JP2004113984A - 紫外線照射装置 - Google Patents
紫外線照射装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004113984A JP2004113984A JP2002283814A JP2002283814A JP2004113984A JP 2004113984 A JP2004113984 A JP 2004113984A JP 2002283814 A JP2002283814 A JP 2002283814A JP 2002283814 A JP2002283814 A JP 2002283814A JP 2004113984 A JP2004113984 A JP 2004113984A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lamp
- ultraviolet
- workpiece
- discharge vessel
- excimer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
【解決手段】被処理物Wの搬送路T上に下面を開口されたランプハウス2が配置されると共に、このランプハウス2内に真空紫外線を放射するエキシマランプ1が、このエキシマランプ1の放電容器1aと搬送路T上の被処理物Wとの間が10mm以下の間隔となるように装着された開放型の紫外線照射装置において、このランプハウス2におけるエキシマランプ1よりも搬送路Tの上流側の側壁2dの下部を、このエキシマランプ1の放電容器1aの下面よりも下方に突出させて高さ制限部とした構成とする。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、エキシマランプ等の紫外線ランプから放射される真空紫外線を被処理物に照射する紫外線照射装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のエキシマランプ1は、図4に示すように、合成石英ガラス製の内管と外管を同心状に配置し、これら内外管の間隙にキセノン等の放電用ガスを充填して両端を密閉した二重円筒状の放電容器1aを用いたものが多かった(例えば、特許文献1参照。)。このエキシマランプ1は、放電容器1aの内管の内周と外管の外周に電極1b,1cを配置し、これらの電極1b,1c間に高周波の高電圧を印加することにより、放電用ガスにエキシマ発光を行わせるようにしたものであり、外管の外周の電極1cの網目の隙間から紫外線を円筒状の周囲に放射するようになっている。このようにしてエキシマランプ1から放射される紫外線は、中心波長が172nm(放電用ガスがキセノンの場合であり、以下同じ)の高エネルギーの真空紫外線となるので、主に185nmと254nmの波長の紫外線を放射する低圧水銀灯を用いる場合よりも効率のよい精密洗浄等を行うことができる。
【0003】
真空紫外線は、波長が200nm以下50nm以上の範囲の紫外線をいう。この真空紫外線は、空気中の酸素に吸収されてオゾンを発生させるので、この空気中で、液晶表示装置のガラス基板や半導体ウエハ等の被処理物の表面に照射することにより、発生したオゾンと透過した真空紫外線の相乗効果によって被処理物の表面の有機物等を分解飛散させて洗浄を行うことができる。ただし、この真空紫外線は、酸素に吸収されるために、空気中では直ぐに減衰して短い距離しか到達することができず、しかも、波長が短くなるほど空気中での吸収率が急激に上昇する。即ち、空気中では、例えば波長が185nmの場合には、10mm程度の距離を進む間に約10%の真空紫外線が吸収されることになるが、波長が172nmの場合には、さらに短い距離で真空紫外線のほとんどが吸収される。
【0004】
上記のように、波長が172nmの高エネルギーの真空紫外線を放射するエキシマランプ1を用いる精密洗浄用の紫外線照射装置は、空気中で搬送される被処理物の上方3〜5mm以内の極めて短い距離から真空紫外線を照射しなければ、この真空紫外線が被処理物の表面に十分に到達しないことになる。そこで、従来は、図5に示すように、内部を窒素ガスで満たしたランプハウス2内にエキシマランプ1を収納した紫外線照射装置を用いていた。このランプハウス2は、アルミニウム製の筐体の下面に合成石英ガラス製のガラス板2aを嵌め込んだものであり、この筐体の内部には、複数本のエキシマランプ1が並べて取り付けられると共に、各エキシマランプ1の両側上方に反射板2bが配置されている。また、このランプハウス2には、側面に貫通して取り付けられたガスポート2cを通して窒素ガス(N2)が供給され、この筐体内部を窒素ガスパージするようになっている。被処理物Wは、この紫外線照射装置の下方を搬送され、この被処理物Wの表面とランプハウス2のガラス板2aとの間隙d0が1〜5mm程度となるようにしている。従って、エキシマランプ1から放射された真空紫外線は、筐体内部を通ってガラス板2aを透過し、空気中を通って被処理物の表面に照射される。この際、二重円筒状の放電容器1aから周囲に放射状に放射された真空紫外線は、直接又は反射板2bで反射されてガラス板2aに到達することになり、その放射角度に応じてガラス板2aに至るまでの距離がそれぞれ異なるようになるが、いずれの場合も窒素ガスパージされた筐体内部を通るので、この間に酸素に吸収されることがなく、距離が長い場合にも大幅に減衰するようなことがなくなる。そして、これにより、ガラス板2aを透過した真空紫外線は、空気中の1〜5mm程度の間隙を通って被処理物Wの表面にほぼ均等に照射することができるようになる。
