JP2004119586A

JP2004119586A - 多数個取り配線基板

Info

Publication number: JP2004119586A
Application number: JP2002279130A
Authority: JP
Inventors: Yozo Kamata; 鎌田　陽三
Original assignee: Kyocera Corp
Current assignee: Kyocera Corp
Priority date: 2002-09-25
Filing date: 2002-09-25
Publication date: 2004-04-15

Abstract

【課題】貫通導体の内部のセラミック絶縁層の層間部分に微細な密着不良が発生することがなく、高信頼性の配線基板を得ることが可能な多数個取り配線基板を提供すること。
【解決手段】表面に配線層３が形成された複数のセラミック絶縁層４ａ・４ｂを積層して配線基板領域５が縦横に配列して形成されるとともに上下に位置する配線層３間をセラミック絶縁層４ａ・４ｂの配線基板領域５の境界に位置させて形成した貫通導体１０を介して接続し、上面および／または下面に配線基板領域５を分割するための分割溝８ａ・８ｂが貫通導体１０を横切るようにして形成された多数個取り配線基板であって、分割溝８ａ・８ｂは、その底部をセラミック絶縁層４ａ・４ｂの層間９から１０μｍ以上離して形成されている。分割溝８ａ・８ｂを形成する際に貫通導体１０の層間９部分に微細な密着不良が発生することを防止し、高信頼性の配線基板を得ることができる。
【選択図】　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、広面積の母基板中に各々が半導体素子や水晶振動子等の電子部品を搭載するための小型の配線基板となる多数の配線基板領域を縦横の並びに一体的に配列形成して成る多数個取り配線基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えば半導体素子や水晶振動子等の電子部品を収容するための電子部品収納用パッケージに用いられる小型の配線基板は、酸化アルミニウム質焼結体等のセラミックスから成る略四角平板状の絶縁基体の上面に電子部品を収容するための凹部が形成されているとともに、この凹部の内側から絶縁基体の下面にかけて複数の配線層を配設して成る。そして、絶縁基体の凹部の底面に電子部品を搭載固定するとともに電子部品の電極をボンディングワイヤや半田等の電気的接続手段を介して凹部内の配線層に電気的に接続し、しかる後、絶縁基体の上面に凹部を塞ぐようにして金属やガラス等から成る蓋体やエポキシ樹脂等から成る樹脂製充填材を接合させ、凹部の内部に電子部品を気密に収容することによって製品としての電子装置となる。
【０００３】
ところで、このような配線基板は近時の電子装置の小型化の要求に伴い、その大きさが数ｍｍ角程度の極めて小さなものとなってきており、多数個の配線基板の取り扱いを容易とするために、また配線基板および電子装置の製作を効率よく行なうために、１枚の広面積の母基板から多数個の配線基板を同時集約的に得るようになした、いわゆる多数個取り配線基板の形態で製作されている。
【０００４】
この多数個取り配線基板は、図２（ａ）に上面図で、および（ｂ）にそのＹ−Ｙ’線断面図で示すように、複数のセラミック絶縁層３４を積層して成る略平板状の母基板３１の中央部に、各々がその上面側に電子部品を収容するための凹部３２およびこの凹部３２内から下面にかけて複数の配線層３３を有する略四角形の多数の配線基板領域３５を縦横の並びに一体的に配列形成して成るとともに、この母基板３１の外周部にこれらの配線基板領域３５を取り囲むようにして略四角枠状の捨て代領域３６を形成して成る。そして、例えば各配線基板領域３５の凹部３２内に電子部品を収容した後、母基板を各配線基板領域３５毎に分割することによって多数個の電子装置が同時集約的に製作される。
【０００５】
なお、隣接する配線基板領域３５の間には、境界に跨るようにして貫通導体４０が形成されており、この貫通導体４０を介して上下に位置する配線層３３が導通されている。また、この貫通導体４０は、隣接する配線基板領域３５の配線層３３間を導通する機能も有している。そして、母基板３１の下面には、貫通導体４０の下端部分と接続するようにして外部接続用メタライズ層４２が被着されている。
