JP2004069869A - 光導波路型shg素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】複数色の光を光導波路型SHG素子により生成する場合に、装置コストの低減と装置の小型化を図る。
【解決手段】光導波路LGとその光導波路LGに形成される周期ドメイン反転構造RDとを備えて、光導波路LGに入射された光の第2高調波を生成する光導波路型SHG素子において、前記周期ドメイン反転構造RDは、出射する複数色の第2高調波に対応して異なる周期を有する複数の周期ドメイン反転構造54,55が光の伝播方向に沿って並ぶ状態で形成されている。
【選択図】 図1
【解決手段】光導波路LGとその光導波路LGに形成される周期ドメイン反転構造RDとを備えて、光導波路LGに入射された光の第2高調波を生成する光導波路型SHG素子において、前記周期ドメイン反転構造RDは、出射する複数色の第2高調波に対応して異なる周期を有する複数の周期ドメイン反転構造54,55が光の伝播方向に沿って並ぶ状態で形成されている。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光導波路とその光導波路に形成される周期ドメイン反転構造とを備えて、光導波路に入射された光の第2高調波を生成する光導波路型SHG素子に関する。
【0002】
【従来の技術】
かかる光導波路型SHG素子は、レーザ光源から出射したレーザ光を光導波路型SHG素子に形成された光導波路に入射させ、その光導波路から入射レーザ光の第2高調波(入射光の1/2の波長の光)を取り出す光源装置に用いられ、写真プリント装置や光ディスク装置等の各種の装置の光源として利用されている。
この光源装置に用いられる光導波路型SHG素子は、光導波路にいわゆる周期ドメイン反転構造といわれる分極が周期的に反転した構造が形成されて、第2高調波への変換効率の向上を図っている。
従来、複数色のレーザ光を第2高調波を生成することによって得たい場合には、各色毎に光導波路型SHG素子を備えるのが一般的であり、1つの光導波路型SHG素子内での周期ドメイン反転構造の周期は一定周期であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
従って、上記従来構成では、光導波路型SHG素子を利用して複数色のレーザ光を得ようとすると、必要な色の数と同数の光導波路型SHG素子が必要となり、装置コストが増大すると共に、光源装置が大型化してしまう不都合があった。
本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、複数色の光を光導波路型SHG素子により生成する場合に、装置コストの低減と装置の小型化を図る点にある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
上記請求項1記載の構成を備えることにより、光導波路とその光導波路に形成される周期ドメイン反転構造とを備えて、光導波路に入射された光の第2高調波を生成する光導波路型SHG素子において、前記周期ドメイン反転構造は、出射する複数色の第2高調波に対応して異なる周期を有する複数の周期ドメイン反転構造が光の伝播方向に沿って並ぶ状態で形成されている。
【0005】
すなわち、前記周期ドメイン反転構造は、その反転周期に対して高効率の第2高調波への変換効率が得られる入射レーザ光の波長範囲が極めて狭い範囲に限られ、その範囲外の波長のレーザ光は、そのまま透過させてしまうという知見に基づいて、複数の波長のレーザ光に対応した周期を有する複数の周期ドメイン反転構造が前記光導波路に沿って並ぶ状態で形成している。このように形成しても、その複数の周期ドメイン反転構造の夫々は、対応する波長のレーザ光についてのみ第2高調波の発生に寄与し、他の波長のレーザ光にはほとんど関与しない。
【0006】
これによって、周期ドメイン反転構造が単一の光導波路に形成される場合は、単一の光導波路にて複数色の第2高調波を生成できることになり、又、周期ドメイン反転構造が横並び状態の複数の光導波路に亘って形成される場合でも、それら複数の光導波路を近接して配置することが可能となるので、単に単一の光導波路型SHG素子で複数色の第2高調波を発生できるにとどまらず、光導波路型SHG素子をコンパクトに構成できる。
もって、複数色の光を光導波路型SHG素子により生成する場合に、光源装置の装置コストの低減と小型化とを実現できるに至った。
【0007】
又、上記請求項2記載の構成を備えることにより、前記光導波路は、複数の光導波路が合流点で合流するように構成されている。
すなわち、複数個のレーザ光源から出射されたレーザ光又はそのレーザ光によって生成された第2高調波の光路を合流させることによって、複数色の第2高調波を同一光軸の光ビームとして取り出すことができる。
これによって、光源装置の後段に備えられる光学系を簡素化することができる。
【0008】
又、上記請求項3記載の構成を備えることにより、前記複数の周期ドメイン反転構造が、前記合流点よりも下流側の前記出力側光導波路に形成されている。
すなわち、複数の周期の周期ドメイン反転構造は、前記合流点よりも上流側の複数の光導波路に亘る状態で形成しても良いが、光導波路の数が少ない前記合流点よりも下流側の出力側光導波路に複数の周期の周期ドメイン反転構造を形成することで、周期ドメイン反転構造を形成する際に位置合わせを容易に行え、且つ、周期ドメイン反転構造をコンパクトに形成することが可能となる。
【0009】
又、上記請求項4記載の構成を備えることにより、前記合流点よりも上流側の入力側光導波路は、赤色のレーザ光を伝播する第1入力側光導波路と、緑色光の第2高調波を生成するための波長のレーザ光を伝播する第2入力側光導波路と、青色光の第2高調波を生成するための波長のレーザ光を伝播する第3入力側光導波路とを備えて構成され、前記複数の周期ドメイン反転構造は、前記第2入力側光導波路を伝播するレーザ光の波長に対応する周期を有する周期ドメイン反転構造と、前記第3入力側光導波路を伝播するレーザ光の波長に対応する周期を有する周期ドメイン反転構造とによって構成されている。
【0010】
すなわち、赤色のレーザ光源としては、既に赤色レーザ光を出射する半導体レーザ素子が実用化されており、光導波路型SHG素子を必要とはしないのであるが、例えば写真プリント装置の露光用光源のように赤色,緑色,及び,青色のレーザ光を必要として、尚且つ、緑色及び青色の光を単一の光導波路型SHG素子にて生成する場合には、赤色のレーザ光を伝播する光導波路を、緑色及び青色の光の生成のための光導波路と共に光導波路型SHG素子に作り込んでおくのである。
このように光導波路型SHG素子内において赤色のレーザ光を伝播させても、周期ドメイン反転構造は緑色光と青色光の生成のために形成されているので、赤色の入射光にはほとんど関与せず、単なる光導波路として作用することになり、しかも、他の光導波路と共に作り込むことで製造工程が煩雑化してしまうこともない。
従って、光導波路型SHG素子からは赤色,緑色,及び,青色の光が単一の光ビームとして得ることができ、光源装置自身の構成及び後段の光学系の構成を極めて簡素化することが可能となる。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の光導波路型SHG素子を写真プリントシステムにおける露光用の光源装置に備えた場合の実施の形態を図面に基づいて説明する。
<第1実施形態>
本第1実施形態で例示する写真プリントシステムDPは、いわゆるデジタルミニラボ機として知られているものであり、図6のブロック構成図に示すように、現像処理済みの写真フィルムやメモリーカード,MOあるいはCD−R等から写真プリントを作製するための画像データを入力する画像入力装置IRと、画像入力装置IRにて入力した画像データを印画紙2に露光処理する露光・現像装置EPとから構成されている。
