JP2004090610A5 - - Google Patents
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この実施形態における光ディスクＤＣに対する情報の記録または再生は、このディスクＤＣを、例えば図１（ａ）に矢印ＤＲをもって示す方向に回転駆動させ、例えば、光ディスクＤＣの光記録層１２に対して、例えば０．８５±０．０５の開口数の対物レンズＯＬを介して、例えば３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長のレーザー光ＬＴを、光透過層１３側から光記録層１２に集光照射することによって行う。
光ディスクの記録時においては、光記録層１２に、例えば上述したレーザー光ＬＴを照射し、その光照射部分に記録マークを形成する。この記録マークは、上述したレーザー光ＬＴの照射によって酸化反応が生じ、これによって光記録層１２の光照射部の光学定数が変化することによって形成されると思われる。
次に、このスタンパ１０を、例えばディスク基板１１を射出成形によって形成するための金型のキャビティ内に配置して例えばポリカーボネート（ＰＣ）による射出成形を行う。このようにして、図２（ｂ）に示すように、スタンパ１０の凹凸面上にディスク基板１１を形成する。
このようにして、表面に、スタンパ１０の凸部１０ｐのパターンが転写されて、逆パターンの凹凸である凹部１１ｒが形成されたディスク基板１１が成形される。
このようにして、表面に、スタンパ１０の凸部１０ｐのパターンが転写されて、逆パターンの凹凸である凹部１１ｒが形成されたディスク基板１１が成形される。
この実施の形態における光ディスクＤＣに対する情報の記録または再生においても、このディスクＤＣを、例えば図１（ａ）に矢印ＤＲをもって示す方向に回転駆動させ、例えば、光ディスクＤＣの光記録層１２に対して、例えば０．８５±０．０５の開口数の対物レンズＯＬを介して、例えば３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長のレーザー光ＬＴを、光透過層１３側から光記録層１２に集光照射することによって行う。
光ディスクの記録時においては、光記録層１２に、例えば上述したレーザー光ＬＴを照射し、その光照射部分に記録マークを形成する。この記録マークは、前述したように、レーザー光ＬＴの照射によって酸化反応が生じ、これによって光記録層１２の光照射部の光学定数が変化することによって形成されると考えられる。
次に、この実施の形態における光ディスクの製造方法について説明する。
まず、図５（ａ）に示すように、第１実施形態において説明した手順により、トラック領域を区分する凹部１１ｒを含む凹凸形状が表面に形成されたディスク基板１１を形成する。
まず、図５（ａ）に示すように、第１実施形態において説明した手順により、トラック領域を区分する凹部１１ｒを含む凹凸形状が表面に形成されたディスク基板１１を形成する。
次に、図６（ａ）に示すように、例えばスパッタリング法などにより、酸化シリコンを堆積させ、保護膜１４を形成する。
その後、図６（ｂ）に示すように、保護膜１４上に、ポリカーボネートなどの光透過性樹脂フイルムを粘着剤層で貼り合わせ、光透過層１３を形成する。
このようにして、図４で示した構成による光ディスクすなわち光記録媒体を製造することができる。
その後、図６（ｂ）に示すように、保護膜１４上に、ポリカーボネートなどの光透過性樹脂フイルムを粘着剤層で貼り合わせ、光透過層１３を形成する。
このようにして、図４で示した構成による光ディスクすなわち光記録媒体を製造することができる。
上述したＰｄを混合した光記録層による本発明による光記録媒体を、その具体的実施例を挙げて説明する。
（実施例５）
トラック領域を区分する凹凸形状が表面に形成されたディスク基板を形成した。凹凸形状は、０．３２μｍのピッチでスパイラル状に形成された連続溝とし、凹凸形状の深さは２０ｎｍとした。得られたディスク基板の凹凸形状の形成面上に、スパッタリングにより（Ｓｎx Ｎy Ｏz ）1-a Ｐｄa （ｘ＝３１原子％、ｙ＝１０原子％、ｚ＝５９原子％、ａ＝１原子％）を、この組成比となるように、５０ｎｍの膜厚で堆積させて光記録層を形成し、さらにその上層に酸化シリコンを３０ｎｍの膜厚で堆積させて保護膜を形成し、その上層にポリカーボネートなどの光透過性樹脂フイルムを粘着剤層で貼り合わせて０．１ｍｍの厚さの光透過層を形成した。このようにして、光ディスクのサンプルＫを作製した。
このサンプルＫに対して、発振波長が４０５ｎｍである記録再生用のレーザー光を、開口数が０．８５である対物レンズにより光ディスクの光記録層に集光する光学系を有する評価装置により、ビット長０．１３μｍのランダム信号を記録した。
このときの光ディスクに記録された信号のジッターは、８％であった。
このサンプルＫを、８０℃、８５％相対湿度で１００時間保存したときの透過率変化は１％未満であった。
（実施例５）
トラック領域を区分する凹凸形状が表面に形成されたディスク基板を形成した。凹凸形状は、０．３２μｍのピッチでスパイラル状に形成された連続溝とし、凹凸形状の深さは２０ｎｍとした。得られたディスク基板の凹凸形状の形成面上に、スパッタリングにより（Ｓｎx Ｎy Ｏz ）1-a Ｐｄa （ｘ＝３１原子％、ｙ＝１０原子％、ｚ＝５９原子％、ａ＝１原子％）を、この組成比となるように、５０ｎｍの膜厚で堆積させて光記録層を形成し、さらにその上層に酸化シリコンを３０ｎｍの膜厚で堆積させて保護膜を形成し、その上層にポリカーボネートなどの光透過性樹脂フイルムを粘着剤層で貼り合わせて０．１ｍｍの厚さの光透過層を形成した。このようにして、光ディスクのサンプルＫを作製した。
このサンプルＫに対して、発振波長が４０５ｎｍである記録再生用のレーザー光を、開口数が０．８５である対物レンズにより光ディスクの光記録層に集光する光学系を有する評価装置により、ビット長０．１３μｍのランダム信号を記録した。
このときの光ディスクに記録された信号のジッターは、８％であった。
このサンプルＫを、８０℃、８５％相対湿度で１００時間保存したときの透過率変化は１％未満であった。
【符号の説明】
１０…スタンパ、１０ｐ…凸部、１１…ディスク基板、１１ｒ…凹部、１２…光記録層、１３…光透過層、１４…保護膜、ＣＨ…センターホール、ＤＣ…光ディスク、ＬＴ…レーザー光、ＯＬ…対物レンズ
１０…スタンパ、１０ｐ…凸部、１１…ディスク基板、１１ｒ…凹部、１２…光記録層、１３…光透過層、１４…保護膜、ＣＨ…センターホール、ＤＣ…光ディスク、ＬＴ…レーザー光、ＯＬ…対物レンズ
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