JP3852420B2 - 光記録媒体 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録媒体、特に高密度記録が可能な光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、情報記録の分野においては、光情報記録方式に関する研究開発が盛んである。
この光情報記録方式としては、非接触型の記録・再生、再生専用型、追記型、書き換え可能型等のそれぞれのメモリ形態に対応できるなどの数々の利点を有し、安価な大容量ファイルの実現を可能とする方式として産業用から民生用まで幅広い用途が考えられている。
【０００３】
これら各種光情報記録方式用の光記録媒体例えば光ディスクの大容量化は、主に、光情報記録方式に用いる光源となるレーザー光の短波長化と、高開口数（Ｎ．Ａ．）のレンズを採用することにより、焦点面でのスポットサイズを小さくすることで達成してきた。
【０００４】
例えば、ＣＤ（コンパクトディスク）では、レーザー光波長が７８０ｎｍ、レンズの開口数（Ｎ．Ａ．）が０．４５であり、６５０ＭＢの容量であったが、ＤＶＤ−ＲＯＭ（デジタル多用途ディスク−再生専用メモリ）では、レーザー光波長が６５０ｎｍ、Ｎ．Ａ．が０．６であり、４．７ＧＢの容量となっている。
さらに、次世代の光ディスクシステムにおいては、光記録層上に例えば厚さ０．１ｍｍ程度の薄い光透過層が形成された光ディスクを用いて、この光透過層側からレーザー光を照射するようにし、レーザー光波長を４５０ｎｍ以下、Ｎ．Ａ．を０．７８以上とすることで２２ＧＢ以上の大容量化を可能としている。
【０００５】
図４（ａ）は、この光ディスクにおける光記録ないしは光再生の状態を示す模式斜視図である。
光ディスクＤＣは、中心部にセンターホールＣＨが穿設された円板状をなし、図４（ａ）において、例えば矢印ＤＲで示す方向に回転駆動される。
【０００６】
図４（ｂ）は光ディスクの模式断面図であり、図４（ｃ）はこの光ディスクＤＣの要部の拡大断面図である。
この光ディスクは、厚さが約１．１ｍｍの例えばポリカーボネートからなるディスク基板１０１の一主面に、凹部１０１ｒが形成され、凹部１０１ｒを含む凹凸面に沿って光記録層１０２が形成されて成る。
例えば相変化型の光ディスクＤＣにおいては、その光記録層１０２は、例えば誘電体膜、相変化膜、誘電体膜および反射膜などの積層体によって構成される。
また、光記録層１０２の上層に、例えば０．１ｍｍの膜厚の光透過層１０３が形成される。
【０００７】
この光ディスクＤＣに対する情報の記録あるいは再生にあっては、光ディスクＤＣの光透過層１０３側から、光記録層１０２に、開口数が０．７８以上例えば０．８５の対物レンズＯＬによって、波長４５０ｎｍ以下例えば３８０〜４２０ｎｍのレーザー光による光ＬＴが集光照射される。
記録情報の再生時においては、光記録層１０２で反射された戻り光が受光素子で受光され、信号処理回路により所定の信号を生成して、再生信号を得る。
【０００８】
この光ディスクの光記録層１０２は、ディスク基板１０１の表面に形成された上述の凹部１０１ｒに起因した凹凸形状を有している。
凹部１０１ｒは、例えば所定のピッチで例えば螺旋形状をなす連続溝あるいは同心円形状の溝となっており、この凹凸形状によりトラック領域が区分される。
このトラック領域を区分する凹凸形状の凹部と凸部は、一方はランド、他方はグルーブと呼ばれる。ランドとグルーブの両者に情報を記録するランド・グルーブ記録方式を適用することで大容量化が可能である。また、ランドとグルーブのいずれか一方のみを記録領域とすることも可能である。
【０００９】
また、例えば、ディスク基板１０１に形成された凹部１０１ｒに起因する凹凸形状を記録データに対応する長さを有するピットとして、再生専用（ＲＯＭ）型の光ディスクとすることもできる。
【００１０】
ところで、光記録層を構成する記録材料として、非化学量論組成の金属酸化物の酸化錫（ＳｎＯｚ，ｚ＜２）が使用できることが報告されている（非特許文献１参照）。
これは、レーザー光などの光を照射したときに生じる酸化反応により、光学定数が変化することを利用したものであると考えられている。
【００１１】
【非特許文献１】
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｌｅｔｔｅｒｓ １９，２０００．１８３３−１８３５
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、記録材料として錫（Ｓｎ）を用いる場合、開口数が０．８程度の対物レンズを用い、波長３８０ｎｍ〜４２０ｎｍ程度の短波長光レーザー光を用いて情報の記録を行うとき、良好な形状の記録マークが形成されず、ジッターが大きくなるという問題がある。
【００１３】
これに対し、本出願人は、Ｓｎを記録材料として用いる場合において、上述したジッターの改善を図り、高温高湿度下においても、記録特性の安定化を図ることができる光記録媒体を、特許願２００３−１７８７７号で提案した。
これは、非化学量論組成の錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物を使用するものであり、レーザー光などの光を照射したときに生じる酸化反応により、光学定数が変化することを利用したものであると考えられている。
しかしながら、上述したような、記録材料として非化学量論組成の錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物を用いる場合、高温高湿度下での記録特性低下に関して必ずしも充分ではない。
【００１４】
本発明の目的は、錫を記録材料として用いる場合における高温高湿度下においても安定してすぐれた記録特性を保持でき、高開口数の対物レンズにより短波長のレーザー光などの光を照射して情報を記録してもジッターを抑制して良好な記録を行うことができる光記録媒体を提供することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明による光記録媒体は、トラック領域を区分する凹凸形状が表面に形成された基板の、その凹凸形状の形成面に、少なくとも光記録層を保護する第１の保護層と、第１の保護層上に形成された少なくとも錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物を用いた光記録層と、この光記録層上に形成され、この光記録層を保護する第２の保護層と、この第２の保護層上に形成された光透過層とを有する構成とする。
