JP2004115501A - 下地用の化粧料 - Google Patents
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Abstract
【課題】 フッ素含有化合物を配合したメークアップ化粧料の効果の持続性
を向上させる下地用の化粧料を提供することを課題とする。
【解決手段】 式（Ｉ）、（ＩＩ）及び場合により（ＩＶ）のモノマーから
誘導される構成単位を含み、（Ｉ）が全構成単位の５〜２５重量％であるコポリ
マー、特に好ましくは（Ｉ）５〜９．８重量％、（ＩＩ）３０．２〜４５重量％
、（ＩＶ）５０〜６０重量％を含むコポリマーと、他の任意成分とを混合して下
地用の化粧料を得る。ここで、Ｒ１はＨ又はＣ１〜３のアルキル基、Ｒ２は８〜
２１個のＦを有するＣ５〜１２のアルキル基、Ｒ３はＨ又はＣ１〜３のアルキル
基、Ｒ４は水酸基を有していてもよいＣ２〜４のアルキレン基、Ｒ５はＨ、Ｃ１
〜２０の芳香族基、Ｃ１〜２０の脂肪族炭化水素基、又はＣ１〜２０のアシル基
、ｎは４〜５０を表す。
【化１】
一般式（Ｉ）
【化２】
一般式（ＩＩ）
【化３】
一般式（ＩＶ）
【選択図】 なし
を向上させる下地用の化粧料を提供することを課題とする。
【解決手段】 式（Ｉ）、（ＩＩ）及び場合により（ＩＶ）のモノマーから
誘導される構成単位を含み、（Ｉ）が全構成単位の５〜２５重量％であるコポリ
マー、特に好ましくは（Ｉ）５〜９．８重量％、（ＩＩ）３０．２〜４５重量％
、（ＩＶ）５０〜６０重量％を含むコポリマーと、他の任意成分とを混合して下
地用の化粧料を得る。ここで、Ｒ１はＨ又はＣ１〜３のアルキル基、Ｒ２は８〜
２１個のＦを有するＣ５〜１２のアルキル基、Ｒ３はＨ又はＣ１〜３のアルキル
基、Ｒ４は水酸基を有していてもよいＣ２〜４のアルキレン基、Ｒ５はＨ、Ｃ１
〜２０の芳香族基、Ｃ１〜２０の脂肪族炭化水素基、又はＣ１〜２０のアシル基
、ｎは４〜５０を表す。
【化１】
一般式（Ｉ）
【化２】
一般式（ＩＩ）
【化３】
一般式（ＩＶ）
【選択図】 なし
Description
本発明は、化粧料に関し、更に詳細にはフッ素化合物を配合したメークアップ化粧料用に好適な下地用の化粧料に関する。
メークアップ化粧料の重要な品質要素の一つに化粧持ちがある。即ち、化粧料によって仕上げられたメークアップが、当初のまま長い時間その仕上がりを持続することは、その人の印象形成には大きくプラスに働くが、化粧崩れなどにより、仕上がりが崩れると却ってマイナスの印象を形成してしまうことがある。この為、化粧崩れが起こらないように化粧持ちを良くすることが必要になってくる。
化粧崩れには、大きく分けて２つのタイプがあるといえる。一つは皮膚上に塗布した化粧料が、皮脂、汗或いは風などの物理的な応力によって、皮膚から脱落してしまう化粧崩れであり、他方は、皮膚上には化粧料が存在するが、部位により、その存在確率が異なってしまう化粧崩れである。メークアップ化粧料が登場した初期の頃には、前者の崩れが主流であったが、種々の粉体の表面処理技術の開発により、汗などによって流れ去らないように工夫されて、前者の対応が為されるようになり、前者の問題は解決された。（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３を参照）しかしながら、却ってこの様な表面処理をするが故に、後者のタイプの化粧崩れは深刻さを深めている。
メークアップ化粧料に於ける、肌に塗布した場合の化粧効果の持続性を向上させる為の粉体の表面処理としては、例えば、ハイドロジェンメチルポリシロキサン焼き付け等のシリコーン処理やフッ素化アルキル基を有するシランカップリング剤によるシリル化処理が知られており、フッ素化アルキル基を有するシランカップリング剤によるシリル化処理において、後者の化粧崩れは特に深刻になっている。この様な表面処理に限らず、フッ素化合物自体が存在する場合にも同様の傾向が観察される。これは、フッ素化合物が、撥油撥水性を有するが故に、肌と親和性が低く、汗或いは皮脂などが存在した場合、肌上で化粧料が移動してしまい、化粧効果の持続性を十分に向上させ難い場合があるからである。従って、この様な化粧崩れを防ぐ手段の開発が望まれていた。
本発明は、このような状況下なされたものであり、表面処理された粉体などフッ素化合物を配合した化粧料、特にメークアップ化粧料用として化粧効果の持続性向上に有効な下地用の化粧料を提供することを課題とする。尚、本発明の下地用の化粧料が対象とする化粧料に配合されているフッ素化合物とは、具体的には、パーフルオロアルキルエーテル、フッ素変性シリコーン、フッ素置換炭化水素、フッ素化合物被覆粉体等が例示される。
本発明者らは、このような状況に鑑み、フッ素化合物を配合した化粧料、特にメークアップ化粧料用として化粧効果の持続性向上に有効な下地用の化粧料を提供する手段を求めて鋭意検討した結果、特定の構成単位を特定量含有するコポリマーを配合した下地用の化粧料により上記課題を解決できることを見いだし、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明は、以下の（１）〜（７）に示される下地用の化粧料に関するものである。
（１）一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上と、一般式（ＩＩ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上とを含み、且つ前記一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の含有量が全構成単位の５〜２５重量％であることを特徴とするコポリマーを含有してなる下地用の化粧料。
（１）一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上と、一般式（ＩＩ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上とを含み、且つ前記一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の含有量が全構成単位の５〜２５重量％であることを特徴とするコポリマーを含有してなる下地用の化粧料。
（式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ２は８〜２１個の置換フッ素原子を有する炭素数５〜１２のアルキル基を表す。）
（式（ＩＩ）中、Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ４は水酸基を有していてもよい炭素数２〜４のアルキレン基を表し、Ｒ５は水素原子、炭素数６〜２０の芳香族基、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、又は炭素数１〜２０のアシル基を表す。ｎは４〜５０の数値を表す。）
（２）前記一般式（ＩＩ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の含有量が全構成単位の２０から８０重量％であることを特徴とする、（１）記載の下地用の化粧料。
（３）前記一般式（ＩＩ）で表されるモノマーが、下記一般式（ＩＩＩ）で表されるものであることを特徴とする、（１）または（２）記載の下地用の化粧料。
（３）前記一般式（ＩＩ）で表されるモノマーが、下記一般式（ＩＩＩ）で表されるものであることを特徴とする、（１）または（２）記載の下地用の化粧料。
（式（ＩＩＩ）中、Ｒ６は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ７は水素原子、炭素数６〜２０の芳香族基、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、又は炭素数１〜２０のアシル基を表す。ｑは８〜４０の数値を表す。）
（４）フッ素含有化合物を配合したメークアップ化粧料用であることを特徴とする、 （１）〜（３）の何れかに記載の下地用の化粧料。
（５）１）一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上を５〜９．８重量％、２）一般式（ＩＩ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上を３０．２〜４５重量％、及び３）一般式（ＩＶ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上を５０〜６０重量％含有してなるコポリマーを含有してなる下地用の化粧料。
