin layer that are press-fitted into the resin layer. Consisting configuration in which the connection terminals and the electrode terminals are provided with electrically connected electronic components.

この構成とすることにより、第1樹脂基板と第2樹脂基板とを用いて、これらの間に電子部品を内蔵した電子回路装置を簡略な製造方法により作製することができる。すなわち、層間絶縁層の形成、電子部品の電極端子と第1導体配線の接続端子との電気的接続および第1導体配線の接続端子と一方の導体配線の接続端子との電気的接続を同時に行うことができる。また、この電子回路装置についても、上記記載の電子部品を同様に用いることができる。さらに多層構成からなる電子回路装置を容易に実現することができる。
また、最上層の導体配線が形成された面上にも同じ異方導電性樹脂層を用いて電子部品を容易に実装することができ、さらに高機能の電子回路装置を実現できる。
With this configuration, an electronic circuit device in which an electronic component is built between the first resin substrate and the second resin substrate can be manufactured by a simple manufacturing method. That is, the formation of the interlayer insulating layer, the electrical connection between the electrode terminal of the electronic component and the connection terminal of the first conductor wiring, and the electrical connection between the connection terminal of the first conductor wiring and the connection terminal of one conductor wiring are simultaneously performed. be able to. Also, the electronic component described above can be used in the same manner for this electronic circuit device. Furthermore, an electronic circuit device having a multilayer structure can be easily realized.
In addition, an electronic component can be easily mounted on the surface on which the uppermost conductor wiring is formed by using the same anisotropic conductive resin layer, and a highly functional electronic circuit device can be realized.

また、上記構成において、樹脂基板には電子部品がさらに内蔵されており、一方の主面に形成された第1導体配線または他方の主面に形成された他方の導体配線と接続されていてもよい。   Further, in the above configuration, the resin substrate further includes an electronic component, and may be connected to the first conductor wiring formed on one main surface or the other conductor wiring formed on the other main surface. Good.

この構成とすることにより、さらに高機能の電子回路装置を実現できる。なお、樹脂基板中に埋設される電子部品の電極端子と導体配線の接続端子との電気的接続は、異方導電性樹脂層を用いる方法でもよいが、これに限定されない。例えば、半田付けによる方式、導電性接着剤による方式等であってもよい。   With this configuration, it is possible to realize an electronic circuit device with higher functionality. The electrical connection between the electrode terminal of the electronic component embedded in the resin substrate and the connection terminal of the conductor wiring may be a method using an anisotropic conductive resin layer, but is not limited thereto. For example, a method using soldering or a method using a conductive adhesive may be used.

また、上記構成において、第1異方導電性樹脂層、第2異方導電性樹脂層および第3異方導電性樹脂層は、コイル状の導電体粒子、繊維毛玉状の導電体粒子および表面に導電性を有する複数の突起部を備えた導電体粒子から選択された少なくとも1種類の導電体粒子と樹脂バインダとを含む構成としてもよい。   In the above configuration, the first anisotropic conductive resin layer, the second anisotropic conductive resin layer, and the third anisotropic conductive resin layer are formed on the coil-shaped conductor particles, the fiber fluff-shaped conductor particles, and the surface. It is good also as a structure containing the at least 1 sort (s) of conductor particle | grains selected from the conductor particle | grains provided with the several protrusion part which has electroconductivity, and a resin binder.

このような構成の異方導電性樹脂層は、縦方向、すなわち接続端子と電極端子との接続方向の低抵抗化が可能であり、一方、横方向、すなわち電子部品の電極端子間については高抵抗の状態を保持しやすい。これは、コイル状の導電体粒子、繊維毛玉状の導電体粒子および表面に導電性を有する複数の突起部を備えた導電体粒子から選択された少なくとも1種類の導電体粒子を用いていることによる。すなわち、例えば表面に大きな突起部を有する導電体粒子の場合には、異方導電性樹脂層が圧縮されると、この導電体粒子の突起部が接続端子および電極端子とに対して間隔の広い段階から接触する。さらに、その一部は接続端子および電極端子の表面に埋め込まれる。これらにより、電気的な接続だけでなく、機械的にも固定される。このため、従来の異方導電性シートを用いる場合に比べて、厚み、電極端子の形状、ピッチ等が、それぞれ異なる種々の電子部品であっても同じ異方導電性樹脂層により良好な電気的、機械的接続を行うことができる。   The anisotropic conductive resin layer having such a configuration can reduce the resistance in the vertical direction, that is, in the connection direction between the connection terminal and the electrode terminal, while the lateral direction, that is, between the electrode terminals of the electronic component is high. Easy to maintain resistance. This is due to the use of at least one type of conductive particles selected from coil-shaped conductive particles, fiber pill-shaped conductive particles, and conductive particles having a plurality of conductive projections on the surface. . That is, for example, in the case of conductor particles having large protrusions on the surface, when the anisotropic conductive resin layer is compressed, the protrusions of the conductor particles are wide with respect to the connection terminals and the electrode terminals. Contact from the stage. Further, some of them are embedded in the surfaces of the connection terminal and the electrode terminal. As a result, not only electrical connection but also mechanical fixation is achieved. For this reason, compared with the case of using a conventional anisotropic conductive sheet, even with various electronic components having different thicknesses, electrode terminal shapes, pitches, etc., the same anisotropic conductive resin layer provides better electrical properties. Mechanical connection can be made.

なお、突起部を有する導電体粒子の場合、導電体粒子同士が絡み合いやすく、導体配線の接続端子や電子部品の電極端子との電気的接続を確実に行えるようにするために、それぞれが細く、かつ複数の突起部を有する形状、いわゆるウニ状の形状が望ましい。   In the case of conductive particles having protrusions, the conductive particles are easily entangled with each other, and in order to ensure electrical connection with the connection terminal of the conductor wiring and the electrode terminal of the electronic component, each is thin, In addition, a shape having a plurality of protrusions, a so-called sea urchin shape is desirable.

このような構造は、例えば銀粒子やニッケル粒子を核として、その表面に樹状晶を成長させることで得られる。あるいは、メッキ法により突起部を形成してもよい。なお、核として高分子やセラミックの粒子を用い、この表面に導電性皮膜を形成し、この皮膜に突起部を形成してもよい。   Such a structure can be obtained, for example, by growing dendrites on the surface of silver particles or nickel particles as nuclei. Alternatively, the protrusions may be formed by a plating method. Alternatively, polymer or ceramic particles may be used as the nucleus, a conductive film may be formed on the surface, and a protrusion may be formed on the film.

また、異方導電性樹脂層に用いる樹脂バインダとしては、光硬化型絶縁性樹脂、熱硬化型絶縁性樹脂またはそれらの組合せた樹脂構成を用いることができる。この樹脂バインダとして、紫外線硬化型接着樹脂と熱硬化型接着樹脂とを組合せる場合には応力の緩和も可能となり、接続端子部の信頼性もさらに向上させることができる。具体的には、エポキシ樹脂やアクリル樹脂等が用いられる。   Further, as the resin binder used for the anisotropic conductive resin layer, a photo-curable insulating resin, a thermosetting insulating resin, or a resin configuration combining them can be used. When this resin binder is combined with an ultraviolet curable adhesive resin and a thermosetting adhesive resin, stress can be relaxed, and the reliability of the connection terminal portion can be further improved. Specifically, an epoxy resin, an acrylic resin, or the like is used.

異方導電性樹脂層を形成する方法としては、ペースト状またはシート状のものを用いることが好ましい。ペースト状の場合には、印刷等の手法により塗布する。また、シート状の場合には、所定の形状に加工して貼り合せることで形成できる。   As a method for forming the anisotropic conductive resin layer, it is preferable to use a paste or sheet. In the case of a paste, it is applied by a technique such as printing. Moreover, in the case of a sheet form, it can be formed by processing and bonding to a predetermined shape.

本発明による電子回路装置は、層間接続と内蔵された電子部品の導体配線との接続および層間絶縁層の形成を同一の異方導電性部材を用いて同時に行うことができ、工程の簡略化と装置の薄型化が可能となり、電子回路装置の小型化と低コスト化を実現できるという大きな効果を奏する。   The electronic circuit device according to the present invention can simultaneously perform the connection between the interlayer connection and the conductor wiring of the built-in electronic component and the formation of the interlayer insulating layer using the same anisotropic conductive member, The apparatus can be thinned, and the electronic circuit device can be reduced in size and cost.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、同じ要素については同じ符号を付しており、説明を省略する場合がある。なお、以下に説明する図面においては、樹脂基板、電子部品や導電性層間接続部材あるいは異方導電性樹脂層中の導電体粒子の形状は模式的なものである。また、電子部品や導電性層間接合部材の個数等についても、図面の表示しやすさのために限定して記載してある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the same element and description may be abbreviate | omitted. In the drawings described below, the shape of the conductive particles in the resin substrate, the electronic component, the conductive interlayer connecting member, or the anisotropic conductive resin layer is schematic. Further, the number of electronic components and conductive interlayer bonding members are also limited for ease of display of the drawings.

(第1の実施の形態)
図1は、本発明の第1の実施の形態にかかる電子回路装置の構成を示す図で、(a)はその要部断面図、(b)は接続部の状態を示す拡大断面図である。
(First embodiment)
1A and 1B are diagrams showing a configuration of an electronic circuit device according to a first embodiment of the present invention, in which FIG. 1A is a sectional view of an essential part thereof, and FIG. 1B is an enlarged sectional view showing a state of a connecting part. .

本実施の形態の電子回路装置は、少なくとも一方の主面に第1導体配線3が形成された樹脂基板1と、第1導体配線3を含む一方の主面上に形成された第1異方導電性樹脂層6と、第1異方導電性樹脂層6中に圧入され、第1異方導電性樹脂層6中の導電体粒子6bによって第1導体配線3の設定された接続端子に電極端子が電気的に接続された電子部品7、8と、第1異方導電性樹脂層6の表面に形成された第2導体配線10と、第1導体配線3の設定された接続端子に対しては、第1異方導電性樹脂層6中の導電体粒子6bを介して電気的に接続され、かつ第2導体配線10の設定された接続端子に対しては、この接続端子と直接的な接触を行うことで電気的に接続された導電性層間接続部材9とを備えている。   The electronic circuit device according to the present embodiment includes a resin substrate 1 having a first conductor wiring 3 formed on at least one main surface, and a first anisotropic formed on one main surface including the first conductor wiring 3. The conductive resin layer 6 is press-fitted into the first anisotropic conductive resin layer 6, and an electrode is connected to the connection terminal set on the first conductor wiring 3 by the conductive particles 6 b in the first anisotropic conductive resin layer 6. For the electronic parts 7 and 8 to which the terminals are electrically connected, the second conductor wiring 10 formed on the surface of the first anisotropic conductive resin layer 6, and the connection terminals set for the first conductor wiring 3 For the connection terminal that is electrically connected through the conductive particles 6b in the first anisotropic conductive resin layer 6 and that is set for the second conductor wiring 10, it is directly connected to this connection terminal. And an electrically conductive interlayer connection member 9 that is electrically connected by making various contacts.

