JP2004115501A - 下地用の化粧料 - Google Patents

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JP2004115501A
JP2004115501A JP2003297230A JP2003297230A JP2004115501A JP 2004115501 A JP2004115501 A JP 2004115501A JP 2003297230 A JP2003297230 A JP 2003297230A JP 2003297230 A JP2003297230 A JP 2003297230A JP 2004115501 A JP2004115501 A JP 2004115501A
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Koichi Iyanagi
井柳 宏一
Masae Iida
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Abstract

  【課題】 フッ素含有化合物を配合したメークアップ化粧料の効果の持続性
を向上させる下地用の化粧料を提供することを課題とする。
  【解決手段】 式(I)、(II)及び場合により(IV)のモノマーから
誘導される構成単位を含み、(I)が全構成単位の5〜25重量%であるコポリ
マー、特に好ましくは(I)5〜9.8重量%、(II)30.2〜45重量%
、(IV)50〜60重量%を含むコポリマーと、他の任意成分とを混合して下
地用の化粧料を得る。ここで、RはH又はC1〜3のアルキル基、Rは8〜
21個のFを有するC5〜12のアルキル基、RはH又はC1〜3のアルキル
基、Rは水酸基を有していてもよいC2〜4のアルキレン基、RはH、C1
〜20の芳香族基、C1〜20の脂肪族炭化水素基、又はC1〜20のアシル基
、nは4〜50を表す。
【化1】
Figure 2004115501

一般式(I)
【化2】
Figure 2004115501

一般式(II)
【化3】
Figure 2004115501

一般式(IV)
  【選択図】 なし

Description

 本発明は、化粧料に関し、更に詳細にはフッ素化合物を配合したメークアップ化粧料用に好適な下地用の化粧料に関する。
 メークアップ化粧料の重要な品質要素の一つに化粧持ちがある。即ち、化粧料によって仕上げられたメークアップが、当初のまま長い時間その仕上がりを持続することは、その人の印象形成には大きくプラスに働くが、化粧崩れなどにより、仕上がりが崩れると却ってマイナスの印象を形成してしまうことがある。この為、化粧崩れが起こらないように化粧持ちを良くすることが必要になってくる。
 化粧崩れには、大きく分けて2つのタイプがあるといえる。一つは皮膚上に塗布した化粧料が、皮脂、汗或いは風などの物理的な応力によって、皮膚から脱落してしまう化粧崩れであり、他方は、皮膚上には化粧料が存在するが、部位により、その存在確率が異なってしまう化粧崩れである。メークアップ化粧料が登場した初期の頃には、前者の崩れが主流であったが、種々の粉体の表面処理技術の開発により、汗などによって流れ去らないように工夫されて、前者の対応が為されるようになり、前者の問題は解決された。(例えば、特許文献1、特許文献2、特許文献3を参照)しかしながら、却ってこの様な表面処理をするが故に、後者のタイプの化粧崩れは深刻さを深めている。
 メークアップ化粧料に於ける、肌に塗布した場合の化粧効果の持続性を向上させる為の粉体の表面処理としては、例えば、ハイドロジェンメチルポリシロキサン焼き付け等のシリコーン処理やフッ素化アルキル基を有するシランカップリング剤によるシリル化処理が知られており、フッ素化アルキル基を有するシランカップリング剤によるシリル化処理において、後者の化粧崩れは特に深刻になっている。この様な表面処理に限らず、フッ素化合物自体が存在する場合にも同様の傾向が観察される。これは、フッ素化合物が、撥油撥水性を有するが故に、肌と親和性が低く、汗或いは皮脂などが存在した場合、肌上で化粧料が移動してしまい、化粧効果の持続性を十分に向上させ難い場合があるからである。従って、この様な化粧崩れを防ぐ手段の開発が望まれていた。
特開2003−73235号公報 特開2003−12447号公報 特開2002−194337号公報
 本発明は、このような状況下なされたものであり、表面処理された粉体などフッ素化合物を配合した化粧料、特にメークアップ化粧料用として化粧効果の持続性向上に有効な下地用の化粧料を提供することを課題とする。尚、本発明の下地用の化粧料が対象とする化粧料に配合されているフッ素化合物とは、具体的には、パーフルオロアルキルエーテル、フッ素変性シリコーン、フッ素置換炭化水素、フッ素化合物被覆粉体等が例示される。
 本発明者らは、このような状況に鑑み、フッ素化合物を配合した化粧料、特にメークアップ化粧料用として化粧効果の持続性向上に有効な下地用の化粧料を提供する手段を求めて鋭意検討した結果、特定の構成単位を特定量含有するコポリマーを配合した下地用の化粧料により上記課題を解決できることを見いだし、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明は、以下の(1)〜(7)に示される下地用の化粧料に関するものである。
(1)一般式(I)で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上と、一般式(II)で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上とを含み、且つ前記一般式(I)で表されるモノマーから誘導される構成単位の含有量が全構成単位の5〜25重量%であることを特徴とするコポリマーを含有してなる下地用の化粧料。
Figure 2004115501
一般式(I)
(式(I)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは8〜21個の置換フッ素原子を有する炭素数5〜12のアルキル基を表す。)
Figure 2004115501
一般式(II)
(式(II)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは水酸基を有していてもよい炭素数2〜4のアルキレン基を表し、Rは水素原子、炭素数6〜20の芳香族基、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、又は炭素数1〜20のアシル基を表す。nは4〜50の数値を表す。)