（５）１）一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上を５〜９．８重量％、２）一般式（ＩＩ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上を３０．２〜４５重量％、及び３）一般式（ＩＶ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上を５０〜６０重量％含有してなるコポリマーを含有してなる下地用の化粧料。
（式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ２は８〜２１個の置換フッ素原子を有する炭素数５〜１２のアルキル基を表す。）
（式（ＩＩ）中、Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ４は水酸基を有していてもよい炭素数２〜４のアルキレン基を表し、Ｒ５は水素原子、炭素数６〜２０の芳香族基、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、又は炭素数１〜２０のアシル基を表す。ｎは４〜５０の数値を表す。）
（式（ＩＶ）中、Ｒ８は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ９は炭素数１〜３のアルキル基を表す。）
（６）前記一般式（ＩＩ）に表されるモノマーが、下記一般式（ＩＩＩ）で表されるものであることを特徴とする、（５）記載の下地用の化粧料。
（式（ＩＩＩ）中、Ｒ６は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ７は水素原子、炭素数６〜２０の芳香族基、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、又は炭素数１〜２０のアシル基を表す。ｑは８〜４０の数値を表す。）
（７）フッ素含有化合物を配合したメークアップ化粧料用であることを特徴とする、（５）又は（６）記載の下地用の化粧料。
上記一般式（Ｉ）〜一般式（ＩＶ）で表される化合物は、ポリマー或いはコポリマーの原料として知られているものである。
しかしながら、これらの構成単位の構成比を変えて水溶性と為し、下地用の化粧料に配合し、フッ素含有化合物を配合した化粧料、とりわけメークアップ化粧料の形成する化粧膜と肌との親和性を向上させ、化粧効果の持続性を向上させることは全く知られていなかった。
また、そのような化粧効果の持続性向上のためには、前記コポリマーのうち、構成単位として、１）一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導されるものの一種以上を５〜９．８重量％、２）一般式（ＩＩ）で表されるモノマーから誘導されるものの一種以上を３０．２〜４５重量％、及び３）一般式（ＩＶ）に表されるモノマーから誘導されるものの一種以上を５０〜６０重量％含有するコポリマーが特に好ましいことも知られていなかった。
上記一般式（Ｉ）〜一般式（ＩＶ）で表される化合物は、ポリマー或いはコポリマーの原料として知られているものである。
しかしながら、これらの構成単位の構成比を変えて水溶性と為し、下地用の化粧料に配合し、フッ素含有化合物を配合した化粧料、とりわけメークアップ化粧料の形成する化粧膜と肌との親和性を向上させ、化粧効果の持続性を向上させることは全く知られていなかった。
また、そのような化粧効果の持続性向上のためには、前記コポリマーのうち、構成単位として、１）一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導されるものの一種以上を５〜９．８重量％、２）一般式（ＩＩ）で表されるモノマーから誘導されるものの一種以上を３０．２〜４５重量％、及び３）一般式（ＩＶ）に表されるモノマーから誘導されるものの一種以上を５０〜６０重量％含有するコポリマーが特に好ましいことも知られていなかった。
本発明によれば、表面処理された粉体などフッ素化合物を配合した化粧料、特にメークアップ化粧料用として化粧効果の持続性向上に有効な下地用の化粧料を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態を説明する。
本発明の下地用の化粧料は、一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導される構成単位（以下、「構成単位（Ｉ）」という）の一種以上と、一般式（ＩＩ）で表されるモノマーから誘導される構成単位（以下、構成単位（ＩＩ）」という）の一種以上とを、構成単位として含むコポリマーを必須成分として含有するものである。
1)構成単位（Ｉ）
本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーの必須構成単位の一つは、以下の一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導される構成単位（Ｉ）である。
本発明の下地用の化粧料は、一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導される構成単位（以下、「構成単位（Ｉ）」という）の一種以上と、一般式（ＩＩ）で表されるモノマーから誘導される構成単位（以下、構成単位（ＩＩ）」という）の一種以上とを、構成単位として含むコポリマーを必須成分として含有するものである。
1)構成単位（Ｉ）
本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーの必須構成単位の一つは、以下の一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導される構成単位（Ｉ）である。
ここで、式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ２は８〜２１個の置換フッ素原子を有する炭素数５〜１２のアルキル基を表す。Ｒ１のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、１−メチルエチル基、シクロプロピル基等が例示できる。Ｒ１として好ましいものは、水素原子又はメチル基である。
Ｒ２で表される８〜２１個の置換フッ素原子を有する炭素数５〜１２のアルキル基としては、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチル基、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ノナフルオロヘキシル基、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチル基、１Ｈ，１Ｈ−トリデカフルオロヘプチル基、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシル基、１Ｈ、１Ｈ、１１Ｈ−エイコサフルオロウンデシル基等が好ましく例示できる。
このような一般式（Ｉ）で表される化合物は、アクリル酸又はα−アルキルアクリル酸から誘導される酸クロリドと、フッ素原子を含むアルコールとをアルカリ存在下縮合することにより得ることができる。また、このような一般式（Ｉ）で表される化合物の中には既に市販されているものがあり、それを利用することもできる。このような市販品の例としては、商品名「ビスコート８Ｆ」、「ビスコート８ＦＭ」、「ビスコート１７Ｆ」、「ビスコート１７ＦＭ」（いずれも大阪有機化学製）等が挙げられる。
本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーにおいて、上記構成単位（Ｉ）は１種のみでもよいが、該一般式（Ｉ）を満たすものであれば２種以上を組み合わせて構成単位とすることもできる。
本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーにおいては、前記構成単位（Ｉ）の１種以上を、該コポリマーを構成する全構成単位に対して、総量で５〜２５重量％、好ましくは５〜２０重量％、より好ましくは５〜９．８重量％、更に好ましくは７〜９．８重量％含有する。
これは、本発明の下地用の化粧料により形成する化粧膜とフッ素含有化合物を配合した化粧料の形成する化粧膜との親和性を向上し、結果としてフッ素含有化合物を配合した化粧料の化粧効果の持続性を向上し、かつ、製剤化を好適に行うためには一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導される構成単位（Ｉ）は上記範囲内に含有量を定めるのが好ましい。
2)構成単位（ＩＩ）
本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーの必須構成単位のもう一つは、以下の一般式（ＩＩ）で表されるモノマーから誘導される構成単位（ＩＩ）である。