【0005】
上記二重円筒状の放電容器1aに代えて、方形箱形の放電容器1aを用いたエキシマランプ1も開発されている(例えば、特許文献2参照。)。図6に薄く細長い方形箱形の放電容器1aを用いたエキシマランプ1の例を示す。このエキシマランプ1は、放電容器1aの下面が平坦であるため、この下面を被処理物Wの表面の上方に1〜5mm程度の間隙を開けて配置することにより、周囲を窒素ガス等の不活性ガスでガスパージすることなく直接空気中に配置することができる。
【0006】
【特許文献1】
特開2001−243920号公報(図4)
【特許文献2】
特開2000−260396号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、図6に示すような方形箱形のエキシマランプ1は、被処理物Wの搬送路の上方にガラス板2a等で保護されることなく、僅かな間隔を開けて直接配置されるので、例えば被処理物Wが搬送路上の異物に乗り上げて本来よりも高い位置で搬送されたり、この被処理物Wの厚さを薄いものと勘違いすることによりランプハウス2の配置高さを低く設定したりした場合等に、この被処理物Wがエキシマランプ1の放電容器1aに衝突して破損させたり下面に擦れて電極1cを剥がすおそれがあるという問題があった。
【0008】
本発明は、かかる事情に対処するためになされたものであり、ランプハウスに紫外線ランプよりも低い高さ制限部を設けることにより、被処理物がこの紫外線ランプに衝突したり擦れるのを確実に防止することができる紫外線照射装置を提供することを目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】
請求項1の紫外線照射装置は、被処理物の搬送路上に下面を開口されたランプハウスが配置されると共に、このランプハウス内に真空紫外線を放射する紫外線ランプが、この紫外線ランプの放電容器と搬送路上の被処理物との間が10mm以下の間隔となるように装着された開放型の紫外線照射装置において、このランプハウスの下部における紫外線ランプよりも搬送路の上流側に、この紫外線ランプの放電容器の下端と面一まで、又は、この下端よりも下方に突出する高さ制限部が形成されたことを特徴とする。
【0010】
紫外線ランプの放電容器と被処理物との間が10mm以下の極めて狭い間隔となる場合、この被処理物は、搬送路との間に異物が挟まったり本来より背の高いものが搬送されたような場合に、紫外線ランプの放電容器の下端と同じか、この下端よりも高い位置を搬送されることが多くなる。しかしながら、請求項1の発明によれば、このように高い位置を被処理物が搬送されて来ると、この紫外線ランプの位置に到達する前にランプハウスの高さ制限部に当たり搬送が阻止されることになるので、この紫外線ランプが破損するのを防止することができるようになる。
【0011】
なお、高さ制限部は、ランプハウスの最上流側の下部にのみ形成してもよいし、複数の紫外線ランプが装着されている場合には、下流のいずれかの紫外線ランプの直ぐ上流側に形成することもでき、各紫外線ランプの上流側にそれぞれ形成することもできる。
【0012】
請求項2の紫外線照射装置は、前記紫外線ランプが、搬送路の搬送方向にほぼ直交する水平方向の両端部に装着用の口金が取り付けられたものであり、前記高さ制限部の両端部に、この紫外線ランプの口金の下端と面一まで、又は、この下端よりも下方に突出した両端保護部が形成されたことを特徴とする。
【0013】
被処理物が搬送路上の正規の位置を搬送される場合には、紫外線ランプの両端部の口金よりも内側となる真空紫外線の照射位置の下方を通る。ただし、この被処理物が搬送方向に直交する幅方向にずれて搬送された場合には、端部が口金の下方を通ることになる。そして、紫外線ランプの口金は、放電容器の下端よりも下方にはみ出しているので、被処理物がこの放電容器の下端には達しないが僅かに高い位置を搬送された場合には、端部がこの口金に衝突してこの口金やさらには放電容器まで破損するおそれがある。また、被処理物が正規の高さ位置であっても、幅方向にずれて搬送されただけで、放電容器の下端よりも下方に突出する口金に衝突する場合もあり得る。しかしながら、請求項2の発明によれば、被処理物が幅方向にずれて紫外線ランプの口金の下端と同じか、この下端よりも高い位置を搬送されて来ると、この口金の位置に到達する前に両端保護部に当たり搬送が阻止されることになるので、この紫外線ランプが破損するのを防止することができるようになる。この両端保護部は、被処理物がずれて搬送された場合に、口金を確実に保護するには、幅方向の内側に、この口金の内側の端と同じ位置まで、又は、それ以上に張り出させるようにする。