(2)前記一般式(II)で表されるモノマーから誘導される構成単位の含有量が全構成単位の20から80重量%であることを特徴とする、(1)記載の下地用の化粧料。
(3)前記一般式(II)で表されるモノマーが、下記一般式(III)で表されるものであることを特徴とする、(1)または(2)記載の下地用の化粧料。
Figure 2004115501
一般式(III)
 (式(III)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは水素原子、炭素数6〜20の芳香族基、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、又は炭素数1〜20のアシル基を表す。qは8〜40の数値を表す。)
(4)フッ素含有化合物を配合したメークアップ化粧料用であることを特徴とする、 (1)〜(3)の何れかに記載の下地用の化粧料。
(5)1)一般式(I)で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上を5〜9.8重量%、2)一般式(II)で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上を30.2〜45重量%、及び3)一般式(IV)で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上を50〜60重量%含有してなるコポリマーを含有してなる下地用の化粧料。
Figure 2004115501
一般式(I)
(式(I)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは8〜21個の置換フッ素原子を有する炭素数5〜12のアルキル基を表す。)
Figure 2004115501
一般式(II)
(式(II)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは水酸基を有していてもよい炭素数2〜4のアルキレン基を表し、Rは水素原子、炭素数6〜20の芳香族基、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、又は炭素数1〜20のアシル基を表す。nは4〜50の数値を表す。)
Figure 2004115501
一般式(IV)
 (式(IV)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは炭素数1〜3のアルキル基を表す。)
(6)前記一般式(II)に表されるモノマーが、下記一般式(III)で表されるものであることを特徴とする、(5)記載の下地用の化粧料。
Figure 2004115501
一般式(III)
 (式(III)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは水素原子、炭素数6〜20の芳香族基、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、又は炭素数1〜20のアシル基を表す。qは8〜40の数値を表す。)
(7)フッ素含有化合物を配合したメークアップ化粧料用であることを特徴とする、(5)又は(6)記載の下地用の化粧料。
 上記一般式(I)〜一般式(IV)で表される化合物は、ポリマー或いはコポリマーの原料として知られているものである。
 しかしながら、これらの構成単位の構成比を変えて水溶性と為し、下地用の化粧料に配合し、フッ素含有化合物を配合した化粧料、とりわけメークアップ化粧料の形成する化粧膜と肌との親和性を向上させ、化粧効果の持続性を向上させることは全く知られていなかった。
 また、そのような化粧効果の持続性向上のためには、前記コポリマーのうち、構成単位として、1)一般式(I)で表されるモノマーから誘導されるものの一種以上を5〜9.8重量%、2)一般式(II)で表されるモノマーから誘導されるものの一種以上を30.2〜45重量%、及び3)一般式(IV)に表されるモノマーから誘導されるものの一種以上を50〜60重量%含有するコポリマーが特に好ましいことも知られていなかった。
 本発明によれば、表面処理された粉体などフッ素化合物を配合した化粧料、特にメークアップ化粧料用として化粧効果の持続性向上に有効な下地用の化粧料を提供することができる。
 以下、本発明の実施の形態を説明する。
 本発明の下地用の化粧料は、一般式(I)で表されるモノマーから誘導される構成単位(以下、「構成単位(I)」という)の一種以上と、一般式(II)で表されるモノマーから誘導される構成単位(以下、構成単位(II)」という)の一種以上とを、構成単位として含むコポリマーを必須成分として含有するものである。
1)構成単位(I)
 本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーの必須構成単位の一つは、以下の一般式(I)で表されるモノマーから誘導される構成単位(I)である。
Figure 2004115501
一般式(I)
 ここで、式(I)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは8〜21個の置換フッ素原子を有する炭素数5〜12のアルキル基を表す。Rのアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、1−メチルエチル基、シクロプロピル基等が例示できる。Rとして好ましいものは、水素原子又はメチル基である。
 Rで表される8〜21個の置換フッ素原子を有する炭素数5〜12のアルキル基としては、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチル基、1H,1H,2H,2H−ノナフルオロヘキシル基、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチル基、1H,1H−トリデカフルオロヘプチル基、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシル基、1H、1H、11H−エイコサフルオロウンデシル基等が好ましく例示できる。