〔画像入力装置IRの概略構成〕
画像入力装置IRには、図6に概略的に示すように、写真フィルムの駒画像を読み取るフィルムスキャナ3と、メモリーリーダ,MOドライブ及びCD−Rドライブ等を備えた外部入出力装置4と、汎用小型コンピュータシステムにて構成されてフィルムスキャナ3や外部入出力装置4の制御のほか写真プリントシステムDP全体の管理を実行する主制御装置5とが備えられ、更に、主制御装置5には、仕上がりプリント画像をシミュレートしたシミュレート画像や各種の制御用の情報を表示するモニタ5aと、露光条件の手動設定等や制御情報の入力操作をするための操作卓5bとが接続されている。
【0012】
〔露光・現像装置EPの全体構成〕
露光・現像装置EPは、筐体内部に、画像露光装置EXと、画像露光装置EXにて露光された印画紙2を現像処理する現像処理装置PPと、筐体内に配置された印画紙マガジン6から引き出された印画紙2を多数の搬送ローラ9等にて現像処理装置PPへ搬送する印画紙搬送系PTとが設けられている。
図示を省略するが、露光・現像装置EPの筐体外部には、現像処理装置PPにて現像処理及び乾燥処理された印画紙2をオーダ毎に分類するためのソータが備えられ、このソータへ印画紙2を搬送するコンベア10が筐体上面に備えられている。
更に、印画紙搬送系PTの搬送経路の途中には、印画紙マガジン6から引き出された長尺の印画紙2を設定プリントサイズに切断するカッタ11と、一列で搬送される印画紙2を複数の搬送列に振り分けるための振り分け装置12が備えられている。
【0013】
〔画像露光装置EXの構成〕
画像露光装置EXは、印画紙2に対して光ビームを走査することにより印画紙2上に露光画像を形成する画像露光ユニット13と、画像露光ユニット13を制御する露光制御装置14とを主要部として構成されている。
〔画像露光ユニット13の構成〕
画像露光ユニット13は、レーザを光源として印画紙2上に画像を露光するいわゆるレーザ露光式を採用しており、その概略構成を図5のブロック構成図に示す。
画像露光ユニット13には、第1レーザ光源ユニット20と、第2レーザ光源ユニット21と、第1レーザ光源ユニット20及び第2レーザ光源ユニット21から出射される光ビームLBのビーム径を調整するためのビームエキスパンダ22と、シリンドリカルレンズ23と、2本の光ビームLBの光軸を1本の光軸にまとめるプリズム24と、光ビームLBを走査するためのポリゴンミラー25と、f−θ特性と面倒れ補正機能とを有する結像レンズ群26とが備えられる他、光ビームLBの光路を屈曲させるミラー27やプリズム24へ入射する光を規制するアパーチャ28が配置されている。
【0014】
〔各レーザ光源ユニット20,21の構成〕
第1レーザ光源ユニット20は、赤色レーザ光を出射する半導体レーザ素子を備えた赤色半導体レーザ装置と、赤色半導体レーザ装置の出射光を集光するレンズとを備えて構成され、第2レーザ光源ユニット21には、図2に示すように、緑色の第2高調波の生成源となる第1近赤外半導体レーザ装置21aと、青色の第2高調波の生成源となる第2近赤外半導体レーザ装置21bと、第1,第2近赤外半導体レーザ装置21a,21bの出射レーザ光の第2高調波を生成する第2高調波発生装置21cと、第2高調波発生装置21cの出射光を集光するレンズ21dとが備えられている。
【0015】
以下、第2レーザ光源ユニット21の構成について更に説明する。
第1近赤外半導体レーザ装置21a及び第2近赤外半導体レーザ装置21bは、図4に示すように、半導体レーザ素子41と、半導体レーザ素子41を支持するレーザ支持部材42と、半導体レーザ素子41の温度調整をするための熱電冷却装置43とが備えられ、レーザ支持部材42に形成されたV字状溝42aに固定される光ファイバー45にて、図2に示すように、半導体レーザ素子41の出射光が第2高調波発生装置21cに導かれる。
第1近赤外半導体レーザ装置21aと第2近赤外半導体レーザ装置21bとは、使用する半導体レーザ素子41の発振波長のみが異なり、第1近赤外半導体レーザ装置21aでは発振波長が略1060nmの半導体レーザ素子41を使用し、第2近赤外半導体レーザ装置21bでは発振波長が略960nmの半導体レーザ素子41を使用している。
【0016】
第2高調波発生装置21cは、図3に示すように、光導波路型SHG素子51と、光導波路型SHG素子51を支持するSHG支持部材52と、光導波路型SHG素子51の温度調整をするための熱電冷却装置53とが備えられて構成されて、SHG支持部材52に横並びに形成された2つのV字状溝52aの夫々に光ファイバー45の一端が固定されている。2本の光ファイバー45のうちの一方は、第1近赤外半導体レーザ装置21aからのレーザ光を導くものであり、他方は、第2近赤外半導体レーザ装置21bからのレーザ光を導くものである。
【0017】
光導波路型SHG素子51に形成される光導波路LGは、図1の平面図に示すように、2つの光導波路51aが合流点JCで合流するように構成されている。以下、便宜上、前記合流点JCよりも上流側の光導波路51aを「入力側光導波路51a」と称し、前記合流点JCよりも下流側の光導波路51bを「出力側光導波路51b」と称する。
2つの入力側光導波路51aに対して2本の光ファイバー45から夫々レーザ光が入射され、2つの入力側光導波路51aを伝播するレーザ光は前記合流点JCで合波されて出力側光導波路51bを伝播し、出力される。
出力側光導波路51b上に、第1周期ドメイン反転構造54と第2周期ドメイン反転構造55の2つの周期ドメイン反転構造RDが光の伝播方向に並ぶ状態で形成されている。尚、図1及び図3では、図面を見易くするために光導波路や各周期ドメイン反転構造を実際の寸法よりも拡大して図示している。
【0018】
光導波路型SHG素子51は、本実施の形態では基板としてLiNbO3を用いており、各光導波路LGはプロトン交換法等により形成し、第1,第2周期ドメイン反転構造54,55は、電界印加法あるいはTi拡散法等で周期的に分極を反転させることにより形成する。
第1周期ドメイン反転構造54の周期すなわち、第1周期ドメイン反転構造54における分極反転領域54aの並びピッチP1(図1参照)は4〜5μmに設定してあり、第2近赤外半導体レーザ装置21bから入射された略960nmのレーザ光に対応するものであり、第2周期ドメイン反転構造55の周期すなわち、第2周期ドメイン反転構造55における分極反転領域55aの並びピッチP2(図1参照)は6〜8μmに設定してあり、第1近赤外半導体レーザ装置21aから入射された略1060nmのレーザ光に対応するものである。
【0019】
上記のような構成において、第1近赤外半導体レーザ装置21a及び第2近赤外半導体レーザ装置21bに備えられた夫々の半導体レーザ素子41から出射されたレーザ光は、2本の光ファイバー45を経て光導波路型SHG素子51の入力側光導波路51aに入射し、更に、出力側光導波路51bに伝播する。出力側光導波路51bを伝播する略1060nmの波長のレーザ光は、その一部が第2周期ドメイン反転構造55の作用によって効率良く略530nmの緑色光に変換されて出射される。又、出力側光導波路51bを伝播する略960nmの波長のレーザ光は、その一部が第1周期ドメイン反転構造54の作用によって効率良く略480nmの青色光に変換されて出射される。これら緑色光と青色光とがレンズ21dにて集光されて、緑色及び青色のビーム光を含む単一の光ビームLBとなる。
【0020】
〔露光制御装置14の構成〕