第１の保護層は、酸化錫によって構成することができ、第２の保護層は、酸化珪素より構成することができる。
【００１６】
上述の本発明構成によれば、高温高湿度下においても、良好に、記録特性の劣化を改善できた。これは、錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物による光記録層を第１および第２の保護層によって挟み込む構成としたことによって、光記録層の高温高湿度下での酸素濃度の変化を抑制することができたことによると思われる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態に係る光記録媒体（光ディスク）の実施の形態を説明する。しかしながら、本発明は、この実施形態例に限定されるものではない。
【００１８】
図１（ａ）は、この実施の形態に係る光ディスクＤＣにおける光記録ないしは光再生の状態を示す模式斜視図である。
光ディスクＤＣは、センターホールＣＨが穿設された円板状をなし、図１（ａ）において、例えば矢印ＤＲで示す方向に回転駆動される。
図１（ｂ）はこの光ディスクＤＣの模式断面図であり、図１（ｃ）は図１（ｂ）の要部の拡大断面図である。
光ディスクＤＣは、上述したように、センターホールＣＨを有する円板状をなし、厚さ約１．１ｍｍの例えばポリカーボネートから成るディスク基板１１の一主面に、凹部１１ｒが設けられている。この凹部１１ｒを含む凹凸に沿って、第１の保護層３１が形成され、この上に光記録層１２が形成され、この光記録層１２上に第２の保護層３２が形成され、その上に、光透過層１３が形成されている。
【００１９】
第１および第２の保護層３１および３２は、これらの間に配置された光記録層１２を保護する保護層であり、これら第１および第２の保護層３１および３２と、光記録層１２とは、それぞれ１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲、例えば５０ｎｍ〜６０ｎｍ程度の厚さに選定される。
【００２０】
光記録層１２は、少なくとも錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物組成ＳｎｘＮｙＯｚ（ｘ，ｙ，ｚは原子％）より成り、ｘ，ｙ，ｚが、
３０＜ｘ＜７０（原子％）、１＜ｙ＜２０（原子％）、２０＜ｚ＜６０（原子％）に選定された構成とする。
あるいは、光記録層１２は、錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物にパラジウム（Ｐｄ）を含有する（ＳｎｘＮｙＯｚ）１−ａ Ｐｄａ 組成物（ｘ，ｙ，ｚ，ａは原子％）より成り、ｘ，ｙ，ｚ，ａが、
３０＜ｘ＜７０（原子％）、１＜ｙ＜２０（原子％）、２０＜ｚ＜６０（原子％）、１＜ａ＜２０（原子％）に選定された構成とする。
これらの組成によってジッターの改善が図られる。特に、Ｐｄの添加によって特性の安定化が図られた。これは、Ｐｄの添加により記録時に溶融した記録膜の粘性が高められたことによると考えられる。
この光記録層１２の膜厚は、１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲、例えば３０ｎｍ〜６０ｎｍ程度とし得る。
【００２１】
第１の保護層３１は、酸化錫（ＳｎＯ２）によって構成することが望ましい。この第１の保護層３１として、仮にＳｉＯ２によって構成するときは、気密性が高すぎて記録時の酸化反応が阻害され良好な記録がなされないことが認められた。これに対し、第１の保護層３１を酸化錫（ＳｎＯ２）によって構成する場合、記録特性を損なわずに光記録層１２の高温高湿度下での酸素濃度の変化が抑制されて記録特性の劣化を抑制することができた。
【００２２】
また、第２の保護層３２は、ＳｉＯ２によって構成することが好ましい。この第２の保護層３２として、ＳｎＯ２あるいはＳｉ３Ｎ４によって構成する場合、光学定数の組み合せの関係で、膜厚を厚くすると反射率が低下してしまう。これに対し、第２の保護層３２をＳｉＯ２によって構成する場合、この上の光透過層１３と、その光学定数が近いことから、膜厚を厚くしても反射率は変動しなかった。
【００２３】
第２の保護層３２上の光透過層１３は、例えば膜厚が０．１ｍｍとされる。この光透過層１３は、例えば、紫外線硬化樹脂の塗布膜を硬化することによって形成される。あるいは、例えば粘着剤層が積層されたポリカーボネートなどの光透過性樹脂フイルムを、その粘着剤層によって保護層３２に貼り合わせることによって構成される。
【００２４】
この実施形態における光ディスクＤＣに対する情報の記録または再生は、このディスクＤＣを、例えば図１（ａ）に矢印ＤＲをもって示す方向に回転駆動させ、例えば、光ディスクＤＣの光記録層１２に対して、例えば０．８５±０．０５の開口数の対物レンズＯＬを介して、例えば３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長のレーザー光ＯＬを、光透過層１３側から光記録層１２に集光照射することによって行う。
【００２５】
光ディスクの記録時においては、光記録層１２に、例えば上述したレーザー光ＯＬを照射し、その光照射部分に記録マークを形成する。この記録マークは、上述したレーザー光ＯＬの照射によって酸化反応が生じ、これによって光記録層１２の光照射部の光学定数が変化することによって形成されると思われる。
【００２６】
また、光ディスクの再生時においては、光記録層１２に照射され、記録マークにおける光学定数の変化によって変調された例えば戻り光が、受光素子で受光され、信号処理回路により所定の信号に生成され、再生信号として取り出される。
【００２７】
この光ディスクにおいては、光記録層１２は、ディスク基板１１の表面に形成された凹部１１ｒに起因した凹凸形状を有している。
例えば、ディスク基板１１に形成された凹部１１ｒは所定のピッチの螺旋形状すなわちスパイラル状の連続溝、あるいは同心円形状の溝となっており、この凹凸形状によりトラック領域が区分される。
この例えば連続溝あるいは同心円形溝のピッチ（凹部の中央から隣接する凹部の中央までの距離）は、例えば０．３２μｍ程度とされる。
【００２８】
また、トラック領域を区分する凹凸形状の凹部と凸部とは、一方はランド、他方はグルーブと呼ばれる。そして、ランドとグルーブの両者に情報を記録するランド・グルーブ記録方式を適用することで大容量化が可能である。しかしながら、ランドとグルーブのいずれか一方のみを記録領域とすることもできる。