さらに、第2導体配線10を含む第1異方導電性樹脂層6上に第2異方導電性樹脂層11が形成されている。そして、第2異方導電性樹脂層11中には、第2異方導電性樹脂層11中の導電体粒子11bによって第2導体配線10の設定された接続端子に電極端子が電気的に接続された電子部品(図示せず)と、第2異方導電性樹脂層11の表面に形成された第3導体配線13と、第2導体配線10の設定された接続端子に対しては、第2異方導電性樹脂層11中の導電体粒子11bを介して電気的に接続され、かつ第3導体配線13の設定された接続端子に対しては、この接続端子と直接的な接触を行うことで電気的に接続された導電性層間接続部材12とを備えている。   Further, a second anisotropic conductive resin layer 11 is formed on the first anisotropic conductive resin layer 6 including the second conductor wiring 10. And in the 2nd anisotropic conductive resin layer 11, an electrode terminal is electrically connected to the connection terminal in which the 2nd conductor wiring 10 was set by the conductor particle 11b in the 2nd anisotropic conductive resin layer 11. For the connected electronic component (not shown), the third conductor wiring 13 formed on the surface of the second anisotropic conductive resin layer 11, and the connection terminal where the second conductor wiring 10 is set, 2 A connection terminal that is electrically connected via the conductive particles 11b in the anisotropic conductive resin layer 11 and that has the third conductor wiring 13 set is in direct contact with the connection terminal. Thus, the conductive interlayer connection member 12 electrically connected is provided.

さらに、第3導体配線13を含む第2異方導電性樹脂層11上に第3異方導電性樹脂層14が形成されている。そして、第3異方導電性樹脂層14中には、第3異方導電性樹脂層14中の導電体粒子14bによって第3導体配線13の設定された接続端子に電極端子が電気的に接続された電子部品15を備えている。   Further, a third anisotropic conductive resin layer 14 is formed on the second anisotropic conductive resin layer 11 including the third conductor wiring 13. In the third anisotropic conductive resin layer 14, the electrode terminal is electrically connected to the connection terminal set on the third conductor wiring 13 by the conductive particles 14 b in the third anisotropic conductive resin layer 14. The electronic component 15 is provided.

なお、上記樹脂基板1には電子部品2がさらに内蔵されており、一方の主面に形成された第1導体配線3と接続されている。この電子部品2の電極端子2aと第1導体配線3の接続端子との電気的接続は、半田、異方導電性樹脂あるいは導電性接着剤を用いた一般的な方法によって接続されている。また、一方の主面の第1導体配線3と他方の主面の他方の導体配線4とは、スルーホール導体5によって接続されている。   The resin substrate 1 further incorporates an electronic component 2 and is connected to a first conductor wiring 3 formed on one main surface. The electrical connection between the electrode terminal 2a of the electronic component 2 and the connection terminal of the first conductor wiring 3 is performed by a general method using solder, anisotropic conductive resin, or conductive adhesive. The first conductor wiring 3 on one main surface and the other conductor wiring 4 on the other main surface are connected by a through-hole conductor 5.

なお、樹脂基板1の基材としては、PET樹脂等に代表される熱可塑性樹脂を用いることが望ましいが、これに限定されることはない。   In addition, as a base material of the resin substrate 1, although it is desirable to use the thermoplastic resin represented by PET resin etc., it is not limited to this.

以下、それぞれの構成について、さらに詳細に説明する。   Hereinafter, each configuration will be described in more detail.

樹脂基板1の一方の主面の全面に第1異方導電性樹脂層6が形成されている。第1異方導電性樹脂層6は、樹脂バインダ6aの中に導電体粒子6bを分散させたものであり、ペースト状として印刷方式またはシート状として貼り付け方式によって形成される。この第1異方導電性樹脂層6の中に電子部品7、8が圧入されている。そして、図1(b)に示すように、それぞれの電極端子が第1導体配線3のそれぞれの接続端子に第1異方導電性樹脂層6中の導電体粒子6bにより電気的に接続されている。   A first anisotropic conductive resin layer 6 is formed on the entire surface of one main surface of the resin substrate 1. The first anisotropic conductive resin layer 6 is obtained by dispersing conductive particles 6b in a resin binder 6a, and is formed by a printing method as a paste or a pasting method as a sheet. Electronic components 7 and 8 are press-fitted into the first anisotropic conductive resin layer 6. And as shown in FIG.1 (b), each electrode terminal is electrically connected to each connection terminal of the 1st conductor wiring 3 by the conductor particle 6b in the 1st anisotropic conductive resin layer 6, and. Yes.

同様にして、導電性層間接続部材9が圧入されて、第1導体配線3の接続端子に対して、第1異方導電性樹脂層6中の導電体粒子6bを介して接続されている。なお、導電性層間接続部材9としては、少なくとも表面が導電性を有する柱状体を用いることが好ましい。例えば、銅からなる柱状体の表面に金メッキを施したもの、樹脂からなる柱状体の表面に金メッキを施したもの等を用いることができる。また、柱状体の形状についても、角柱状、円柱状だけでなく、鼓形状であってもよい。さらに、球状体であってもよい。球状の場合には、配置するときに形状的な制約がないので効率よく配置していくことができる。   Similarly, the conductive interlayer connection member 9 is press-fitted and connected to the connection terminals of the first conductor wiring 3 via the conductor particles 6 b in the first anisotropic conductive resin layer 6. In addition, as the conductive interlayer connection member 9, it is preferable to use a columnar body having at least a surface having conductivity. For example, the surface of a columnar body made of copper may be gold-plated, or the surface of a columnar body made of resin may be gold-plated. Further, the shape of the columnar body may be not only a prismatic shape and a cylindrical shape, but also a drum shape. Furthermore, a spherical body may be sufficient. In the case of a spherical shape, since there is no shape restriction when it is arranged, it can be arranged efficiently.

この第1異方導電性樹脂層6の表面には、さらに第2導体配線10が形成されているが、導電性層間接続部材9は第2導体配線10の接続端子中にその一部が埋設されて直接的な接触をしている。このような構成は、導電性層間接続部材9の厚みを第1異方導電性樹脂層6の厚みより厚くすればよい。すなわち、電子部品7、8および導電性層間接続部材9を圧入して局部的に硬化させた後に、さらに所定の厚みの異方導電性樹脂を供給することで、電子部品7、8を第1異方導電性樹脂層6中に埋設した構造が得られる。この場合に、導電性層間接続部材9の厚みを第1異方導電性樹脂層6の厚みより厚くしておけば、その一部が露出あるいは表面に異方導電性樹脂が薄く形成された状態が得られる。したがって、第2導体配線10を形成する前に、例えばプラズマクリーニングを行い、第1異方導電性樹脂層6の樹脂成分を除去すれば、接続抵抗を充分小さくすることができる。   A second conductor wiring 10 is further formed on the surface of the first anisotropic conductive resin layer 6. A part of the conductive interlayer connection member 9 is embedded in the connection terminal of the second conductor wiring 10. Have been in direct contact. In such a configuration, the conductive interlayer connection member 9 may be thicker than the first anisotropic conductive resin layer 6. That is, after the electronic components 7 and 8 and the conductive interlayer connection member 9 are press-fitted and locally cured, an anisotropic conductive resin having a predetermined thickness is further supplied, whereby the electronic components 7 and 8 are A structure embedded in the anisotropic conductive resin layer 6 is obtained. In this case, if the thickness of the conductive interlayer connection member 9 is made thicker than the thickness of the first anisotropic conductive resin layer 6, a part thereof is exposed or the anisotropic conductive resin is thinly formed on the surface. Is obtained. Therefore, before the second conductor wiring 10 is formed, for example, plasma cleaning is performed and the resin component of the first anisotropic conductive resin layer 6 is removed, so that the connection resistance can be sufficiently reduced.

なお、導電性層間接続部材9の厚みが、第1異方導電性樹脂層6と同じ程度である場合には、プラズマエッチングにより導電性層間接続部材9の表面の第1異方導電性樹脂層6の樹脂を除去してから第2導体配線10を形成してもよい。   When the thickness of the conductive interlayer connection member 9 is approximately the same as that of the first anisotropic conductive resin layer 6, the first anisotropic conductive resin layer on the surface of the conductive interlayer connection member 9 is obtained by plasma etching. The second conductor wiring 10 may be formed after removing the resin 6.

第2導体配線10の表面には、さらに第2異方導電性樹脂層11が形成されている。そして、その中に、電子部品(図示せず)および導電性層間接続部材12が圧入され、それぞれが導電体粒子11bを介して第2導体配線10に接続されている。同様にして、第3導体配線13が第2異方導電性樹脂層11の上に形成されている。そして、この第3導体配線13と導電性層間接続部材12とは、上記と同様に第3導体配線13の接続端子中に導電性層間接続部材12の一部が埋設されることにより直接的な接触が生じて電気的に接続されている。   A second anisotropic conductive resin layer 11 is further formed on the surface of the second conductor wiring 10. And in that, the electronic component (not shown) and the conductive interlayer connection member 12 are press-fit, and each is connected to the 2nd conductor wiring 10 via the conductor particle 11b. Similarly, the third conductor wiring 13 is formed on the second anisotropic conductive resin layer 11. The third conductor wiring 13 and the conductive interlayer connection member 12 are directly connected by partially embedding the conductive interlayer connection member 12 in the connection terminal of the third conductor wiring 13 as described above. Contact occurs and is electrically connected.

さらに、第3導体配線13の表面に第3異方導電性樹脂層14が形成され、この第3異方導電性樹脂層14の導電体粒子14bにより電子部品15が第3導体配線13の接続端子と接続されている。   Further, a third anisotropic conductive resin layer 14 is formed on the surface of the third conductor wiring 13, and the electronic component 15 is connected to the third conductor wiring 13 by the conductive particles 14 b of the third anisotropic conductive resin layer 14. Connected to the terminal.

以上により、本実施の形態の電子回路装置が構成されている。   Thus, the electronic circuit device of the present embodiment is configured.

なお、電子部品2、7、8、15および第2異方導電性樹脂層11中に埋め込まれた電子部品(図示せず)は、例えば半導体チップ、チップ抵抗やチップコンデンサ等のチップ部品、シート状薄膜コンデンサやシート状薄膜抵抗あるいは薄膜コンデンサ、薄膜抵抗および薄膜インダクタ等から構成されるシート状薄膜回路部品等を、それぞれ用いることができる。また、電子部品7、8、15の電極端子は、メッキ等により形成したバンプを設けることが望ましいが、このバンプは導電体粒子をできるだけ多く補足できるように、表面が正方形等の角型形状にすることが好ましい。このバンプ高さは、15μm〜25μm程度とすることが望ましい。   The electronic components (not shown) embedded in the electronic components 2, 7, 8, 15 and the second anisotropic conductive resin layer 11 are, for example, semiconductor chips, chip components such as chip resistors and chip capacitors, and sheets Sheet-like thin film capacitors, sheet-like thin film resistors, or sheet-like thin film circuit components composed of thin film capacitors, thin film resistors, thin film inductors, and the like can be used. The electrode terminals of the electronic parts 7, 8, and 15 are preferably provided with bumps formed by plating or the like, but the bumps have a square shape such as a square surface so as to capture as much conductor particles as possible. It is preferable to do. The bump height is desirably about 15 μm to 25 μm.

図1では、第3異方導電性樹脂層14を最上層に形成した場合を示している。この場合の第3異方導電性樹脂層14の厚みは、電子部品15の電極端子が圧入される程度の厚みに形成すればよい。   FIG. 1 shows a case where the third anisotropic conductive resin layer 14 is formed as the uppermost layer. The thickness of the third anisotropic conductive resin layer 14 in this case may be formed to such a thickness that the electrode terminals of the electronic component 15 are press-fitted.