【０００６】
このような多数個取り配線基板は、母基板３１の各セラミック絶縁層３４となるグリーンシートを複数準備するとともに、配線基板領域３５となる領域の境界の所定位置に貫通孔を形成し、次に、金属ペーストをグリーンシートの表面および貫通孔内に印刷塗布・充填し、最後に、このグリーンシートを積層して積層体とするとともに焼成することにより製作される。
【０００７】
ところで一般的に、このような多数個取り配線基板においては、複数の配線層３３を有する略四角形の多数の配線基板領域３５を各個片状態に分割するために、グリーンシート積層体のそれぞれの配線基板領域３５の境界線３７の上下に、カッター刃等を押しつけることにより分割溝３８を形成している。このため、貫通導体４０には、分割溝３８が横切るようにして形成される。
【０００８】
従来の多数個取り配線基板においては、セラミック絶縁層３４はほぼ同じ厚みのものが上下に積層されており、分割溝３８は、母基板３１の上面側および下面側から、それぞれほぼ同じ深さで形成されていた。これは、主として、分割溝３８を形成するための装置の設定が容易となるためである。また、このグリーンシート積層体の上下面に分割溝３８をカッター刃等により形成する際に、グリーンシートの変形を抑えることができるとともに、安定した分割性を得ることができるためである。
【０００９】
そして、積層する絶縁層３４が例えば図２（ｂ）に示すように２枚である場合は、上面の分割溝３８ｂは下側の絶縁層３４ａと上側の絶縁層３４ｂとの層間３９を越えないように、上側の分割溝３８ｂであれば上側の絶縁層３４ｂの厚みの範囲内となるように、また下側の分割溝３８ａであれば下側の絶縁層３４ａの厚みの範囲内となるようにして分割溝３８が形成されるのが一般的である。
【００１０】
【特許文献１】
特開２００１−３０８５２５号公報
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年、電子部品収納用パッケージ等に用いられる小型の配線基板は、電子部品を搭載するための搭載部の体積をできるだけ大きく取り、かつ電子装置の厚みを薄くすることが要求されるようになってきている。
【００１２】
このような配線基板を製作する場合には、多数個取り配線基板は、図３に図２（ｂ）と同様の断面図で示すように、上側のセラミック絶縁層３４ｂに対して、下側のセラミック絶縁層３４ａを薄くした構造とされる。このような多数個取り配線基板においては、下側のセラミック絶縁層３４ａの厚みが上側のセラミック絶縁層３４ｂに対して薄いため、下側の分割溝３８ａの深さが下側のセラミック絶縁層３４ａと上側のセラミック絶縁層３４ｂとの層間３９を越えて形成される。
【００１３】
このような多数個取り配線基板を製作する場合は、グリーンシート積層体に分割溝３８を形成するためのカッター刃が、上下のグリーンシートの層間３９で、上側のセラミック絶縁層３４ｂとなるグリーンシートの境界面側に遮られるようになるため滑らかに連続してグリーンシート積層体に切り込みを入れることができずにグリーンシート積層体の層間３９部分を押してしまうようになり、この押しに伴う歪みにより、分割溝３８が横切って形成される貫通導体４０にも歪みが生じることから、貫通導体４０内部の層間３９部分に微細な密着不良が発生してしまうという問題点があった。
【００１４】
そして、この微細な密着不良は、凹部３２の底面に電子部品を搭載固定し、凹部３２を取り囲むようにして予め設けておいた封止用メタライズ層４１に金属蓋体（図示せず）をシーム溶接で接合して凹部３２を塞ぎ電子部品を気密封止する際に、金属蓋体と絶縁基体３１との線熱膨張係数の違いから発生する熱応力により貫通導体４０に発生するクラックの要因となり、その結果、凹部３２の内部に電子部品を気密に収容することができなくなるという問題点があった。
【００１５】
本発明は、かかる従来の問題点に鑑み案出されたものであり、その目的は、配線基板領域の境界に分割溝が横切るようにして形成された貫通導体の内部に微細な密着不良が発生することが効果的に防止され、絶縁基体に金属蓋体をシーム溶接で接合するときに金属蓋体と絶縁基体との線熱膨張係数の違いから発生する熱応力等により貫通導体等にクラックが発生することを効果的に防止することが可能で、気密信頼性に優れた電子部品収納用パッケージが作製可能な多数個取り配線基板を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