【0014】
なお、上記紫外線ランプとして、放電用ガスを密封した方形箱形の石英ガラス製の放電容器の対向する両ガラス壁表面にそれぞれ電極を設けたエキシマランプを用いることができる。このように紫外線ランプに平坦な面を有する方形箱形の放電管を用いると、被処理物の平坦な表面の広い範囲にほぼ均等に真空紫外線を照射することができ、この紫外線ランプを空気中に配置した開放型とすることができる。しかも、この紫外線ランプとして、真空紫外線を効率よく放射することができるエキシマランプを用いることができるようになる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。
【0016】
図1〜図3は本発明の一実施形態を示すものであって、図1は紫外線照射装置の構造を示す縦断面側面図、図2は紫外線照射装置の構造を示す縦断面背面図、図3は高い位置で搬送された被処理物が側壁に衝突した状態を示す紫外線照射装置の縦断面側面図である。なお、図4〜図6に示した従来例と同様の機能を有する構成部材には同じ番号を付記する。
【0017】
本実施形態は、図6に示したものと同様の方形箱形の放電容器1aを用いるエキシマランプ1を使用した紫外線照射装置について説明する。このエキシマランプ1の放電容器1aは、合成石英ガラス製の長い管を横断面が横長の薄い方形となるように成形し、内部にキセノンガスを充填して両端を密閉することにより、薄く細長い方形箱形としたものである。また、この放電容器1aは、平坦な上下面にそれぞれ金属薄膜をパターン形成することにより電極1b,1cを形成している。放電容器1aの上面の電極1bは、この平坦な上面のほぼ全面に形成されているが、下面の電極1cは、網目状のパターンに形成され、この網目の隙間から下方に紫外線を照射することができるようになっている。
【0018】
本実施形態の紫外線照射装置は、図1に示すように、アルミニウム製の筐体からなるランプハウス2内の下部に、上記エキシマランプ1を複数本並べて装着したものであり、被処理物Wの搬送路T上に配置される。この紫外線照射装置は、ランプハウス2内の空気中に各エキシマランプ1を配置する開放型のものである。これらの各エキシマランプ1は、搬送路T上の被処理物Wの表面から間隔d0だけ上方の位置に放電容器1aの下面が位置するように装着される。この間隔d0は、エキシマランプ1が放射する真空紫外線の中心波長が172nmである場合には、少なくとも10mm以下、好ましくは5mm以下とし、本実施形態では好適な2.5mm程度としている。ランプハウス2は、下面が開放された筐体であり、被処理物Wの搬送路Tの上流側(図1の左側)の側壁2dの下端が各エキシマランプ1の放電容器1aの下面よりも差d1だけ下方に突出している。このため、被処理物Wの表面とランプハウス2の上流側の側壁2dの下端との間隔d2は、間隔d0よりも差d1分だけ狭くなる。本実施形態では、この差d1は、0.5mm程度とし、間隔d2は、2mm程度とした。なお、本実施形態では、ランプハウス2における搬送路Tの下流側の側壁2eも、下端と被処理物Wの表面との間が間隔d2となるようにしている。
【0019】
上記各エキシマランプ1は、図2に示すように、両端部にセラミックス製の口金3,3が固着され、これらの口金3,3がランプハウス2の取付部2f,2fに支持されることにより装着されるようになっている。また、各エキシマランプ1の図6に示した電極1b,1cは、図示しない配線を介して口金3,3から引き出され、ランプハウス2の上部に配置された図示しない電源装置に接続されることにより、高周波の高電圧が印加されて放電容器1a内の放電用ガスをエキシマ発光させるようになっている。
【0020】
上記ランプハウス2は、搬送路Tの上流側(図2の奥側)の側壁2dの両端保護部2g,2gが口金3,3の下端よりも僅かに下方となるまで突出すると共に、これらの口金3,3の内側の端よりもさらに5mm程度内側まで張り出している。本実施形態の場合には、これにより、両端保護部2g,2gの下端は、図2に示すように、被処理物Wの表面よりも下方に突出することになる。また、これらの両端保護部2g,2gの間で本体の側壁2dの下端が被処理物Wの表面よりも間隔d2だけ上方となる部分は、この被処理物Wの幅よりも十分に広くなっている。従って、両端保護部2g,2gの下端が被処理物Wの表面よりも下方に突出していても、搬送路T上を搬送される被処理物Wは、これらの両端保護部2g,2gの間を通ってランプハウス2の下方に進むことができる。
