JP2004106004A - 噴流はんだ付け装置及び噴流はんだ付け方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】局所噴流はんだ付け装置1は、溶融はんだ2を収容するはんだ槽3と、溶融はんだ2を噴流するための局所ノズル4と、当該ノズル4へ溶融はんだ2を圧送するための圧送ポンプ5と、局所ノズル4から噴流する溶融はんだ2のはんだ波高を制御するための制御手段6とを備える。そして、制御手段を用い、ワークにはんだ付けを行う前のはんだ波高を、ワークにはんだ付けする際のはんだ波高よりも高くなるようにした。これにより、局所ノズル4から噴流する溶融はんだ2表面に浮遊しているはんだ酸化物を除去することができ、新たな設備を設置することなく、はんだ付け不良を低減する事ができる。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、噴流はんだ付け装置及び噴流はんだ付け方法に関し、特にノズルから噴流する溶融はんだのはんだ波高の制御に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、電子部品を搭載した回路基板(以下ワークという)において、電子部品のリードをはんだ付けする際に、噴流はんだ付け装置が用いられている。この噴流はんだ付け装置は、はんだ槽内で溶融したはんだを、はんだ槽内に設けたノズルより噴流させ、噴流した溶融はんだに電子部品のリードを浸漬し、回路基板にはんだ付けするものである。この際、上述したはんだ付け作業は大気中で実施される。
【0003】
このとき、ワークのリードへはんだ付けが行われる前のタイミングにおいて、ノズルから噴流する溶融はんだは、はんだ付けが行われる噴流状態と同じ状態で待機するか、或いは、溶融はんだの噴出を一時停止して、その溶融はんだの波高面がノズルの下端付近まで下がった状態での待機となる。この待機中に高温の溶融はんだの表面が酸化し、噴流する溶融はんだの表面にはんだ酸化物が形成される。従って、このはんだ酸化物が、ワークへのはんだ付けの際に、ワークのリードへ付着し、ブリッジ等のはんだ付け不良を生じる一因となっている。
【0004】
この、はんだ酸化物に対する対策として、例えば特許文献1にて開示されたものがある。これは、ノズル周囲にカバーを設け不活性ガスを供給することで、ノズルから噴流する溶融はんだ表面の酸化を抑制し、はんだ付け不良を低減しようとするものである。
【0005】
【特許文献1】特開平14−001523号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記方法を用いると、不活性ガスの供給のために、専用の部品や配管等を設置する必要があり、コストが高くなるという問題がある。
【0007】
本発明は上記問題点に鑑み、低コストにてはんだ付け不良を低減できる噴流はんだ付け装置及び噴流はんだ付け方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成する為に、請求項1に記載の噴流はんだ付け装置は、溶融はんだを収容するはんだ槽と、溶融はんだを噴流するためのノズルと、溶融はんだをノズルへ圧送する圧送ポンプと、圧送ポンプを制御し、ノズルから噴流する溶融はんだのはんだ波高を制御する制御手段とを備え、ノズルの開口面から噴流した溶融はんだをワークにはんだ付けするものである。そして、制御手段によりワークへはんだ付けする前のはんだ波高を、ワークへはんだ付けする際のはんだ波高よりも高くすることを特徴とする。
【0009】
溶融した高温のはんだは、大気中の酸素と触れ合うことにより酸化されると、はんだ酸化物を生じる。ノズルから噴流する溶融はんだの表面にもはんだ酸化物が生じ、通常ワークの被はんだ付け箇所に溶融はんだをはんだ付けする際のはんだ波高では、噴流する溶融はんだの表面に、はんだ酸化物が残ってしまう。そして、はんだ付け時に、はんだ酸化物が被はんだ付け箇所に付着し、ブリッジ等のはんだ付け不良を生じる場合がある。
【0010】
そこで、はんだ付け前のはんだ波高を、はんだ付け時のはんだ波高よりも高くなるように制御する。その結果、ワークの被はんだ付け箇所にはんだ付けを実施する前に、噴流する溶融はんだの表面からはんだ酸化物が流し出され、はんだ酸化物が浮遊していない溶融はんだにより、ワークへの噴流はんだ付けを実施することができる。従って、特に設備改造等に投資をしなくとも、はんだ付け時のワークの被はんだ付け箇所へのはんだ酸化物の付着を防止をすることができる。