なお、第1異方導電性樹脂層6、第2異方導電性樹脂層11、第3異方導電性樹脂層14中の導電体粒子6b、11b、14bは、上記に記載した材料を用いる。その大きさとしては、10μm〜100μmの範囲が望ましく、さらにできるだけ粒径がそろっていることがより望ましい。   The conductor particles 6b, 11b, and 14b in the first anisotropic conductive resin layer 6, the second anisotropic conductive resin layer 11, and the third anisotropic conductive resin layer 14 use the materials described above. . The size is preferably in the range of 10 μm to 100 μm, and more preferably as uniform as possible.

また、第1異方導電性樹脂層6、第2異方導電性樹脂層11、第3異方導電性樹脂層14を形成するための部材としては、ペースト状またはシート状のものを用いることが好ましい。ペースト状の場合には、印刷等の手法により塗布する。また、シート状の場合には、所定の形状に加工して貼り合せることで形成できる。その樹脂バインダ6a、11a、14aとしては、光硬化型絶縁性樹脂、熱硬化型絶縁性樹脂またはそれらを組合せた樹脂構成を用いることができる。具体的には、エポキシ樹脂やアクリル樹脂等が用いられる。特に、光硬化型絶縁性樹脂と熱硬化型絶縁性樹脂とを組合せた樹脂構成を用いると、電子部品7、8、15や導電性層間接続部材を、それぞれ個別に位置合わせし押圧すると同時に紫外線を局部的に照射すれば、それぞれの電子部品や導電性層間接続部材ごとに接続と固定とを行うことができるので好ましい。   Further, as a member for forming the first anisotropic conductive resin layer 6, the second anisotropic conductive resin layer 11, and the third anisotropic conductive resin layer 14, a paste-like or sheet-like member is used. Is preferred. In the case of a paste, it is applied by a technique such as printing. Moreover, in the case of a sheet form, it can be formed by processing and bonding to a predetermined shape. As the resin binders 6a, 11a, and 14a, a photo-curable insulating resin, a thermosetting insulating resin, or a resin configuration that combines them can be used. Specifically, an epoxy resin, an acrylic resin, or the like is used. In particular, when a resin configuration in which a photocurable insulating resin and a thermosetting insulating resin are combined is used, the electronic components 7, 8, 15 and the conductive interlayer connection member are individually positioned and pressed simultaneously with ultraviolet rays. It is preferable to locally irradiate each of the electronic components and the conductive interlayer connection members because they can be connected and fixed.

なお、第2導体配線10、第3導体配線13は、例えば銀粒子を主体とする導電体樹脂ペーストを用いてスクリーン印刷方式により形成することができる。   In addition, the 2nd conductor wiring 10 and the 3rd conductor wiring 13 can be formed by the screen printing system, for example using the conductor resin paste which has silver particles as a main component.

次に、本実施の形態にかかる電子回路装置の製造方法について、図面を参照しながら説明する。なお、この製造方法の説明と同時に本発明の実施の形態のさらに別の構成についても説明する。   Next, a method for manufacturing the electronic circuit device according to the present embodiment will be described with reference to the drawings. At the same time as the description of the manufacturing method, still another configuration of the embodiment of the present invention will be described.

図2、図3および図4は、本実施の形態の電子回路装置の製造方法を説明するための主要工程の断面図である。図2から図4に示す製造方法においては、工程を理解しやすくするために、電子部品2、7、8を半導体チップとし、電子部品15をチップ部品として説明する。したがって、以下では、電子部品2のかわりに第1半導体チップ2、電子部品7のかわりに第2半導体チップ7、電子部品8のかわりに第3半導体チップ8、電子部品15のかわりにチップ部品15として説明する。   2, 3, and 4 are cross-sectional views of main processes for explaining the method for manufacturing the electronic circuit device of the present embodiment. In the manufacturing method shown in FIGS. 2 to 4, in order to facilitate understanding of the process, the electronic components 2, 7, and 8 are described as semiconductor chips, and the electronic component 15 is described as a chip component. Therefore, in the following, the first semiconductor chip 2 instead of the electronic component 2, the second semiconductor chip 7 instead of the electronic component 7, the third semiconductor chip 8 instead of the electronic component 8, and the chip component 15 instead of the electronic component 15 Will be described.

なお、形状および寸法については、以下のようなものを使用した。第1半導体チップ2は、例えばベアチップICで、厚みは0.08mm、バンプ高さ50μmである。また、第2半導体チップ7および第3半導体チップ8もベアチップICで、厚みは0.05mm、バンプ高さ25μmである。そして、チップ部品15は、0603サイズと1005サイズを混載して用いた。また、樹脂基板1の厚みは、0.15mmであり、このスルーホール導体5のスルーホール5aの径は直径150μmである。さらに、第1導体配線3、第2導体配線10、第3導体配線13を含む導体配線の厚みは20μmとした。また、第1異方導電性樹脂層6、第2異方導電性樹脂層11および第3異方導電性樹脂層14の厚みは、それぞれ120μm、120μm、50μmとした。   In addition, about the shape and dimension, the following were used. The first semiconductor chip 2 is a bare chip IC, for example, and has a thickness of 0.08 mm and a bump height of 50 μm. The second semiconductor chip 7 and the third semiconductor chip 8 are also bare chip ICs, and have a thickness of 0.05 mm and a bump height of 25 μm. And the chip component 15 mixedly used 0603 size and 1005 size. The thickness of the resin substrate 1 is 0.15 mm, and the diameter of the through hole 5a of the through hole conductor 5 is 150 μm. Furthermore, the thickness of the conductor wiring including the first conductor wiring 3, the second conductor wiring 10, and the third conductor wiring 13 was set to 20 μm. The thicknesses of the first anisotropic conductive resin layer 6, the second anisotropic conductive resin layer 11, and the third anisotropic conductive resin layer 14 were 120 μm, 120 μm, and 50 μm, respectively.

まず、図2(a)に示すように、樹脂基板1に第1半導体チップ2を埋め込み、さらに一方の主面に露出した第1半導体チップ2の電極端子2aを含むように第1導体配線3を形成する。   First, as shown in FIG. 2A, the first conductor wiring 3 is embedded so that the first semiconductor chip 2 is embedded in the resin substrate 1 and the electrode terminal 2a of the first semiconductor chip 2 exposed on one main surface is included. Form.

これは、以下のようにして形成することができる。すなわち、シート(図示せず)上に所定の厚みの熱可塑性樹脂層を形成する。その後、この熱可塑性樹脂層を加熱し、その表面から第1半導体チップ2を、その突起状の電極端子2aがフィルム面上に接触するまで圧入する。その後、熱可塑性樹脂層を硬化させる。この硬化後、シートを剥離する。これにより、第1半導体チップ2の電極端子2aが露出する。電極端子2aが露出した一方の面上に、この電極端子2aを含み、あらかじめ設計された所定のパターン形状の第1導体配線3を形成する。さらに、所定の箇所にスルーホール5aを形成する。このスルーホール5aは、レーザ加工やレジストマスクを用いた酸素プラズマ加工等によって形成することができる。   This can be formed as follows. That is, a thermoplastic resin layer having a predetermined thickness is formed on a sheet (not shown). Thereafter, the thermoplastic resin layer is heated, and the first semiconductor chip 2 is press-fitted from the surface until the protruding electrode terminal 2a comes into contact with the film surface. Thereafter, the thermoplastic resin layer is cured. After this curing, the sheet is peeled off. Thereby, the electrode terminal 2a of the first semiconductor chip 2 is exposed. On the one surface where the electrode terminal 2a is exposed, the first conductor wiring 3 including the electrode terminal 2a and having a predetermined pattern shape designed in advance is formed. Further, a through hole 5a is formed at a predetermined location. The through hole 5a can be formed by laser processing, oxygen plasma processing using a resist mask, or the like.

さらに、樹脂基板1の他方の面に他方の導体配線4を形成する。なお、スルーホール導体5は、従来から採用されている工法、例えばペースト印刷やメッキ法を用いて形成することができる。また、第1導体配線3および他方の導体配線4は、例えば銀ペースト等の導電ペーストをスクリーン印刷、ディスペンス印刷あるいはインクジェット描画方式により形成することができる。あるいは、金属箔を所定のパターンに加工した後に転写してもよい。さらには、蒸着やスパッタリング等により形成してもよい。   Further, the other conductor wiring 4 is formed on the other surface of the resin substrate 1. The through-hole conductor 5 can be formed using a conventionally employed method such as paste printing or plating. In addition, the first conductor wiring 3 and the other conductor wiring 4 can be formed by screen printing, dispensing printing, or ink jet drawing of a conductive paste such as silver paste, for example. Alternatively, the metal foil may be transferred after being processed into a predetermined pattern. Furthermore, you may form by vapor deposition, sputtering, etc.

次に、図2(b)に示すように、第1導体配線3を含む他方の主面の全面に第1異方導電性樹脂層6を形成する。この第1異方導電性樹脂層6の形成は、シート上にして貼り付けてもよいし、あるいはペースト状としたものを印刷で形成してもよい。   Next, as shown in FIG. 2B, the first anisotropic conductive resin layer 6 is formed on the entire other main surface including the first conductor wiring 3. The first anisotropic conductive resin layer 6 may be formed on a sheet, or may be formed by printing a paste.

次に、図2(c)に示すように、第1異方導電性樹脂層6中に、第2半導体チップ7、第3半導体チップ8および導電性層間接続部材9を、第1導体配線3のそれぞれの接続端子に対して位置合わせして圧入し、電気的に接続する。この接続は、第1異方導電性樹脂層6に分散された導電体粒子6bを介して行われる。すなわち、第2半導体チップ7と第3半導体チップ8とに、それぞれ形成されている突起状の電極端子(図示せず)と第1導体配線3のそれぞれの接続端子とが、導電体粒子6bを介して電気的に接続される。この場合に、導電体粒子6bは、上述したように弾性変形しやすい突起部を有しているので、それぞれの電極端子と接続端子との距離および導電性層間接続部材と接続端子との距離にバラツキが生じても、その接続抵抗を充分小さくすることができる。   Next, as shown in FIG. 2C, the second semiconductor chip 7, the third semiconductor chip 8, and the conductive interlayer connection member 9 are connected to the first conductive wiring 3 in the first anisotropic conductive resin layer 6. Each of the connection terminals is press-fitted in alignment and electrically connected. This connection is made through the conductive particles 6 b dispersed in the first anisotropic conductive resin layer 6. That is, the projecting electrode terminals (not shown) formed on the second semiconductor chip 7 and the third semiconductor chip 8 and the connection terminals of the first conductor wiring 3 respectively connect the conductor particles 6b. Electrically connected. In this case, since the conductor particles 6b have protrusions that are easily elastically deformed as described above, the distance between each electrode terminal and the connection terminal and the distance between the conductive interlayer connection member and the connection terminal are set. Even if variations occur, the connection resistance can be made sufficiently small.