本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーの必須構成単位のもう一つは、以下の一般式（ＩＩ）で表されるモノマーから誘導される構成単位（ＩＩ）である。
（ 式（ＩＩ）中、Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ４は水酸基を有していてもよい炭素数２〜４のアルキレン基を表し、Ｒ５は水素原子、炭素数６〜２０の芳香族基、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、又は炭素数１〜２０のアシル基を表す。ｎは４〜５０の数値を表す。）
Ｒ３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、１−メチルエチル基、シクロプロピル基が例示できる。Ｒ３として好ましくは、水素原子又はメチル基である。Ｒ４のアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、１−メチルエチレン基、２−メチルエチレン基、２−ヒドロキシプロピレン基、１−ヒドロキシ−２−メチルエチレン基、２−ヒドロキシ−１−メチルエチレン基などが好ましく例示できる。これらのうち、好ましいものはエチレン基又は２−ヒドロキシプロピレン基である。
Ｒ５の基のうち、炭素数６〜２０の芳香族基としては、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基等が例示できる。
炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ターシャリーブチル基、ヘキシル基、シクロへキシル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、ラウリル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、オレイル基などが好適に例示できる。炭素数１〜２０のアシル基としては、アセチル基、ブテノイル基、カプリロイル基、カプリノイル基、ベンゾイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、オレオイル基などが好適に例示できる。
これらのうち、Ｒ５の基として特に好ましいものは、炭素数１〜１２のアルキル基（脂肪族炭化水素基）である。ｎは４〜５０の数値であり、好ましくは８〜４０である。
このような一般式（ＩＩ）で表されるモノマーのうち特に好ましいものとして、一般式（ＩＩＩ）で表されるものが挙げられる。
（式（ＩＩＩ）中、Ｒ６は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ７は水素原子、炭素数６〜２０の芳香族基、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、又は炭素数１〜２０のアシル基を表す。ｑは８〜４０の数値を表す。）
このような一般式（ＩＩＩ）で表されるモノマーを具体的に例示すれば、ポリエチレングリコール（９）モノアクリレート、ポリエチレングリコール（９）モノメタクリレート、メチルポリオキシエチレン（９）アクリレート、メチルポリオキシエチレン（９）メタクリレート、オクチルフェニルポリオキシエチレン（１０）アクリレート、オクチルフェニルポリオキシエチレン（１０）メタクリレート、ノニルフェニルポリオキシエチレン（１５）アクリレート、ノニルフェニルポリオキシエチレン（１５）メタクリレート、オレイルポリオキシエチレン（１８）アクリレート、オレイルポリオキシエチレン（１８）メタクリレート、ポリエチレングリコール（２３）モノアクリレート、ポリエチレングリコール（２３）モノメタクリレート、メチルポリオキシエチレン（２３）アクリレート、メチルポリオキシエチレン（２３）メタクリレート、セチルポリオキシエチレン（２３）アクリレート、セチルポリオキシエチレン（２３）メタクリレート、ドデシルポリオキシエチレン（２３）アクリレート、ドデシルポリオキシエチレン（２３）メタクリレート、ラウロイルポリオキシエチレン（１０）アクリレート、ラウロイルポリオキシエチレン（１０）メタクリレート、ステアロイルポリオキシエチレン（４０）アクリレート、ステアロイルポリオキシエチレン（４０）メタクリレート等があげられる。なお、カッコ内の数字はｎの値を示す。
これらのモノマーは、対応するポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールモノエーテル、ポリエチレングリコールモノエステルとアクリル酸又はメタクリル酸のクロライド、無水物とのエステル化反応により高収率で得ることができる。既に市販品も多数存在するので、かかる市販品を利用することも可能である。
本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーにおいて、上記構成単位（ＩＩ）は１種のみでもよいが、該一般式（ＩＩ）を満たすものであれば２種以上を組み合わせることもできる。
前記コポリマーにおいては、構成単位（ＩＩ）の割合は、該コポリマーを構成する全構成単位に対して、総量で２０〜８０重量％（平均重量百分率）とするのが好ましく、より好ましくは２５重量％〜７５％、更に好ましくは３０．２〜４５重量％である。
これは本発明の下地用の化粧料が形成する化粧膜と肌との親和性を向上させ、結果として、フッ素含有化合物を配合した化粧料の化粧効果の持続性を向上させるためには、本発明の下地用の化粧料が形成する化粧膜の物性おいては親水性と疎水性の両者の性質が必要となるからであり、一般式（ＩＩ）で表されるモノマーから誘導される構成単位（ＩＩ）は上記範囲内に含有量を定めるのが好ましい。
3)その他の構成単位
本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーは、上記構成単位（Ｉ）及び（ＩＩ）以外に、種々の構成単位を含有することができる。
本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーは、上記構成単位（Ｉ）及び（ＩＩ）以外に、種々の構成単位を含有することができる。
そのなかで、一般式（ＩＶ）で表されるモノマーから誘導される構成単位（以下、「構成単位（ＩＶ）」という）を含有することが好ましい。
ここで、式（ＩＶ）中、Ｒ８は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ９は炭素数１〜３のアルキル基を表す。Ｒ８で表される基のうち、アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、１−メチルエチル基、シクロプロピル基が例示できる。Ｒ８の好ましいものとしては、水素原子又はメチル基が挙げられる。Ｒ９で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、１−メチルエチル基、シクロプロピル基が例示でき、これらのうちではメチル基が好ましい。
一般式（ＩＶ）で表されるモノマーを具体的に例示すれば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル等が挙げられ、ほとんどが市販品として入手可能である。
本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーにおいて、構成単位として前記構成単位（ＩＶ）を含める場合、該構成単位（ＩＶ）は１種のみでもよいが、一般式（ＩＶ）を満たすものであれば２種以上を組み合わせることもできる。
前記コポリマーにおいて、構成単位（ＩＶ）の１種以上を含める場合、該構成単位の好ましい含有量は、コポリマーを構成する全構成単位に対して、総量で５０〜６０重量％である。構成単位（ＩＶ）を上記割合で含有することにより、コポリマーの作る被膜の強度を向上させることができる。