この凹凸形状の深さは、数ｎｍ〜１００ｎｍ程度であり、例えばグルーブ記録方式の場合には２０ｎｍ、ランド・グルーブ記録方式の場合には４０ｎｍなどに設定することができる。
【００２９】
因みに、記録材料として酸化錫（ＳｎＯｚ（ｚ＜２））を用いた場合、Ｘ線回折の実験から、膜中に、ある程度の大きさの粒径が存在していることがわかっている。この粒子は、光ディスクとして用いた場合のノイズ成分に寄与することから、前述したように、大容量化を図って、対物レンズを高開口数化し、レーザー光を短波長化したときに、粒界の影響が大きくなり、このために、ジッターが大きくなるものと考えられる。
【００３０】
この実施形態の光ディスクは、記録材料として少なくとも錫、窒素および酸素の化合物、すなわち窒素（Ｎ）を添加したことによって、Ｘ線回折のピークが消失することがわかった。これは、光記録膜中の粒径が小さくなっていることを示すものである。
このように、粒径が小さくなったことにより、ノイズ成分となる粒子の影響が小さくなることから、この光ディスクにおいては、対物レンズを高開口数化し、レーザー光を短波長化してもジッターの抑制を図ることができることになる。
【００３１】
そして、この光ディスクにおける光記録層として用いる錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物の組成は、窒素（Ｎ）の組成比ｙは、１＜ｙ＜２０（原子％）とする。
これは、１原子％以下では、粒径を小さくする効果が小さくなること、また２０原子％以上であると、光記録層の光吸収率が低下して、光照射時に光定数を変化させるだけの温度上昇を来すに大きな光パワーを必要とすること、すなわち感度の低下を来すことによる。
【００３２】
また、上述した化合物における酸素（Ｏ）の組成比ｚは、２０＜ｚ＜６０（原子％）とする。
これは、２０原子％以下では、光照射時に、酸化が不足となり、また、６０原子％以上では、光記録層の光吸収率が低下してしまい、光照射時に光定数を変化させるだけの温度上昇を来すに大きな光パワーを必要とすること、すなわち感度の低下を来すことによる。
【００３３】
このように、本発明による光記録層として、錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物の組成は、窒素（Ｎ）の化合物を用いる場合、組成ＳｎｘＮｙＯｚが、３０＜ｘ＜７０（原子％）、１＜ｙ＜２０（原子％）、２０＜ｚ＜６０（原子％）とする。
そして、この組成とすることにより、対物レンズの高開口数化、用いるレーザー光の短波長化によってもジッターを抑制する効果の増加が図られる。
【００３４】
次に、この実施形態に係る光ディスクの製造方法について説明する。
まず、図２（ａ）に示すように、ディスク基板に凹凸形状を転写形成するためのスタンパ１０を形成する。すなわち、このスタンパ１０の表面には、図１で示したディスク基板１１の凹部１１ｒの反転パターンである凸部１０ｐが形成されている。
【００３５】
このスタンパ１０は、次の方法によって作製することができる。
まず、ガラス基板の表面研磨された平滑面上に、例えば感光によってアルカリ可溶性となるポジティブ型のフォトレジストをスピンコート等によって塗布する。このフォトレジスト層に対して、目的とする例えば螺旋形状あるいは同心円形状など、ディスク基板の凹凸形状に対応する形状のパターンを露光し、その後、このフォトレジスト層を例えばアルカリ性の現像液で現像処理する。このようにして、パターン化されたフォトレジスト層によって、ディスク基板の凹凸形状のパターンに対応するパターンのレジスト膜が形成された原盤を得る。
【００３６】
次に、この原盤上にニッケルなどの金属層を、無電解メッキおよびメッキによって所定厚さに堆積する。その後、この金属層を、原盤から剥離する。このようにすると、上述した原盤の凹凸の反転による凹凸を有するメッキ層から成るスタンパ１０、あるいは、マスタースタンパ、マザ−スタンパを形成して、これらスタンパから目的とするスタンパ１０を転写して作製する。
【００３７】
次に、このスタンパ１０を、例えばディスク基板１１を射出成形によって形成するための金型のキャビティ内に、スタンパ１０を配置して例えばポリカーボネート（ＰＣ）による射出成形を行う。このようにして、図２（ｂ）に示すように、スタンパ１０の凹凸面上にディスク基板１１を形成する。
このようにして、表面に、スタンパ１０の凸部１０ｐのパターンが転写して、逆パターンの凹凸である凹部１１ｒが形成されたディスク基板１１が成形される。
【００３８】
このようにして成形されたディスク基板１１を、スタンパ１０から離型し、その凹凸形成面に、空気や窒素ガスなどのガスを吹き付けてダストを除去した後、図３（ａ）に示すように、例えばスパッタリング法により、第１の保護層３１と、錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の所定の組成比の化合物層を堆積させた光記録層１２と、第２の保護層３２とを成膜する。
【００３９】
次に、図３（ｂ）に示すように、光記録層１２上に、光透過層１３を、紫外線硬化樹脂などの光透過性樹脂材を塗布して硬化することによって形成するか、あるいは、ポリカーボネートなどの光透過性樹脂フイルムを、粘着剤層で貼り合わせることによって形成する。
このようにして、図１（ｃ）で示した構成の光ディスク１１を製造することができる。
【００４０】
この本発明による光ディスク１１は、Ｓｎを記録材料として用いる場合に高温高湿度下での記録特性の変動が回避され、高開口数の対物レンズを用い、短波長レーザー光による情報記録を行う場合においても、ジッターが抑制され、良好な記録を行うことができた。
【００４１】
上述した本発明による光ディスク、すなわち光記録媒体をその具体的実施例を挙げて説明する。
（実施例１）
トラック領域を区分する凹凸形状が表面に形成されたディスク基板を形成した。凹凸形状は、０．３２μｍのピッチでスパイラル状に形成された連続溝とし、凹凸形状の深さは２０ｎｍとした。
得られたディスク基板の凹凸形状の形成面上に、ＳｎＯ２を厚さ１０ｎｍにスパッタして第１の保護層３１を形成した。