なお、導電性層間接続部材9は、柱状体で、その直径は150μm〜500μm程度とすることが好ましい。第1異方導電性樹脂層6中の導電体粒子は10μm〜100μm程度の大きさであり、複数個の導電体粒子により電気的な接続が行われるので、接続抵抗を充分小さくすることができる。なお、第1異方導電性樹脂層6の厚みは、100μm〜400μm程度とすることが好ましい。このためには、第2半導体チップ7および第3半導体チップ8の厚みを80μm〜380μm程度にすることが必要である。この場合に、第2半導体チップ7と第3半導体チップ8のそれぞれの厚みは、できるだけ同一にすることが望ましい。さらに、研磨したままでは、基材であるシリコン面が露出した状態となるので、研磨後に絶縁性樹脂を塗布しておくことが好ましい。このように絶縁性樹脂を塗布しておけば、第2導体配線10を押圧して、第2導体配線10と第2半導体チップ7や第3半導体チップ8と接触することがあっても短絡不良等の発生を防止できる。   In addition, it is preferable that the conductive interlayer connection member 9 is a columnar body and has a diameter of about 150 μm to 500 μm. The conductive particles in the first anisotropic conductive resin layer 6 have a size of about 10 μm to 100 μm and are electrically connected by a plurality of conductive particles, so that the connection resistance can be sufficiently reduced. . The thickness of the first anisotropic conductive resin layer 6 is preferably about 100 μm to 400 μm. For this purpose, the thickness of the second semiconductor chip 7 and the third semiconductor chip 8 needs to be about 80 μm to 380 μm. In this case, it is desirable that the thicknesses of the second semiconductor chip 7 and the third semiconductor chip 8 be as equal as possible. Furthermore, since the silicon surface that is the base material is exposed when it is polished, it is preferable to apply an insulating resin after polishing. If the insulating resin is applied in this way, even if the second conductor wiring 10 is pressed to contact the second conductor wiring 10 with the second semiconductor chip 7 or the third semiconductor chip 8, a short circuit failure occurs. Etc. can be prevented.

この場合に、例えば第2半導体チップ7、第3半導体チップ8および導電性層間接続部材9をそれぞれ個別に実装してもよい。すなわち、第1異方導電性樹脂層6の樹脂バインダとして、光硬化性絶縁樹脂と熱硬化性絶縁樹脂との混合物を用いて、以下のような方法により接続工程を行ってもよい。最初に、第2半導体チップ7の電極端子と第1導体配線3の設定された接続端子とを位置合わせした後、押圧する。充分に押圧した状態で、第2半導体チップ7の周辺部のみに紫外線を照射して硬化させて固定する。第3半導体チップ8と導電性層間接続部材9についても、それぞれ同様に行えば、それぞれ第1導体配線3の接続端子に電気的に接続されるとともに機械的にも固定される。なお、紫外線が照射されなかった領域については、最終的に熱硬化を行う。   In this case, for example, the second semiconductor chip 7, the third semiconductor chip 8, and the conductive interlayer connection member 9 may be individually mounted. That is, as a resin binder of the first anisotropic conductive resin layer 6, a connection process may be performed by the following method using a mixture of a photocurable insulating resin and a thermosetting insulating resin. First, the electrode terminals of the second semiconductor chip 7 and the connection terminals set on the first conductor wiring 3 are aligned and then pressed. In a sufficiently pressed state, only the peripheral part of the second semiconductor chip 7 is irradiated with ultraviolet rays and cured and fixed. If the third semiconductor chip 8 and the conductive interlayer connection member 9 are also performed in the same manner, they are electrically connected to the connection terminals of the first conductor wiring 3 and are also mechanically fixed. In addition, about the area | region which was not irradiated with an ultraviolet-ray, thermosetting is finally performed.

このような方法を行うと、第2半導体チップ7、第3半導体チップ8および導電性層間接続部材9を圧入した領域については、第1異方導電性樹脂層6が押し出されるとともに、光硬化される。このため、さらに全面に同一の異方導電性樹脂材料を塗布して、未硬化の異方導電性樹脂を全面に形成する。このように未硬化の異方導電性樹脂を全面に設けたときに、導電性層間接続部材9の高さが、第1異方導電性樹脂層6の厚みより大きくなるようにする。このようにすることにより、次に形成する第2導体配線10との電気的接続を容易に行うことができる。   When such a method is performed, the first anisotropic conductive resin layer 6 is extruded and photocured in the region into which the second semiconductor chip 7, the third semiconductor chip 8 and the conductive interlayer connection member 9 are press-fitted. The For this reason, the same anisotropic conductive resin material is applied to the entire surface to form an uncured anisotropic conductive resin on the entire surface. Thus, when the uncured anisotropic conductive resin is provided on the entire surface, the height of the conductive interlayer connection member 9 is set to be larger than the thickness of the first anisotropic conductive resin layer 6. By doing in this way, electrical connection with the 2nd conductor wiring 10 formed next can be performed easily.

なお、上記の方法とするために、本実施の形態においては、第2半導体チップ7および第3半導体チップ8の厚みがバンプを含めて75μmであるので、最初に形成する異方導電性樹脂の厚みを25μm〜50μmとし、硬化させた後に重ねて形成して、第1異方導電性樹脂層6のトータルの厚みを100μm〜120μmとすればよい。   In order to obtain the above method, in the present embodiment, the thickness of the second semiconductor chip 7 and the third semiconductor chip 8 including the bumps is 75 μm. The total thickness of the first anisotropic conductive resin layer 6 may be set to 100 μm to 120 μm by setting the thickness to 25 μm to 50 μm and curing the layers.

次に、図2(d)に示すように、第1異方導電性樹脂層6の主面に、さらに第2導体配線10を形成する。この場合に、あらかじめ、例えばプラズマクリーニング等により導電性層間接続部材9の表面に残存している樹脂成分を除去することが望ましい。この第2導体配線10は、例えば銀ペーストを印刷により形成することにより作製できる。これにより、第1導体配線3の設定された接続端子と第2導体配線10の設定された接続端子との間を電気的に接続することができる。   Next, as shown in FIG. 2D, a second conductor wiring 10 is further formed on the main surface of the first anisotropic conductive resin layer 6. In this case, it is desirable to remove in advance the resin component remaining on the surface of the conductive interlayer connection member 9 by plasma cleaning or the like. The second conductor wiring 10 can be produced, for example, by forming a silver paste by printing. Thereby, the connection terminal where the first conductor wiring 3 is set and the connection terminal where the second conductor wiring 10 is set can be electrically connected.

次に、図3(a)に示すように、第2導体配線10を含む第1異方導電性樹脂層6の表面に、さらに第2異方導電性樹脂層11を形成する。このための異方導電性樹脂としては、第1異方導電性樹脂層6で用いたものと同じものを用いることができるので、説明を省略する。   Next, as shown in FIG. 3A, a second anisotropic conductive resin layer 11 is further formed on the surface of the first anisotropic conductive resin layer 6 including the second conductor wiring 10. As the anisotropic conductive resin for this purpose, the same one as that used in the first anisotropic conductive resin layer 6 can be used, and the description thereof is omitted.

次に、図3(b)に示すように、第2異方導電性樹脂層11中に導電性層間接続部材12や電子部品(図示せず)を圧入する。この工程は、図2(c)と同様であるので説明を省略する。   Next, as shown in FIG. 3B, the conductive interlayer connection member 12 and an electronic component (not shown) are press-fitted into the second anisotropic conductive resin layer 11. Since this step is the same as FIG.

次に、図3(c)に示すように、第3導体配線13を形成し、同時に第3導体配線13の接続端子と導電性層間接続部材12とを電気的に接続する。この工程は、図2(d)と同様であるので説明を省略する。なお、導電性層間接続部材12の高さと第2異方導電性樹脂層11の厚みとの関係等についても、図2(d)で説明したのと同じようにする。   Next, as shown in FIG. 3C, the third conductor wiring 13 is formed, and at the same time, the connection terminal of the third conductor wiring 13 and the conductive interlayer connection member 12 are electrically connected. Since this step is the same as that in FIG. The relationship between the height of the conductive interlayer connection member 12 and the thickness of the second anisotropic conductive resin layer 11 is the same as that described with reference to FIG.

次に、図4(a)に示すように、さらに第3異方導電性樹脂層14を形成する。   Next, as shown in FIG. 4A, a third anisotropic conductive resin layer 14 is further formed.

次に、図4(b)に示すように、第3異方導電性樹脂層14中に電極端子の一部を埋め込むようにしてチップ部品15を圧入する。この圧入により、チップ部品15の電極端子と第3導体配線13の接続端子とを第3異方導電性樹脂層14中の導電体粒子14bによって電気的に接続することができる。この場合においても、導電体粒子14bは、上述したように弾性変形しやすい突起部を有しているので、電極端子と接続端子との距離にバラツキが生じても、その接続抵抗を充分小さくすることができる。   Next, as shown in FIG. 4B, the chip component 15 is press-fitted so that part of the electrode terminal is embedded in the third anisotropic conductive resin layer 14. By this press-fitting, the electrode terminal of the chip component 15 and the connection terminal of the third conductor wiring 13 can be electrically connected by the conductor particles 14 b in the third anisotropic conductive resin layer 14. Even in this case, since the conductor particles 14b have the protrusions that are easily elastically deformed as described above, even if the distance between the electrode terminal and the connection terminal varies, the connection resistance is sufficiently reduced. be able to.

なお、第2導体配線10と第3導体配線13とは、また、第1導体配線3および他方の導体配線4は、例えば銀ペースト等の導電ペーストをスクリーン印刷、ディスペンス印刷あるいはインクジェット描画方式により形成することができる。あるいは、金属箔を所定のパターンに加工した後に転写してもよい。さらには、蒸着やスパッタリング等により形成してもよい。   The second conductor wiring 10 and the third conductor wiring 13 and the first conductor wiring 3 and the other conductor wiring 4 are formed by screen printing, dispensing printing or ink jet drawing method using a conductive paste such as silver paste, for example. can do. Alternatively, the metal foil may be transferred after being processed into a predetermined pattern. Furthermore, you may form by vapor deposition, sputtering, etc.

以上により、図1に示す本実施の形態にかかる電子回路装置を作製することができる。   As described above, the electronic circuit device according to this embodiment shown in FIG. 1 can be manufactured.

なお、本実施の形態にかかる電子回路装置は、図1に示す構成に限定されない。例えば、図2(d)の工程までの状態で用いることもできる。すなわち、図2(d)に示す構成は、樹脂基板1上に第1異方導電性樹脂層6を層間絶縁膜とし、かつ第1異方導電性樹脂層6中に第2半導体チップ7、第3半導体チップ8が埋設され、導電性層間接続部材9により第1導体配線3と第2導体配線10とが層間接続された多層構成となっている。このような構成の電子回路装置でもよい。   The electronic circuit device according to the present embodiment is not limited to the configuration shown in FIG. For example, it can be used in the state up to the step of FIG. That is, in the configuration shown in FIG. 2D, the first anisotropic conductive resin layer 6 is used as an interlayer insulating film on the resin substrate 1, and the second semiconductor chip 7 is formed in the first anisotropic conductive resin layer 6. The third semiconductor chip 8 is embedded, and the first conductor wiring 3 and the second conductor wiring 10 are interlayer-connected by the conductive interlayer connection member 9. An electronic circuit device having such a configuration may be used.

さらに、図3(c)に示す構成としてもよい。すなわち、図3(c)に示す構成は、図2(d)の構成に対して、さらに第2異方導電性樹脂層11を形成し、この第2異方導電性樹脂層11を層間絶縁膜とし、かつ第2異方導電性樹脂層11中に電子部品(図示せず)が埋設され、導電性層間接続部材12により第2導体配線10と第3導体配線13とが層間接続された多層構成からなる。このような構成の電子回路装置でもよい。   Furthermore, it is good also as a structure shown in FIG.3 (c). That is, in the configuration shown in FIG. 3C, a second anisotropic conductive resin layer 11 is further formed with respect to the configuration of FIG. 2D, and this second anisotropic conductive resin layer 11 is interlayer-insulated. An electronic component (not shown) is embedded in the second anisotropic conductive resin layer 11 and the second conductor wiring 10 and the third conductor wiring 13 are interlayer-connected by the conductive interlayer connecting member 12. It consists of a multilayer structure. An electronic circuit device having such a configuration may be used.