本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーでは、これらの構成単位以外に、通常共重体で使用されるモノマーから誘導されるものを任意に構成単位として、本発明の効果を損なわない範囲に於いて含有することができる。かかる任意の構成単位を誘導するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸マレイン酸等の重合性カルボン酸、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、アクリル酸モノアルキルアミド、メタクリル酸モノアルキルアミド等の（メタ）アクリル酸アミド類、（メタ）アクリル酸ｎブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｎヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎオクチル、（メタ）アクリル酸２エチルヘキシル等の炭素数４以上のアルキル基（脂肪族炭化水素基）を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジル等の（メタ）アクリル酸アリールエステル、２ヒドロキエチル（メタ）アクリレート、２ヒドロキプロピル（メタ）アクリレート、４ヒドロキブチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸ヒドキロキシアルキルエステル、（メタ）アクリル酸メトキシメチル、メタ）アクリル酸メトキシエチル等の（メタ）アクリル酸アルコキシアルキルエステル、１Ｈ，１Ｈ−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピル（メタ）アクリレート、１Ｈ−ヘキサフルオロイソロピル（メタ）アクリレート等の７個以下の置換フッ素原子を有するフルオロアルキル（メタ）アクリレート、酢酸ビニル、ビニルピロリドン、スチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル等が例示できる。
本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーは、上記構成単位（Ｉ）及び（ＩＩ）、さらに場合により構成単位（ＩＶ）並びに他の構成単位を、その骨格中に含有する共重合体であり、通常はその構成単位がランダムに結合したランダム共重合体であるが、ブロック共重合体あるいはグラフト共重合体であってもよい。また、その平均分子量は、特に制限はないが、好ましくは、ＧＰＣ（ゲルパーミエイションクロマトグラフィー）で測定したポリエチレングリコール換算の 重量平均分子量が５，０００ 〜３００，０００、より好ましくは、７，０００〜２００，０００程度である。
本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーの製造方法は特に限定されないが、各構成単位を誘導するモノマーを溶媒中で混合し、アクリル系モノマーの重合で通常用いられる方法にしたがって、重合反応を行うことにより得ることができる。
本発明の下地用の化粧料は、必須成分である上記コポリマーと、通常化粧料で使用される他の任意の成分とから構成される。
ここで、上記コポリマーは、唯一種を含有することもできるし、二種以上を組み合わせて含有することもできる。
本発明の下地用の化粧料に於けるコポリマーの好ましい含有量は、総量で０．１〜５０重量％であり、更に好ましくは１〜４０重量％である。コポリマーの含有量が少なすぎると、フッ素含有化合物を配合した化粧料の化粧効果の持続性を十分に向上させることができない場合があり、多すぎると製剤化が困難になる場合がある。
本発明の下地用の化粧料において、上記コポリマー以外の任意の成分としては、例えば、スクワラン、流動パラフィン、軽質流動イソパラフィン、重質流動イソパラフィン、マイクロクリスタリンワックス、固形パラフィンなどの炭化水素類、ジメチコン、フェニルコン、シクロメチコン、アモジメチコン、ポリエーテル変性シリコーンなどのシリコーン類、ホホバ油、カルナウバワックス、モクロウ、ミツロウ、ゲイロウ、オレイン酸オクチルドデシル、イソプロピルミリステート、ネオペンチルグリコールジイソステアレート、リンゴ酸ジイソステアレートなどのエステル類、ステアリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、イソステアリン酸、イソパルミチン酸、ベヘン酸、オレイン酸などの脂肪酸類、ベヘニルアルコール、セタノール、オレイルアルコール、オクタデシルアルコールなどの高級アルコール類、ヒマシ油、椰子油、水添椰子油、椿油、小麦胚芽油、イソステアリン酸トリグリセライド、イソオクタン酸トリグリセライド、オリーブオイル等のトリグリセライド類、１，３−ブタンジオール、グリセリン、ジグリセリン、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、１，２−ペンタンジオール、１，２−ヘキシレングリコール、イソプレングリコールなどの多価アルコール、ソルビタンセスキオレート、ソルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート、ソルビタンセスキステアレート、ソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンステアレート、ポリオキシエチレンオレート、ポリオキシエチレングリセリル脂肪酸エステル、ポリエキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油等の非イオン界面活性剤、ソジウムラウリルステアレート、ポリオキシエチレンアルキル硫酸塩、スルホコハク酸エステル塩などのアニオン界面活性剤、４級アルキルアンモニウム塩等のカチオン界面活性剤類、アルキルベタイン等の両性界面活性剤類、レシチン、ホスファチジルエタノールアミン、ホスファチジルグリセロール、リゾレシチン等のリン脂質、結晶セルロースや架橋型メチルポリシロキサン、ポリエチレン粉末、アクリル樹脂粉体等の有機粉体類、タルク、マイカ、セリサイト、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、二酸化チタン、酸化鉄、紺青、群青、チタンマイカ、チタンセリサイト、シリカ等の表面処理されていても良い粉体類、アクリル酸・メタクリル酸アルキルコポリマー及び／又はその塩、カルボキシビニルポリマー及び／又はその塩、キサンタンガムやヒドロキシプロピルセルロースなどの増粘剤、レチノール、レチノイン酸、トコフェロール、リボフラビン、ピリドキシン、アスコルビン酸、アスコルビン酸リン酸エステル塩などのビタミンやグリチルリチン酸塩、グリチルレチン、ウルソール酸、オレアノール酸などのテルペン類、エストラジオール、エチニルエストラジオール、エストリオールなどのステロイド類などの有効成分、フェノキシエタノール、パラベン類、ヒビテングルコネート、塩化ベンザルコニウム等の防腐剤、ジメチルアミノ安息香酸エステル類、桂皮酸エステル類、ベンゾフェノン類などの紫外線吸収剤などが好ましく例示できる。これらは用途などに応じて適宜選択される。
本発明の下地用の化粧料は、これらの必須成分及び任意成分を常法に従って処理することにより製造することができる。本発明の下地用の粧料の必須成分であるコポリマーは、本質的には、水溶性であり、下地用の化粧料にコポリマーを含有させる方法としては、予めコポリマーを溶解した水溶液を作成しておき、これと下地用の化粧料を構成する他の成分とともに処置させることがが好ましい。ここで、本発明で言う下地用の化粧料とは、かかる化粧料を塗布した後に、更にその上に化粧料を塗布されることを必須とする、化粧料の総称を意味し、例えば、アンダーメークアップ化粧料、コントロールカラー、コンシーラー、重層メークアップ化粧料セットに於ける下層用のメークアップ化粧料等が好ましく例示できる。かかる下地用の化粧料の剤形としては、通常の化粧料の剤形として知られているものであれば特段の限定はされず、例えば、２層分散剤形も含むローション剤形、乳化剤形、ゲル状剤形、固形粉体剤形などが好ましく例示できる。
かくして得られた本発明の下地用の化粧料は、肌上に肌及びフッ素含有化合物を配合した化粧料の形成する化粧膜との優れた親和性を有し、結果としてフッ素含有化合物を配合した化粧料の化粧効果の持続性を向上させる。
以下に、本発明の必須構成要素であるコポリマーの製造例を挙げる。
1)構成単位（Ｉ）を誘導する一般式（Ｉ）で表されるモノマーの製造例
製造例１
フルオロアルコールとしての１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ノナフルオロ−１−ヘキサノール５２．８ｇ、トリエチルアミン５０ｇをテトラヒドロフラン５００ｍｌに溶解した。氷冷、攪拌を行いながら、この溶液に、酸クロライドとしてのアクリル酸クロライド１８．１ｇをテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解した溶液を、２時間かけて滴下した。滴下終了後生成した白色沈澱を濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて濾液からテトラヒドロフラン及びトリエチルアミンを除去した。ＮＭＲ測定により得られた化合物が１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ノナフルオロヘキシルアクリレートであることが確認された。