この第１の保護層３１上に、スパッタリングにより錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物を用いたＳｎｘＮｙＯｚ（ｘ＝３１原子％、ｙ＝１０原子％、ｚ＝５９原子％）を、この組成比となるように、５０ｎｍの膜厚で堆積させて光記録層を形成した。
さらにその上層にＳｉＯ２を３０ｎｍの膜厚で堆積させて第２の保護膜を形成し、その上層にポリカーボネートなどの光透過性樹脂フイルムを粘着剤層で貼り合わせて０．１ｍｍの厚さの光透過層を形成した。このようにして、光ディスクのサンプルＡを作製した。
このサンプルＡに対して、発振波長が４０５ｎｍである記録再生用のレーザー光を、開口数が０．８５である対物レンズにより光ディスクの光記録層に集光する光学系を有する評価装置により、ビット長０．１３μｍのランダム信号を記録した。
このときの光ディスクに記録された信号のジッターは、８％であった。
さらに、この光ディスクを８０℃、８５％ＲＨの恒温恒湿槽で５００時間保存し、その後、上述したと同様にジッターを測定したところ、ジッターは８％で変化がみられなかった。
【００４２】
（比較例１）
実施例１の構成において第１の保護層３１の成膜を排除した構成として光ディスクのサンプルＢを作製した。
このサンプルＢに対して、実施例１と同様の評価装置により、ビット長０．１３μｍのランダム信号を記録した。このときのジッターは８％であった。
しかしながら、このサンプルＢに対して８０℃、８５％ＲＨの恒温恒湿槽で５００時間保存し、その後、上述したと同様にジッターを測定したところ、ジッターは１４％に劣化した。
因みに、一般にジッターは、１３％以下でなければ、正確な再生が困難であることから、ジッターは、１３％以下であることが、光記録媒体例えば光ディスクにおいて要求されるものである。
【００４３】
（実施例２）
実施例１の構成において、その光記録層１２の組成ＳｎｘＮｙＯｚを、ｘ＝６９原子％、ｙ＝１０原子％、ｚ＝２１原子％とした。
この光ディスクにおいても、高温高湿保持においてジッターの変化がみられなかった。
【００４４】
（実施例３）
実施例１と同様の構成とするものの、その光記録層の組成を、ＳｎｘＮｙＯｚ（ｘ＝４５原子％、ｙ＝１９原子％、ｚ＝３６原子％）と変更して、光ディスクのサンプルＩを作製した。
この光ディスクにおいても、高温高湿保持においてジッターの変化がみられなかった。
【００４５】
上述した各実施例は、その光記録層１２を酸化窒化錫ＳｎｘＮｙＯｚの構成としたが、光記録層１２を、ＳｎｘＮｙＯｚが、３０＜ｘ＜７０（原子％）、１＜ｙ＜２０（原子％）、２０＜ｚ＜６０（原子％）の化合物に、高融点金属のＰｄを１原子％〜２０原子％混合させた構成とすることによって、レーザー光照射による記録時において、記録層が溶融したときの粘性を高めて、流動の発生による記録マークの鮮鋭度の低下、位置の変動を改善し、ジッターの、より改善と、保存性を高めることができる。
【００４６】
この場合光記録層を構成する錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）、酸素（Ｏ）の化合物に加えるＰｄの濃度は、１原子％〜２０原子％に選定する。これは、１原子％未満では、流動の抑制効果が小さくなってしまい、上述した保存安定性の改善が十分でなくなること、２０原子％を超えると、融点および熱伝導率が大となり過ぎて、記録感度の低下を来すという不都合が生じることによって、Ｐｄの濃度は、１原子％〜２０原子％に選定する。
【００４７】
上述したＰｄを混合した光記録層による光記録媒体の実施例を挙げて説明する。
（実施例４）
実施例１と同様の構成とするが、この実施例においては、その光記録層１２を、スパッタリングによる（ＳｎｘＮｙＯｚ）１−ａ Ｐｄａ（ｘ＝３１原子％、ｙ＝１０原子％、ｚ＝５９原子％、ａ＝１原子％）とした。
【００４８】
（実施例５）
実施例１と同様の構成とするが、この実施例においては、その光記録層１２の光記録層の組成を、（ＳｎｘＮｙＯｚ）１−ａ Ｐｄａ（ｘ＝３１原子％、ｙ＝１０原子％、ｚ＝５９原子％、ａ＝２０原子％）とした。
【００４９】
これら錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物に、Ｐｄを混合した光記録媒体は、ジッターの改善と、高温高湿の耐性がより高められた。
【００５０】
尚、本発明による光記録媒体は、上述した実施の形態、実施例に限定されることなく、本発明構成において、例えば光カード、シート等の形状、これに伴う層の積層構造等、種々の変形変更がなされ得ることはいうまでもない。
【００５１】
【発明の効果】
上述したように本発明による光記録媒体は、錫を記録材料として用いた場合、ジッターの改善を図る構成において、第１および第２の保護層３１および３２を設けたことによって、より高温高湿における酸素濃度の変化の抑制を図ることができて、記録特性の劣化を回避できるという効果を奏することができたものである。
このように、本発明構成によれば、優れた記録特性大容量光記録媒体を得ることができるという大きな効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】 （ａ）は、本発明の実施の形態に係る光ディスクへの光の照射の様子を示す模式斜視図、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ’線上の模式的断面図、（ｃ）は要部を拡大した断面図である。
【図２】 （ａ）および（ｂ）は、実施の形態に係る光ディスクの製造方法の製造工程を示す断面図である。
【図３】 （ａ）および（ｂ）は、本発明の実施の形態の工程図である。
【図４】 （ａ）は、従来例に係る光ディスクへの光の照射の様子を示す模式斜視図、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ’線上の模式的断面図、（ｃ）は、要部の拡大断面図である。
【符号の説明】
１０…スタンパ、１０ｐ…凸部、１１…ディスク基板、１１ｒ…凹部、１２…光記録層、１３…光透過層、３１…第１の保護層、３２…第２の保護層、ＣＨ…センターホール、ＤＣ…光ディスク、ＬＴ…レーザー光、ＯＬ…対物レンズ
【発明の属する技術分野】
本発明は、光記録媒体、特に高密度記録が可能な光記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、情報記録の分野においては、光情報記録方式に関する研究開発が盛んである。