 このような一般式(I)で表される化合物は、アクリル酸又はα−アルキルアクリル酸から誘導される酸クロリドと、フッ素原子を含むアルコールとをアルカリ存在下縮合することにより得ることができる。また、このような一般式(I)で表される化合物の中には既に市販されているものがあり、それを利用することもできる。このような市販品の例としては、商品名「ビスコート8F」、「ビスコート8FM」、「ビスコート17F」、「ビスコート17FM」(いずれも大阪有機化学製)等が挙げられる。
 本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーにおいて、上記構成単位(I)は1種のみでもよいが、該一般式(I)を満たすものであれば2種以上を組み合わせて構成単位とすることもできる。
 本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーにおいては、前記構成単位(I)の1種以上を、該コポリマーを構成する全構成単位に対して、総量で5〜25重量%、好ましくは5〜20重量%、より好ましくは5〜9.8重量%、更に好ましくは7〜9.8重量%含有する。
 これは、本発明の下地用の化粧料により形成する化粧膜とフッ素含有化合物を配合した化粧料の形成する化粧膜との親和性を向上し、結果としてフッ素含有化合物を配合した化粧料の化粧効果の持続性を向上し、かつ、製剤化を好適に行うためには一般式(I)で表されるモノマーから誘導される構成単位(I)は上記範囲内に含有量を定めるのが好ましい。
2)構成単位(II)
 本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーの必須構成単位のもう一つは、以下の一般式(II)で表されるモノマーから誘導される構成単位(II)である。
Figure 2004115501
一般式(II)
( 式(II)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは水酸基を有していてもよい炭素数2〜4のアルキレン基を表し、Rは水素原子、炭素数6〜20の芳香族基、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、又は炭素数1〜20のアシル基を表す。nは4〜50の数値を表す。)
 Rのアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、1−メチルエチル基、シクロプロピル基が例示できる。Rとして好ましくは、水素原子又はメチル基である。Rのアルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、1−メチルエチレン基、2−メチルエチレン基、2−ヒドロキシプロピレン基、1−ヒドロキシ−2−メチルエチレン基、2−ヒドロキシ−1−メチルエチレン基などが好ましく例示できる。これらのうち、好ましいものはエチレン基又は2−ヒドロキシプロピレン基である。
 Rの基のうち、炭素数6〜20の芳香族基としては、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基等が例示できる。
 炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、ターシャリーブチル基、ヘキシル基、シクロへキシル基、オクチル基、2−エチルへキシル基、ラウリル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基、オレイル基などが好適に例示できる。炭素数1〜20のアシル基としては、アセチル基、ブテノイル基、カプリロイル基、カプリノイル基、ベンゾイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、オレオイル基などが好適に例示できる。
 これらのうち、Rの基として特に好ましいものは、炭素数1〜12のアルキル基(脂肪族炭化水素基)である。nは4〜50の数値であり、好ましくは8〜40である。
 このような一般式(II)で表されるモノマーのうち特に好ましいものとして、一般式(III)で表されるものが挙げられる。
Figure 2004115501
一般式(III)
(式(III)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは水素原子、炭素数6〜20の芳香族基、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、又は炭素数1〜20のアシル基を表す。qは8〜40の数値を表す。)
 このような一般式(III)で表されるモノマーを具体的に例示すれば、ポリエチレングリコール(9)モノアクリレート、ポリエチレングリコール(9)モノメタクリレート、メチルポリオキシエチレン(9)アクリレート、メチルポリオキシエチレン(9)メタクリレート、オクチルフェニルポリオキシエチレン(10)アクリレート、オクチルフェニルポリオキシエチレン(10)メタクリレート、ノニルフェニルポリオキシエチレン(15)アクリレート、ノニルフェニルポリオキシエチレン(15)メタクリレート、オレイルポリオキシエチレン(18)アクリレート、オレイルポリオキシエチレン(18)メタクリレート、ポリエチレングリコール(23)モノアクリレート、ポリエチレングリコール(23)モノメタクリレート、メチルポリオキシエチレン(23)アクリレート、メチルポリオキシエチレン(23)メタクリレート、セチルポリオキシエチレン(23)アクリレート、セチルポリオキシエチレン(23)メタクリレート、ドデシルポリオキシエチレン(23)アクリレート、ドデシルポリオキシエチレン(23)メタクリレート、ラウロイルポリオキシエチレン(10)アクリレート、ラウロイルポリオキシエチレン(10)メタクリレート、ステアロイルポリオキシエチレン(40)アクリレート、ステアロイルポリオキシエチレン(40)メタクリレート等があげられる。なお、カッコ内の数字はnの値を示す。
 これらのモノマーは、対応するポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールモノエーテル、ポリエチレングリコールモノエステルとアクリル酸又はメタクリル酸のクロライド、無水物とのエステル化反応により高収率で得ることができる。既に市販品も多数存在するので、かかる市販品を利用することも可能である。