露光制御装置14には、図5に概略的に示すように、上記構成の画像露光ユニット13を制御するために、画像入力装置IRから入力される画像データを画像露光ユニット13の露光特性を考慮した画像データに補正演算する画像処理回路30と、画像処理回路30にて求められた画像データを赤色,緑色及び青色の各色毎に記憶する画像データメモリ31と、赤色,緑色及び青色の各色毎に備えられて画像データメモリ31の出力データをD/A変換するD/Aコンバータ32と、各D/Aコンバータ32からの入力信号に応じて各半導体レーザ素子の駆動電流を変調するLD制御回路33と、各D/Aコンバータ32から送出する画像信号の送出タイミングを制御するタイミング制御回路34とが備えられている。このように本実施形態では、赤色レーザ光を発生する半導体レーザ素子と、緑色及び青色の第2高調波の発生源となる各半導体レーザ素子とを直接変調することにより光ビームLBの各色の強度を変調する場合を例示しているが、例えば音響光学変調素子等を用いて外部変調により光ビームLBの各色の強度を変調するように構成しても良い。
【0021】
〔画像露光装置EXの露光動作〕
次に、上記構成の画像露光ユニット13及び露光制御装置14の動作を説明する。
画像入力装置IRから入力された露光用画像データは、画像処理回路30によって補正演算されて、画像露光ユニット13によって露光されたときに良好なプリント画像が得られる画像データに変換され、画像データメモリ31に順次書き込まれる。
画像データメモリ31に一旦記憶されたデータは、各画素のデータ毎に、タイミング制御回路34から入力されるクロック信号と同期して画素単位でD/Aコンバータ32に送られ、アナログ信号に変換された後にLD制御回路33に送られる。
タイミング制御回路34は、印画紙搬送系PTから得られる印画紙2の搬送情報に基づいて、印画紙2の前端が所定の露光開始位置まで搬送されて来たことを検知すると、光ビームLBの走査位置の検出信号と同期をとりながら、画像露光ユニット13の露光処理スピードに対応した速度で画像信号を画像露光ユニット13へ順次送信するように前記クロック信号を生成する。
【0022】
LD制御回路33の制御にて強度変調された赤色,緑色及び青色の光ビームLBは、各光学部品を通過してポリゴンミラー25の反射面に照射され、駆動モータ25aにて回転駆動されているポリゴンミラー25の反射面で反射された光ビームLBは、ポリゴンミラー25の回転軸芯と直交する面内で走査されて、搬送移動される印画紙2上に結像レンズ群26によって集光される。光ビームLBの走査方向は印画紙2の搬送方向と交差(より具体的には、直交)しており、光ビームLBの走査方向が主走査方向、印画紙2の搬送方向が副走査方向となる。光ビームLBの走査と印画紙2の搬送移動によって、印画紙2上にプリントする画像が潜像として形成される。
【0023】
〔写真プリントの作製動作〕
次に、上記構成の写真プリントシステムDPによる写真プリントの作製動作を概略的に説明する。
操作者が写真フィルムの駒画像について写真プリントの作製を指示入力したときは、主制御装置5は、フィルムスキャナ3に対して写真フィルムの読み取りを指令し、フィルムスキャナ3からその写真フィルムの画像データを順次受取って、内蔵されているメモリに記録する。
一方、操作者がメモリーカード,MOあるいはCD−R等の記録媒体に記録された画像データについて写真プリントの作製を指示入力したときは、主制御装置5は、外部入出力装置4の該当するドライブに画像データの読み取りを指令し、そのドライブから画像データを順次受取ってメモリに記録する。
【0024】
主制御装置5は、上記のようにして入力された画像データに基づいて、その画像データによってプリントを作製した場合に得られるであろうシミュレート画像を図示を省略する画像処理回路にて演算して求め、それをモニタ5aに表示する。
操作者は、このモニタ5a上のシミュレート画像を観察して、適正な画像が得られていなければ、操作卓5bから露光条件の修正入力操作を行う。
主制御装置5の画像処理回路は、入力された画像データとその修正入力とに従って予め設定された演算条件で赤色、緑色、青色毎の露光用画像データを生成する。
【0025】
この露光用画像データは、露光・現像装置EPの露光制御装置14に送られ、上述のようにして印画紙2にプリント画像の潜像が形成される。
画像露光ユニット13にて露光処理された印画紙2は、印画紙搬送系PTにて現像処理装置PPへ搬送されて、各現像処理タンクを順次通過することにより現像され、現像処理された印画紙2は、更に乾燥処理された後にコンベア10上に排出され、ソータにてオーダー毎にまとめられる。
【0026】
<第2実施形態>
次に本発明の第2実施形態を説明する。
本第2実施形態は、画像露光ユニット13の構成のみが第1実施形態と異なり、写真プリントシステムDPの全体構成や、露光制御装置14の構成、更には、画像露光装置EXの動作や、写真プリントの作製動作は上記第1実施形態と同様であり説明を省略する。
〔画像露光ユニット13の構成〕
本第2実施形態の画像露光ユニット13は、上記第1実施形態と同様に、レーザを光源として印画紙2上に画像を露光するいわゆるレーザ露光式を採用しており、その概略構成を図10のブロック構成図に示す。
画像露光ユニット13には、レーザ光源ユニット60と、レーザ光源ユニット60から出射される光ビームLBのビーム径を調整するためのビームエキスパンダ22と、シリンドリカルレンズ23と、光ビームLBを走査するためのポリゴンミラー25と、f−θ特性と面倒れ補正機能とを有する結像レンズ群26とが備えられる他、光ビームLBの光路を屈曲させるミラー27が配置されている。
【0027】
〔レーザ光源ユニット60の構成〕
レーザ光源ユニット60には、図8に示すように、赤色のレーザ光を出射する赤色半導体レーザ装置60aと、緑色の第2高調波の生成源となる第1近赤外半導体レーザ装置60bと、青色の第2高調波の生成源となる第2近赤外半導体レーザ装置60cと、第1,第2近赤外半導体レーザ装置60b,60cの出射レーザ光の第2高調波を生成する第2高調波発生装置60dと、第2高調波発生装置60dの出射光を集光するレンズ60eとが備えられている。
【0028】
本第2実施形態の第1近赤外半導体レーザ装置60b及び第2近赤外半導体レーザ装置60cは上記第1実施形態の構成と同様であり、本第2実施形態では、更に、赤色半導体レーザ装置60aも第1近赤外半導体レーザ装置60b等と同様の構成をとっている。すなわち何れの半導体レーザ装置60a,60b,60cも、図4に示すように、半導体レーザ素子41と、半導体レーザ素子41を支持するレーザ支持部材42と、半導体レーザ素子41の温度調整をするための熱電冷却装置43とが備えられ、レーザ支持部材42に形成されたV字状溝42aに固定される光ファイバー45にて、図8に示すように、半導体レーザ素子41の出射光が第2高調波発生装置60dに導かれる。
各半導体レーザ装置60a,60b,60cは使用する半導体レーザ素子41の発振波長のみが異なり、赤色半導体レーザ装置60aでは発振波長が略680nmの半導体レーザ素子41を使用し、第1近赤外半導体レーザ装置60bでは発振波長が略1060nmの半導体レーザ素子41を使用し、第2近赤外半導体レーザ装置60cでは発振波長が略960nmの半導体レーザ素子41を使用している。
【0029】
第2高調波発生装置60dは、図9に示すように、光導波路型SHG素子51と、光導波路型SHG素子51を支持するSHG支持部材52と、光導波路型SHG素子51の温度調整をするための熱電冷却装置53とが備えられて構成され、本第2実施形態では、SHG支持部材52に横並びに3つのV字状溝52aが形成されている。これら3つのV字状溝52aの夫々には、赤色半導体レーザ装置60a,第1近赤外半導体レーザ装置60b及び第2近赤外半導体レーザ装置60cの夫々の出射光を導く光ファイバー45の一端が固定されている。
【0030】