【0021】
上記構成の紫外線照射装置によれば、搬送路T上を被処理物Wが正常に搬送されている場合には、図1及び図2に示すように、ランプハウス2の側壁2dにおける両端保護部2g,2gの間の中央の下方を間隔d2を開けて通り抜ける。そして、各エキシマランプ1の下方を放電容器1aの下面との間隔d0だけ開けて通過することにより適正な精密洗浄を行うことができる。
【0022】
しかしながら、図3に示すように、例えば被処理物Wが搬送路T上の異物の上に乗り上げる等して、そのままではエキシマランプ1に衝突するような高い位置で搬送されると、ランプハウス2の下方に入り込む前に先端が側壁2dの下部に当たって進行を阻止される。そして、予定していたものよりも板厚の厚い被処理物Wを誤って搬送路Tに通した場合にも、同様に、この被処理物Wの先端の上部が側壁2dの下部に当たって進行を阻止される。従って、これらの被処理物Wがエキシマランプ1に衝突して放電容器1aを破損したり、この放電容器1aの下面の電極1cを擦って剥がすようなことがなくなる。なお、被処理物Wがランプハウス2の側壁2dの下端を辛うじて通り抜けた場合には、放電容器1aの下面との間が間隔d0よりも狭くはなるが、エキシマランプ1の下方を確実に通り抜けることができるので、放電容器1aを破損したり電極1cを剥がすようなことはなくなる。
【0023】
しかも、上記実施形態の紫外線照射装置は、被処理物Wが搬送路T上で幅方向にずれて搬送された場合にも、この被処理物Wの先端がランプハウス2の端部2gの下部に当たって進行を阻止される。従って、この被処理物Wがエキシマランプ1の口金3に衝突して、口金3自体やエキシマランプ1を破損したり傷付けるようなことがなくなる。ただし、このエキシマランプ1の口金3,3の下端が搬送路T上の被処理物Wの表面の上方に位置する場合には、両端保護部2g,2gの下端も、口金3,3の下端と面一か、この下端より下方でさえあれば、この被処理物Wの表面より上方にあってもよい。この場合、ランプハウス2の側壁2dの下端は潜り抜け可能であるが、正常時よりは高い位置を被処理物Wが搬送されたようなときであって、かつ、この被処理物Wが幅方向にもずれて搬送されたようなときに、これらの両端保護部2g,2gによってエキシマランプ1の口金3,3等が保護されることになる。
【0024】
なお、上記実施形態では、ランプハウス2の上流側の下部に形成する高さ制限部として、側壁2dの下部の突出部分を用いる場合を示したが、エキシマランプ1の放電容器1aの下面と面一か、この下面よりも下方に突出するものであれば、この高さ制限部の構成は任意であり、例えば側壁2dの下面から数本の棒が突出していたり、この側壁2dの下方に柵状のスカート部が取付られていてもよい。また、この高さ制限部には、被処理物Wとの衝突時の衝撃を緩和するために、緩衝材を用いることもできる。さらに、上記実施形態では、この高さ制限部を最上流側に配置されたエキシマランプ1よりも上流側にのみ形成したが、例えば各エキシマランプ1の間等に形成することもできる。即ち、複数のエキシマランプ1を装着した場合、いずれかのエキシマランプ1の上流側でありさえすれば、他のエキシマランプ1の下流側となる位置に高さ制限部が形成されていてもよい。
【0025】
また、上記実施形態では、方形箱形の放電容器1aを用いたエキシマランプ1を示したが、このエキシマランプ1を空気中に配置する紫外線照射装置であれば放電容器1aはどのような形状のものであっても同様に実施可能である。例えば、円筒状であっても極めて小径の管からなる放電容器1aを用いたエキシマランプ1をできるだけ近接させて多数並べて配置することによりほぼ面光源状に真空紫外線を放射することができるので、窒素ガス等による不活性ガスパージが不要となり開放型の紫外線照射装置とすることができる。
【0026】
また、上記実施形態では、誘電体バリア放電によるエキシマ発光を利用したエキシマランプ1について示したが、真空紫外線を放射する紫外線ランプであれば、他のエキシマ発光によるものやエキシマ発光以外の例えば低圧水銀灯等の紫外線ランプにも同様に実施可能である。ただし、波長が200〜50nmの範囲の真空紫外線であっても、例えば波長185nmのように長波長のものは、空気中を10mm程度離れてもそれほど減衰しないので、間隔d0や間隔d2は、十分に広い間隔とすることができる。
【0027】
また、上記実施形態では、紫外線ランプが放射する真空紫外線を精密洗浄に用いる場合について示したが、他の用途に用いるものであっても同様に実施可能である。
【0028】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明の紫外線照射装置によれば、被処理物が高い位置で搬送されると、ランプハウスの高さ制限部によって搬送が阻止されるので、この被処理物がそのまま紫外線ランプに接触して放電容器が破損したり下面の電極が剥がれるのを確実に防止することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態を示すものであって、紫外線照射装置の構造を示す縦断面側面図である。