本発明の多数個取り配線基板は、表面に配線層が形成された複数のセラミック絶縁層を積層して配線基板領域が縦横に配列して形成されるとともに上下に位置する前記配線層間を前記セラミック絶縁層の前記配線基板領域の境界に位置させて形成した貫通導体を介して接続し、上面および／または下面に前記配線基板領域を分割するための分割溝が前記境界に前記貫通導体を横切るようにして形成された多数個取り配線基板であって、前記分割溝は、その底部を前記セラミック絶縁層の層間から１０μｍ以上離して形成されていることを特徴とするものである。
【００１７】
本発明の多数個取り配線基板によれば、分割溝は、その底部が、セラミック絶縁層の層間から１０μｍ以上離れるようにして形成されていることから、分割溝を形成するためのカッター刃が、各配線基板領域の境界線に形成されている貫通導体の部分において、上側のセラミック絶縁層と下側のセラミック絶縁層との層間を越えて形成されることがないので、上下のセラミック絶縁層（グリーンシート）の層間の境界面を切断できずに押してしまうことがなく、従って、グリーンシートが押されることによる歪みも生じない。
【００１８】
よって、貫通導体の内部の層間部分に微細な密着不良が発生することがなく、上下のグリーンシートを良好に密着させた状態でグリーンシート積層体の上下に分割溝を形成することが可能となり、焼成後の多数個取り配線基板で貫通導体内に微細な密着不良が発生することを効果的に防止することができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の多数個取り配線基板を添付の図面を基に詳細に説明する。図１（ａ）および（ｂ）は本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の一例を示す上面図および断面図であり、これらの図において１は母基板、２は電子部品（図示せず）を搭載し収容するための凹部、３は配線層、５は配線基板領域である。
【００２０】
母基板１は、図１（ｂ）に断面図で示すように、例えば酸化アルミニウム質焼結体や窒化アルミニウム質焼結体・ムライト質焼結体・ガラスセラミックス等のセラミック材料から成る上側のセラミック絶縁層４ｂおよび下側のセラミック絶縁層４ａが積層されて成り、上面の凹部２内に電子部品が搭載されて収容される。
【００２１】
母基板１は、例えば、各セラミック絶縁層４ａ・４ｂが酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、酸化アルミニウム・酸化珪素・酸化カルシウム等の原料粉末を有機溶剤・バインダ等とともにシート状に成形して複数のグリーンシートを得て、このグリーンシートの所定位置に凹部となるような打ち抜き加工を施した後、上下に積層し、焼成することにより形成される。
【００２２】
なお、グリーンシートを焼成して得られる、母基板１を構成するセラミック絶縁層４（４ａ・４ｂ）の厚みは、通常は１００〜５００μｍ程度とされる。
【００２３】
各々の配線基板領域５の上面には凹部２の内側から外側にかけて導出する配線層３が被着されており、この配線層３には電子部品の電極がボンディングワイヤや導電性接着剤を介して電気的に接続される。
【００２４】
また、母基板１のセラミック絶縁層４には、この配線層３の外側に導出された端部と接続するようにして、配線基板領域５の境界線７を跨がるように位置させて貫通導体１０が形成されている。この貫通導体１０は、上下に位置する配線層３を接続する機能を有し、また、隣接する配線基板領域５の配線層３間を接続する機能も有している。
【００２５】
また、母基板１の下面には、貫通導体１０の下端部分と接続するようにして外部接続用メタライズ層１２が被着されている。この外部接続用メタライズ層１２を外部電気回路基板（図示せず）の配線導体に導電性接着剤等を介して接続することにより、内部に収容する電子部品が配線層３・貫通導体１０および外部接続用メタライズ層１２を介して外部電気回路に電気的に接続される。
【００２６】