本第2実施形態における光導波路型SHG素子51の光導波路LGは、図7の平面図に示すように、3つの光導波路51aが合流点JCで合流するように構成されている。以下、本第2実施形態においても、上記第1実施形態と同様に、前記合流点JCよりも上流側の光導波路51aを「入力側光導波路51a」と称し、前記合流点JCよりも下流側の光導波路51bを「出力側光導波路51b」と称する。
本第2実施形態における3つの入力側光導波路51aは、赤色半導体レーザ装置60aから入射される赤色のレーザ光を伝播する第1入力側光導波路71,第1近赤外半導体レーザ装置60bから入射される緑色光の第2高調波を生成するための波長(略1060nm)のレーザ光を伝播する第2入力側光導波路72及び第2近赤外半導体レーザ装置60cから入射される青色光の第2高調波を生成するための波長(略960nm)のレーザ光を伝播する第3入力側光導波路73からなっており、この3つの入力側光導波路51aを伝播するレーザ光が合流点JCで合流して出力側光導波路51bを伝播し、出力される。
出力側光導波路51b上には、第1周期ドメイン反転構造54と第2周期ドメイン反転構造55の2つの周期ドメイン反転構造RDが光の伝播方向に並ぶ状態で形成されている。すなわち、上記第1実施形態とは、赤色のレーザ光を受け入れるための入力側光導波路51aが1本増設されている点で上記第1実施形態と異なる。尚、図7では、3本の入力側光導波路51aを1箇所で合流させているが、Y分岐の合流点を2箇所設けることによって3本の入力側光導波路51aを伝播するレーザ光を合流させるように構成してもよい。更に、図7及び図9では、上記第1実施形態と同様に、図面を見易くするために光導波路や各周期ドメイン反転構造を実際の寸法よりも拡大して図示している。
【0031】
光導波路型SHG素子51における光導波路LG及び周期ドメイン反転構造RDの形成方法は上記第1実施形態と同様であり、光導波路型SHG素子51の基板としてLiNbO3を用いて、各光導波路LGはプロトン交換法等により形成し、第1,第2周期ドメイン反転構造54,55は、電界印加法あるいはTi拡散法等で周期的に分極を反転させることにより形成する。
第1周期ドメイン反転構造54の周期すなわち、第1周期ドメイン反転構造54における分極反転領域54aの並びピッチP1(図7参照)は4〜5μmに設定してあり、第2近赤外半導体レーザ装置60cから入射され第3入力側光導波路73を伝播した略960nmのレーザ光に対応するものであり、第2周期ドメイン反転構造55の周期すなわち、第2周期ドメイン反転構造55における分極反転領域55aの並びピッチP2(図7参照)は6〜8μmに設定してあり、第1近赤外半導体レーザ装置60bから入射され第2入力側光導波路72を伝播した略1060nmのレーザ光に対応するものである。赤色半導体レーザ装置60aの出射レーザ光については、入力側光導波路51a及び出力側光導波路51bを単なる光導波路として利用しているので、対応する周期ドメイン反転構造RDは設けていない。
【0032】
上記のような構成において、赤色半導体レーザ装置60a,第1近赤外半導体レーザ装置60b及び第2近赤外半導体レーザ装置60cに備えられた夫々の半導体レーザ素子41から出射されたレーザ光は、3本の光ファイバー45を経て光導波路型SHG素子51の入力側光導波路51aに入射し、更に、出力側光導波路51bに伝播する。出力側光導波路51bを伝播する略1060nmの波長のレーザ光は、その一部が第2周期ドメイン反転構造55の作用によって効率良く略530nmの緑色光に変換されて出射される。又、出力側光導波路51bを伝播する略960nmの波長のレーザ光は、その一部が第1周期ドメイン反転構造54の作用によって効率良く略480nmの青色光に変換されて出射される。一方、第1入力側光導波路71を伝播して出力側光導波路51bに入射した赤色のレーザ光は、そのまま出射される。
これら赤色光,緑色光及び青色光がレンズ60eにて集光されて、赤色,緑色及び青色のビーム光を含む単一の光ビームLBとなる。
【0033】
<その他の実施形態>
以下、本発明の別実施形態を列記する。
(1)上記第1実施形態及び第2実施形態では、本発明の光導波路型SHG素子51を、写真プリントシステムDPの画像露光装置EXにおいて印画紙2に露光画像を形成するための光源に適用する場合を例示しているが、光ディスク装置の読取り及び記録用の光源として用いる等、種々の用途に用いることができる。
(2)上記第1実施形態及び第2実施形態では、光導波路型SHG素子51から出射する光の色を、緑色及び青色、あるいは、赤色,緑色及び青色とする場合を例示しているが、他の色すなわち他の波長の光を出射するように構成しても良い。
【0034】
(3)上記第1実施形態及び第2実施形態では、光導波路型SHG素子51において、光導波路LGの合流点JCよりも下流側の出力側光導波路51bに周期ドメイン反転構造RDを形成する場合を例示しているが、光導波路LGにおける合流点JCよりも上流側の入力側光導波路51aに複数の周期ドメイン反転構造RDを形成しても良いし、あるいは、前記入力側光導波路51a及び前記出力側光導波路51bの双方に複数の周期ドメイン反転構造RDを形成するように構成しても良い。
更に、上記第1実施形態及び第2実施形態では、周期ドメイン反転構造RDの形成個数を2個としているが、3個以上形成しても良いのはもちろんのことである。
(4)上記第1実施形態及び第2実施形態では、光導波路型SHG素子51の基板材料としてLiNbO3を例示しているが、例えばLiTaO3やKTP等の他の材料を用いても良い。
【0035】
(5)上記第1実施形態及び第2実施形態では、光導波路型SHG素子51にて第2高調波を発生させるためのレーザ光源として半導体レーザ素子41を用いる場合を例示しているが、例えばYAGレーザ等の半導体レーザ素子以外のレーザ光源を用いても良い。
(6)上記第1実施形態及び第2実施形態では、半導体レーザ素子41の出射光を光ファイバー45にて光導波路型SHG素子51へ導く場合を例示しているが、半導体レーザ素子41を入力側光導波路51aの光入射端に近接配置して、半導体レーザ素子41の出射光を直接に入力側光導波路51aへ入射させるように構成しても良い。
【0036】
【発明の効果】
上記請求項1記載の構成によれば、前記周期ドメイン反転構造は、その反転周期に対して高効率の第2高調波への変換効率が得られる入射レーザ光の波長範囲が極めて狭い範囲に限られ、その範囲外の波長のレーザ光は、そのまま透過させてしまうという知見に基づいて、複数の波長のレーザ光に対応した周期を有する複数の周期ドメイン反転構造が前記光導波路に沿って並ぶ状態で形成している。
これによって、周期ドメイン反転構造が単一の光導波路に形成される場合は、単一の光導波路にて複数色の第2高調波を生成できることになり、又、周期ドメイン反転構造が横並び状態の複数の光導波路に亘って形成される場合でも、それら複数の光導波路を近接して配置することが可能となるので、単に単一の光導波路型SHG素子で複数色の第2高調波を発生できるにとどまらず、光導波路型SHG素子をコンパクトに構成できる。
もって、複数色の光を光導波路型SHG素子により生成する場合に、光源装置の装置コストの低減と小型化とを実現できるに至った。
【0037】
又、上記請求項2記載の構成によれば、複数個のレーザ光源から出射されたレーザ光又はそのレーザ光によって生成された第2高調波の光路を合流させることによって、複数色の第2高調波を同一光軸の光ビームとして取り出すことができ、光源装置の後段に備えられる光学系を簡素化することができる。
又、上記請求項3記載の構成によれば、複数の周期の周期ドメイン反転構造は、複数の入力側光導波路に亘る状態で形成しても良いが、光導波路の数が少ない出力側光導波路に複数の周期の周期ドメイン反転構造を形成することで、周期ドメイン反転構造を形成する際に位置合わせを容易に行え、且つ、周期ドメイン反転構造をコンパクトに形成することが可能となる。