製造例１
フルオロアルコールとしての１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ノナフルオロ−１−ヘキサノール５２．８ｇ、トリエチルアミン５０ｇをテトラヒドロフラン５００ｍｌに溶解した。氷冷、攪拌を行いながら、この溶液に、酸クロライドとしてのアクリル酸クロライド１８．１ｇをテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解した溶液を、２時間かけて滴下した。滴下終了後生成した白色沈澱を濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて濾液からテトラヒドロフラン及びトリエチルアミンを除去した。ＮＭＲ測定により得られた化合物が１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ノナフルオロヘキシルアクリレートであることが確認された。
製造例２〜５
製造例１に準じて原料を変え、一般式（Ｉ）で表されるモノマーを製造した。結果を表１に示す。
製造例１に準じて原料を変え、一般式（Ｉ）で表されるモノマーを製造した。結果を表１に示す。
2)構成単位（ＩＩ）を誘導する一般式（ＩＩ）で表されるモノマーの製造例
製造例６
ポリエチレングリコール化合物としてのポリエチレングリコール＃４００ ８０ｇ、トリエチルアミン５０ｇをテトラヒドロフラン５００ｍｌに溶解した。氷冷、攪拌を行いながら、この溶液に、酸クロライドとしてのメタクリル酸クロライド１０．５ｇをテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解した溶液を２時間かけて滴下した。滴下終了後生成した白色沈澱を濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて濾液からテトラヒドロフラン及びトリエチルアミンを除去した。ＮＭＲ測定により得られた化合物がポリエチレングリコール（９）モノメタクリレートであることが確認された。
製造例６
ポリエチレングリコール化合物としてのポリエチレングリコール＃４００ ８０ｇ、トリエチルアミン５０ｇをテトラヒドロフラン５００ｍｌに溶解した。氷冷、攪拌を行いながら、この溶液に、酸クロライドとしてのメタクリル酸クロライド１０．５ｇをテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解した溶液を２時間かけて滴下した。滴下終了後生成した白色沈澱を濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて濾液からテトラヒドロフラン及びトリエチルアミンを除去した。ＮＭＲ測定により得られた化合物がポリエチレングリコール（９）モノメタクリレートであることが確認された。
製造例７〜１１
製造例６に準じて、原料を変えて一般式（ＩＩ）に表されるモノマーを作成した。結果を表２に示す。
製造例６に準じて、原料を変えて一般式（ＩＩ）に表されるモノマーを作成した。結果を表２に示す。
3)本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーの製造例
製造例１２
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート（大阪有機化学製、商品名「ビスコート１７Ｆ」）１２．７ｇ、メチルポリオキシエチレン（２３）メタクリレート（新中村化学製、商品名「ＮＫエステルＭ−２３０Ｇ」）５２．７ｇ、メチルメタクリレート（東京化成製）６９．７ｇ、及びイソプロピルアルコール３００ｍｌ、水２００ｍｌからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過硫酸アンモニウム２．３ｇを水２０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、６５℃で１６時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールを除去してコポリマー１の水溶液を得た。
製造例１２
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート（大阪有機化学製、商品名「ビスコート１７Ｆ」）１２．７ｇ、メチルポリオキシエチレン（２３）メタクリレート（新中村化学製、商品名「ＮＫエステルＭ−２３０Ｇ」）５２．７ｇ、メチルメタクリレート（東京化成製）６９．７ｇ、及びイソプロピルアルコール３００ｍｌ、水２００ｍｌからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過硫酸アンモニウム２．３ｇを水２０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、６５℃で１６時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールを除去してコポリマー１の水溶液を得た。
製造例１３
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルメタクリレート（製造例２の化合物）１．２ｇ、１Ｈ、１Ｈ、１１Ｈ−エイコサフルオロウンデシルアクリレート（製造例５の化合物）３．０ｇ、ステアロイルポリオキシエチレン（４０）アクリレート（製造例１１）２２．８ｇ、エチルアクリレート３３．０ｇ、及びエチルアルコール２００ｍｌ、水１００ｍｌからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過硫酸アンモニウム１．０ｇを水１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、７０℃で１２時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールを除去してコポリマー２の水溶液を得た。
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルメタクリレート（製造例２の化合物）１．２ｇ、１Ｈ、１Ｈ、１１Ｈ−エイコサフルオロウンデシルアクリレート（製造例５の化合物）３．０ｇ、ステアロイルポリオキシエチレン（４０）アクリレート（製造例１１）２２．８ｇ、エチルアクリレート３３．０ｇ、及びエチルアルコール２００ｍｌ、水１００ｍｌからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過硫酸アンモニウム１．０ｇを水１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、７０℃で１２時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールを除去してコポリマー２の水溶液を得た。
製造例１４
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ−トリデカフルオロヘプチルアクリレート（製造例３の化合物）３．１ｇ、メチルポリオキシエチレン（９）アクリレート（新中村化学製、商品名「ＮＫエステルＡＭ−９０Ｇ」）９．５ｇ、オレイルポリオキシエチレン（１８）メタクリレート（製造例８の化合物）１２．０ｇ、メタクリル酸イソプロピル（東京化成製）３５．４ｇ、及び酢酸エチル３００ｍｌを採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過酸化ベンゾイル０．５ｇを酢酸エチル１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、８時間のリフラックスにより反応を行った。反応終了後、水をこの溶液に添加し、フラッシングを行ってコポリマー３の水溶液を得た。
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ−トリデカフルオロヘプチルアクリレート（製造例３の化合物）３．１ｇ、メチルポリオキシエチレン（９）アクリレート（新中村化学製、商品名「ＮＫエステルＡＭ−９０Ｇ」）９．５ｇ、オレイルポリオキシエチレン（１８）メタクリレート（製造例８の化合物）１２．０ｇ、メタクリル酸イソプロピル（東京化成製）３５．４ｇ、及び酢酸エチル３００ｍｌを採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過酸化ベンゾイル０．５ｇを酢酸エチル１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、８時間のリフラックスにより反応を行った。反応終了後、水をこの溶液に添加し、フラッシングを行ってコポリマー３の水溶液を得た。