また、図2(d)に示す構成をもとにして、さらに以下のような構成を付加してもよい。すなわち、第2導体配線10を含む第1異方導電性樹脂層6上に、さらに第2異方導電性樹脂層を形成し、第2異方導電性樹脂層中に圧入され、かつ第2異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって第2導体配線10の設定された接続端子に電極端子が電気的に接続された少なくとも1個以上の電子部品を備えた電子回路装置としてもよい。より具体的に説明すると、図2(d)に示す構成とした後、図4(b)に示す最上層の第3異方導電性樹脂層14を形成し、この第3異方導電性樹脂層14中に、チップ部品15を圧入して接続した構成からなる。このような構成の電子回路装置であってもよい。   Further, based on the configuration shown in FIG. 2D, the following configuration may be further added. That is, a second anisotropic conductive resin layer is further formed on the first anisotropic conductive resin layer 6 including the second conductor wiring 10, and is press-fitted into the second anisotropic conductive resin layer. It is good also as an electronic circuit device provided with the at least 1 or more electronic component by which the electrode terminal was electrically connected to the connection terminal in which the 2nd conductor wiring 10 was set with the conductor particle | grains in an anisotropic conductive resin layer. More specifically, after the configuration shown in FIG. 2D, the third anisotropic conductive resin layer 14 as the uppermost layer shown in FIG. 4B is formed, and this third anisotropic conductive resin is formed. In the layer 14, the chip component 15 is press-fitted and connected. The electronic circuit device having such a configuration may be used.

(第2の実施の形態)
図5は、本発明の第2の実施の形態にかかる電子回路装置の要部断面図である。
(Second Embodiment)
FIG. 5 is a cross-sectional view of an essential part of an electronic circuit device according to a second embodiment of the present invention.

本実施の形態にかかる電子回路装置は、少なくとも一方の主面に第1導体配線21bが形成された第1樹脂基板21と、第1導体配線21bを含む一方の主面上に形成された第1異方導電性樹脂層22と、第1異方導電性樹脂層22中に圧入され、第1異方導電性樹脂層22中の導電体粒子22bによって第1導体配線21bの設定された接続端子に電極端子23aが電気的に接続された電子部品23と、第1異方導電性樹脂層22の表面に積層され、両面に形成された導体配線のうちの一方の導体配線25cが第1異方導電性樹脂層22中に圧入された第2樹脂基板25と、第1導体配線21bの設定された接続端子と第2樹脂基板25の一方の導体配線25cの設定された接続端子とを、第1異方導電性樹脂層22中の導電体粒子22bを介して電気的に接続する導電性層間接続部材24とを備えている。   The electronic circuit device according to the present embodiment includes a first resin substrate 21 having a first conductor wiring 21b formed on at least one main surface, and a first resin surface formed on one main surface including the first conductor wiring 21b. 1 anisotropic conductive resin layer 22 and a connection in which first conductor wiring 21b is set by conductor particles 22b in first anisotropic conductive resin layer 22 and press-fitted into first anisotropic conductive resin layer 22 One conductor wiring 25c is laminated on the surface of the electronic component 23 in which the electrode terminal 23a is electrically connected to the terminal and the first anisotropic conductive resin layer 22 and is formed on both surfaces. A second resin substrate 25 press-fitted into the anisotropic conductive resin layer 22; a connection terminal on which the first conductor wiring 21b is set; and a connection terminal on which one conductor wiring 25c of the second resin substrate 25 is set. The conductive particles 22b in the first anisotropic conductive resin layer 22 Through it and a conductive interlayer connection member 24 for electrically connecting.

さらに、第2樹脂基板25の他方の導体配線25bを含む第2樹脂基板25上に第2異方導電性樹脂層26が形成されている。そして、第2異方導電性樹脂層26中に圧入され、第2異方導電性樹脂層26中の導電体粒子26bによって他方の導体配線25bの設定された接続端子に電極端子が電気的に接続された電子部品27、28と、第2異方導電性樹脂層26の表面に形成された第2導体配線30と、他方の導体配線25bの設定された接続端子に対しては、第2異方導電性樹脂層26中の導電体粒子26bを介して電気的に接続され、第2導体配線30の設定された接続端子に対しては、この接続端子と直接的な接触を行うことにより電気的に接続された導電性層間接続部材29とを備えている。   Further, a second anisotropic conductive resin layer 26 is formed on the second resin substrate 25 including the other conductor wiring 25 b of the second resin substrate 25. Then, the electrode terminal is electrically inserted into the second anisotropic conductive resin layer 26, and the electrode terminal is electrically connected to the connection terminal set on the other conductor wiring 25 b by the conductive particles 26 b in the second anisotropic conductive resin layer 26. For the connected electronic components 27, 28, the second conductor wiring 30 formed on the surface of the second anisotropic conductive resin layer 26, and the connection terminal set for the other conductor wiring 25b, the second By making direct contact with the connection terminal, which is electrically connected via the conductive particles 26 b in the anisotropic conductive resin layer 26, and the set connection terminal of the second conductor wiring 30 is performed. A conductive interlayer connection member 29 that is electrically connected is provided.

本実施の形態では、上記構成に加えて、第2導体配線30を含む第2異方導電性樹脂層26上に、さらに第3異方導電性樹脂層31が形成されている。そして、第3異方導電性樹脂層31中に圧入され、第3異方導電性樹脂層31中の導電体粒子31bによって第2導体配線30の設定された接続端子に電極端子が電気的に接続された電子部品32を備えている。   In the present embodiment, in addition to the above-described configuration, a third anisotropic conductive resin layer 31 is further formed on the second anisotropic conductive resin layer 26 including the second conductor wiring 30. Then, the electrode terminal is electrically inserted into the connection terminal set in the second conductor wiring 30 by the conductor particles 31b in the third anisotropic conductive resin layer 31 and press-fitted into the third anisotropic conductive resin layer 31. A connected electronic component 32 is provided.

以下、この構成についてさらに詳細に説明する。   Hereinafter, this configuration will be described in more detail.

本実施の形態では、フレキシブルな配線基板である第1樹脂基板21と第2樹脂基板25との間に第1異方導電性樹脂層22を配置し、この第1異方導電性樹脂層22中に電子部品23を内蔵している。   In the present embodiment, a first anisotropic conductive resin layer 22 is disposed between a first resin substrate 21 and a second resin substrate 25 which are flexible wiring boards, and the first anisotropic conductive resin layer 22. The electronic component 23 is built in.

第1樹脂基板21と第2樹脂基板25とは、それぞれ3層構造になっている。すなわち、第1樹脂基板21は、フレキシブル基材21aの両面に第1導体配線21bと表層導体配線21cとが形成されており、これらの導体配線間はスルーホール導体21dによって接続されている。同様に、第2樹脂基板25は、フレキシブル基材25a、一方の導体配線25c、他方の導体配線25bおよびスルーホール導体25dから構成されている。第1樹脂基板21に形成する第1導体配線21bと表層導体配線21cおよび第2樹脂基板25に形成する一方の導体配線25cと他方の導体配線25bは、通常フレキシブル配線基板を作製する材料およびプロセスにより形成すればよい。例えば銅箔をエッチングして形成してもよいし、銀ペーストを印刷方式により形成してもよい。あるいは、蒸着とメッキ方式により形成してもよい。   The first resin substrate 21 and the second resin substrate 25 each have a three-layer structure. That is, in the first resin substrate 21, the first conductor wiring 21b and the surface conductor wiring 21c are formed on both surfaces of the flexible base material 21a, and these conductor wirings are connected by the through-hole conductor 21d. Similarly, the 2nd resin substrate 25 is comprised from the flexible base material 25a, the one conductor wiring 25c, the other conductor wiring 25b, and the through-hole conductor 25d. The first conductor wiring 21b and the surface layer conductor wiring 21c formed on the first resin substrate 21 and the one conductor wiring 25c and the other conductor wiring 25b formed on the second resin substrate 25 are generally materials and processes for producing a flexible wiring substrate. May be formed. For example, a copper foil may be formed by etching, or a silver paste may be formed by a printing method. Alternatively, it may be formed by vapor deposition and plating.

なお、第1樹脂基板21と第2樹脂基板25との間の電気的接続は、第1異方導電性樹脂層22中に圧入された導電性層間接続部材24と導電体粒子22bによって行われる。この場合、導電性層間接続部材24の厚みは、電子部品23のうちの最大の厚みの電子部品と同じ程度に設定する。   The electrical connection between the first resin substrate 21 and the second resin substrate 25 is performed by the conductive interlayer connection member 24 and the conductor particles 22b press-fitted into the first anisotropic conductive resin layer 22. . In this case, the thickness of the conductive interlayer connection member 24 is set to the same level as the electronic component having the maximum thickness among the electronic components 23.

また、電子部品23と第1導体配線21bの接続端子との接続は、導電体粒子22bにより行われる。同様に、第1導体配線21bと一方の導体配線25cとの接続は、導電体粒子22bを介して導電性層間接続部材24により行われる。   Further, the connection between the electronic component 23 and the connection terminal of the first conductor wiring 21b is performed by the conductor particles 22b. Similarly, the connection between the first conductor wiring 21b and the one conductor wiring 25c is performed by the conductive interlayer connection member 24 through the conductor particles 22b.

なお、第1異方導電性樹脂層22中の導電体粒子22bは、第1の実施の形態と同様に弾性変形しやすい突起部を有するものを用いている。また、樹脂バインダ22aについても、第1の実施の形態で説明した材料を用いればよいので説明を省略する。さらに、第1異方導電性樹脂層22を形成するための部材としては、ペースト状またはシート状のものを用いることが好ましい。ペースト状の場合には、印刷等の手法により塗布する。また、シート状の場合には、所定の形状に加工して貼り合せることで形成できる。   The conductive particles 22b in the first anisotropic conductive resin layer 22 are those having projections that are easily elastically deformed as in the first embodiment. Also, the resin binder 22a may be made of the material described in the first embodiment, and the description thereof is omitted. Furthermore, as a member for forming the first anisotropic conductive resin layer 22, it is preferable to use a paste-like or sheet-like member. In the case of a paste, it is applied by a technique such as printing. Moreover, in the case of a sheet form, it can be formed by processing and bonding to a predetermined shape.

このような第1異方導電性樹脂層を用いているので、それぞれの電極端子と接続端子との距離および導電性層間接続部材と接続端子との距離にバラツキが生じても、その接続抵抗を充分小さくすることができる。   Since such a first anisotropic conductive resin layer is used, even if the distance between each electrode terminal and the connection terminal and the distance between the conductive interlayer connection member and the connection terminal vary, the connection resistance is reduced. It can be made sufficiently small.

このように構成された基板面上に、さらに第2異方導電性樹脂層26が形成されている。この第2異方導電性樹脂層26の中に、電子部品27、28が圧入され、それぞれの電極端子(図示せず)が他方の導体配線25bの接続端子に接続されている。一方、導電性層間接続部材29は、他方の導体配線25bの設定された接続端子に対しては、第2異方導電性樹脂層26中の導電体粒子26bを介して電気的に接続されており、第2導体配線30の設定された接続端子に対しては、この接続端子中にその一部が埋設されて直接的な接触を行うことにより電気的に接続されている。なお、導電性層間接続部材29としては、第1の実施の形態と同様な材料および形状のものを用いることができるので説明を省略する。   A second anisotropic conductive resin layer 26 is further formed on the thus configured substrate surface. Electronic components 27 and 28 are press-fitted into the second anisotropic conductive resin layer 26, and each electrode terminal (not shown) is connected to the connection terminal of the other conductor wiring 25b. On the other hand, the conductive interlayer connection member 29 is electrically connected to the connection terminal on which the other conductor wiring 25b is set via the conductive particles 26b in the second anisotropic conductive resin layer 26. In addition, the connection terminal set with the second conductor wiring 30 is electrically connected by being partly embedded in the connection terminal and performing direct contact. As the conductive interlayer connection member 29, the same material and shape as those of the first embodiment can be used, and the description thereof is omitted.