 本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーにおいて、上記構成単位(II)は1種のみでもよいが、該一般式(II)を満たすものであれば2種以上を組み合わせることもできる。
 前記コポリマーにおいては、構成単位(II)の割合は、該コポリマーを構成する全構成単位に対して、総量で20〜80重量%(平均重量百分率)とするのが好ましく、より好ましくは25重量%〜75%、更に好ましくは30.2〜45重量%である。
 これは本発明の下地用の化粧料が形成する化粧膜と肌との親和性を向上させ、結果として、フッ素含有化合物を配合した化粧料の化粧効果の持続性を向上させるためには、本発明の下地用の化粧料が形成する化粧膜の物性おいては親水性と疎水性の両者の性質が必要となるからであり、一般式(II)で表されるモノマーから誘導される構成単位(II)は上記範囲内に含有量を定めるのが好ましい。
3)その他の構成単位
 本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーは、上記構成単位(I)及び(II)以外に、種々の構成単位を含有することができる。
 そのなかで、一般式(IV)で表されるモノマーから誘導される構成単位(以下、「構成単位(IV)」という)を含有することが好ましい。
Figure 2004115501
一般式(IV)
ここで、式(IV)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは炭素数1〜3のアルキル基を表す。Rで表される基のうち、アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、1−メチルエチル基、シクロプロピル基が例示できる。Rの好ましいものとしては、水素原子又はメチル基が挙げられる。Rで表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、1−メチルエチル基、シクロプロピル基が例示でき、これらのうちではメチル基が好ましい。
 一般式(IV)で表されるモノマーを具体的に例示すれば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル等が挙げられ、ほとんどが市販品として入手可能である。
 本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーにおいて、構成単位として前記構成単位(IV)を含める場合、該構成単位(IV)は1種のみでもよいが、一般式(IV)を満たすものであれば2種以上を組み合わせることもできる。
 前記コポリマーにおいて、構成単位(IV)の1種以上を含める場合、該構成単位の好ましい含有量は、コポリマーを構成する全構成単位に対して、総量で50〜60重量%である。構成単位(IV)を上記割合で含有することにより、コポリマーの作る被膜の強度を向上させることができる。
 本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーでは、これらの構成単位以外に、通常共重体で使用されるモノマーから誘導されるものを任意に構成単位として、本発明の効果を損なわない範囲に於いて含有することができる。かかる任意の構成単位を誘導するモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸マレイン酸等の重合性カルボン酸、アクリル酸アミド、メタクリル酸アミド、アクリル酸モノアルキルアミド、メタクリル酸モノアルキルアミド等の(メタ)アクリル酸アミド類、(メタ)アクリル酸nブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸nヘキシル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸nオクチル、(メタ)アクリル酸2エチルヘキシル等の炭素数4以上のアルキル基(脂肪族炭化水素基)を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル、(メタ)アクリル酸ベンジル等の(メタ)アクリル酸アリールエステル、2ヒドロキエチル(メタ)アクリレート、2ヒドロキプロピル(メタ)アクリレート、4ヒドロキブチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸ヒドキロキシアルキルエステル、(メタ)アクリル酸メトキシメチル、メタ)アクリル酸メトキシエチル等の(メタ)アクリル酸アルコキシアルキルエステル、1H,1H−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、1H,1H,3H−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1H−ヘキサフルオロイソロピル(メタ)アクリレート等の7個以下の置換フッ素原子を有するフルオロアルキル(メタ)アクリレート、酢酸ビニル、ビニルピロリドン、スチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル等が例示できる。
 本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーは、上記構成単位(I)及び(II)、さらに場合により構成単位(IV)並びに他の構成単位を、その骨格中に含有する共重合体であり、通常はその構成単位がランダムに結合したランダム共重合体であるが、ブロック共重合体あるいはグラフト共重合体であってもよい。また、その平均分子量は、特に制限はないが、好ましくは、GPC(ゲルパーミエイションクロマトグラフィー)で測定したポリエチレングリコール換算の 重量平均分子量が5,000 〜300,000、より好ましくは、7,000〜200,000程度である。
 本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーの製造方法は特に限定されないが、各構成単位を誘導するモノマーを溶媒中で混合し、アクリル系モノマーの重合で通常用いられる方法にしたがって、重合反応を行うことにより得ることができる。
 本発明の下地用の化粧料は、必須成分である上記コポリマーと、通常化粧料で使用される他の任意の成分とから構成される。
 ここで、上記コポリマーは、唯一種を含有することもできるし、二種以上を組み合わせて含有することもできる。