【図2】本発明の一実施形態を示すものであって、紫外線照射装置の構造を示す縦断面背面図である。
【図3】本発明の一実施形態を示すものであって、高い位置で搬送された被処理物が側壁に衝突した状態を示す紫外線照射装置の縦断面側面図である。
【図4】従来例を示すものであって、二重円筒状の放電容器を用いたエキシマランプの斜視図である。
【図5】従来例を示すものであって、二重円筒状のエキシマランプを使用した紫外線照射装置の構造を示す縦断面側面図である。
【図6】方形箱形の放電容器を用いたエキシマランプの斜視図である。
【符号の説明】
1 エキシマランプ
1a 放電容器
1b 電極
1c 電極
2 ランプハウス
2d 側壁
Claims (2)
- 被処理物の搬送路上に下面を開口されたランプハウスが配置されると共に、このランプハウス内に真空紫外線を放射する紫外線ランプが、この紫外線ランプの放電容器と搬送路上の被処理物との間が10mm以下の間隔となるように装着された開放型の紫外線照射装置において、
このランプハウスの下部における紫外線ランプよりも搬送路の上流側に、この紫外線ランプの放電容器の下端と面一まで、又は、この下端よりも下方に突出する高さ制限部が形成されたことを特徴とする紫外線照射装置。 - 前記紫外線ランプが、搬送路の搬送方向にほぼ直交する水平方向の両端部に装着用の口金が取り付けられたものであり、前記高さ制限部の両端部に、この紫外線ランプの口金の下端と面一まで、又は、この下端よりも下方に突出した両端保護部が形成されたことを特徴とする請求項1に記載の紫外線照射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002283814A JP2004113984A (ja) | 2002-09-27 | 2002-09-27 | 紫外線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002283814A JP2004113984A (ja) | 2002-09-27 | 2002-09-27 | 紫外線照射装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004113984A true JP2004113984A (ja) | 2004-04-15 |
JP2004113984A5 JP2004113984A5 (ja) | 2005-11-24 |
Family
ID=32277574
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002283814A Pending JP2004113984A (ja) | 2002-09-27 | 2002-09-27 | 紫外線照射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004113984A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006108069A (ja) * | 2004-09-13 | 2006-04-20 | Ushio Inc | エキシマランプ装置 |
JP2009252662A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Ushio Inc | エキシマランプおよびこれを備えたランプユニット |
DE102009022823A1 (de) | 2008-06-06 | 2009-12-10 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Excimer-Lampe |
CN114005726A (zh) * | 2020-09-01 | 2022-02-01 | 优志旺电机株式会社 | 紫外线照射装置 |
-
2002
- 2002-09-27 JP JP2002283814A patent/JP2004113984A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006108069A (ja) * | 2004-09-13 | 2006-04-20 | Ushio Inc | エキシマランプ装置 |
JP2009252662A (ja) * | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Ushio Inc | エキシマランプおよびこれを備えたランプユニット |