製造例１５
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ、１Ｈ、１１Ｈ−エイコサフルオロウンデシルアクリレート（製造例５の化合物）４．８ｇ、ステアロイルポリオキシエチレン（４０）アクリレート（製造例１１の化合物）２２．２ｇ、メチルメタクリレート（東京化成製）２４．０ｇ、エチルメタクリレート（東京化成製）９．０ｇ、及びイソプロピルアルコール２００ｍｌ、水１００ｍｌからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過硫酸アンモニウム１．０ｇを水１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、７０℃で１８時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールを除去してコポリマー４の水溶液を得た。
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ、１Ｈ、１１Ｈ−エイコサフルオロウンデシルアクリレート（製造例５の化合物）４．８ｇ、ステアロイルポリオキシエチレン（４０）アクリレート（製造例１１の化合物）２２．２ｇ、メチルメタクリレート（東京化成製）２４．０ｇ、エチルメタクリレート（東京化成製）９．０ｇ、及びイソプロピルアルコール２００ｍｌ、水１００ｍｌからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過硫酸アンモニウム１．０ｇを水１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、７０℃で１８時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールを除去してコポリマー４の水溶液を得た。
製造例１６
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ−ペンタデカフルオロオクチルメタクリレート（製造例４の化合物）８．０ｇ、ラウロイルポリオキシエチレン（１０）アクリレート（製造例１０の化合物）３２．０ｇ及びイソプロピルアルコール２００ｍｌを採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過酸化ベンゾイル０．５ｇをイソプロピルアルコール１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、８０℃で８時間反応を行った。反応終了後、大量のｎ−へキサンにこの溶液に添加し、生成した沈殿を乾燥した後水に溶解してコポリマー５の水溶液を得た。
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ−ペンタデカフルオロオクチルメタクリレート（製造例４の化合物）８．０ｇ、ラウロイルポリオキシエチレン（１０）アクリレート（製造例１０の化合物）３２．０ｇ及びイソプロピルアルコール２００ｍｌを採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過酸化ベンゾイル０．５ｇをイソプロピルアルコール１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、８０℃で８時間反応を行った。反応終了後、大量のｎ−へキサンにこの溶液に添加し、生成した沈殿を乾燥した後水に溶解してコポリマー５の水溶液を得た。
製造例１７
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ−トリデカフルオロヘプチルアクリレート（製造例３の化合物）９．０ｇ、ポリエチレングリコール（９）モノメタクリレート（製造例６の化合物）３６．０ｇ、メタクリル酸ｎブチル（東京化成製）１５．０ｇ及び酢酸エチル３００ｍｌを採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過酸化ベンゾイル０．５ｇを酢酸エチル１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、８時間のリフラックスにより反応を行った。反応終了後、水をこの溶液に添加し、フラッシングを行ってコポリマー６の水溶液を得た。
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ−トリデカフルオロヘプチルアクリレート（製造例３の化合物）９．０ｇ、ポリエチレングリコール（９）モノメタクリレート（製造例６の化合物）３６．０ｇ、メタクリル酸ｎブチル（東京化成製）１５．０ｇ及び酢酸エチル３００ｍｌを採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過酸化ベンゾイル０．５ｇを酢酸エチル１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、８時間のリフラックスにより反応を行った。反応終了後、水をこの溶液に添加し、フラッシングを行ってコポリマー６の水溶液を得た。
製造例１８
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート（大阪有機化学製、商品名「ビスコート１７Ｆ」）６．０ｇ、１Ｈ，１Ｈ−トリフルオロエチルメタクリレート（大阪有機化学製、商品名「ビスコート３ＦＭ」）１８．０ｇ、メチルポリオキシエチレン（２３）メタクリレート（新中村化学製、商品名「ＮＫエステルＭ−２３０Ｇ」）２４．０ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（東京化成製）１２．０ｇ及びイソプロピルアルコール１８０ｍｌ、水１２０ｍｌからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過硫酸アンモニウム１．０ｇを水１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、７０℃で１２時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールを除去してコポリマー７の水溶液を得た。
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート（大阪有機化学製、商品名「ビスコート１７Ｆ」）６．０ｇ、１Ｈ，１Ｈ−トリフルオロエチルメタクリレート（大阪有機化学製、商品名「ビスコート３ＦＭ」）１８．０ｇ、メチルポリオキシエチレン（２３）メタクリレート（新中村化学製、商品名「ＮＫエステルＭ−２３０Ｇ」）２４．０ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（東京化成製）１２．０ｇ及びイソプロピルアルコール１８０ｍｌ、水１２０ｍｌからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過硫酸アンモニウム１．０ｇを水１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、７０℃で１２時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールを除去してコポリマー７の水溶液を得た。
製造例１９
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ，１１Ｈ−エイコサフルオロウンデシルアクリレート（製造例５の化合物）１．２ｇ、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタクリレート（大阪有機化学製、商品名「ビスコート８ＦＭ」）１．６ｇ、オレイルポリオキシエチレン（１８）メタクリレート（製造例８の化合物）２６．０ｇ、スチレン（東京化成製）１１．２ｇ及びトルエン２５０ｍｌを採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。アゾビスイソブチロニトリル０．５ｇをトルエン１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、７０℃で８時間反応を行った。反応終了後、反応終了後、水をこの溶液に添加し、フラッシングを行って本発明のコポリマー８の水溶液を得た。