【0011】
請求項2に記載のように、制御手段は、ワークにはんだ付けを行った後のはんだ波高を、ノズルの開口面以下とすることが好ましい。溶融はんだの波高をノズルの開口面以下となるように制御すると、ノズルの開口面から溶融はんだを噴流させる場合よりも、溶融はんだが酸素に触れる面積が減少する。従って、はんだ酸化物の発生を低減することができる。
【0012】
また、請求項3に記載のように、ノズルは、局所はんだ付け用の局所ノズルであっても良い。
【0013】
請求項4、及び請求項5に記載した噴流はんだ付け方法は、請求項1、及び請求項2に記載の噴流はんだ付け装置を用いてはんだ付けする方法で、その作用効果は、請求項1、及び請求項2に記載した発明と同様であり、その説明を省略する。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
(第1の実施の形態)
先ず、本実施の形態における噴流はんだ付け装置の構成について、その概略を図1を用いて説明する。
【0015】
図1は、局所噴流はんだ付け装置1の構成図である。局所噴流はんだ付け装置1は、溶融はんだ2をその槽内に収容するはんだ槽3と、溶融はんだ2を局所ノズル4に向けて圧送する圧送ポンプ5と、当該圧送ポンプ5を制御し、局所ノズル4への溶融はんだ2の圧送量を制御する制御手段6により構成される。
【0016】
溶融はんだ2は、例えば鉛−錫共晶はんだからなり、その融点は183℃である。従って、例えばはんだ槽3内に設けられたヒータ7により、略240℃程度に加熱され、溶融されている。
【0017】
ステンレス等の溶融はんだが付着せず耐熱性を有する材質からなるはんだ槽3は、その槽内に溶融はんだ2を収容するとともに、当該溶融はんだ2を局所ノズル4まで圧送できるように、導入路8を備えている。この導入路8は、例えばその内部に圧送ポンプ5を備え、圧送ポンプ5が導入路8外のはんだ槽3内から溶融はんだ2を吸い込めるように、その一部に図1の破線で示される吸込口9を備えている。また、導入路8は、局所ノズル4を取り付けるための取付け台10と一体に設けられており、取付け台10に設けられた吐出口11に、局所ノズル4が接続されている。尚、図1において局所ノズル4を1本のみ示したが、本数は限定されるものではない。また、局所ノズル4、導入路8、及び取り付け台10もはんだ槽3と同じステンレス等を用いて形成されている。
【0018】
圧送ポンプ5は、例えばシロッコファンからなり、インバータモータからなる制御手段6により、その回転数を周波数により制御される。ファンが回転すると、吸込口9を通して溶融はんだ2が導入路8内に吸込まれ、導入路8内の溶融はんだ2の量が増加するため、溶融はんだ2は導入路8内を圧送され、局所ノズル4から噴流する。尚、圧送ポンプ5としては、それ以外にも、電磁誘導ポンプのように移動磁界を生じさせ、溶融はんだ2を局所ノズル4へ圧送させるものや、空気圧等のポンプにより液面を変化させ、導入路8内に圧力をかけて局所ノズル4へ溶融はんだ2を圧送させるものも用いることができる。その際、圧送ポンプ5は、必ずしも導入路8内に配置されるものではなく、導入路8内に溶融はんだ2を圧送することにより、局所ノズル4から溶融はんだ2が噴流できる位置に配置されればよい。また、制御手段6として、インバータモータ以外にも、ACサ−ボモータを用いても良い。
【0019】
次に、局所ノズル4における溶融はんだ2の噴流量、すなわちはんだ波高の制御について、図2及び図3を用いて説明する。
【0020】
尚、図2は、はんだ酸化物が溶融はんだの表面に浮遊した例を示す断面図であり、図3(a)はワークにはんだ付けする前に、はんだ酸化物を流出させる第1工程、(b)はワークの所定の箇所に溶融はんだ2をはんだ付けする第2工程、(c)はワークへのはんだ付けが完了した後の待機状態である第3工程を示す工程別断面図である。
【0021】