この光情報記録方式としては、非接触型の記録・再生、再生専用型、追記型、書き換え可能型等のそれぞれのメモリ形態に対応できるなどの数々の利点を有し、安価な大容量ファイルの実現を可能とする方式として産業用から民生用まで幅広い用途が考えられている。
【０００３】
これら各種光情報記録方式用の光記録媒体例えば光ディスクの大容量化は、主に、光情報記録方式に用いる光源となるレーザー光の短波長化と、高開口数（Ｎ．Ａ．）のレンズを採用することにより、焦点面でのスポットサイズを小さくすることで達成してきた。
【０００４】
例えば、ＣＤ（コンパクトディスク）では、レーザー光波長が７８０ｎｍ、レンズの開口数（Ｎ．Ａ．）が０．４５であり、６５０ＭＢの容量であったが、ＤＶＤ−ＲＯＭ（デジタル多用途ディスク−再生専用メモリ）では、レーザー光波長が６５０ｎｍ、Ｎ．Ａ．が０．６であり、４．７ＧＢの容量となっている。
さらに、次世代の光ディスクシステムにおいては、光記録層上に例えば厚さ０．１ｍｍ程度の薄い光透過層が形成された光ディスクを用いて、この光透過層側からレーザー光を照射するようにし、レーザー光波長を４５０ｎｍ以下、Ｎ．Ａ．を０．７８以上とすることで２２ＧＢ以上の大容量化を可能としている。
【０００５】
図４（ａ）は、この光ディスクにおける光記録ないしは光再生の状態を示す模式斜視図である。
光ディスクＤＣは、中心部にセンターホールＣＨが穿設された円板状をなし、図４（ａ）において、例えば矢印ＤＲで示す方向に回転駆動される。
【０００６】
図４（ｂ）は光ディスクの模式断面図であり、図４（ｃ）はこの光ディスクＤＣの要部の拡大断面図である。
この光ディスクは、厚さが約１．１ｍｍの例えばポリカーボネートからなるディスク基板１０１の一主面に、凹部１０１ｒが形成され、凹部１０１ｒを含む凹凸面に沿って光記録層１０２が形成されて成る。
例えば相変化型の光ディスクＤＣにおいては、その光記録層１０２は、例えば誘電体膜、相変化膜、誘電体膜および反射膜などの積層体によって構成される。
また、光記録層１０２の上層に、例えば０．１ｍｍの膜厚の光透過層１０３が形成される。
【０００７】
この光ディスクＤＣに対する情報の記録あるいは再生にあっては、光ディスクＤＣの光透過層１０３側から、光記録層１０２に、開口数が０．７８以上例えば０．８５の対物レンズＯＬによって、波長４５０ｎｍ以下例えば３８０〜４２０ｎｍのレーザー光による光ＬＴが集光照射される。
記録情報の再生時においては、光記録層１０２で反射された戻り光が受光素子で受光され、信号処理回路により所定の信号を生成して、再生信号を得る。
【０００８】
この光ディスクの光記録層１０２は、ディスク基板１０１の表面に形成された上述の凹部１０１ｒに起因した凹凸形状を有している。
凹部１０１ｒは、例えば所定のピッチで例えば螺旋形状をなす連続溝あるいは同心円形状の溝となっており、この凹凸形状によりトラック領域が区分される。
このトラック領域を区分する凹凸形状の凹部と凸部は、一方はランド、他方はグルーブと呼ばれる。ランドとグルーブの両者に情報を記録するランド・グルーブ記録方式を適用することで大容量化が可能である。また、ランドとグルーブのいずれか一方のみを記録領域とすることも可能である。
【０００９】
また、例えば、ディスク基板１０１に形成された凹部１０１ｒに起因する凹凸形状を記録データに対応する長さを有するピットとして、再生専用（ＲＯＭ）型の光ディスクとすることもできる。
【００１０】
ところで、光記録層を構成する記録材料として、非化学量論組成の金属酸化物の酸化錫（ＳｎＯｚ，ｚ＜２）が使用できることが報告されている（非特許文献１参照）。
これは、レーザー光などの光を照射したときに生じる酸化反応により、光学定数が変化することを利用したものであると考えられている。
【００１１】
【非特許文献１】
Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｓｃｉｅｎｃｅ Ｌｅｔｔｅｒｓ １９，２０００．１８３３−１８３５
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、記録材料として錫（Ｓｎ）を用いる場合、開口数が０．８程度の対物レンズを用い、波長３８０ｎｍ〜４２０ｎｍ程度の短波長光レーザー光を用いて情報の記録を行うとき、良好な形状の記録マークが形成されず、ジッターが大きくなるという問題がある。
【００１３】
これに対し、本出願人は、Ｓｎを記録材料として用いる場合において、上述したジッターの改善を図り、高温高湿度下においても、記録特性の安定化を図ることができる光記録媒体を、特許願２００３−１７８７７号で提案した。
これは、非化学量論組成の錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物を使用するものであり、レーザー光などの光を照射したときに生じる酸化反応により、光学定数が変化することを利用したものであると考えられている。
しかしながら、上述したような、記録材料として非化学量論組成の錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物を用いる場合、高温高湿度下での記録特性低下に関して必ずしも充分ではない。
【００１４】
本発明の目的は、錫を記録材料として用いる場合における高温高湿度下においても安定してすぐれた記録特性を保持でき、高開口数の対物レンズにより短波長のレーザー光などの光を照射して情報を記録してもジッターを抑制して良好な記録を行うことができる光記録媒体を提供することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明による光記録媒体は、トラック領域を区分する凹凸形状が表面に形成された基板の、その凹凸形状の形成面に、少なくとも光記録層を保護する第１の保護層と、第１の保護層上に形成された少なくとも錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物を用いた光記録層と、この光記録層上に形成され、この光記録層を保護する第２の保護層と、この第２の保護層上に形成された光透過層とを有する構成とする。
第１の保護層は、酸化錫によって構成することができ、第２の保護層は、酸化珪素より構成することができる。
【００１６】