【0038】
又、上記請求項4記載の構成によれば、赤色のレーザ光源としては、既に赤色レーザ光を出射する半導体レーザ素子が実用化されており、光導波路型SHG素子を必要とはしないのであるが、例えば写真プリント装置の露光用光源のように赤色,緑色,及び,青色のレーザ光を必要として、尚且つ、緑色及び青色のレーザ光を単一の光導波路型SHG素子にて生成する場合には、赤色のレーザ光を伝播する光導波路を、緑色及び青色のレーザ光の生成のための光導波路と共に光導波路型SHG素子に作り込んでおくことで、製造工程の煩雑化を回避しながら、光導波路型SHG素子からは赤色,緑色,及び,青色のレーザ光が単一の光ビームとして得ることができ、光源装置自身の構成及び後段の光学系の構成を極めて簡素化することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態にかかる光導波路型SHG素子の平面図
【図2】本発明の第1実施形態にかかる露光用光源の概略構成図
【図3】本発明の第1実施形態にかかる第2高調波発生装置の斜視図
【図4】本発明の第1実施形態にかかる半導体レーザ装置の斜視図
【図5】本発明の第1実施形態にかかる画像露光装置の概略構成図
【図6】本発明の第1実施形態にかかる写真プリントシステムのブロック構成図
【図7】本発明の第2実施形態にかかる光導波路型SHG素子の平面図
【図8】本発明の第2実施形態にかかる露光用光源の概略構成図
【図9】本発明の第2実施形態にかかる第2高調波発生装置の斜視図
【図10】本発明の第2実施形態にかかる画像露光装置の概略構成図
【符号の説明】
JC 合流点
LG 光導波路
RD 周期ドメイン反転構造
51a 入力側光導波路
51b 出力側光導波路
71 第1入力側光導波路
72 第2入力側光導波路
73 第3入力側光導波路
【発明の属する技術分野】
本発明は、光導波路とその光導波路に形成される周期ドメイン反転構造とを備えて、光導波路に入射された光の第2高調波を生成する光導波路型SHG素子に関する。
【0002】
【従来の技術】
かかる光導波路型SHG素子は、レーザ光源から出射したレーザ光を光導波路型SHG素子に形成された光導波路に入射させ、その光導波路から入射レーザ光の第2高調波(入射光の1/2の波長の光)を取り出す光源装置に用いられ、写真プリント装置や光ディスク装置等の各種の装置の光源として利用されている。
この光源装置に用いられる光導波路型SHG素子は、光導波路にいわゆる周期ドメイン反転構造といわれる分極が周期的に反転した構造が形成されて、第2高調波への変換効率の向上を図っている。
従来、複数色のレーザ光を第2高調波を生成することによって得たい場合には、各色毎に光導波路型SHG素子を備えるのが一般的であり、1つの光導波路型SHG素子内での周期ドメイン反転構造の周期は一定周期であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
従って、上記従来構成では、光導波路型SHG素子を利用して複数色のレーザ光を得ようとすると、必要な色の数と同数の光導波路型SHG素子が必要となり、装置コストが増大すると共に、光源装置が大型化してしまう不都合があった。
本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、複数色の光を光導波路型SHG素子により生成する場合に、装置コストの低減と装置の小型化を図る点にある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
上記請求項1記載の構成を備えることにより、光導波路とその光導波路に形成される周期ドメイン反転構造とを備えて、光導波路に入射された光の第2高調波を生成する光導波路型SHG素子において、前記周期ドメイン反転構造は、出射する複数色の第2高調波に対応して異なる周期を有する複数の周期ドメイン反転構造が光の伝播方向に沿って並ぶ状態で形成されている。
【0005】
すなわち、前記周期ドメイン反転構造は、その反転周期に対して高効率の第2高調波への変換効率が得られる入射レーザ光の波長範囲が極めて狭い範囲に限られ、その範囲外の波長のレーザ光は、そのまま透過させてしまうという知見に基づいて、複数の波長のレーザ光に対応した周期を有する複数の周期ドメイン反転構造が前記光導波路に沿って並ぶ状態で形成している。このように形成しても、その複数の周期ドメイン反転構造の夫々は、対応する波長のレーザ光についてのみ第2高調波の発生に寄与し、他の波長のレーザ光にはほとんど関与しない。
【0006】
これによって、周期ドメイン反転構造が単一の光導波路に形成される場合は、単一の光導波路にて複数色の第2高調波を生成できることになり、又、周期ドメイン反転構造が横並び状態の複数の光導波路に亘って形成される場合でも、それら複数の光導波路を近接して配置することが可能となるので、単に単一の光導波路型SHG素子で複数色の第2高調波を発生できるにとどまらず、光導波路型SHG素子をコンパクトに構成できる。
もって、複数色の光を光導波路型SHG素子により生成する場合に、光源装置の装置コストの低減と小型化とを実現できるに至った。
【0007】
又、上記請求項2記載の構成を備えることにより、前記光導波路は、複数の光導波路が合流点で合流するように構成されている。
すなわち、複数個のレーザ光源から出射されたレーザ光又はそのレーザ光によって生成された第2高調波の光路を合流させることによって、複数色の第2高調波を同一光軸の光ビームとして取り出すことができる。
これによって、光源装置の後段に備えられる光学系を簡素化することができる。
【0008】
又、上記請求項3記載の構成を備えることにより、前記複数の周期ドメイン反転構造が、前記合流点よりも下流側の前記出力側光導波路に形成されている。
すなわち、複数の周期の周期ドメイン反転構造は、前記合流点よりも上流側の複数の光導波路に亘る状態で形成しても良いが、光導波路の数が少ない前記合流点よりも下流側の出力側光導波路に複数の周期の周期ドメイン反転構造を形成することで、周期ドメイン反転構造を形成する際に位置合わせを容易に行え、且つ、周期ドメイン反転構造をコンパクトに形成することが可能となる。
【0009】
又、上記請求項4記載の構成を備えることにより、前記合流点よりも上流側の入力側光導波路は、赤色のレーザ光を伝播する第1入力側光導波路と、緑色光の第2高調波を生成するための波長のレーザ光を伝播する第2入力側光導波路と、青色光の第2高調波を生成するための波長のレーザ光を伝播する第3入力側光導波路とを備えて構成され、前記複数の周期ドメイン反転構造は、前記第2入力側光導波路を伝播するレーザ光の波長に対応する周期を有する周期ドメイン反転構造と、前記第3入力側光導波路を伝播するレーザ光の波長に対応する周期を有する周期ドメイン反転構造とによって構成されている。
【0010】
すなわち、赤色のレーザ光源としては、既に赤色レーザ光を出射する半導体レーザ素子が実用化されており、光導波路型SHG素子を必要とはしないのであるが、例えば写真プリント装置の露光用光源のように赤色,緑色,及び,青色のレーザ光を必要として、尚且つ、緑色及び青色の光を単一の光導波路型SHG素子にて生成する場合には、赤色のレーザ光を伝播する光導波路を、緑色及び青色の光の生成のための光導波路と共に光導波路型SHG素子に作り込んでおくのである。
このように光導波路型SHG素子内において赤色のレーザ光を伝播させても、周期ドメイン反転構造は緑色光と青色光の生成のために形成されているので、赤色の入射光にはほとんど関与せず、単なる光導波路として作用することになり、しかも、他の光導波路と共に作り込むことで製造工程が煩雑化してしまうこともない。