これらの配線層３・貫通導体１０および外部接続用メタライズ層１２は、タングステンやモリブデン・銅・銀等の金属材料から成り、例えば、あらかじめグリーンシートの各配線基板領域５の境界線７に跨るようにして複数の貫通孔を形成しておき、タングステン等の金属ペーストをグリーンシートの表面および貫通孔内にスクリーン印刷法等で印刷塗布あるいは充填することにより形成される。
【００２７】
各配線基板領域５の境界線７上には、貫通導体１０を横切るようにして分割溝８が形成されており、この分割溝８に沿って母基板１を分割することにより、各配線基板領域５が個片に分割されてそれぞれが配線基板となる。
【００２８】
この分割溝８は、通常、母基板１の上下面に、それぞれ平面視で同じ位置となるように形成されている。これは、母基板１の各配線基板領域５をバリ等の不具合を生じることなく確実に分割するためである。
【００２９】
このような分割溝８は、母基板１のセラミック絶縁層４（４ａ・４ｂ）となるグリーンシート積層体の上下面に、カッター刃を押し当てて切り込みを入れる等の方法で形成される。また、分割溝８の深さは、分割時のクラックやバリ、欠けを防止するために、母基板１のセラミック絶縁層４（４ａ・４ｂ）の厚みに対して、その深さが２０〜７０％程度に設定される。
【００３０】
本発明の多数個取り配線基板においては、この分割溝８を、その底部がセラミック絶縁層４ａ・４ｂの層間９から１０μｍ以上離れるようにして形成することが重要である。
【００３１】
例えば、母基板１の上面側に分割溝８ｂを形成する場合であれば、その分割溝８ｂの底部が上側のセラミック絶縁層４ｂと下側のセラミック絶縁層４ａとの層間９を越えないように、かつこの層間９から分割溝８ｂの底部までの距離ｄ１が１０μｍ以上となるようにして形成する。
【００３２】
また、母基板１の下面側に分割溝８ａを形成する場合であれば、その分割溝８ａの底部が上側のセラミック絶縁層４ｂと下側のセラミック絶縁層４ａとの層間９を越えないように、かつ、この層間９から分割溝８ａの底部までの距離ｄ２が１０μｍ以上となるようにして形成する。
【００３３】
分割溝８（８ａ・８ｂ）の底部を、セラミック絶縁層４（４ａ・４ｂ）の層間９から１０μｍ以上離しておくと、この分割溝８（８ａ・８ｂ）をグリーンシート積層体に形成する際に、分割溝８（８ａ・８ｂ）を形成するためのカッター刃がグリーンシートの層間９部分で遮られて、この層間９部分を押してしまうようなことがなく、分割溝８（８ａ・８ｂ）が横切って形成される貫通導体１０（導電ペーストが充填された貫通孔）に歪みが生じてセラミック絶縁層４（４ａ・４ｂ）の層間９部分で微細な密着不良が発生することを効果的に防止することができる。
【００３４】
この場合、母基板１の上下に形成される分割溝８の全てにおいて、分割溝８の底部からセラミック絶縁層４の層間９までの距離を１０μｍ以上とする必要がある。これは、分割溝８の底部からセラミック絶縁層４の層間９までの距離が１０μｍ未満であると、分割溝８を形成するカッター刃が層間９に届いていないとしても、カッター刃の進入に伴うグリーンシート内の変形がグリーンシートの層間９に伝達されて貫通導体１０に歪みを生じてしまい、層間９部分で微細な密着不良を発生させてしまうためである。
【００３５】
なお、分割溝８を深さの精度良く母基板１となるグリーンシート積層体の上下面に形成する方法としては、カッター刃をグリーンシート積層体に押さえつけた場合であっても、このカッター刃が慣性により必要以上深く入らないような構造の金型による形成方法が有効である。このような金型としては、例えば縦方向および横方向の分割溝８を別々に形成するように、数十本の並列に並んだカッター刃を金型の凹部に収納するように形成し、加圧することでこれらカッター刃が金型の凹部より突出するような構造とすればよい。
【００３６】
また、分割溝８の底部から層間９までの距離は、分割溝８を繰り返し形成することによるカッター刃の磨耗や、カッター刃の金型への取り付け時の突出高さのバラツキ等を考慮すると、１０μｍ以上４０μｍ以下として形成することが望ましい。
【００３７】
この配線基板領域５の各凹部２内に電子部品を収容するとともに、電子部品の電極を導電性接続材を介して配線層３に接続した後、あらかじめ凹部２を取り囲むようにして母基板１の上面に形成しておいた封止用メタライズ層１１に金属蓋体（図示せず）をシーム溶接等によって接合することにより、電子部品が気密封止され電子装置となる。
【００３８】
