JP2004090060A - レーザ溶接封止装置 - Google Patents
レーザ溶接封止装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004090060A JP2004090060A JP2002256263A JP2002256263A JP2004090060A JP 2004090060 A JP2004090060 A JP 2004090060A JP 2002256263 A JP2002256263 A JP 2002256263A JP 2002256263 A JP2002256263 A JP 2002256263A JP 2004090060 A JP2004090060 A JP 2004090060A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- work
- transmission window
- sealing device
- welding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Abstract
【解決手段】凹状とした容器本体と平板状のカバーとからなるワークを作業容器4に設けた透過窓7を経て照射されるレーザ光によって封止してなるレーザ溶接封止装置において、前記作業容器4を真空構造にするとともに、前記透過窓7と前記ワークとの間に光透過性の保護フィルム8を搬送自在に配置して前記透過窓と前記ワークとを遮蔽した構成とする。さらに、前記ワークは水晶振動子用の密閉容器とする。
【選択図】図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明はレーザ溶接封止装置を産業上の技術分野とし、特に水晶振動子用の密閉容器を形成するレーザ溶接封止装置に関する。
【0002】
(発明の背景)水晶振動子は周波数制御素子として広く認知され、周波数や時間の基準源あるいはフィルタ素子として採用される。近年では、表面実装型の水晶振動子(以下、表面実装振動子とする)が特に携帯機器で主流をなし、ますますの小型化及び高周波化が進行している。
【0003】
(従来技術の一例)第2図は一従来例を説明する表面実装振動子の断面図である。
表面実装振動子は凹状とした容器本体1内に水晶片2を収容し、平板状のカバー3を被せて密閉封入する。一般的には、窒素等の不活性ガスを充満させた作業容器4(チャンバー)内でシーム溶接によって、容器本体1にカバー3を接合する。これにより、密閉容器内に不活性ガスを封入し、大気(空気)の影響を防止して経年変化特性を良好に維持する。なお、図中の符号12は導電性接着剤、13は溶接用の金属リングである。
【0004】
(従来技術の問題点)しかしながら、上記構成の表面実装振動子では、密閉容器内に封入した不活性ガスの摩擦抵抗によって振動が阻害され、例えばクリスタルインピーダンス(CI)を大きくする問題があった。特に、高周波化が進行して厚み及び板面面積が小さくなるほど、不活性ガスの影響が大きくCIを増大させる。
【0005】
このことから、不活性ガスの影響を防止するため、密閉容器を真空にして電子ビームによって封止する真空封止装置が開発されている。しかし、この場合は、電子ビーム装置自体が高価であり、出射部を真空とした作業容器4(真空チャンバー)内に設置する必要がある。したがって、このようなものでは、大型で高価な装置になってしまう問題があった。
【0006】
そこで、真空チャンバーの外部から透過窓7を経てレーザ光を照射して溶接することが提案された。しかし、この場合には、溶接時の金属屑等が透過窓7に付着し、レーザ光が減衰して溶接を困難にする問題があった。
【0007】