上述の本発明構成によれば、高温高湿度下においても、良好に、記録特性の劣化を改善できた。これは、錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物による光記録層を第１および第２の保護層によって挟み込む構成としたことによって、光記録層の高温高湿度下での酸素濃度の変化を抑制することができたことによると思われる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態に係る光記録媒体（光ディスク）の実施の形態を説明する。しかしながら、本発明は、この実施形態例に限定されるものではない。
【００１８】
図１（ａ）は、この実施の形態に係る光ディスクＤＣにおける光記録ないしは光再生の状態を示す模式斜視図である。
光ディスクＤＣは、センターホールＣＨが穿設された円板状をなし、図１（ａ）において、例えば矢印ＤＲで示す方向に回転駆動される。
図１（ｂ）はこの光ディスクＤＣの模式断面図であり、図１（ｃ）は図１（ｂ）の要部の拡大断面図である。
光ディスクＤＣは、上述したように、センターホールＣＨを有する円板状をなし、厚さ約１．１ｍｍの例えばポリカーボネートから成るディスク基板１１の一主面に、凹部１１ｒが設けられている。この凹部１１ｒを含む凹凸に沿って、第１の保護層３１が形成され、この上に光記録層１２が形成され、この光記録層１２上に第２の保護層３２が形成され、その上に、光透過層１３が形成されている。
【００１９】
第１および第２の保護層３１および３２は、これらの間に配置された光記録層１２を保護する保護層であり、これら第１および第２の保護層３１および３２と、光記録層１２とは、それぞれ１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲、例えば５０ｎｍ〜６０ｎｍ程度の厚さに選定される。
【００２０】
光記録層１２は、少なくとも錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物組成ＳｎｘＮｙＯｚ（ｘ，ｙ，ｚは原子％）より成り、ｘ，ｙ，ｚが、
３０＜ｘ＜７０（原子％）、１＜ｙ＜２０（原子％）、２０＜ｚ＜６０（原子％）に選定された構成とする。
あるいは、光記録層１２は、錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物にパラジウム（Ｐｄ）を含有する（ＳｎｘＮｙＯｚ）１−ａ Ｐｄａ 組成物（ｘ，ｙ，ｚ，ａは原子％）より成り、ｘ，ｙ，ｚ，ａが、
３０＜ｘ＜７０（原子％）、１＜ｙ＜２０（原子％）、２０＜ｚ＜６０（原子％）、１＜ａ＜２０（原子％）に選定された構成とする。
これらの組成によってジッターの改善が図られる。特に、Ｐｄの添加によって特性の安定化が図られた。これは、Ｐｄの添加により記録時に溶融した記録膜の粘性が高められたことによると考えられる。
この光記録層１２の膜厚は、１０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲、例えば３０ｎｍ〜６０ｎｍ程度とし得る。
【００２１】
第１の保護層３１は、酸化錫（ＳｎＯ２）によって構成することが望ましい。この第１の保護層３１として、仮にＳｉＯ２によって構成するときは、気密性が高すぎて記録時の酸化反応が阻害され良好な記録がなされないことが認められた。これに対し、第１の保護層３１を酸化錫（ＳｎＯ２）によって構成する場合、記録特性を損なわずに光記録層１２の高温高湿度下での酸素濃度の変化が抑制されて記録特性の劣化を抑制することができた。
【００２２】
また、第２の保護層３２は、ＳｉＯ２によって構成することが好ましい。この第２の保護層３２として、ＳｎＯ２あるいはＳｉ３Ｎ４によって構成する場合、光学定数の組み合せの関係で、膜厚を厚くすると反射率が低下してしまう。これに対し、第２の保護層３２をＳｉＯ２によって構成する場合、この上の光透過層１３と、その光学定数が近いことから、膜厚を厚くしても反射率は変動しなかった。
【００２３】
第２の保護層３２上の光透過層１３は、例えば膜厚が０．１ｍｍとされる。この光透過層１３は、例えば、紫外線硬化樹脂の塗布膜を硬化することによって形成される。あるいは、例えば粘着剤層が積層されたポリカーボネートなどの光透過性樹脂フイルムを、その粘着剤層によって保護層３２に貼り合わせることによって構成される。
【００２４】
この実施形態における光ディスクＤＣに対する情報の記録または再生は、このディスクＤＣを、例えば図１（ａ）に矢印ＤＲをもって示す方向に回転駆動させ、例えば、光ディスクＤＣの光記録層１２に対して、例えば０．８５±０．０５の開口数の対物レンズＯＬを介して、例えば３８０ｎｍ〜４２０ｎｍの波長のレーザー光ＯＬを、光透過層１３側から光記録層１２に集光照射することによって行う。
【００２５】
光ディスクの記録時においては、光記録層１２に、例えば上述したレーザー光ＯＬを照射し、その光照射部分に記録マークを形成する。この記録マークは、上述したレーザー光ＯＬの照射によって酸化反応が生じ、これによって光記録層１２の光照射部の光学定数が変化することによって形成されると思われる。
【００２６】
また、光ディスクの再生時においては、光記録層１２に照射され、記録マークにおける光学定数の変化によって変調された例えば戻り光が、受光素子で受光され、信号処理回路により所定の信号に生成され、再生信号として取り出される。
【００２７】
この光ディスクにおいては、光記録層１２は、ディスク基板１１の表面に形成された凹部１１ｒに起因した凹凸形状を有している。
例えば、ディスク基板１１に形成された凹部１１ｒは所定のピッチの螺旋形状すなわちスパイラル状の連続溝、あるいは同心円形状の溝となっており、この凹凸形状によりトラック領域が区分される。
この例えば連続溝あるいは同心円形溝のピッチ（凹部の中央から隣接する凹部の中央までの距離）は、例えば０．３２μｍ程度とされる。
【００２８】
また、トラック領域を区分する凹凸形状の凹部と凸部とは、一方はランド、他方はグルーブと呼ばれる。そして、ランドとグルーブの両者に情報を記録するランド・グルーブ記録方式を適用することで大容量化が可能である。しかしながら、ランドとグルーブのいずれか一方のみを記録領域とすることもできる。
この凹凸形状の深さは、数ｎｍ〜１００ｎｍ程度であり、例えばグルーブ記録方式の場合には２０ｎｍ、ランド・グルーブ記録方式の場合には４０ｎｍなどに設定することができる。
【００２９】