封止用メタライズ層１１は、上記の配線層３と同様に、タングステン等の金属ペーストをグリーンシートの表面に印刷し焼成することにより形成される。
【００３９】
なお、配線層３や封止用メタライズ層１１・外部接続用メタライズ層１２等の露出表面は、ニッケルや金等のめっき層で被覆しておくことが好ましく、これにより、耐食性が向上するとともに、導電性接続材の接続や金属蓋体のシーム溶接等を容易かつ確実に行なうことができる。
【００４０】
このように配線層３や封止用メタライズ層１１・外部接続用メタライズ層１２等の露出表面にニッケルや金等のめっき層を被着させる場合は、図１（ａ）に示すように、母基板１の外周部に配線基板領域５の配列を取り囲むように捨て代領域６を形成するとともに、この捨て代領域６に枠状のめっき導通用導体１４を形成しておくことが好ましい。これにより、各配線基板領域５の配線層３や封止用メタライズ層１１・外部接続用メタライズ層１２等を共通に接続しておき、その外周部をめっき導通用導体１４と電気的に接続することによって、各配線基板領域５の配線層３や封止用メタライズ層１１・外部接続用メタライズ層１２等の露出表面に均一にめっき層を被着させることが可能となる。
【００４１】
【実施例】
以下、本発明の多数個取り配線基板について、実施例を挙げて説明する。
【００４２】
まず、酸化アルミニウム・酸化ケイ素・酸化マグネシウム・酸化カルシウムから成る原料粉末を有機溶剤・バインダと混練してスラリーを得た。このスラリーをドクターブレード法で成形するとともに切断して、外寸が１０ｃｍ×１０ｃｍで厚さが１００μｍ程度のグリーンシートを複数作製した。
【００４３】
このグリーンシートを０．５ｃｍ×０．５ｃｍの縦横に配列された多数の配線基板領域に区画するとともに、各配線基板領域の境界線に沿って、パンチング穴あけ加工により製品に合せて一定の間隔で直径０．１〜０．３ｍｍ程度の多数の貫通孔を配列形成した。また、一部のグリーンシートには各配線基板領域の中央部分に金型による打ち抜き加工を施して、四角形状の開口部を設けておいた。
【００４４】
次に、タングステン粉末に有機溶剤・バインダを添加し混練してタングステンの金属ペーストを作製し、この金属ペーストを各グリーンシートの表面および貫通孔内にスクリーン印刷法で印刷塗布・充填した。
【００４５】
その後、各グリーンシートを、四角形状の開口部を形成したものが上層になり、形成していないものが下層になるようにして、また、貫通孔が上下に連なるようにして積層し、各配線基板領域の境界線に沿ってグリーンシート積層体の上面側からカッター刃を押し込み、分割溝を形成した。このとき、分割溝は、その底部の位置が表１に示すような深さとなるようにして形成した。なお、表１において、分割溝の底部とグリーンシート（絶縁層）の層間との間の距離がマイナス（−）表示のものは、分割溝の底部が層間を越えるようにして形成したものであり、数値はその越えた距離を示す。
【００４６】
そして、このグリーンシートの積層体を約１５００〜１６００℃で焼成して、多数の配線基板領域が縦横に配列して形成された多数個取り配線基板の試料を得た。
【００４７】
得られた多数個取り配線基板の試料について、分割溝に沿って分割して各配線基板領域毎に分割した後、鉄−ニッケル−コバルト合金から成る金属蓋体を、凹部を塞ぐようにしてシーム溶接で接合して、凹部を封止した。
【００４８】
この気密封止の良否を、分割溝の底部の深さが異なる各多数個取り配線基板の試料について、シーム溶接後の試料のクラック数を調査して評価した。なお、このクラック数については、双眼顕微鏡を用いて４０倍で表裏面および側面に発生したクラック発生数を調査した。また、試料数（気密封止した試料の個数）は、それぞれ５０個とした。そして、気密封止不良の発生個数を調べ、その結果を表１に示した。
【００４９】
【表１】

【００５０】
表１に示す結果より、試料番号６〜１５のように、分割溝の底部が上下のグリーンシート（絶縁層）の層間から１０μｍ以上離れている場合は、気密封止の不良の発生率は０％（５０個中０個）であり、確実に気密封止されており、シーム溶接によるクラックの発生がないことが分かる。
【００５１】
これに対して、試料番号１〜５のように、分割溝の底部が上下のグリーンシート（絶縁層）の層間から１０μｍ未満になると、気密封止不良となるクラックが発生するようになる。この発生率は分割溝の底部が層間に近づくほど増加する傾向が見られた。これにより、本発明の効果を確認することができた。