局所ノズル4から噴流した溶融はんだ2は、略240℃と高温であり、大気中の酸素により酸化され、図2に示すように、噴流した溶融はんだ2の表面にはんだ酸化物12の酸化膜を形成する。このはんだ酸化物12が浮遊した溶融はんだ2に、ワークの被はんだ付け箇所が浸漬されると、はんだ酸化物12が被はんだ付け箇所に付着し、ブリッジ等のはんだ付け不良を引き起こす。
【0022】
従って、本実施の形態においては、先ず、図3(a)に示す第1工程において、局所ノズル4から噴流する溶融はんだ2表面に浮遊するはんだ酸化物12を除去するために、局所ノズル4から噴流する溶融はんだ2のはんだ波高を、通常のはんだ付けする際(第2工程)のはんだ波高よりも高くする。そのために、制御手段6であるインバータモータの駆動周波数をはんだ付けする際よりも高くし、それにより圧送ポンプ5であるシロッコファンを高回転にて回転させる。その結果、吸込口9を通して導入路8内に、はんだ付けをする際よりも多くの溶融はんだ2が取り込まれ、導入路8内の溶融はんだ2の量が増加し、圧送された溶融はんだ2が局所ノズル4の開口面から噴流し、溶融はんだ2表面に浮遊していたはんだ酸化物12を、ノズルの周囲部の下方に押し流す。この際、はんだ酸化物12は、はんだ槽3内の導入路8以外の溶融はんだ2に戻される。従って、はんだ槽3内の溶融はんだ2表面に、はんだ酸化物12が浮遊することとなるので、定期的に除去すると良い。尚、第1工程が実施されるタイミングは、例えば図示されないが、ワークが溶融はんだ2によりはんだ付けされる直前のプリヒート段階が好ましい。
【0023】
次に、第1工程の実施後、図3(b)に示す第2工程が速やかに実施される。
【0024】
プリヒートされたワーク13が、局所はんだ付け装置1の局所ノズル4上に搬送される。その際、局所ノズル4から噴流する溶融はんだ2のはんだ波高は、局所ノズル4の開口面とワーク13との間の距離、及びワーク13の被はんだ付け箇所の面積等に基づいて所定の高さに設定される。これにより、はんだ酸化物12が浮遊しておらず、且つ、局所ノズル4から適量噴流している溶融はんだ2に、ワーク13に搭載された電子部品14のリード15を浸漬させることができ、はんだ付けを効率良く行うことができる。
【0025】
尚、ワーク13の搬送は、例えば、図示されないロボット搬送や、チェーン等の駆動レール上をパレット等の搬送治具に固定して搬送することにより実施される。しかしながら、ロボットを用いると、はんだ付けの直後に容易にワーク13を傾斜させることができる。従って、ワーク13の被はんだ付け箇所であるリード15において、高い部分から順次溶融はんだ2を切っていくことができるため、ブリッジやつらら等のはんだ付け不良を低減できるため好ましい。
【0026】
第2工程にてワーク13へのはんだ付けが完了した後、図3(c)に示す第3工程が実施される。第3工程においては、局所ノズル4の開口面よりも溶融はんだ2の液面が低い位置となるように、局所ノズル4における溶融はんだ2のはんだ波高が制御される。これにより、局所ノズル4における溶融はんだ2が、空気中の酸素と触れる範囲が減少するので、はんだ酸化物が発生するのを低減することができる。そして、次のワーク13がプリヒート箇所まで搬送されると、また第1工程から順に実施される。
【0027】
以上本実施の形態において、局所噴流はんだ付け装置1の局所ノズル4から噴流する溶融はんだ2のはんだ波高を、圧送ポンプ5を介して制御手段6により制御し、その際、第1工程におけるはんだ波高を、第2工程におけるはんだ波高よりも高くすることにより、局所ノズル4から噴流する溶融はんだ2表面のはんだ酸化物を除去する。そして、除去後直ちに、第2工程にてワーク13のリード15にはんだ付けを行うことにより、はんだ酸化物12起因のはんだ付け不良を低減する事ができる。また、第3工程において、はんだ付け後のはんだ波高を局所ノズル4の開口面より低くすることにより、溶融はんだ2の酸化を抑制することができる。従って、新たな設備設置等の費用をかけずに、はんだ付け不良を低減する事ができる。
【0028】
尚、図示されないが、局所ノズル4以外のはんだ槽3内の溶融はんだ2の酸化を抑制するため、図1における溶融はんだ2の液面から処置の距離をおいてカバーを設け、そのカバー内に窒素、或いはアルゴン等の不活性ガスを充満させても良い。その際、カバーには、局所ノズル4部分と局所ノズル4から噴流した溶融はんだ2がはんだ槽3内に戻るように、所定の範囲に切り欠きが設けられることは言うまでもない。