なお、電子部品27、28と他方の導体配線25bの接続端子との接続も、第2異方導電性樹脂層26中の導電体粒子26bを介して行われる。この接続についても、上記と同様にそれぞれの電極端子と接続端子との距離および導電性層間接続部材と接続端子との距離にバラツキが生じても、その接続抵抗を充分小さくすることができる。   In addition, the connection between the electronic components 27 and 28 and the connection terminal of the other conductor wiring 25b is also performed through the conductor particles 26b in the second anisotropic conductive resin layer 26. Even in this connection, the connection resistance can be sufficiently reduced even if the distance between each electrode terminal and the connection terminal and the distance between the conductive interlayer connection member and the connection terminal vary as described above.

さらに、第2異方導電性樹脂層26の表面に第2導体配線30が形成されている。この第2導体配線30を形成するときに、同時に導電性層間接続部材29と第2導体配線30の接続端子とが電気的に接続される。この接続については、第1の実施の形態と同様に、例えば銀ペーストを用いて印刷により第2導体配線30を形成すると同時に、電気的な接続も行うことができる。   Further, a second conductor wiring 30 is formed on the surface of the second anisotropic conductive resin layer 26. When the second conductor wiring 30 is formed, the conductive interlayer connection member 29 and the connection terminal of the second conductor wiring 30 are electrically connected simultaneously. For this connection, as in the first embodiment, for example, the second conductor wiring 30 can be formed by printing using silver paste, and at the same time, electrical connection can be performed.

第2導体配線30の表面上には、さらに第3異方導電性樹脂層31が形成され、電子部品32が実装されている。なお、第3異方導電性樹脂層31が最上層の場合には、その厚みは電子部品32の電極端子が埋め込まれる程度でもよい。この場合も、電子部品32の電極端子は、導電体粒子31bを介して第2導体配線30の接続端子と電気的に接続されている。   A third anisotropic conductive resin layer 31 is further formed on the surface of the second conductor wiring 30, and an electronic component 32 is mounted thereon. When the third anisotropic conductive resin layer 31 is the uppermost layer, the thickness thereof may be such that the electrode terminal of the electronic component 32 is embedded. Also in this case, the electrode terminal of the electronic component 32 is electrically connected to the connection terminal of the second conductor wiring 30 through the conductor particles 31b.

なお、電子部品23、27、28、32は、例えば半導体チップ、チップ抵抗やチップコンデンサ等のチップ部品、シート状薄膜コンデンサやシート状薄膜抵抗あるいは薄膜コンデンサ、薄膜抵抗および薄膜インダクタ等から構成されるシート状薄膜回路部品等を、それぞれ用いることができる。   The electronic components 23, 27, 28, and 32 are constituted by, for example, a semiconductor chip, a chip component such as a chip resistor or a chip capacitor, a sheet-like thin film capacitor, a sheet-like thin film resistor or thin film capacitor, a thin film resistor, a thin film inductor, or the like. Each of the sheet-like thin film circuit components can be used.

また、第2異方導電性樹脂層26と第3異方導電性樹脂層31とを構成する樹脂バインダ26a、31aおよび導電体粒子26b、31bは、第1異方導電性樹脂層22の樹脂バインダ22aおよび導電体粒子22bと同じものを用いることができるので説明を省略する。   Further, the resin binders 26a and 31a and the conductor particles 26b and 31b constituting the second anisotropic conductive resin layer 26 and the third anisotropic conductive resin layer 31 are formed of the resin of the first anisotropic conductive resin layer 22. Since the same thing as the binder 22a and the conductor particle 22b can be used, description is abbreviate | omitted.

また、第2導体配線30は、例えば銀ペーストを用いて印刷方式により形成してもよい。あるいは、蒸着とメッキ方式により形成してもよいが、配線抵抗値を小さくするために、その膜厚は10μm〜50μm程度とすることが望ましい。   Further, the second conductor wiring 30 may be formed by a printing method using, for example, silver paste. Alternatively, it may be formed by vapor deposition and plating. However, in order to reduce the wiring resistance value, the film thickness is preferably about 10 μm to 50 μm.

以上により本実施の形態にかかる電子回路装置が得られる。本実施の形態にかかる電子回路装置は、層間絶縁層、層間接続および導体配線の接続端子と電子部品の電極端子間の接続を、同一の材料で、かつ同一の工程で形成することができ、しかも全体として薄型に形成することができる。   Thus, the electronic circuit device according to the present embodiment is obtained. In the electronic circuit device according to the present embodiment, the interlayer insulating layer, the interlayer connection, and the connection between the connection terminal of the conductor wiring and the electrode terminal of the electronic component can be formed of the same material and in the same process, Moreover, it can be formed thin as a whole.

また、表面に突起部を有する導電体粒子を分散させた異方導電性樹脂層を用いているために、電子部品の電極端子と導体配線の接続端子間の距離あるいは導電性層間接続部材と導体配線の接続端子間の距離が、電子部品や導電性層間接続部材の圧入時にばらついても、接続抵抗のバラツキを抑制することができる。したがって、全体として配線抵抗を小さくできるので、高性能の電子回路装置を簡略な方法により作製することができる。   In addition, since an anisotropic conductive resin layer in which conductive particles having protrusions on the surface are dispersed is used, the distance between the electrode terminal of the electronic component and the connection terminal of the conductor wiring or the conductive interlayer connection member and the conductor Even if the distance between the connection terminals of the wiring varies when the electronic component or the conductive interlayer connection member is press-fitted, variation in connection resistance can be suppressed. Accordingly, since the wiring resistance can be reduced as a whole, a high-performance electronic circuit device can be manufactured by a simple method.

また、異方導電性樹脂層としては、ペースト状のものを塗布または印刷による形成方式、あるいはシート状のものを貼り付ける形成方式のいずれを用いても、上記電子回路装置を作製することができる。   Further, as the anisotropic conductive resin layer, the electronic circuit device can be manufactured by using either a paste-form formation method by applying or printing or a sheet-form attachment method. .

次に、本発明の第2の実施の形態にかかる電子回路装置の製造方法について説明する。図6、図7および図8は、本発明の第2の実施の形態にかかる電子回路装置の製造方法を説明するための主要工程の断面図である。   Next, a method for manufacturing an electronic circuit device according to the second embodiment of the present invention will be described. 6, 7 and 8 are cross-sectional views of main steps for explaining the method of manufacturing the electronic circuit device according to the second embodiment of the present invention.

図6から図8に示す製造方法においても、第1の実施の形態と同様に工程を理解しやすくするために、電子部品23、27、28を半導体チップとし、電子部品32をチップ部品として説明する。したがって、以下では、電子部品23のかわりに第1半導体チップ23、電子部品27のかわりに第2半導体チップ27、電子部品28のかわりに第3半導体チップ28、電子部品32のかわりにチップ部品32として説明する。   Also in the manufacturing method shown in FIGS. 6 to 8, the electronic components 23, 27, and 28 are described as semiconductor chips and the electronic component 32 is described as a chip component in order to facilitate understanding of the process as in the first embodiment. To do. Therefore, in the following description, the first semiconductor chip 23 instead of the electronic component 23, the second semiconductor chip 27 instead of the electronic component 27, the third semiconductor chip 28 instead of the electronic component 28, and the chip component 32 instead of the electronic component 32. Will be described.

まず、図6(a)に示すように、第1樹脂基板21を準備する。この第1樹脂基板21は、フレキシブル基材21aの一方の主面に第1導体配線21bと他方の主面に表層導体配線21cを形成したもので、さらに第1導体配線21bと表層導体配線21cとはスルーホール導体21dによって接続されている。   First, as shown in FIG. 6A, a first resin substrate 21 is prepared. The first resin substrate 21 is formed by forming a first conductor wiring 21b on one main surface of the flexible base 21a and a surface conductor wiring 21c on the other main surface. Further, the first conductor wiring 21b and the surface conductor wiring 21c are formed. Are connected by a through-hole conductor 21d.

次に、図6(b)に示すように、第1樹脂基板21の一方の主面に第1異方導電性樹脂層22を形成する。   Next, as shown in FIG. 6B, the first anisotropic conductive resin layer 22 is formed on one main surface of the first resin substrate 21.

次に、図6(c)に示すように、第1異方導電性樹脂層22中に第1半導体チップ23を圧入し、その電極端子23aと第1導体配線21bの接続端子とを第1異方導電性樹脂層22中の導電体粒子22bによって接続する。同様にして、第1異方導電性樹脂層22中に導電性層間接続部材24を圧入し、第1導体配線21bの接続端子と導電性層間接続部材24との間を導電体粒子22bで接続する。この場合にも、第1の実施の形態と同様な異方導電性樹脂材料を用いて、局部的に紫外線を照射して硬化させれば個別に電気的接続と硬化による固定とを行うことができる。このような方法を行うと、第1半導体チップ23および導電性層間接続部材24を圧入した領域については、第1異方導電性樹脂層22が押し出されるとともに、光硬化されるので、さらに全面またはこれらの領域に同一の異方導電性樹脂材料を塗布して、未硬化の異方導電性樹脂が全面に設けられた状態とする。   Next, as shown in FIG. 6C, the first semiconductor chip 23 is press-fitted into the first anisotropic conductive resin layer 22, and the electrode terminal 23a and the connection terminal of the first conductor wiring 21b are connected to the first. Connection is made by conductor particles 22 b in the anisotropic conductive resin layer 22. Similarly, the conductive interlayer connection member 24 is press-fitted into the first anisotropic conductive resin layer 22, and the connection terminals of the first conductor wiring 21b and the conductive interlayer connection member 24 are connected by the conductor particles 22b. To do. Also in this case, the same anisotropic conductive resin material as in the first embodiment can be used, and if it is cured by irradiation with ultraviolet rays locally, electrical connection and fixing by curing can be performed individually. it can. By performing such a method, in the region where the first semiconductor chip 23 and the conductive interlayer connection member 24 are press-fitted, the first anisotropic conductive resin layer 22 is extruded and photocured. The same anisotropic conductive resin material is applied to these regions so that an uncured anisotropic conductive resin is provided on the entire surface.

次に、図6(d)に示すように、第2樹脂基板25を第1異方導電性樹脂層22に対して加圧しながら接着する。この接着時の加圧により、第2樹脂基板25の一方の導体配線25cの接続端子と導電性層間接続部材24とを導電体粒子22bを介して接続する。このときの加圧では、一方の導体配線25cが第1異方導電性樹脂層22中に埋め込まれるだけでなく、第1異方導電性樹脂層22の厚みがある程度薄くなるまで第2樹脂基板25を加圧してもよい。このように加圧することで、一方の導体配線25cの接続端子と導電性層間接続部材24との電気的接続をより確実に行うことができる。   Next, as shown in FIG. 6D, the second resin substrate 25 is bonded to the first anisotropic conductive resin layer 22 while being pressed. By the pressurization at the time of adhesion, the connection terminal of one conductor wiring 25c of the second resin substrate 25 and the conductive interlayer connection member 24 are connected through the conductor particles 22b. With the pressurization at this time, not only one of the conductor wirings 25c is embedded in the first anisotropic conductive resin layer 22, but also the second resin substrate until the thickness of the first anisotropic conductive resin layer 22 is reduced to some extent. 25 may be pressurized. By pressurizing in this way, the electrical connection between the connection terminal of one conductor wiring 25c and the conductive interlayer connection member 24 can be more reliably performed.