従って、光導波路型SHG素子からは赤色,緑色,及び,青色の光が単一の光ビームとして得ることができ、光源装置自身の構成及び後段の光学系の構成を極めて簡素化することが可能となる。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の光導波路型SHG素子を写真プリントシステムにおける露光用の光源装置に備えた場合の実施の形態を図面に基づいて説明する。
<第1実施形態>
本第1実施形態で例示する写真プリントシステムDPは、いわゆるデジタルミニラボ機として知られているものであり、図6のブロック構成図に示すように、現像処理済みの写真フィルムやメモリーカード,MOあるいはCD−R等から写真プリントを作製するための画像データを入力する画像入力装置IRと、画像入力装置IRにて入力した画像データを印画紙2に露光処理する露光・現像装置EPとから構成されている。
〔画像入力装置IRの概略構成〕
画像入力装置IRには、図6に概略的に示すように、写真フィルムの駒画像を読み取るフィルムスキャナ3と、メモリーリーダ,MOドライブ及びCD−Rドライブ等を備えた外部入出力装置4と、汎用小型コンピュータシステムにて構成されてフィルムスキャナ3や外部入出力装置4の制御のほか写真プリントシステムDP全体の管理を実行する主制御装置5とが備えられ、更に、主制御装置5には、仕上がりプリント画像をシミュレートしたシミュレート画像や各種の制御用の情報を表示するモニタ5aと、露光条件の手動設定等や制御情報の入力操作をするための操作卓5bとが接続されている。
【0012】
〔露光・現像装置EPの全体構成〕
露光・現像装置EPは、筐体内部に、画像露光装置EXと、画像露光装置EXにて露光された印画紙2を現像処理する現像処理装置PPと、筐体内に配置された印画紙マガジン6から引き出された印画紙2を多数の搬送ローラ9等にて現像処理装置PPへ搬送する印画紙搬送系PTとが設けられている。
図示を省略するが、露光・現像装置EPの筐体外部には、現像処理装置PPにて現像処理及び乾燥処理された印画紙2をオーダ毎に分類するためのソータが備えられ、このソータへ印画紙2を搬送するコンベア10が筐体上面に備えられている。
更に、印画紙搬送系PTの搬送経路の途中には、印画紙マガジン6から引き出された長尺の印画紙2を設定プリントサイズに切断するカッタ11と、一列で搬送される印画紙2を複数の搬送列に振り分けるための振り分け装置12が備えられている。
【0013】
〔画像露光装置EXの構成〕
画像露光装置EXは、印画紙2に対して光ビームを走査することにより印画紙2上に露光画像を形成する画像露光ユニット13と、画像露光ユニット13を制御する露光制御装置14とを主要部として構成されている。
〔画像露光ユニット13の構成〕
画像露光ユニット13は、レーザを光源として印画紙2上に画像を露光するいわゆるレーザ露光式を採用しており、その概略構成を図5のブロック構成図に示す。
画像露光ユニット13には、第1レーザ光源ユニット20と、第2レーザ光源ユニット21と、第1レーザ光源ユニット20及び第2レーザ光源ユニット21から出射される光ビームLBのビーム径を調整するためのビームエキスパンダ22と、シリンドリカルレンズ23と、2本の光ビームLBの光軸を1本の光軸にまとめるプリズム24と、光ビームLBを走査するためのポリゴンミラー25と、f−θ特性と面倒れ補正機能とを有する結像レンズ群26とが備えられる他、光ビームLBの光路を屈曲させるミラー27やプリズム24へ入射する光を規制するアパーチャ28が配置されている。
【0014】
〔各レーザ光源ユニット20,21の構成〕
第1レーザ光源ユニット20は、赤色レーザ光を出射する半導体レーザ素子を備えた赤色半導体レーザ装置と、赤色半導体レーザ装置の出射光を集光するレンズとを備えて構成され、第2レーザ光源ユニット21には、図2に示すように、緑色の第2高調波の生成源となる第1近赤外半導体レーザ装置21aと、青色の第2高調波の生成源となる第2近赤外半導体レーザ装置21bと、第1,第2近赤外半導体レーザ装置21a,21bの出射レーザ光の第2高調波を生成する第2高調波発生装置21cと、第2高調波発生装置21cの出射光を集光するレンズ21dとが備えられている。
【0015】
以下、第2レーザ光源ユニット21の構成について更に説明する。
第1近赤外半導体レーザ装置21a及び第2近赤外半導体レーザ装置21bは、図4に示すように、半導体レーザ素子41と、半導体レーザ素子41を支持するレーザ支持部材42と、半導体レーザ素子41の温度調整をするための熱電冷却装置43とが備えられ、レーザ支持部材42に形成されたV字状溝42aに固定される光ファイバー45にて、図2に示すように、半導体レーザ素子41の出射光が第2高調波発生装置21cに導かれる。
第1近赤外半導体レーザ装置21aと第2近赤外半導体レーザ装置21bとは、使用する半導体レーザ素子41の発振波長のみが異なり、第1近赤外半導体レーザ装置21aでは発振波長が略1060nmの半導体レーザ素子41を使用し、第2近赤外半導体レーザ装置21bでは発振波長が略960nmの半導体レーザ素子41を使用している。
【0016】
第2高調波発生装置21cは、図3に示すように、光導波路型SHG素子51と、光導波路型SHG素子51を支持するSHG支持部材52と、光導波路型SHG素子51の温度調整をするための熱電冷却装置53とが備えられて構成されて、SHG支持部材52に横並びに形成された2つのV字状溝52aの夫々に光ファイバー45の一端が固定されている。2本の光ファイバー45のうちの一方は、第1近赤外半導体レーザ装置21aからのレーザ光を導くものであり、他方は、第2近赤外半導体レーザ装置21bからのレーザ光を導くものである。
【0017】
光導波路型SHG素子51に形成される光導波路LGは、図1の平面図に示すように、2つの光導波路51aが合流点JCで合流するように構成されている。以下、便宜上、前記合流点JCよりも上流側の光導波路51aを「入力側光導波路51a」と称し、前記合流点JCよりも下流側の光導波路51bを「出力側光導波路51b」と称する。
2つの入力側光導波路51aに対して2本の光ファイバー45から夫々レーザ光が入射され、2つの入力側光導波路51aを伝播するレーザ光は前記合流点JCで合波されて出力側光導波路51bを伝播し、出力される。
出力側光導波路51b上に、第1周期ドメイン反転構造54と第2周期ドメイン反転構造55の2つの周期ドメイン反転構造RDが光の伝播方向に並ぶ状態で形成されている。尚、図1及び図3では、図面を見易くするために光導波路や各周期ドメイン反転構造を実際の寸法よりも拡大して図示している。
【0018】
光導波路型SHG素子51は、本実施の形態では基板としてLiNbO3を用いており、各光導波路LGはプロトン交換法等により形成し、第1,第2周期ドメイン反転構造54,55は、電界印加法あるいはTi拡散法等で周期的に分極を反転させることにより形成する。
第1周期ドメイン反転構造54の周期すなわち、第1周期ドメイン反転構造54における分極反転領域54aの並びピッチP1(図1参照)は4〜5μmに設定してあり、第2近赤外半導体レーザ装置21bから入射された略960nmのレーザ光に対応するものであり、第2周期ドメイン反転構造55の周期すなわち、第2周期ドメイン反転構造55における分極反転領域55aの並びピッチP2(図1参照)は6〜8μmに設定してあり、第1近赤外半導体レーザ装置21aから入射された略1060nmのレーザ光に対応するものである。
【0019】
