JP2004139126A - レーザリペア方法および装置 - Google Patents
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Abstract
る。
【解決手段】蒸散用ガスを基板面へ供給し、レーザ光を該基板面上の所定部に照射し、該基板上の欠陥を修正する場合、蒸散用ガスを専用のザップガス導入ノズルから基板面上の所定部の斜め上方から所定量以上供給し、微粒子が基板面に付着することを防止する。
【選択図】 図1
Description
ャ機構と、対物レンズを上下させて焦点位置を調整する機構と、レーザ光照射部のパターン形状を観察する顕微鏡機構を備える公知の構成(図示せず)を有する。レーザ蒸散用およびレーザCVD用のそれぞれのレーザ光源を備えるレーザユニット12から送出されたレーザ光は、レーザ照射観察ユニット10とウインドウポート1を介して基板7上の所定部分に照射される。
ことができる。一方、余分なパターンが残っている残留欠陥は、Nd:YLFレーザの第3高調波(波長351nm、繰り返し30Hz、パルス幅20ps)光を用いるレーザ蒸散法で除去してパターンの修正を行うことができる。
がぶつかり、ガス導入空間部の下方に向かってほぼ基板7の面に垂直に下降する。一方CVDガス導入口2は、ガス導入空間部においてその径が一定となる領域に、基板7の面に対して水平にCVDガスが導入されるように設けられている。CVDガスは、ノズル2から吹き出され、上記パージガスの流れに混じって、基板7上面へほぼ垂直に下降する流れとなり、ウインドウポート1と基板7との間のCVD空間に拡散する。ウインドウポート1の下面にはガスを吸い込む排気口6が形成される。
2 CVDガス導入口
3 パージガス導入口
4 窓
5 ザップガス導入口
6 排気口
7 基板
10 レーザ照射観察ユニット
14 X−Yステージ
Claims (6)
- 蒸散用ガスを基板面へ供給し、レーザ光を該基板面上の所定部に照射し、該基板上の欠陥を修正するレーザリペア方法であって、蒸散用ガスは前記基板面上の所定部の斜め上方から導入することを特徴とするレーザリペア方法。
- 前記蒸散用ガスは前記基板面上の所定部において流速が15m/s以上である請求項1記載のレーザリペア方法。
- レーザ光照射部と、ガス供給排気部と、基板設置用X−Yステージと、これらを制御する制御部と、レーザ光照射用窓とガス導入空間部とガス供給口および排気口を備え基板面に近接して設置されるポート部を備えるレーザリペア装置であって、前記ポート部には互いに対向して配置される2つのパージガス導入口と、該パージガス導入口の下方に配置されるCVD原料ガス導入口と、蒸散用ガス導入口とを備え、該蒸散用ガス導入口は基板面上の所定部に対してその斜め上方から蒸散用ガスを供給する位置に形成されることを特徴とするレーザリペア装置。
- 前記ガス導入空間部はポート上面に向かって径が大きくなるテーパ状空間部とその下側の円筒状空間部を備える請求項3記載のレーザリペア装置。
- 前記CVD原料ガス導入口はガス導入空間部の円筒状空間部にCVD原料ガスを放出する位置に設置される請求項4記載のレーザリペア装置。
- 前記ポート部下面にはガス導入空間部開口の周囲にリング状のガス排気口が形成される請求項3記載のレーザリペア装置。
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KR100964314B1 (ko) | 2007-12-24 | 2010-06-16 | 주식회사 코윈디에스티 | 포토 마스크 리페어 장치 및 그 방법 |
JP2010215947A (ja) * | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Omron Corp | レーザcvdによる薄膜形成方法、及び同方法に好適なガスウィンドウ |
CN102828166A (zh) * | 2012-08-24 | 2012-12-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 化学气相沉积维修设备 |
CN111665681A (zh) * | 2019-03-05 | 2020-09-15 | Hoya株式会社 | 光掩模的修正方法及修正装置、带保护膜的光掩模的制造方法、显示装置的制造方法 |
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- 2003-12-24 JP JP2003428030A patent/JP2004139126A/ja active Pending
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