(発明の目的)本発明はレーザ光の減衰を防止して溶接を容易にしたレーザ溶接封止装置を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、レーザ光の透過窓を有する作業容器4を真空構造にするとともに、透過窓とワーク(密閉容器)との間に光透過性の保護フィルムを搬送自在に配置して透過窓とワークとを遮蔽した構成とする。これにより、溶接時の金属屑を保護フィルムに付着させる。そして、金属屑の付着した保護膜を搬送する。したがって、透過窓への金属屑の付着を防止して、光レーザによる溶接を容易にする。以下、本発明の一実施例を説明する。
【0009】
【実施例】
第1図は本発明の一実施例を説明するレーザ溶接封止装置の概念的な断面図である。なお、前従来例と同一部分には同番号を付与してその説明は簡略又は省略する。
レーザ溶接封止装置は、作業容器4と、予備容器5と、真空移送機構6からなる。作業容器4は真空ポンプによる真空構造としてレーザ光Pの透過窓7を有する。そして、透過窓7の前面には保護膜8が配設される。保護膜8は例えばポリエチレンからなり、両端側をリールに巻回されて間欠的に搬送される。予備容器5は作業容器4の前段及び後段に設けられ、予備的に真空引される。作業容器4と予備容器5との間の仕切壁には開閉自在の搬送窓9を有する。
【0010】
真空移送機構6は上下左右に移動する押上搬送体10を有する。押上搬送体10は搬送窓9と連動して、作業容器4と前後の予備容器5との間を移動する。そして、押上搬送体10に保持されたワーク11を次段に移送する。なお、ワーク11は水晶片2を収容してカバー3が載置された容器本体1である。
【0011】
このようなものでは、先ず、予備容器5内のワーク11を真空移送機構6によって作業容器4内に移送して固定する。そして、レーザ光を透過窓7及び保護膜8を経てワーク11に照射する。すなわち、真空雰囲気中で容器本体1にカバー3を溶接して、水晶片2を気密にして真空封止する。
【0012】
そして、ワーク11を次段の予備容器5に移送するとともに、前段の予備容器5からワーク11を作業容器4に移入する。このとき、リールを間欠的に回転して保護膜8を搬送する。これらの作業は保護膜8が全て搬送されるまで行われる。
【0013】
このような構成であれば、レーザ光の照射によって生ずるワーク11からの金属屑は、保護膜8に付着して透過窓7へは到達しない。したがって、透過窓7は汚損されない。そして、保護膜8は間欠的に搬送されてリールに巻回され、新たな保護膜8が透過窓7とワーク11との間に配設されて、両者を遮蔽する。
【0014】
これらにより、レーザ光は、常時、透明度を維持した同一条件の元でワーク11に照射されるので、減衰がなく溶接を容易にする。そして、保護膜8の搬送後はリールを交換すればよいので、管理等も容易にする。
【0015】
【他の事項】
上記実施例では水晶振動子の封止装置として説明したが、真空とした密閉容器を要する電子部品の封止装置に適用できる。また、真空移送機構6は周知技術であって実施例以外のものでも任意に適用できる。また、ワーク11は一個ずつ搬送したが、例えば作業容器4内に複数個ずつ搬送して複数のレーザ光源によって複数ずつ封止することもできる。そして、保護膜8は一回の封止ごとに搬送したが、汚損の程度に応じて複数回の使用が可能である。
【0016】
【発明の効果】
本発明は、レーザ光の透過窓を有する作業容器を真空構造にするとともに、透過窓とワークとの間に光透過性の保護フィルムを搬送自在に配置して透過窓とワークとを遮蔽した構成とするので、レーザ光の減衰を防止して溶接を容易にしたレーザ溶接封止装置を提供することを目的とする。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を説明するレーザ溶接封止装置の概念的な断面図である。
【図2】従来例を説明する水晶振動子の断面図である。
【符号の説明】
1 容器本体、2 水晶片、3 カバー、4 作業容器、5 予備容器、6 真空移送機構、7 透過窓、8 保護膜、9 搬送窓、10 押上搬送体、11ワーク、12 導電性接着剤.