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ，１１Ｈ−エイコサフルオロウンデシルアクリレート（製造例５の化合物）１．２ｇ、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタクリレート（大阪有機化学製、商品名「ビスコート８ＦＭ」）１．６ｇ、オレイルポリオキシエチレン（１８）メタクリレート（製造例８の化合物）２６．０ｇ、スチレン（東京化成製）１１．２ｇ及びトルエン２５０ｍｌを採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。アゾビスイソブチロニトリル０．５ｇをトルエン１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、７０℃で８時間反応を行った。反応終了後、反応終了後、水をこの溶液に添加し、フラッシングを行って本発明のコポリマー８の水溶液を得た。
製造例２０
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ノナフルオロヘキシルアクリレート（製造例１の化合物）３．６ｇ、ノニルフェニルポリオキシエチレン（１５）アクリレート（製造例７の化合物）１８．０ｇ、ポリオキシエチレン（２３）モノメタクリレート（製造例９の化合物）１８．０ｇ、エチルアクリレート（東京化成製）２０．４ｇ及びエチルアルコール１５０ｍｌ、水１５０ｍｌからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過硫酸カリウム１．０ｇを水１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、８０℃で１２時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでエチルアルコールを除去してコポリマー９の水溶液を得た。
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ノナフルオロヘキシルアクリレート（製造例１の化合物）３．６ｇ、ノニルフェニルポリオキシエチレン（１５）アクリレート（製造例７の化合物）１８．０ｇ、ポリオキシエチレン（２３）モノメタクリレート（製造例９の化合物）１８．０ｇ、エチルアクリレート（東京化成製）２０．４ｇ及びエチルアルコール１５０ｍｌ、水１５０ｍｌからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過硫酸カリウム１．０ｇを水１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、８０℃で１２時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでエチルアルコールを除去してコポリマー９の水溶液を得た。
製造例２１
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート（大阪有機化学製「ビスコート１７Ｆ」）５．６ｇ、メチルポリオキシエチレン（２３）メタクリレート（新中村化学製「ＮＫエステルＭ−２３０Ｇ」）２４．０ｇ、メチルメタクリレート（東京化成製）１８．０ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（東京化成製）１２．０ｇ及びイソプロピルアルコール１８０ｍｌ、水１２０ｍｌからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過硫酸アンモニウム１．０ｇを水１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、７０℃で１２時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールを除去してコポリマー１０水溶液を得た。
窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート（大阪有機化学製「ビスコート１７Ｆ」）５．６ｇ、メチルポリオキシエチレン（２３）メタクリレート（新中村化学製「ＮＫエステルＭ−２３０Ｇ」）２４．０ｇ、メチルメタクリレート（東京化成製）１８．０ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（東京化成製）１２．０ｇ及びイソプロピルアルコール１８０ｍｌ、水１２０ｍｌからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、１時間窒素ガス置換を行った。過硫酸アンモニウム１．０ｇを水１０ｍｌに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、７０℃で１２時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールを除去してコポリマー１０水溶液を得た。
以下に、実施例を挙げて、本発明について、更に詳細に説明を加えるが、本発明がこの様な実施例にのみ、限定されないことは言うまでもない。
＜実施例１〜４、比較例１＞
下記に示す処方に従って、本発明の下地用の化粧料であるファンデーション、リップ用下地用の化粧料を作成した。即ち、表３の成分１〜１１の混合物（イ）及び成分１２〜１９（ロ）を８０℃に加熱し、（ロ）を（イ）に徐々に加えて、乳化し、攪拌冷却してクリームを得た。
なお、以下、下地用の化粧料の処方実施例及び比較例を記載した表中の数値はいずれも重量％を表す。
下記に示す処方に従って、本発明の下地用の化粧料であるファンデーション、リップ用下地用の化粧料を作成した。即ち、表３の成分１〜１１の混合物（イ）及び成分１２〜１９（ロ）を８０℃に加熱し、（ロ）を（イ）に徐々に加えて、乳化し、攪拌冷却してクリームを得た。
なお、以下、下地用の化粧料の処方実施例及び比較例を記載した表中の数値はいずれも重量％を表す。
＜実施例５〜８、比較例２＞
下記に示す処方に従って、本発明の下地用の化粧料であるファンデーション用下地用の化粧料を作成した。即ち、表４の成分１〜１３の混合物（イ）及び成分１４〜２０（ロ）を８０℃に加熱し、（ロ）を（イ）に徐々に加えて、乳化し、攪拌冷却してクリームを得た。
下記に示す処方に従って、本発明の下地用の化粧料であるファンデーション用下地用の化粧料を作成した。即ち、表４の成分１〜１３の混合物（イ）及び成分１４〜２０（ロ）を８０℃に加熱し、（ロ）を（イ）に徐々に加えて、乳化し、攪拌冷却してクリームを得た。
＜実施例９〜１２、比較例３＞
下記に示す処方に従って、本発明の下地用の化粧料であるファンデーション用下地用の化粧料を作成した。即ち、表５の成分１〜１５の混合物（イ）、及び成分１６〜１７の混合物（ロ）をそれぞれ攪拌混合し均一溶液とした。（イ）を攪拌しながら徐々に（ロ）を加えた後、静置し水性ゲルを得た。
下記に示す処方に従って、本発明の下地用の化粧料であるファンデーション用下地用の化粧料を作成した。即ち、表５の成分１〜１５の混合物（イ）、及び成分１６〜１７の混合物（ロ）をそれぞれ攪拌混合し均一溶液とした。（イ）を攪拌しながら徐々に（ロ）を加えた後、静置し水性ゲルを得た。
＜実施例１３〜１５、比較例４＞
下記表７に示す処方に従って、本発明の下地用の化粧料であるアイカラー用下地用の化粧料を作成した。即ち、表６の成分１〜１３の混合物（イ）及び成分１４〜２０（ロ）を８０℃に加熱し、（ロ）を（イ）に徐々に加えて、乳化し、攪拌冷却してクリームを得た。
下記表７に示す処方に従って、本発明の下地用の化粧料であるアイカラー用下地用の化粧料を作成した。即ち、表６の成分１〜１３の混合物（イ）及び成分１４〜２０（ロ）を８０℃に加熱し、（ロ）を（イ）に徐々に加えて、乳化し、攪拌冷却してクリームを得た。
＜実施例１６〜１８、比較例５＞
下記表７に示す処方に従って、本発明の下地用の化粧料であるマスカラ用下地用の化粧料を作成した。即ち、表７の成分１〜１１を攪拌混合し粘性溶液を得た。
下記表７に示す処方に従って、本発明の下地用の化粧料であるマスカラ用下地用の化粧料を作成した。即ち、表７の成分１〜１１を攪拌混合し粘性溶液を得た。
＜試験例；フッ素含有化合物配合メークアップ料の化粧持ち試験＞
腕の内側部位に実施例１〜１８及び比較例１〜５の組成物（下地用の化粧料）を塗布した。５分間放置した後、実施例１〜４及び比較例１の下地用の化粧料塗布部位上には表８に示すフッ素含有化合物を配合したリップスティックを、実施例５〜１２及び比較例２，３の下地用の化粧料塗布部位上には表９に示すフッ素含有化合物を配合したファンデーションを、実施例１３〜１５及び比較例４の下地用の化粧料塗布部位上には表１０に示すフッ素含有化合物を配合したアイカラーを、実施例１６〜１８及び比較例５の下地用の化粧料塗布部位上には表１１に示すフッ素含有化合物を配合したマスカラを重ね塗りした。さらに５分間放置した後、腕に流水をかけながら、不織布で塗布部位を擦り、塗布したメークアップ化粧料が完全に除去されるまでの時間を測定した。結果を表１２に示す。表中の数値は塗布したメークアップ化粧料が完全に除去されるまでの時間（分）である。 これより、本発明の下地用の化粧料は何れもフッ素含有化合物を配合したメークアップ化粧料の化粧持ちを著しく向上させていることが判る。