【0029】
以上本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態のみに限定されず、種々変更して実施する事ができる。
【0030】
本実施の形態においては、局所噴流はんだ付け装置における例を示したが、局所に限定されず、噴流はんだ付け装置において用いることが可能である。
【0031】
本実施の形態においては、第1工程から第3工程までを行う例を示したが、第1工程と第2工程のみを繰り返し実施しても良い。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施の形態における局所噴流はんだ付け装置の構成図である。
【図2】溶融はんだ表面にはんだ酸化物が浮遊した状態を示す断面図である。
【図3】局所ノズルにおける工程別の溶融はんだ波高の状態を示す図であり、(a)はワークにはんだ付けをする前の第1工程、(b)はワークにはんだ付け中の第2工程、(c)はワークにはんだ付け完了後の第三工程である。
【符号の説明】
1・・・局所噴流はんだ付け装置、2・・・溶融はんだ、3・・・はんだ槽、4・・・局所ノズル、5・・・圧送ポンプ、6・・・制御手段、12・・・はんだ酸化物、13・・・ワーク、15・・・リード
Claims (5)
- 溶融はんだを収容するはんだ槽と、前記溶融はんだを噴流するためのノズルと、前記溶融はんだを前記ノズルへ圧送する圧送ポンプと、前記圧送ポンプを制御し、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだのはんだ波高を制御する制御手段とを備え、前記ノズルの開口面から噴流した溶融はんだをワークにはんだ付けをする噴流はんだ付け装置であって、
前記制御手段は、前記ワークへはんだ付けをする前のはんだ波高を、前記ワークへはんだ付けをする際のはんだ波高よりも高くすることを特徴とする噴流はんだ付け装置。 - 前記制御手段は、前記ワークへはんだ付けをした後のはんだ波高を、前記ノズルの開口面以下とすることを特徴とする請求項1に記載の噴流はんだ付け装置。
- 前記ノズルは、局所はんだ付け用の局所ノズルであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の噴流はんだ付け装置。
- 溶融はんだを収容するはんだ槽と、前記溶融はんだを噴流するためのノズルと、前記溶融はんだを前記ノズルへ圧送する圧送ポンプと、前記圧送ポンプを制御し、前記ノズルから噴流する前記溶融はんだのはんだ波高を制御する制御手段とを備え、前記ノズルの開口面から噴流した溶融はんだをワークにはんだ付けをする噴流はんだ付け方法であって、
前記ノズルから噴流する溶融はんだをワークにはんだ付けをする前の第1工程と、
前記ワークに、はんだ付けがなされる第2工程とを備え、
前記第1工程におけるはんだ波高が、前記第2工程におけるはんだ波高よりも高くなるように制御されることを特徴とする噴流はんだ付け方法。 - 前記ワークにはんだ付けがなされる前記第2工程後に、前記はんだ波高が前記ノズルの開口面以下となるように制御される第3工程を備えることを特徴とする請求項4に記載の噴流はんだ付け方法。
Priority Applications (1)
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JP2002270550A JP2004106004A (ja) | 2002-09-17 | 2002-09-17 | 噴流はんだ付け装置及び噴流はんだ付け方法 |
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JP2002270550A Pending JP2004106004A (ja) | 2002-09-17 | 2002-09-17 | 噴流はんだ付け装置及び噴流はんだ付け方法 |
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2002
- 2002-09-17 JP JP2002270550A patent/JP2004106004A/ja active Pending
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