次に、図7(a)に示すように、第2樹脂基板25の全面に第2異方導電性樹脂層26を形成する。   Next, as shown in FIG. 7A, a second anisotropic conductive resin layer 26 is formed on the entire surface of the second resin substrate 25.

次に、図7(b)に示すように、第2異方導電性樹脂層26中に、第2半導体チップ27、第3半導体チップ28を圧入し、それぞれの電極端子と他方の導体配線25bの接続端子とを導電体粒子26bを介して接続する。同様にして、第2異方導電性樹脂層26中に導電性層間接続部材29を圧入し、他方の導体配線25bの接続端子と導電性層間接続部材29とを接続する。   Next, as shown in FIG. 7B, the second semiconductor chip 27 and the third semiconductor chip 28 are press-fitted into the second anisotropic conductive resin layer 26, and the respective electrode terminals and the other conductor wiring 25b are pressed. Are connected via the conductive particles 26b. Similarly, the conductive interlayer connection member 29 is press-fitted into the second anisotropic conductive resin layer 26, and the connection terminal of the other conductor wiring 25b and the conductive interlayer connection member 29 are connected.

次に、図7(c)に示すように、第2異方導電性樹脂層26の上に第2導体配線30を形成する。この第2導体配線30の形成と導電性層間接続部材29との接続は、第1の実施の形態と同様な材料と作製方法を用いればできるので説明を省略する。   Next, as illustrated in FIG. 7C, the second conductor wiring 30 is formed on the second anisotropic conductive resin layer 26. The formation of the second conductor wiring 30 and the connection between the conductive interlayer connection members 29 can be performed by using the same material and manufacturing method as those in the first embodiment, and thus description thereof is omitted.

さらに、図8に示すように、全面に第3異方導電性樹脂層31を形成する。その後、チップ部品32を第3異方導電性樹脂層31中に圧入し、その電極端子と第2導体配線30の接続端子とを導電体粒子31bを介して接続する。   Further, as shown in FIG. 8, a third anisotropic conductive resin layer 31 is formed on the entire surface. Thereafter, the chip component 32 is press-fitted into the third anisotropic conductive resin layer 31, and the electrode terminal and the connection terminal of the second conductor wiring 30 are connected through the conductor particles 31b.

以上により本実施の形態にかかる電子回路装置を製造することができる。本実施の形態の電子回路装置の製造方法の場合には、第1の樹脂基板と第2の樹脂基板との2枚のフレキシブルな配線基板を用いており、導体配線を異方導電性樹脂層上で形成しなくてよいので、導体配線の作製の自由度を大きくすることができる。例えば、銅箔を用いることも容易にできる。   As described above, the electronic circuit device according to the present embodiment can be manufactured. In the case of the method of manufacturing the electronic circuit device according to the present embodiment, two flexible wiring boards, that is, a first resin board and a second resin board are used, and the conductive wiring is made of an anisotropic conductive resin layer. Since it does not need to be formed above, the degree of freedom in producing the conductor wiring can be increased. For example, a copper foil can be easily used.

なお、本実施の形態にかかる電子回路装置は、図5に示す構成に限定されない。例えば、図6(d)の工程までの状態で用いることもできる。すなわち、図6(d)に示す構成は、第2樹脂基板25までが積層された状態であり、このような構成の電子回路装置でもよい。   The electronic circuit device according to the present embodiment is not limited to the configuration shown in FIG. For example, it can be used in the state up to the step of FIG. That is, the configuration shown in FIG. 6D is a state in which up to the second resin substrate 25 is laminated, and an electronic circuit device having such a configuration may be used.

さらに、図7(c)に示す構成としてもよい。すなわち、図7(c)に示す構成は、図6(d)の構成に対して、さらに第2異方導電性樹脂層26を形成し、この第2異方導電性樹脂層26を層間絶縁膜とし、かつ第2異方導電性樹脂層26中に第2半導体チップ27と第3半導体チップ28とが埋設され、導電性層間接続部材29により他方の導体配線25bと第2導体配線30とが層間接続された多層構成からなる。このような構成の電子回路装置でもよい。   Furthermore, it is good also as a structure shown in FIG.7 (c). That is, in the configuration shown in FIG. 7C, a second anisotropic conductive resin layer 26 is further formed with respect to the configuration in FIG. 6D, and this second anisotropic conductive resin layer 26 is interlayer-insulated. The second semiconductor chip 27 and the third semiconductor chip 28 are embedded in the second anisotropic conductive resin layer 26, and the other conductor wiring 25 b and the second conductor wiring 30 are connected by the conductive interlayer connection member 29. Consists of a multi-layer structure in which layers are connected. An electronic circuit device having such a configuration may be used.

また、図6(d)に示す構成をもとにして、さらに以下のような構成を付加してもよい。すなわち、他方の導体配線25bを含む第2樹脂基板25上に、さらに第2異方導電性樹脂層を形成し、第2異方導電性樹脂層中に圧入され、かつ第2異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって他方の導体配線25bの設定された接続端子に電極端子が電気的に接続された少なくとも1個以上の電子部品を備えた電子回路装置としてもよい。   Further, the following configuration may be added based on the configuration shown in FIG. That is, a second anisotropic conductive resin layer is further formed on the second resin substrate 25 including the other conductor wiring 25b, and is press-fitted into the second anisotropic conductive resin layer. It is good also as an electronic circuit apparatus provided with the at least 1 or more electronic component by which the electrode terminal was electrically connected to the connection terminal in which the other conductor wiring 25b was set by the conductor particle in a resin layer.

なお、第1の実施の形態と第2の実施の形態では、それぞれの異方導電性樹脂層中に埋設する電子部品は1個または2個で説明したが、これは便宜的なものであり、さらに複数個の電子部品であってもよい。さらに、半導体チップとチップ部品に限定されず、半導体チップ、チップ部品およびシート状デバイス等の種々の電子部品をそれぞれの異方導電性樹脂層中に埋設してもよい。   In the first embodiment and the second embodiment, one or two electronic components are embedded in each anisotropic conductive resin layer, but this is for convenience. Further, a plurality of electronic components may be used. Furthermore, the present invention is not limited to semiconductor chips and chip components, and various electronic components such as semiconductor chips, chip components, and sheet-like devices may be embedded in each anisotropic conductive resin layer.

また、第1の実施の形態では、樹脂基板面上に異方導電性樹脂層と配線層を形成して電子部品が内蔵された多層配線構成とし、第2の実施の形態では、両面配線基板を用いて異方導電性樹脂層により貼り合せるとともに、電子部品を内蔵する構成としたが、本発明はこれらに限定されない。これらの組合せた構成としてもよい。さらに、両面配線のかわりに、電子部品が内蔵された樹脂基板を上層側に配置する構成としてもよい。   In the first embodiment, an anisotropic conductive resin layer and a wiring layer are formed on the resin substrate surface to form a multilayer wiring structure in which electronic components are built. In the second embodiment, a double-sided wiring board is used. Although it was set as the structure which incorporates an electronic component while sticking together by an anisotropic conductive resin layer using this, this invention is not limited to these. A combination of these may also be used. Furthermore, instead of the double-sided wiring, a configuration may be adopted in which a resin substrate containing an electronic component is arranged on the upper layer side.

本発明の電子回路装置は、異方導電性樹脂層を層間の絶縁と層間の接続および電子部品の電極端子と導体配線の接続端子との間の接続に用いることにより、薄型、小型で、かつ製造工程の簡略な電子回路装置を実現することができ、高密度実装、薄型化および低コスト化が要求される電子機器分野、特に携帯電話等の携帯情報機器分野に有用である。   The electronic circuit device of the present invention is thin and small by using the anisotropic conductive resin layer for interlayer insulation and interlayer connection and connection between the electrode terminal of the electronic component and the connection terminal of the conductor wiring. An electronic circuit device having a simple manufacturing process can be realized, and is useful in the field of electronic equipment that requires high-density mounting, thinning, and cost reduction, particularly in the field of portable information equipment such as a mobile phone.

本発明の第1の実施の形態にかかる電子回路装置の構成を示す図で、(a)はその要部断面図、(b)は接続部の状態を示す拡大断面図BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows the structure of the electronic circuit apparatus concerning the 1st Embodiment of this invention, (a) is the principal part sectional drawing, (b) is an expanded sectional view which shows the state of a connection part. 同実施の形態の電子回路装置の製造方法を説明するための主要工程の断面図Sectional drawing of the main process for demonstrating the manufacturing method of the electronic circuit device of the embodiment 同実施の形態の電子回路装置の製造方法を説明するための主要工程の断面図Sectional drawing of the main process for demonstrating the manufacturing method of the electronic circuit device of the embodiment 同実施の形態の電子回路装置の製造方法を説明するための主要工程の断面図Sectional drawing of the main process for demonstrating the manufacturing method of the electronic circuit device of the embodiment 本発明の第2の実施の形態にかかる電子回路装置の要部断面図Sectional drawing of the principal part of the electronic circuit apparatus concerning the 2nd Embodiment of this invention 同実施の形態にかかる電子回路装置の製造方法を説明するための主要工程の断面図Sectional drawing of the main process for demonstrating the manufacturing method of the electronic circuit device concerning the embodiment 同実施の形態にかかる電子回路装置の製造方法を説明するための主要工程の断面図Sectional drawing of the main process for demonstrating the manufacturing method of the electronic circuit device concerning the embodiment 同実施の形態にかかる電子回路装置の製造方法を説明するための主要工程の断面図Sectional drawing of the main process for demonstrating the manufacturing method of the electronic circuit device concerning the embodiment 従来の電子回路装置の一例について、その構成および製造方法を説明するための工程断面図Process sectional drawing for demonstrating the structure and manufacturing method about an example of the conventional electronic circuit device 従来の電子回路の他の例である導体配線および接続用突起が形成された配線フィルム同士を、異方導電性フィルムにより接着、積層して構成する電子回路装置を示す図で、(a)はその製造方法を説明するための断面図、(b)は作製された電子回路装置の断面図、(c)は層間接続部の要部断面図The figure which shows the electronic circuit apparatus which adhere | attaches and laminates | stacks the wiring films in which the conductor wiring and the connection protrusion which were other examples of the conventional electronic circuit were formed by the anisotropic conductive film, (a) Sectional drawing for demonstrating the manufacturing method, (b) is sectional drawing of the produced electronic circuit apparatus, (c) is principal part sectional drawing of an interlayer connection part.