腕の内側部位に実施例１〜１８及び比較例１〜５の組成物（下地用の化粧料）を塗布した。５分間放置した後、実施例１〜４及び比較例１の下地用の化粧料塗布部位上には表８に示すフッ素含有化合物を配合したリップスティックを、実施例５〜１２及び比較例２，３の下地用の化粧料塗布部位上には表９に示すフッ素含有化合物を配合したファンデーションを、実施例１３〜１５及び比較例４の下地用の化粧料塗布部位上には表１０に示すフッ素含有化合物を配合したアイカラーを、実施例１６〜１８及び比較例５の下地用の化粧料塗布部位上には表１１に示すフッ素含有化合物を配合したマスカラを重ね塗りした。さらに５分間放置した後、腕に流水をかけながら、不織布で塗布部位を擦り、塗布したメークアップ化粧料が完全に除去されるまでの時間を測定した。結果を表１２に示す。表中の数値は塗布したメークアップ化粧料が完全に除去されるまでの時間（分）である。 これより、本発明の下地用の化粧料は何れもフッ素含有化合物を配合したメークアップ化粧料の化粧持ちを著しく向上させていることが判る。
本発明は、フッ素含有化合物を配合したメークアップ化粧料の化粧持ちを著しく向上させる化粧料に利用することができる。
Claims (7)
- 一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上と、一般式（ＩＩ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上とを含み、且つ前記一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の含有量が全構成単位の５〜２５重量％であることを特徴とするコポリマーを含有してなる下地用の化粧料。
（式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ２は８〜２１個の置換フッ素原子を有する炭素数５〜１２のアルキル基を表す。）
（式（ＩＩ）中、Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ４は水酸基を有していてもよい炭素数２〜４のアルキレン基を表し、Ｒ５は水素原子、炭素数６〜２０の芳香族基、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、又は炭素数１〜２０のアシル基を表す。ｎは４〜５０の数値を表す。） - 前記一般式（ＩＩ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の含有量が全構成単位の２０から８０重量％である事を特徴とする、請求項１記載の下地用の化粧料
- 前記一般式（ＩＩ）で表されるモノマーが、下記一般式（ＩＩＩ）で表されるものであることを特徴とする、請求項１または２記載の下地用の化粧料。
（式（ＩＩＩ）中、Ｒ６は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ７は水素原子、炭素数６〜２０の芳香族基、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、又は炭素数１〜２０のアシル基を表す。ｑは８〜４０の数値を表す。） - フッ素含有化合物を配合したメークアップ化粧料用であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の下地用の化粧料。
- １）一般式（Ｉ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上を５〜９．８重量％、２）一般式（ＩＩ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上を３０．２〜４５重量％、及び３）一般式（ＩＶ）で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上を５０〜６０重量％含有してなるコポリマーを含有する下地用の化粧料。
（式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ２は８〜２１個の置換フッ素原子を有する炭素数５〜１２のアルキル基を表す。）
（式（ＩＩ）中、Ｒ３は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ４は水酸基を有していても良い炭素数２〜４のアルキレン基を表し、Ｒ５は水素原子、炭素数６〜２０の芳香族基、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、又は炭素数１〜２０のアシル基を表す。ｎは４〜５０の数値を表す。）
（式（ＩＶ）中、Ｒ８は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ９は炭素数１〜３のアルキル基を表す。） - 前記一般式（ＩＩ）に表されるモノマーが、下記一般式（ＩＩＩ）で表されるものであることを特徴とする、請求項５に記載の下地用の化粧料。
（式（ＩＩＩ）中、Ｒ６は水素原子又は炭素数１〜３のアルキル基を表し、Ｒ７は水素原子、炭素数６〜２０の芳香族基、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、又は炭素数１〜２０のアシル基を表す。ｑは８〜４０の数値を表す。） - フッ素含有化合物を配合したメークアップ化粧料用であることを特徴とする、請求項５または６記載の下地用の化粧料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003297230A JP2004115501A (ja) | 2002-09-04 | 2003-08-21 | 下地用の化粧料 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002258325 | 2002-09-04 | ||
| JP2003297230A JP2004115501A (ja) | 2002-09-04 | 2003-08-21 | 下地用の化粧料 |
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|---|---|
| JP2004115501A true JP2004115501A (ja) | 2004-04-15 |
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ID=32301438
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| JP2003297230A Pending JP2004115501A (ja) | 2002-09-04 | 2003-08-21 | 下地用の化粧料 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004115501A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011013293A1 (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-03 | 三好化成株式会社 | 含フッ素共重合体を配合した化粧料 |
| JP2017122073A (ja) * | 2016-01-08 | 2017-07-13 | 花王株式会社 | 水系皮膚化粧料 |
| EP3520861A1 (en) * | 2007-10-22 | 2019-08-07 | Living Proof, Inc. | Hair care compositions and methods of treating hair |
-
2003
- 2003-08-21 JP JP2003297230A patent/JP2004115501A/ja active Pending
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| WO2011013293A1 (ja) * | 2009-07-31 | 2011-02-03 | 三好化成株式会社 | 含フッ素共重合体を配合した化粧料 |
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