 本発明の下地用の化粧料に於けるコポリマーの好ましい含有量は、総量で0.1〜50重量%であり、更に好ましくは1〜40重量%である。コポリマーの含有量が少なすぎると、フッ素含有化合物を配合した化粧料の化粧効果の持続性を十分に向上させることができない場合があり、多すぎると製剤化が困難になる場合がある。
 本発明の下地用の化粧料において、上記コポリマー以外の任意の成分としては、例えば、スクワラン、流動パラフィン、軽質流動イソパラフィン、重質流動イソパラフィン、マイクロクリスタリンワックス、固形パラフィンなどの炭化水素類、ジメチコン、フェニルコン、シクロメチコン、アモジメチコン、ポリエーテル変性シリコーンなどのシリコーン類、ホホバ油、カルナウバワックス、モクロウ、ミツロウ、ゲイロウ、オレイン酸オクチルドデシル、イソプロピルミリステート、ネオペンチルグリコールジイソステアレート、リンゴ酸ジイソステアレートなどのエステル類、ステアリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、イソステアリン酸、イソパルミチン酸、ベヘン酸、オレイン酸などの脂肪酸類、ベヘニルアルコール、セタノール、オレイルアルコール、オクタデシルアルコールなどの高級アルコール類、ヒマシ油、椰子油、水添椰子油、椿油、小麦胚芽油、イソステアリン酸トリグリセライド、イソオクタン酸トリグリセライド、オリーブオイル等のトリグリセライド類、1,3−ブタンジオール、グリセリン、ジグリセリン、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、1,2−ペンタンジオール、1,2−ヘキシレングリコール、イソプレングリコールなどの多価アルコール、ソルビタンセスキオレート、ソルビタンモノオレート、ソルビタントリオレート、ソルビタンセスキステアレート、ソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンステアレート、ポリオキシエチレンオレート、ポリオキシエチレングリセリル脂肪酸エステル、ポリエキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油等の非イオン界面活性剤、ソジウムラウリルステアレート、ポリオキシエチレンアルキル硫酸塩、スルホコハク酸エステル塩などのアニオン界面活性剤、4級アルキルアンモニウム塩等のカチオン界面活性剤類、アルキルベタイン等の両性界面活性剤類、レシチン、ホスファチジルエタノールアミン、ホスファチジルグリセロール、リゾレシチン等のリン脂質、結晶セルロースや架橋型メチルポリシロキサン、ポリエチレン粉末、アクリル樹脂粉体等の有機粉体類、タルク、マイカ、セリサイト、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、二酸化チタン、酸化鉄、紺青、群青、チタンマイカ、チタンセリサイト、シリカ等の表面処理されていても良い粉体類、アクリル酸・メタクリル酸アルキルコポリマー及び/又はその塩、カルボキシビニルポリマー及び/又はその塩、キサンタンガムやヒドロキシプロピルセルロースなどの増粘剤、レチノール、レチノイン酸、トコフェロール、リボフラビン、ピリドキシン、アスコルビン酸、アスコルビン酸リン酸エステル塩などのビタミンやグリチルリチン酸塩、グリチルレチン、ウルソール酸、オレアノール酸などのテルペン類、エストラジオール、エチニルエストラジオール、エストリオールなどのステロイド類などの有効成分、フェノキシエタノール、パラベン類、ヒビテングルコネート、塩化ベンザルコニウム等の防腐剤、ジメチルアミノ安息香酸エステル類、桂皮酸エステル類、ベンゾフェノン類などの紫外線吸収剤などが好ましく例示できる。これらは用途などに応じて適宜選択される。
 本発明の下地用の化粧料は、これらの必須成分及び任意成分を常法に従って処理することにより製造することができる。本発明の下地用の粧料の必須成分であるコポリマーは、本質的には、水溶性であり、下地用の化粧料にコポリマーを含有させる方法としては、予めコポリマーを溶解した水溶液を作成しておき、これと下地用の化粧料を構成する他の成分とともに処置させることがが好ましい。ここで、本発明で言う下地用の化粧料とは、かかる化粧料を塗布した後に、更にその上に化粧料を塗布されることを必須とする、化粧料の総称を意味し、例えば、アンダーメークアップ化粧料、コントロールカラー、コンシーラー、重層メークアップ化粧料セットに於ける下層用のメークアップ化粧料等が好ましく例示できる。かかる下地用の化粧料の剤形としては、通常の化粧料の剤形として知られているものであれば特段の限定はされず、例えば、2層分散剤形も含むローション剤形、乳化剤形、ゲル状剤形、固形粉体剤形などが好ましく例示できる。
 かくして得られた本発明の下地用の化粧料は、肌上に肌及びフッ素含有化合物を配合した化粧料の形成する化粧膜との優れた親和性を有し、結果としてフッ素含有化合物を配合した化粧料の化粧効果の持続性を向上させる。
 以下に、本発明の必須構成要素であるコポリマーの製造例を挙げる。
1)構成単位(I)を誘導する一般式(I)で表されるモノマーの製造例
製造例1
 フルオロアルコールとしての1H,1H,2H,2H−ノナフルオロ−1−ヘキサノール52.8g、トリエチルアミン50gをテトラヒドロフラン500mlに溶解した。氷冷、攪拌を行いながら、この溶液に、酸クロライドとしてのアクリル酸クロライド18.1gをテトラヒドロフラン100mlに溶解した溶液を、2時間かけて滴下した。滴下終了後生成した白色沈澱を濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて濾液からテトラヒドロフラン及びトリエチルアミンを除去した。NMR測定により得られた化合物が1H,1H,2H,2H−ノナフルオロヘキシルアクリレートであることが確認された。
製造例2〜5
 製造例1に準じて原料を変え、一般式(I)で表されるモノマーを製造した。結果を表1に示す。
Figure 2004115501
2)構成単位(II)を誘導する一般式(II)で表されるモノマーの製造例
製造例6
ポリエチレングリコール化合物としてのポリエチレングリコール#400 80g、トリエチルアミン50gをテトラヒドロフラン500mlに溶解した。氷冷、攪拌を行いながら、この溶液に、酸クロライドとしてのメタクリル酸クロライド10.5gをテトラヒドロフラン100mlに溶解した溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後生成した白色沈澱を濾過し、ロータリーエバポレーターを用いて濾液からテトラヒドロフラン及びトリエチルアミンを除去した。NMR測定により得られた化合物がポリエチレングリコール(9)モノメタクリレートであることが確認された。