符号の説明Explanation of symbols

1,41,51 樹脂基板
2,23 電子部品(第1半導体チップ)
2a,23a,42a 電極端子
3,21b 第1導体配線
4,25b 他方の導体配線
5,21d,25d,41c スルーホール導体
5a スルーホール
6,22 第1異方導電性樹脂層
6a,11a,14a,22a,26a,31a 樹脂バインダ
6b,11b,14b,22b,26b,31b,53b,56b 導電体粒子
7,27 電子部品(第2半導体チップ)
8,28 電子部品(第3半導体チップ)
9,12,24,29 導電性層間接続部材
10,30 第2導体配線
11,26 第2異方導電性樹脂層
13 第3導体配線
14,31 第3異方導電性樹脂層
15,32 電子部品(チップ部品)
21 第1樹脂基板
21a,25a フレキシブル基材
21c 表層導体配線
25 第2樹脂基板
25c 一方の導体配線
41a,41b,44,48,52,55,58 導体配線
42 半導体チップ
43,45 層間絶縁層
49 電子部品
53,56 異方導電性フィルム
53a,56a 絶縁性樹脂
54,57 配線フィルム
59 プレス機
60 ヒータ
1,41,51 Resin substrate 2,23 Electronic component (first semiconductor chip)
2a, 23a, 42a Electrode terminal 3, 21b First conductor wiring 4, 25b Other conductor wiring 5, 21d, 25d, 41c Through-hole conductor 5a Through-hole 6, 22 First anisotropic conductive resin layer 6a, 11a, 14a , 22a, 26a, 31a Resin binder 6b, 11b, 14b, 22b, 26b, 31b, 53b, 56b Conductor particle 7, 27 Electronic component (second semiconductor chip)
8,28 Electronic components (third semiconductor chip)
9, 12, 24, 29 Conductive interlayer connection member 10, 30 Second conductor wiring 11, 26 Second anisotropic conductive resin layer 13 Third conductor wiring 14, 31 Third anisotropic conductive resin layer 15, 32 Electrons Parts (chip parts)
21 First resin substrate 21a, 25a Flexible base material 21c Surface layer conductor wiring 25 Second resin substrate 25c One conductor wiring 41a, 41b, 44, 48, 52, 55, 58 Conductor wiring 42 Semiconductor chip 43, 45 Interlayer insulating layer 49 Electronic parts 53, 56 Anisotropic conductive film 53a, 56a Insulating resin 54, 57 Wiring film 59 Press machine 60 Heater

Claims (6)

少なくとも一方の主面に第1導体配線が形成された樹脂基板と、
前記第1導体配線を含む前記一方の主面上に形成された第1異方導電性樹脂層と、
前記第1異方導電性樹脂層中に圧入され、前記第1異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって、前記第1導体配線の設定された接続端子と電極端子とが電気的に接続された電子部品と、
前記第1異方導電性樹脂層の表面に形成された第2導体配線と、
前記第1導体配線の設定された接続端子に対しては、前記第1異方導電性樹脂層中の導電体粒子を介して電気的に接続され、かつ前記第2導体配線の設定された接続端子に対しては、前記接続端子と直接的な接触を行うことで電気的に接続された導電性層間接続部材とを備えた電子回路装置であって、
前記第2導体配線を含む前記第1異方導電性樹脂層上に、さらに第2異方導電性樹脂層が形成され、
前記第2異方導電性樹脂層中に圧入され、前記第2異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって、前記第2導体配線の設定された接続端子と電極端子とが電気的に接続された電子部品と、
前記第2異方導電性樹脂層の表面に形成された第3導体配線と、
前記第2導体配線の設定された接続端子に対しては、前記第2異方導電性樹脂層中の導電体粒子を介して電気的に接続され、かつ前記第3導体配線の設定された接続端子に対しては、前記接続端子と直接的な接触により電気的に接続された導電性層間接続部材とを備えたことを特徴とする電子回路装置。
A resin substrate having a first conductor wiring formed on at least one main surface;
A first anisotropic conductive resin layer formed on the one main surface including the first conductor wiring;
The connection terminals set in the first conductor wiring and the electrode terminals are electrically connected by the conductor particles press-fitted into the first anisotropic conductive resin layer and in the first anisotropic conductive resin layer. Electronic components,
A second conductor wiring formed on the surface of the first anisotropic conductive resin layer;
The connection terminal set for the first conductor wiring is electrically connected via the conductive particles in the first anisotropic conductive resin layer, and the connection set for the second conductor wiring for the terminal, a sub-circuit device conductive with and electrically connected to conductive interlayer connection member by performing a direct contact with the connection terminal,
A second anisotropic conductive resin layer is further formed on the first anisotropic conductive resin layer including the second conductor wiring,
The connection terminal set to the second conductor wiring and the electrode terminal are electrically connected by the conductive particles in the second anisotropic conductive resin layer that are press-fitted into the second anisotropic conductive resin layer. Electronic components,
A third conductor wiring formed on the surface of the second anisotropic conductive resin layer;
The connection terminal set for the second conductor wiring is electrically connected via the conductive particles in the second anisotropic conductive resin layer, and the connection set for the third conductor wiring. An electronic circuit device comprising a conductive interlayer connection member electrically connected to the terminal by direct contact with the connection terminal.
少なくとも一方の主面に第1導体配線が形成された樹脂基板と、A resin substrate having a first conductor wiring formed on at least one main surface;
前記第1導体配線を含む前記一方の主面上に形成された第1異方導電性樹脂層と、A first anisotropic conductive resin layer formed on the one main surface including the first conductor wiring;
前記第1異方導電性樹脂層中に圧入され、前記第1異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって、前記第1導体配線の設定された接続端子と電極端子とが電気的に接続された電子部品と、The connection terminals set in the first conductor wiring and the electrode terminals are electrically connected by the conductor particles press-fitted into the first anisotropic conductive resin layer and in the first anisotropic conductive resin layer. Electronic components,
前記第1異方導電性樹脂層の表面に形成された第2導体配線と、A second conductor wiring formed on the surface of the first anisotropic conductive resin layer;
前記第1導体配線の設定された接続端子に対しては、前記第1異方導電性樹脂層中の導電体粒子を介して電気的に接続され、かつ前記第2導体配線の設定された接続端子に対しては、前記接続端子と直接的な接触を行うことで電気的に接続された導電性層間接続部材とを備えた電子回路装置であって、The connection terminal set for the first conductor wiring is electrically connected via the conductive particles in the first anisotropic conductive resin layer, and the connection set for the second conductor wiring For a terminal, an electronic circuit device comprising a conductive interlayer connection member electrically connected by making direct contact with the connection terminal,
前記第2導体配線を含む前記第1異方導電性樹脂層上に、さらに第2異方導電性樹脂層が形成され、A second anisotropic conductive resin layer is further formed on the first anisotropic conductive resin layer including the second conductor wiring,
前記第2異方導電性樹脂層中に圧入され、前記第2異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって、前記第2導体配線の設定された接続端子と電極端子とが電気的に接続された電子部品を備えたことを特徴とする電子回路装置。The connection terminal set to the second conductor wiring and the electrode terminal are electrically connected by the conductive particles in the second anisotropic conductive resin layer that are press-fitted into the second anisotropic conductive resin layer. An electronic circuit device comprising the electronic component.
前記第3導体配線を含む前記第2異方導電性樹脂層上に、さらに第3異方導電性樹脂層が形成され、
前記第3異方導電性樹脂層中に圧入され、前記第3異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって、前記第3導体配線の設定された接続端子と電極端子とが電気的に接続された電子部品を備えたことを特徴とする請求項に記載の電子回路装置。
A third anisotropic conductive resin layer is further formed on the second anisotropic conductive resin layer including the third conductor wiring,
The connection terminals set in the third conductor wiring and the electrode terminals are electrically connected by the conductive particles press-fitted into the third anisotropic conductive resin layer and in the third anisotropic conductive resin layer. The electronic circuit device according to claim 1 , further comprising an electronic component.
少なくとも一方の主面に第1導体配線が形成された第1樹脂基板と、A first resin substrate having a first conductor wiring formed on at least one main surface;
前記第1導体配線を含む前記一方の主面上に形成された第1異方導電性樹脂層と、A first anisotropic conductive resin layer formed on the one main surface including the first conductor wiring;
前記第1異方導電性樹脂層中に圧入され、前記第1異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって、前記第1導体配線の設定された接続端子と電極端子とが電気的に接続された電子部品と、The connection terminals set in the first conductor wiring and the electrode terminals are electrically connected by the conductor particles press-fitted into the first anisotropic conductive resin layer and in the first anisotropic conductive resin layer. Electronic components,
前記第1異方導電性樹脂層の表面に積層され、両面に形成された導体配線のうちの一方の導体配線が前記第1異方導電性樹脂層中に圧入された第2樹脂基板と、A second resin substrate laminated on the surface of the first anisotropic conductive resin layer, and one of the conductor wires formed on both sides is press-fitted into the first anisotropic conductive resin layer;
前記第1導体配線の設定された接続端子と前記第2樹脂基板の前記一方の導体配線の設定された接続端子とを、前記第1異方導電性樹脂層中の導電体粒子を介して電気的に接続する導電性層間接続部材とを備えた電子回路装置であって、An electrical connection is made between the connection terminal set with the first conductor wiring and the connection terminal set with the one conductor wiring of the second resin substrate via the conductive particles in the first anisotropic conductive resin layer. An electronic circuit device comprising a conductive interlayer connection member that is electrically connected,
前記第2樹脂基板の他方の導体配線を含む前記第2樹脂基板面上に、さらに第2異方導電性樹脂層が形成され、A second anisotropic conductive resin layer is further formed on the second resin substrate surface including the other conductor wiring of the second resin substrate,
前記第2異方導電性樹脂層中に圧入され、前記第2異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって、前記他方の導体配線の設定された接続端子と電極端子とが電気的に接続された電子部品と、The connection terminal set on the other conductor wiring and the electrode terminal are electrically connected by the conductive particles in the second anisotropic conductive resin layer that are press-fitted into the second anisotropic conductive resin layer. Electronic components,
前記第2異方導電性樹脂層の表面に形成された第2導体配線と、A second conductor wiring formed on the surface of the second anisotropic conductive resin layer;
前記他方の導体配線の設定された接続端子に対しては、前記第2異方導電性樹脂層中の導電体粒子を介して電気的に接続され、かつ前記第2導体配線の設定された接続端子に対しては、前記接続端子と直接的な接触により電気的に接続された導電性層間接続部材とを備え、The connection terminal set for the other conductor wiring is electrically connected via the conductive particles in the second anisotropic conductive resin layer, and the connection set for the second conductor wiring For the terminal, comprising a conductive interlayer connection member electrically connected by direct contact with the connection terminal,
前記第2導体配線を含む前記第2異方導電性樹脂層上に、さらに第3異方導電性樹脂層が形成され、A third anisotropic conductive resin layer is further formed on the second anisotropic conductive resin layer including the second conductor wiring,
前記第3異方導電性樹脂層中に圧入され、前記第3異方導電性樹脂層中の導電体粒子によって、前記第2導体配線の設定された接続端子と電極端子とが電気的に接続された電子部品を備えたことを特徴とする電子回路装置。The connection terminals and the electrode terminals set in the second conductor wiring are electrically connected by the conductive particles in the third anisotropic conductive resin layer that are press-fitted into the third anisotropic conductive resin layer. An electronic circuit device comprising the above-described electronic component.
前記樹脂基板には電子部品がさらに内蔵されており、前記一方の主面に形成された前記第1導体配線または他方の主面に形成された他方の導体配線と接続されていることを特徴とする請求項1から請求項までのいずれか1項に記載の電子回路装置。 The resin board further includes an electronic component, and is connected to the first conductor wiring formed on the one main surface or the other conductor wiring formed on the other main surface. The electronic circuit device according to any one of claims 1 to 3 . 前記第1異方導電性樹脂層、第2異方導電性樹脂層および第3異方導電性樹脂層は、コイル状の導電体粒子、繊維毛玉状の導電体粒子および表面に導電性を有する複数の突起部を備えた導電体粒子から選択された少なくとも1種類の導電体粒子と樹脂バインダとを含むことを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の電子回路装置。 The first anisotropic conductive resin layer, the second anisotropic conductive resin layer, and the third anisotropic conductive resin layer include coil-shaped conductor particles, fiber-ball-shaped conductor particles, and a plurality of conductive surfaces. 5. The electronic circuit device according to claim 3 , comprising at least one type of conductive particles selected from conductive particles having a plurality of protrusions and a resin binder. 6.
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