【００５２】
なお、試料番号１３〜１５のように、分割溝の底部と上下のグリーンシート（絶縁層）の層間との間の距離が４０μｍを超える場合は、クラックの発生はなく気密封止については良好であるものの、分割溝が浅いものとなるため、多数個取り配線基板を分割するときに部分的に分割しにくくなったり、分割された各領域にバリやカケ等の不具合を発生させやすくなったりする傾向が見られた。このため、分割溝は、その底部が、上下のグリーンシート（絶縁層）の層間から１０μｍ以上４０μｍ以下となるようにして形成することが好ましいことが分かる。
【００５３】
なお、本発明は以上の実施の形態の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更を加えることは何ら差し支えない。例えば、以上の実施の形態の例では複数のセラミック絶縁層を形成するのに２枚のグリーンシートを使用しているが、３枚以上のグリーンシートを積層して、分割溝の底部と各セラミック絶縁層の層間との間の距離を１０μｍ以上４０μｍ以下としてもよい。
【００５４】
【発明の効果】
本発明の多数個取り配線基板によれば、表面に配線層が形成された複数のセラミック絶縁層を積層して配線基板領域が縦横に配列して形成されるとともに上下に位置する前記配線層間を前記セラミック絶縁層の前記配線基板領域の境界に位置させて形成した貫通導体を介して接続し、上面および／または下面に前記配線基板領域を分割するための分割溝が前記貫通導体を横切るようにして形成された多数個取り配線基板であって、前記分割溝は、その底部を前記セラミック絶縁層の層間から１０μｍ以上離して形成されていることから、分割溝を形成するためのカッター刃が、各配線基板領域の境界線に形成されている貫通導体の部分において、上側のセラミック絶縁層と下側のセラミック絶縁層との層間を越えて形成されることがないので、上下のセラミック絶縁層（グリーンシート）の層間の境界面を切断できずに押してしまうことがなく、従って、グリーンシートが押されることによる歪みも生じない。
【００５５】
よって、貫通導体の内部の層間部分に微細な密着不良が発生することがなく、上下のグリーンシートを良好に密着させた状態でグリーンシート積層体の上下に分割溝を形成することが可能となり、焼成後の多数個取り配線基板で貫通導体内に微細な密着不良が発生することを効果的に防止することができる。
【００５６】
その結果、グリーンシート積層体の上下面に対して配線基板領域の境界に分割溝を形成する際にこの分割溝が横切るようにして形成された貫通導体の内部に微細な密着不良が発生することを効果的に防止することができ、配線基板の凹部の底面に電子部品を搭載し固定した後、配線基板の絶縁基体の上面に金属蓋体をシーム溶接等によって接合するときに金属蓋体と絶縁基体との線熱膨張係数の違いから発生する熱応力等により貫通導体等にクラックが発生することを効果的に防止することが可能で、気密信頼性に優れた電子部品収納用パッケージが作製可能な多数個取り配線基板を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）および（ｂ）は、それぞれ本発明の多数個取り配線基板の実施の形態の一例を示す上面図および断面図である。
【図２】（ａ）および（ｂ）は、それぞれ従来の多数個取り配線基板の例を示す上面図および断面図である。
【図３】従来の多数個取り配線基板の他の例を示す断面図である。
【符号の説明】
１・・・母基板
３・・・配線層
４・・・セラミック絶縁層
４ａ・・・下側のセラミック絶縁層
４ｂ・・・上側のセラミック絶縁層
５・・・配線基板領域
７・・・境界線
８・・・分割溝
８ａ・・・下側の分割溝
８ｂ・・・上側の分割溝
９・・・層間
１０・・・貫通導体

Claims

表面に配線層が形成された複数のセラミック絶縁層を積層して配線基板領域が縦横に配列して形成されるとともに上下に位置する前記配線層間を前記セラミック絶縁層の前記配線基板領域の境界に位置させて形成した貫通導体を介して接続し、上面および／または下面に前記配線基板領域を分割するための分割溝が前記境界に前記貫通導体を横切るようにして形成された多数個取り配線基板であって、前記分割溝は、その底部を前記セラミック絶縁層の層間から１０μｍ以上離して形成されていることを特徴とする多数個取り配線基板。