因みに、記録材料として酸化錫（ＳｎＯｚ（ｚ＜２））を用いた場合、Ｘ線回折の実験から、膜中に、ある程度の大きさの粒径が存在していることがわかっている。この粒子は、光ディスクとして用いた場合のノイズ成分に寄与することから、前述したように、大容量化を図って、対物レンズを高開口数化し、レーザー光を短波長化したときに、粒界の影響が大きくなり、このために、ジッターが大きくなるものと考えられる。
【００３０】
この実施形態の光ディスクは、記録材料として少なくとも錫、窒素および酸素の化合物、すなわち窒素（Ｎ）を添加したことによって、Ｘ線回折のピークが消失することがわかった。これは、光記録膜中の粒径が小さくなっていることを示すものである。
このように、粒径が小さくなったことにより、ノイズ成分となる粒子の影響が小さくなることから、この光ディスクにおいては、対物レンズを高開口数化し、レーザー光を短波長化してもジッターの抑制を図ることができることになる。
【００３１】
そして、この光ディスクにおける光記録層として用いる錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物の組成は、窒素（Ｎ）の組成比ｙは、１＜ｙ＜２０（原子％）とする。
これは、１原子％以下では、粒径を小さくする効果が小さくなること、また２０原子％以上であると、光記録層の光吸収率が低下して、光照射時に光定数を変化させるだけの温度上昇を来すに大きな光パワーを必要とすること、すなわち感度の低下を来すことによる。
【００３２】
また、上述した化合物における酸素（Ｏ）の組成比ｚは、２０＜ｚ＜６０（原子％）とする。
これは、２０原子％以下では、光照射時に、酸化が不足となり、また、６０原子％以上では、光記録層の光吸収率が低下してしまい、光照射時に光定数を変化させるだけの温度上昇を来すに大きな光パワーを必要とすること、すなわち感度の低下を来すことによる。
【００３３】
このように、本発明による光記録層として、錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物の組成は、窒素（Ｎ）の化合物を用いる場合、組成ＳｎｘＮｙＯｚが、３０＜ｘ＜７０（原子％）、１＜ｙ＜２０（原子％）、２０＜ｚ＜６０（原子％）とする。
そして、この組成とすることにより、対物レンズの高開口数化、用いるレーザー光の短波長化によってもジッターを抑制する効果の増加が図られる。
【００３４】
次に、この実施形態に係る光ディスクの製造方法について説明する。
まず、図２（ａ）に示すように、ディスク基板に凹凸形状を転写形成するためのスタンパ１０を形成する。すなわち、このスタンパ１０の表面には、図１で示したディスク基板１１の凹部１１ｒの反転パターンである凸部１０ｐが形成されている。
【００３５】
このスタンパ１０は、次の方法によって作製することができる。
まず、ガラス基板の表面研磨された平滑面上に、例えば感光によってアルカリ可溶性となるポジティブ型のフォトレジストをスピンコート等によって塗布する。このフォトレジスト層に対して、目的とする例えば螺旋形状あるいは同心円形状など、ディスク基板の凹凸形状に対応する形状のパターンを露光し、その後、このフォトレジスト層を例えばアルカリ性の現像液で現像処理する。このようにして、パターン化されたフォトレジスト層によって、ディスク基板の凹凸形状のパターンに対応するパターンのレジスト膜が形成された原盤を得る。
【００３６】
次に、この原盤上にニッケルなどの金属層を、無電解メッキおよびメッキによって所定厚さに堆積する。その後、この金属層を、原盤から剥離する。このようにすると、上述した原盤の凹凸の反転による凹凸を有するメッキ層から成るスタンパ１０、あるいは、マスタースタンパ、マザ−スタンパを形成して、これらスタンパから目的とするスタンパ１０を転写して作製する。
【００３７】
次に、このスタンパ１０を、例えばディスク基板１１を射出成形によって形成するための金型のキャビティ内に、スタンパ１０を配置して例えばポリカーボネート（ＰＣ）による射出成形を行う。このようにして、図２（ｂ）に示すように、スタンパ１０の凹凸面上にディスク基板１１を形成する。
このようにして、表面に、スタンパ１０の凸部１０ｐのパターンが転写して、逆パターンの凹凸である凹部１１ｒが形成されたディスク基板１１が成形される。
【００３８】
このようにして成形されたディスク基板１１を、スタンパ１０から離型し、その凹凸形成面に、空気や窒素ガスなどのガスを吹き付けてダストを除去した後、図３（ａ）に示すように、例えばスパッタリング法により、第１の保護層３１と、錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の所定の組成比の化合物層を堆積させた光記録層１２と、第２の保護層３２とを成膜する。
【００３９】
次に、図３（ｂ）に示すように、光記録層１２上に、光透過層１３を、紫外線硬化樹脂などの光透過性樹脂材を塗布して硬化することによって形成するか、あるいは、ポリカーボネートなどの光透過性樹脂フイルムを、粘着剤層で貼り合わせることによって形成する。
このようにして、図１（ｃ）で示した構成の光ディスク１１を製造することができる。
【００４０】
この本発明による光ディスク１１は、Ｓｎを記録材料として用いる場合に高温高湿度下での記録特性の変動が回避され、高開口数の対物レンズを用い、短波長レーザー光による情報記録を行う場合においても、ジッターが抑制され、良好な記録を行うことができた。
【００４１】
上述した本発明による光ディスク、すなわち光記録媒体をその具体的実施例を挙げて説明する。
（実施例１）
トラック領域を区分する凹凸形状が表面に形成されたディスク基板を形成した。凹凸形状は、０．３２μｍのピッチでスパイラル状に形成された連続溝とし、凹凸形状の深さは２０ｎｍとした。
得られたディスク基板の凹凸形状の形成面上に、ＳｎＯ２を厚さ１０ｎｍにスパッタして第１の保護層３１を形成した。
この第１の保護層３１上に、スパッタリングにより錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物を用いたＳｎｘＮｙＯｚ（ｘ＝３１原子％、ｙ＝１０原子％、ｚ＝５９原子％）を、この組成比となるように、５０ｎｍの膜厚で堆積させて光記録層を形成した。
さらにその上層にＳｉＯ２を３０ｎｍの膜厚で堆積させて第２の保護膜を形成し、その上層にポリカーボネートなどの光透過性樹脂フイルムを粘着剤層で貼り合わせて０．１ｍｍの厚さの光透過層を形成した。このようにして、光ディスクのサンプルＡを作製した。