TWI402884B (zh) * | 2008-04-10 | 2013-07-21 | Ushio Electric Inc | An excimer lamp and a lamp unit with its lamp unit |
DE102009022823A1 (de) | 2008-06-06 | 2009-12-10 | Ushiodenki Kabushiki Kaisha | Excimer-Lampe |
CN114005726A (zh) * | 2020-09-01 | 2022-02-01 | 优志旺电机株式会社 | 紫外线照射装置 |
CN114005726B (zh) * | 2020-09-01 | 2022-06-03 | 优志旺电机株式会社 | 紫外线照射装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI390552B (zh) | Excimer lamp device | |
TW200526334A (en) | Ultra-violet cleaner and application method for thereof | |
US20040045806A1 (en) | Method and device for treating the surfaces of items | |
JP2004127710A (ja) | エキシマランプ及びこの放電用容器 | |
JP6495707B2 (ja) | 露光装置および基板処理装置 | |
JP2001225814A (ja) | プリフォーム殺菌方法及びプリフォーム殺菌装置 | |
KR101660477B1 (ko) | 자외선 조사 장치 | |
TW200814185A (en) | Excimer light irradiation apparatus | |
JP2004097986A (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP2004113984A (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP4578051B2 (ja) | 紫外線照射装置 | |
CN111492314A (zh) | 光照射装置 | |
JP5729034B2 (ja) | 光照射装置 | |
JP3315843B2 (ja) | 基板処理装置 | |
US8796640B2 (en) | Radiating element for irradiating surfaces, having a socket | |
US8940229B2 (en) | Device for irradiating surfaces | |
TWI416584B (zh) | Ultraviolet radiation treatment device | |
JP2004119942A (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP2010147168A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2018176032A (ja) | 光照射装置 | |
JP5783472B2 (ja) | アッシング装置 | |
JPH07288109A (ja) | キセノン照射装置とそれを用いた物体表面改質装置 | |
JP2001219053A (ja) | 誘電体バリア放電を使った酸化方法、および酸化処理装置 | |
JP5601551B2 (ja) | 光照射装置 | |
CN218909959U (zh) | 液体处理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20050916 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20050916 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20051213 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20060119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080430 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20080630 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20080723 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080922 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081022 |