製造例7〜11
 製造例6に準じて、原料を変えて一般式(II)に表されるモノマーを作成した。結果を表2に示す。
Figure 2004115501
3)本発明の下地用の化粧料の必須成分であるコポリマーの製造例
製造例12
 窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート(大阪有機化学製、商品名「ビスコート17F」)12.7g、メチルポリオキシエチレン(23)メタクリレート(新中村化学製、商品名「NKエステルM−230G」)52.7g、メチルメタクリレート(東京化成製)69.7g、及びイソプロピルアルコール300ml、水200mlからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、1時間窒素ガス置換を行った。過硫酸アンモニウム2.3gを水20mlに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、65℃で16時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールを除去してコポリマー1の水溶液を得た。
製造例13
 窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、1H,1H,7H−ドデカフルオロヘプチルメタクリレート(製造例2の化合物)1.2g、1H、1H、11H−エイコサフルオロウンデシルアクリレート(製造例5の化合物)3.0g、ステアロイルポリオキシエチレン(40)アクリレート(製造例11)22.8g、エチルアクリレート33.0g、及びエチルアルコール200ml、水100mlからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、1時間窒素ガス置換を行った。過硫酸アンモニウム1.0gを水10mlに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、70℃で12時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールを除去してコポリマー2の水溶液を得た。
製造例14
 窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、1H,1H−トリデカフルオロヘプチルアクリレート(製造例3の化合物)3.1g、メチルポリオキシエチレン(9)アクリレート(新中村化学製、商品名「NKエステルAM−90G」)9.5g、オレイルポリオキシエチレン(18)メタクリレート(製造例8の化合物)12.0g、メタクリル酸イソプロピル(東京化成製)35.4g、及び酢酸エチル300mlを採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、1時間窒素ガス置換を行った。過酸化ベンゾイル0.5gを酢酸エチル10mlに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、8時間のリフラックスにより反応を行った。反応終了後、水をこの溶液に添加し、フラッシングを行ってコポリマー3の水溶液を得た。
製造例15
 窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、1H、1H、11H−エイコサフルオロウンデシルアクリレート(製造例5の化合物)4.8g、ステアロイルポリオキシエチレン(40)アクリレート(製造例11の化合物)22.2g、メチルメタクリレート(東京化成製)24.0g、エチルメタクリレート(東京化成製)9.0g、及びイソプロピルアルコール200ml、水100mlからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、1時間窒素ガス置換を行った。過硫酸アンモニウム1.0gを水10mlに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、70℃で18時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールを除去してコポリマー4の水溶液を得た。 
製造例16
 窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、1H,1H−ペンタデカフルオロオクチルメタクリレート(製造例4の化合物)8.0g、ラウロイルポリオキシエチレン(10)アクリレート(製造例10の化合物)32.0g及びイソプロピルアルコール200mlを採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、1時間窒素ガス置換を行った。過酸化ベンゾイル0.5gをイソプロピルアルコール10mlに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、80℃で8時間反応を行った。反応終了後、大量のn−へキサンにこの溶液に添加し、生成した沈殿を乾燥した後水に溶解してコポリマー5の水溶液を得た。
製造例17
 窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、1H,1H−トリデカフルオロヘプチルアクリレート(製造例3の化合物)9.0g、ポリエチレングリコール(9)モノメタクリレート(製造例6の化合物)36.0g、メタクリル酸nブチル(東京化成製)15.0g及び酢酸エチル300mlを採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、1時間窒素ガス置換を行った。過酸化ベンゾイル0.5gを酢酸エチル10mlに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、8時間のリフラックスにより反応を行った。反応終了後、水をこの溶液に添加し、フラッシングを行ってコポリマー6の水溶液を得た。
製造例18
 窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート(大阪有機化学製、商品名「ビスコート17F」)6.0g、1H,1H−トリフルオロエチルメタクリレート(大阪有機化学製、商品名「ビスコート3FM」)18.0g、メチルポリオキシエチレン(23)メタクリレート(新中村化学製、商品名「NKエステルM−230G」)24.0g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(東京化成製)12.0g及びイソプロピルアルコール180ml、水120mlからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、1時間窒素ガス置換を行った。過硫酸アンモニウム1.0gを水10mlに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、70℃で12時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールを除去してコポリマー7の水溶液を得た。
製造例19
 窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、1H,1H,11H−エイコサフルオロウンデシルアクリレート(製造例5の化合物)1.2g、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルメタクリレート(大阪有機化学製、商品名「ビスコート8FM」)1.6g、オレイルポリオキシエチレン(18)メタクリレート(製造例8の化合物)26.0g、スチレン(東京化成製)11.2g及びトルエン250mlを採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、1時間窒素ガス置換を行った。アゾビスイソブチロニトリル0.5gをトルエン10mlに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、70℃で8時間反応を行った。反応終了後、反応終了後、水をこの溶液に添加し、フラッシングを行って本発明のコポリマー8の水溶液を得た。
製造例20
 窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、1H,1H,2H,2H−ノナフルオロヘキシルアクリレート(製造例1の化合物)3.6g、ノニルフェニルポリオキシエチレン(15)アクリレート(製造例7の化合物)18.0g、ポリオキシエチレン(23)モノメタクリレート(製造例9の化合物)18.0g、エチルアクリレート(東京化成製)20.4g及びエチルアルコール150ml、水150mlからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、1時間窒素ガス置換を行った。過硫酸カリウム1.0gを水10mlに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、80℃で12時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでエチルアルコールを除去してコポリマー9の水溶液を得た。
製造例21
 窒素導入管、冷却器及び攪拌装置を備えたフラスコに、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート(大阪有機化学製「ビスコート17F」)5.6g、メチルポリオキシエチレン(23)メタクリレート(新中村化学製「NKエステルM−230G」)24.0g、メチルメタクリレート(東京化成製)18.0g、2−ヒドロキシエチルメタクリレート(東京化成製)12.0g及びイソプロピルアルコール180ml、水120mlからなる混合溶媒を採り攪拌混合した。攪拌を続けながら、1時間窒素ガス置換を行った。過硫酸アンモニウム1.0gを水10mlに溶解した溶液を加え、更に攪拌を続けながら、70℃で12時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレーターでイソプロピルアルコールを除去してコポリマー10水溶液を得た。
 以下に、実施例を挙げて、本発明について、更に詳細に説明を加えるが、本発明がこの様な実施例にのみ、限定されないことは言うまでもない。
<実施例1〜4、比較例1>
 下記に示す処方に従って、本発明の下地用の化粧料であるファンデーション、リップ用下地用の化粧料を作成した。即ち、表3の成分1〜11の混合物(イ)及び成分12〜19(ロ)を80℃に加熱し、(ロ)を(イ)に徐々に加えて、乳化し、攪拌冷却してクリームを得た。
 なお、以下、下地用の化粧料の処方実施例及び比較例を記載した表中の数値はいずれも重量%を表す。
Figure 2004115501
<実施例5〜8、比較例2>
 下記に示す処方に従って、本発明の下地用の化粧料であるファンデーション用下地用の化粧料を作成した。即ち、表4の成分1〜13の混合物(イ)及び成分14〜20(ロ)を80℃に加熱し、(ロ)を(イ)に徐々に加えて、乳化し、攪拌冷却してクリームを得た。
Figure 2004115501
<実施例9〜12、比較例3>
 下記に示す処方に従って、本発明の下地用の化粧料であるファンデーション用下地用の化粧料を作成した。即ち、表5の成分1〜15の混合物(イ)、及び成分16〜17の混合物(ロ)をそれぞれ攪拌混合し均一溶液とした。(イ)を攪拌しながら徐々に(ロ)を加えた後、静置し水性ゲルを得た。
Figure 2004115501
<実施例13〜15、比較例4>
 下記表7に示す処方に従って、本発明の下地用の化粧料であるアイカラー用下地用の化粧料を作成した。即ち、表6の成分1〜13の混合物(イ)及び成分14〜20(ロ)を80℃に加熱し、(ロ)を(イ)に徐々に加えて、乳化し、攪拌冷却してクリームを得た。
Figure 2004115501
<実施例16〜18、比較例5>
 下記表7に示す処方に従って、本発明の下地用の化粧料であるマスカラ用下地用の化粧料を作成した。即ち、表7の成分1〜11を攪拌混合し粘性溶液を得た。
Figure 2004115501
<試験例;フッ素含有化合物配合メークアップ料の化粧持ち試験>