このサンプルＡに対して、発振波長が４０５ｎｍである記録再生用のレーザー光を、開口数が０．８５である対物レンズにより光ディスクの光記録層に集光する光学系を有する評価装置により、ビット長０．１３μｍのランダム信号を記録した。
このときの光ディスクに記録された信号のジッターは、８％であった。
さらに、この光ディスクを８０℃、８５％ＲＨの恒温恒湿槽で５００時間保存し、その後、上述したと同様にジッターを測定したところ、ジッターは８％で変化がみられなかった。
【００４２】
（比較例１）
実施例１の構成において第１の保護層３１の成膜を排除した構成として光ディスクのサンプルＢを作製した。
このサンプルＢに対して、実施例１と同様の評価装置により、ビット長０．１３μｍのランダム信号を記録した。このときのジッターは８％であった。
しかしながら、このサンプルＢに対して８０℃、８５％ＲＨの恒温恒湿槽で５００時間保存し、その後、上述したと同様にジッターを測定したところ、ジッターは１４％に劣化した。
因みに、一般にジッターは、１３％以下でなければ、正確な再生が困難であることから、ジッターは、１３％以下であることが、光記録媒体例えば光ディスクにおいて要求されるものである。
【００４３】
（実施例２）
実施例１の構成において、その光記録層１２の組成ＳｎｘＮｙＯｚを、ｘ＝６９原子％、ｙ＝１０原子％、ｚ＝２１原子％とした。
この光ディスクにおいても、高温高湿保持においてジッターの変化がみられなかった。
【００４４】
（実施例３）
実施例１と同様の構成とするものの、その光記録層の組成を、ＳｎｘＮｙＯｚ（ｘ＝４５原子％、ｙ＝１９原子％、ｚ＝３６原子％）と変更して、光ディスクのサンプルＩを作製した。
この光ディスクにおいても、高温高湿保持においてジッターの変化がみられなかった。
【００４５】
上述した各実施例は、その光記録層１２を酸化窒化錫ＳｎｘＮｙＯｚの構成としたが、光記録層１２を、ＳｎｘＮｙＯｚが、３０＜ｘ＜７０（原子％）、１＜ｙ＜２０（原子％）、２０＜ｚ＜６０（原子％）の化合物に、高融点金属のＰｄを１原子％〜２０原子％混合させた構成とすることによって、レーザー光照射による記録時において、記録層が溶融したときの粘性を高めて、流動の発生による記録マークの鮮鋭度の低下、位置の変動を改善し、ジッターの、より改善と、保存性を高めることができる。
【００４６】
この場合光記録層を構成する錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）、酸素（Ｏ）の化合物に加えるＰｄの濃度は、１原子％〜２０原子％に選定する。これは、１原子％未満では、流動の抑制効果が小さくなってしまい、上述した保存安定性の改善が十分でなくなること、２０原子％を超えると、融点および熱伝導率が大となり過ぎて、記録感度の低下を来すという不都合が生じることによって、Ｐｄの濃度は、１原子％〜２０原子％に選定する。
【００４７】
上述したＰｄを混合した光記録層による光記録媒体の実施例を挙げて説明する。
（実施例４）
実施例１と同様の構成とするが、この実施例においては、その光記録層１２を、スパッタリングによる（ＳｎｘＮｙＯｚ）１−ａ Ｐｄａ（ｘ＝３１原子％、ｙ＝１０原子％、ｚ＝５９原子％、ａ＝１原子％）とした。
【００４８】
（実施例５）
実施例１と同様の構成とするが、この実施例においては、その光記録層１２の光記録層の組成を、（ＳｎｘＮｙＯｚ）１−ａ Ｐｄａ（ｘ＝３１原子％、ｙ＝１０原子％、ｚ＝５９原子％、ａ＝２０原子％）とした。
【００４９】
これら錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物に、Ｐｄを混合した光記録媒体は、ジッターの改善と、高温高湿の耐性がより高められた。
【００５０】
尚、本発明による光記録媒体は、上述した実施の形態、実施例に限定されることなく、本発明構成において、例えば光カード、シート等の形状、これに伴う層の積層構造等、種々の変形変更がなされ得ることはいうまでもない。
【００５１】
【発明の効果】
上述したように本発明による光記録媒体は、錫を記録材料として用いた場合、ジッターの改善を図る構成において、第１および第２の保護層３１および３２を設けたことによって、より高温高湿における酸素濃度の変化の抑制を図ることができて、記録特性の劣化を回避できるという効果を奏することができたものである。
このように、本発明構成によれば、優れた記録特性大容量光記録媒体を得ることができるという大きな効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】 （ａ）は、本発明の実施の形態に係る光ディスクへの光の照射の様子を示す模式斜視図、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ’線上の模式的断面図、（ｃ）は要部を拡大した断面図である。
【図２】 （ａ）および（ｂ）は、実施の形態に係る光ディスクの製造方法の製造工程を示す断面図である。
【図３】 （ａ）および（ｂ）は、本発明の実施の形態の工程図である。
【図４】 （ａ）は、従来例に係る光ディスクへの光の照射の様子を示す模式斜視図、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ’線上の模式的断面図、（ｃ）は、要部の拡大断面図である。
【符号の説明】
１０…スタンパ、１０ｐ…凸部、１１…ディスク基板、１１ｒ…凹部、１２…光記録層、１３…光透過層、３１…第１の保護層、３２…第２の保護層、ＣＨ…センターホール、ＤＣ…光ディスク、ＬＴ…レーザー光、ＯＬ…対物レンズ
Claims (3)
- トラック領域を区分する凹凸形状が表面に形成された基板の、上記凹凸形状の形成面に、
少なくとも光記録層を保護する第１の保護層と、
該第１の保護層上に形成された少なくとも錫（Ｓｎ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）の化合物を用いた光記録層と、
該光記録層上に形成され、該光記録層を保護する第２の保護層と、
該第２の保護層上に形成された光透過層とを有して成ることを特徴とする光記録媒体。 - 上記第１の保護層が、酸化錫より成ることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
- 上記第２の保護層が、酸化珪素より成ることを特徴とする請求項１または２に記載の光記録媒体。
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