Claims (2)
- 凹状とした容器本体と平板状のカバーとからなるワークを作業容器に設けた透過窓を経て照射されるレーザ光によって封止してなるレーザ溶接封止装置において、前記作業容器を真空構造にするとともに、前記透過窓と前記ワークとの間に光透過性の保護フィルムを搬送自在に配置して前記透過窓と前記ワークとを遮蔽したことを特徴とするレーザ溶接封止装置。
- 前記ワークは水晶振動子用の密閉容器である請求項1のレーザ溶接封止装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002256263A JP2004090060A (ja) | 2002-09-02 | 2002-09-02 | レーザ溶接封止装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002256263A JP2004090060A (ja) | 2002-09-02 | 2002-09-02 | レーザ溶接封止装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004090060A true JP2004090060A (ja) | 2004-03-25 |
JP2004090060A5 JP2004090060A5 (ja) | 2005-09-29 |
Family
ID=32061540
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002256263A Pending JP2004090060A (ja) | 2002-09-02 | 2002-09-02 | レーザ溶接封止装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004090060A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101651450B (zh) * | 2009-08-31 | 2012-05-23 | 珠海粤科京华电子陶瓷有限公司 | 通过激光焊封制备石英晶体器件的方法 |
DE102011087181A1 (de) * | 2011-11-28 | 2013-05-29 | 3D-Micromac Ag | Laserbearbeitungssystem |
EP2644308A1 (en) * | 2012-03-31 | 2013-10-02 | Fei Company | System for protecting light optical components during laser ablation |
US9216475B2 (en) | 2012-03-31 | 2015-12-22 | Fei Company | System for protecting light optical components during laser ablation |
CN112894140A (zh) * | 2019-12-04 | 2021-06-04 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 真空激光焊接方法及装置 |
-
2002
- 2002-09-02 JP JP2002256263A patent/JP2004090060A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101651450B (zh) * | 2009-08-31 | 2012-05-23 | 珠海粤科京华电子陶瓷有限公司 | 通过激光焊封制备石英晶体器件的方法 |
DE102011087181A1 (de) * | 2011-11-28 | 2013-05-29 | 3D-Micromac Ag | Laserbearbeitungssystem |
DE102011087181B4 (de) * | 2011-11-28 | 2017-08-17 | 3D-Micromac Ag | Laserbearbeitungssystem |
EP2644308A1 (en) * | 2012-03-31 | 2013-10-02 | Fei Company | System for protecting light optical components during laser ablation |
JP2013214513A (ja) * | 2012-03-31 | 2013-10-17 | Fei Co | レーザ・アブレーション中に光学構成部品を保護するシステム |
CN103358035A (zh) * | 2012-03-31 | 2013-10-23 | Fei公司 | 用于在激光烧蚀期间保护光线光学组件的系统 |
US9216475B2 (en) | 2012-03-31 | 2015-12-22 | Fei Company | System for protecting light optical components during laser ablation |
CN103358035B (zh) * | 2012-03-31 | 2017-07-18 | Fei公司 | 用于在激光烧蚀期间保护光线光学组件的系统 |
CN112894140A (zh) * | 2019-12-04 | 2021-06-04 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 真空激光焊接方法及装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2841477A (en) | Photochemically activated gaseous etching method | |
JP2004090060A (ja) | レーザ溶接封止装置 | |
JP3456432B2 (ja) | 振動子デバイスの製造方法およびその製造装置 | |
US3981687A (en) | Method of treating quartz crystal resonators | |
MY126467A (en) | Waste demolishing method and apparatus therefor | |
JP2004185827A (ja) | 紫外線カットマスク及び封止装置 | |
JP2009183962A (ja) | レーザ加工装置用パレット、およびレーザ加工装置 | |
JP2579539Y2 (ja) | エキシマレーザ用ウインドウ | |
JPH0997597A (ja) | 誘電体バリア放電ランプ | |
JPH09193967A (ja) | パッケージの封止方法及びその構造 | |
JP3837566B2 (ja) | 冷却式高量子効率フォトカソード型電子線源への高量子効率物質の被覆方法 | |
JP2009290177A (ja) | 半導体処理装置 | |
JPH01218081A (ja) | レーザ発振装置 | |
JPH01235125A (ja) | 偏平型表示管の製造方法 | |
JPS6021630A (ja) | 原子ビ−ム装置 | |
JPH06119891A (ja) | 蛍光表示管 | |
JP2000196162A (ja) | 電子部品封止体の製造方法 | |
JPS62122289A (ja) | レ−ザ用ウインド機構 | |
KR20160099165A (ko) | 레이저 가공 장치, 그 운용방법 및 인시튜 세정방법 | |
JPS57118415A (en) | Vacuum sealing method of quartz oscillator | |
JPH11106896A (ja) | 光学薄膜成膜装置および方法 | |
JPH0378933A (ja) | 補強形陰極線管の製造方法 | |
JPH11183699A (ja) | 光源装置 | |
JPH0643143Y2 (ja) | 半導体ウエハと薄板を接着する接着剤の接着力制御装置 | |
JPH08162287A (ja) | X線発生装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050511 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050511 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20071024 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071106 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080507 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080704 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081125 |