上記のような構成において、第1近赤外半導体レーザ装置21a及び第2近赤外半導体レーザ装置21bに備えられた夫々の半導体レーザ素子41から出射されたレーザ光は、2本の光ファイバー45を経て光導波路型SHG素子51の入力側光導波路51aに入射し、更に、出力側光導波路51bに伝播する。出力側光導波路51bを伝播する略1060nmの波長のレーザ光は、その一部が第2周期ドメイン反転構造55の作用によって効率良く略530nmの緑色光に変換されて出射される。又、出力側光導波路51bを伝播する略960nmの波長のレーザ光は、その一部が第1周期ドメイン反転構造54の作用によって効率良く略480nmの青色光に変換されて出射される。これら緑色光と青色光とがレンズ21dにて集光されて、緑色及び青色のビーム光を含む単一の光ビームLBとなる。
【0020】
〔露光制御装置14の構成〕
露光制御装置14には、図5に概略的に示すように、上記構成の画像露光ユニット13を制御するために、画像入力装置IRから入力される画像データを画像露光ユニット13の露光特性を考慮した画像データに補正演算する画像処理回路30と、画像処理回路30にて求められた画像データを赤色,緑色及び青色の各色毎に記憶する画像データメモリ31と、赤色,緑色及び青色の各色毎に備えられて画像データメモリ31の出力データをD/A変換するD/Aコンバータ32と、各D/Aコンバータ32からの入力信号に応じて各半導体レーザ素子の駆動電流を変調するLD制御回路33と、各D/Aコンバータ32から送出する画像信号の送出タイミングを制御するタイミング制御回路34とが備えられている。このように本実施形態では、赤色レーザ光を発生する半導体レーザ素子と、緑色及び青色の第2高調波の発生源となる各半導体レーザ素子とを直接変調することにより光ビームLBの各色の強度を変調する場合を例示しているが、例えば音響光学変調素子等を用いて外部変調により光ビームLBの各色の強度を変調するように構成しても良い。
【0021】
〔画像露光装置EXの露光動作〕
次に、上記構成の画像露光ユニット13及び露光制御装置14の動作を説明する。
画像入力装置IRから入力された露光用画像データは、画像処理回路30によって補正演算されて、画像露光ユニット13によって露光されたときに良好なプリント画像が得られる画像データに変換され、画像データメモリ31に順次書き込まれる。
画像データメモリ31に一旦記憶されたデータは、各画素のデータ毎に、タイミング制御回路34から入力されるクロック信号と同期して画素単位でD/Aコンバータ32に送られ、アナログ信号に変換された後にLD制御回路33に送られる。
タイミング制御回路34は、印画紙搬送系PTから得られる印画紙2の搬送情報に基づいて、印画紙2の前端が所定の露光開始位置まで搬送されて来たことを検知すると、光ビームLBの走査位置の検出信号と同期をとりながら、画像露光ユニット13の露光処理スピードに対応した速度で画像信号を画像露光ユニット13へ順次送信するように前記クロック信号を生成する。
【0022】
LD制御回路33の制御にて強度変調された赤色,緑色及び青色の光ビームLBは、各光学部品を通過してポリゴンミラー25の反射面に照射され、駆動モータ25aにて回転駆動されているポリゴンミラー25の反射面で反射された光ビームLBは、ポリゴンミラー25の回転軸芯と直交する面内で走査されて、搬送移動される印画紙2上に結像レンズ群26によって集光される。光ビームLBの走査方向は印画紙2の搬送方向と交差(より具体的には、直交)しており、光ビームLBの走査方向が主走査方向、印画紙2の搬送方向が副走査方向となる。光ビームLBの走査と印画紙2の搬送移動によって、印画紙2上にプリントする画像が潜像として形成される。
【0023】
〔写真プリントの作製動作〕
次に、上記構成の写真プリントシステムDPによる写真プリントの作製動作を概略的に説明する。
操作者が写真フィルムの駒画像について写真プリントの作製を指示入力したときは、主制御装置5は、フィルムスキャナ3に対して写真フィルムの読み取りを指令し、フィルムスキャナ3からその写真フィルムの画像データを順次受取って、内蔵されているメモリに記録する。
一方、操作者がメモリーカード,MOあるいはCD−R等の記録媒体に記録された画像データについて写真プリントの作製を指示入力したときは、主制御装置5は、外部入出力装置4の該当するドライブに画像データの読み取りを指令し、そのドライブから画像データを順次受取ってメモリに記録する。
【0024】
主制御装置5は、上記のようにして入力された画像データに基づいて、その画像データによってプリントを作製した場合に得られるであろうシミュレート画像を図示を省略する画像処理回路にて演算して求め、それをモニタ5aに表示する。
操作者は、このモニタ5a上のシミュレート画像を観察して、適正な画像が得られていなければ、操作卓5bから露光条件の修正入力操作を行う。
主制御装置5の画像処理回路は、入力された画像データとその修正入力とに従って予め設定された演算条件で赤色、緑色、青色毎の露光用画像データを生成する。
【0025】
この露光用画像データは、露光・現像装置EPの露光制御装置14に送られ、上述のようにして印画紙2にプリント画像の潜像が形成される。
画像露光ユニット13にて露光処理された印画紙2は、印画紙搬送系PTにて現像処理装置PPへ搬送されて、各現像処理タンクを順次通過することにより現像され、現像処理された印画紙2は、更に乾燥処理された後にコンベア10上に排出され、ソータにてオーダー毎にまとめられる。
【0026】
<第2実施形態>
次に本発明の第2実施形態を説明する。
本第2実施形態は、画像露光ユニット13の構成のみが第1実施形態と異なり、写真プリントシステムDPの全体構成や、露光制御装置14の構成、更には、画像露光装置EXの動作や、写真プリントの作製動作は上記第1実施形態と同様であり説明を省略する。
〔画像露光ユニット13の構成〕
本第2実施形態の画像露光ユニット13は、上記第1実施形態と同様に、レーザを光源として印画紙2上に画像を露光するいわゆるレーザ露光式を採用しており、その概略構成を図10のブロック構成図に示す。
画像露光ユニット13には、レーザ光源ユニット60と、レーザ光源ユニット60から出射される光ビームLBのビーム径を調整するためのビームエキスパンダ22と、シリンドリカルレンズ23と、光ビームLBを走査するためのポリゴンミラー25と、f−θ特性と面倒れ補正機能とを有する結像レンズ群26とが備えられる他、光ビームLBの光路を屈曲させるミラー27が配置されている。
【0027】
〔レーザ光源ユニット60の構成〕
レーザ光源ユニット60には、図8に示すように、赤色のレーザ光を出射する赤色半導体レーザ装置60aと、緑色の第2高調波の生成源となる第1近赤外半導体レーザ装置60bと、青色の第2高調波の生成源となる第2近赤外半導体レーザ装置60cと、第1,第2近赤外半導体レーザ装置60b,60cの出射レーザ光の第2高調波を生成する第2高調波発生装置60dと、第2高調波発生装置60dの出射光を集光するレンズ60eとが備えられている。
【0028】
本第2実施形態の第1近赤外半導体レーザ装置60b及び第2近赤外半導体レーザ装置60cは上記第1実施形態の構成と同様であり、本第2実施形態では、更に、赤色半導体レーザ装置60aも第1近赤外半導体レーザ装置60b等と同様の構成をとっている。すなわち何れの半導体レーザ装置60a,60b,60cも、図4に示すように、半導体レーザ素子41と、半導体レーザ素子41を支持するレーザ支持部材42と、半導体レーザ素子41の温度調整をするための熱電冷却装置43とが備えられ、レーザ支持部材42に形成されたV字状溝42aに固定される光ファイバー45にて、図8に示すように、半導体レーザ素子41の出射光が第2高調波発生装置60dに導かれる。
各半導体レーザ装置60a,60b,60cは使用する半導体レーザ素子41の発振波長のみが異なり、赤色半導体レーザ装置60aでは発振波長が略680nmの半導体レーザ素子41を使用し、第1近赤外半導体レーザ装置60bでは発振波長が略1060nmの半導体レーザ素子41を使用し、第2近赤外半導体レーザ装置60cでは発振波長が略960nmの半導体レーザ素子41を使用している。