 腕の内側部位に実施例1〜18及び比較例1〜5の組成物(下地用の化粧料)を塗布した。5分間放置した後、実施例1〜4及び比較例1の下地用の化粧料塗布部位上には表8に示すフッ素含有化合物を配合したリップスティックを、実施例5〜12及び比較例2,3の下地用の化粧料塗布部位上には表9に示すフッ素含有化合物を配合したファンデーションを、実施例13〜15及び比較例4の下地用の化粧料塗布部位上には表10に示すフッ素含有化合物を配合したアイカラーを、実施例16〜18及び比較例5の下地用の化粧料塗布部位上には表11に示すフッ素含有化合物を配合したマスカラを重ね塗りした。さらに5分間放置した後、腕に流水をかけながら、不織布で塗布部位を擦り、塗布したメークアップ化粧料が完全に除去されるまでの時間を測定した。結果を表12に示す。表中の数値は塗布したメークアップ化粧料が完全に除去されるまでの時間(分)である。 これより、本発明の下地用の化粧料は何れもフッ素含有化合物を配合したメークアップ化粧料の化粧持ちを著しく向上させていることが判る。
Figure 2004115501
Figure 2004115501
Figure 2004115501
Figure 2004115501
Figure 2004115501
 本発明は、フッ素含有化合物を配合したメークアップ化粧料の化粧持ちを著しく向上させる化粧料に利用することができる。

Claims (7)

  1. 一般式(I)で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上と、一般式(II)で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上とを含み、且つ前記一般式(I)で表されるモノマーから誘導される構成単位の含有量が全構成単位の5〜25重量%であることを特徴とするコポリマーを含有してなる下地用の化粧料。
    Figure 2004115501
    一般式(I)
    (式(I)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは8〜21個の置換フッ素原子を有する炭素数5〜12のアルキル基を表す。)
    Figure 2004115501
    一般式(II)
    (式(II)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは水酸基を有していてもよい炭素数2〜4のアルキレン基を表し、Rは水素原子、炭素数6〜20の芳香族基、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、又は炭素数1〜20のアシル基を表す。nは4〜50の数値を表す。)
  2. 前記一般式(II)で表されるモノマーから誘導される構成単位の含有量が全構成単位の20から80重量%である事を特徴とする、請求項1記載の下地用の化粧料  
  3. 前記一般式(II)で表されるモノマーが、下記一般式(III)で表されるものであることを特徴とする、請求項1または2記載の下地用の化粧料。
    Figure 2004115501
    一般式(III)
    (式(III)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは水素原子、炭素数6〜20の芳香族基、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、又は炭素数1〜20のアシル基を表す。qは8〜40の数値を表す。)
  4. フッ素含有化合物を配合したメークアップ化粧料用であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の下地用の化粧料。
  5. 1)一般式(I)で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上を5〜9.8重量%、2)一般式(II)で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上を30.2〜45重量%、及び3)一般式(IV)で表されるモノマーから誘導される構成単位の一種以上を50〜60重量%含有してなるコポリマーを含有する下地用の化粧料。
    Figure 2004115501
    一般式(I)
    (式(I)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは8〜21個の置換フッ素原子を有する炭素数5〜12のアルキル基を表す。)
    Figure 2004115501
    一般式(II)
    (式(II)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは水酸基を有していても良い炭素数2〜4のアルキレン基を表し、Rは水素原子、炭素数6〜20の芳香族基、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、又は炭素数1〜20のアシル基を表す。nは4〜50の数値を表す。)
    Figure 2004115501
    一般式(IV)
    (式(IV)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは炭素数1〜3のアルキル基を表す。)
  6. 前記一般式(II)に表されるモノマーが、下記一般式(III)で表されるものであることを特徴とする、請求項5に記載の下地用の化粧料。
    Figure 2004115501
    一般式(III)
    (式(III)中、Rは水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表し、Rは水素原子、炭素数6〜20の芳香族基、炭素数1〜20の脂肪族炭化水素基、又は炭素数1〜20のアシル基を表す。qは8〜40の数値を表す。)
  7. フッ素含有化合物を配合したメークアップ化粧料用であることを特徴とする、請求項5または6記載の下地用の化粧料。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011013293A1 (ja) * 2009-07-31 2011-02-03 三好化成株式会社 含フッ素共重合体を配合した化粧料
JP2017122073A (ja) * 2016-01-08 2017-07-13 花王株式会社 水系皮膚化粧料
EP3520861A1 (en) * 2007-10-22 2019-08-07 Living Proof, Inc. Hair care compositions and methods of treating hair

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