【0029】
第2高調波発生装置60dは、図9に示すように、光導波路型SHG素子51と、光導波路型SHG素子51を支持するSHG支持部材52と、光導波路型SHG素子51の温度調整をするための熱電冷却装置53とが備えられて構成され、本第2実施形態では、SHG支持部材52に横並びに3つのV字状溝52aが形成されている。これら3つのV字状溝52aの夫々には、赤色半導体レーザ装置60a,第1近赤外半導体レーザ装置60b及び第2近赤外半導体レーザ装置60cの夫々の出射光を導く光ファイバー45の一端が固定されている。
【0030】
本第2実施形態における光導波路型SHG素子51の光導波路LGは、図7の平面図に示すように、3つの光導波路51aが合流点JCで合流するように構成されている。以下、本第2実施形態においても、上記第1実施形態と同様に、前記合流点JCよりも上流側の光導波路51aを「入力側光導波路51a」と称し、前記合流点JCよりも下流側の光導波路51bを「出力側光導波路51b」と称する。
本第2実施形態における3つの入力側光導波路51aは、赤色半導体レーザ装置60aから入射される赤色のレーザ光を伝播する第1入力側光導波路71,第1近赤外半導体レーザ装置60bから入射される緑色光の第2高調波を生成するための波長(略1060nm)のレーザ光を伝播する第2入力側光導波路72及び第2近赤外半導体レーザ装置60cから入射される青色光の第2高調波を生成するための波長(略960nm)のレーザ光を伝播する第3入力側光導波路73からなっており、この3つの入力側光導波路51aを伝播するレーザ光が合流点JCで合流して出力側光導波路51bを伝播し、出力される。
出力側光導波路51b上には、第1周期ドメイン反転構造54と第2周期ドメイン反転構造55の2つの周期ドメイン反転構造RDが光の伝播方向に並ぶ状態で形成されている。すなわち、上記第1実施形態とは、赤色のレーザ光を受け入れるための入力側光導波路51aが1本増設されている点で上記第1実施形態と異なる。尚、図7では、3本の入力側光導波路51aを1箇所で合流させているが、Y分岐の合流点を2箇所設けることによって3本の入力側光導波路51aを伝播するレーザ光を合流させるように構成してもよい。更に、図7及び図9では、上記第1実施形態と同様に、図面を見易くするために光導波路や各周期ドメイン反転構造を実際の寸法よりも拡大して図示している。
【0031】
光導波路型SHG素子51における光導波路LG及び周期ドメイン反転構造RDの形成方法は上記第1実施形態と同様であり、光導波路型SHG素子51の基板としてLiNbO3を用いて、各光導波路LGはプロトン交換法等により形成し、第1,第2周期ドメイン反転構造54,55は、電界印加法あるいはTi拡散法等で周期的に分極を反転させることにより形成する。
第1周期ドメイン反転構造54の周期すなわち、第1周期ドメイン反転構造54における分極反転領域54aの並びピッチP1(図7参照)は4〜5μmに設定してあり、第2近赤外半導体レーザ装置60cから入射され第3入力側光導波路73を伝播した略960nmのレーザ光に対応するものであり、第2周期ドメイン反転構造55の周期すなわち、第2周期ドメイン反転構造55における分極反転領域55aの並びピッチP2(図7参照)は6〜8μmに設定してあり、第1近赤外半導体レーザ装置60bから入射され第2入力側光導波路72を伝播した略1060nmのレーザ光に対応するものである。赤色半導体レーザ装置60aの出射レーザ光については、入力側光導波路51a及び出力側光導波路51bを単なる光導波路として利用しているので、対応する周期ドメイン反転構造RDは設けていない。
【0032】
上記のような構成において、赤色半導体レーザ装置60a,第1近赤外半導体レーザ装置60b及び第2近赤外半導体レーザ装置60cに備えられた夫々の半導体レーザ素子41から出射されたレーザ光は、3本の光ファイバー45を経て光導波路型SHG素子51の入力側光導波路51aに入射し、更に、出力側光導波路51bに伝播する。出力側光導波路51bを伝播する略1060nmの波長のレーザ光は、その一部が第2周期ドメイン反転構造55の作用によって効率良く略530nmの緑色光に変換されて出射される。又、出力側光導波路51bを伝播する略960nmの波長のレーザ光は、その一部が第1周期ドメイン反転構造54の作用によって効率良く略480nmの青色光に変換されて出射される。一方、第1入力側光導波路71を伝播して出力側光導波路51bに入射した赤色のレーザ光は、そのまま出射される。
これら赤色光,緑色光及び青色光がレンズ60eにて集光されて、赤色,緑色及び青色のビーム光を含む単一の光ビームLBとなる。
【0033】
<その他の実施形態>
以下、本発明の別実施形態を列記する。
(1)上記第1実施形態及び第2実施形態では、本発明の光導波路型SHG素子51を、写真プリントシステムDPの画像露光装置EXにおいて印画紙2に露光画像を形成するための光源に適用する場合を例示しているが、光ディスク装置の読取り及び記録用の光源として用いる等、種々の用途に用いることができる。
(2)上記第1実施形態及び第2実施形態では、光導波路型SHG素子51から出射する光の色を、緑色及び青色、あるいは、赤色,緑色及び青色とする場合を例示しているが、他の色すなわち他の波長の光を出射するように構成しても良い。
【0034】
(3)上記第1実施形態及び第2実施形態では、光導波路型SHG素子51において、光導波路LGの合流点JCよりも下流側の出力側光導波路51bに周期ドメイン反転構造RDを形成する場合を例示しているが、光導波路LGにおける合流点JCよりも上流側の入力側光導波路51aに複数の周期ドメイン反転構造RDを形成しても良いし、あるいは、前記入力側光導波路51a及び前記出力側光導波路51bの双方に複数の周期ドメイン反転構造RDを形成するように構成しても良い。
更に、上記第1実施形態及び第2実施形態では、周期ドメイン反転構造RDの形成個数を2個としているが、3個以上形成しても良いのはもちろんのことである。
(4)上記第1実施形態及び第2実施形態では、光導波路型SHG素子51の基板材料としてLiNbO3を例示しているが、例えばLiTaO3やKTP等の他の材料を用いても良い。
【0035】
(5)上記第1実施形態及び第2実施形態では、光導波路型SHG素子51にて第2高調波を発生させるためのレーザ光源として半導体レーザ素子41を用いる場合を例示しているが、例えばYAGレーザ等の半導体レーザ素子以外のレーザ光源を用いても良い。
(6)上記第1実施形態及び第2実施形態では、半導体レーザ素子41の出射光を光ファイバー45にて光導波路型SHG素子51へ導く場合を例示しているが、半導体レーザ素子41を入力側光導波路51aの光入射端に近接配置して、半導体レーザ素子41の出射光を直接に入力側光導波路51aへ入射させるように構成しても良い。
【0036】
【発明の効果】
上記請求項1記載の構成によれば、前記周期ドメイン反転構造は、その反転周期に対して高効率の第2高調波への変換効率が得られる入射レーザ光の波長範囲が極めて狭い範囲に限られ、その範囲外の波長のレーザ光は、そのまま透過させてしまうという知見に基づいて、複数の波長のレーザ光に対応した周期を有する複数の周期ドメイン反転構造が前記光導波路に沿って並ぶ状態で形成している。
これによって、周期ドメイン反転構造が単一の光導波路に形成される場合は、単一の光導波路にて複数色の第2高調波を生成できることになり、又、周期ドメイン反転構造が横並び状態の複数の光導波路に亘って形成される場合でも、それら複数の光導波路を近接して配置することが可能となるので、単に単一の光導波路型SHG素子で複数色の第2高調波を発生できるにとどまらず、光導波路型SHG素子をコンパクトに構成できる。
もって、複数色の光を光導波路型SHG素子により生成する場合に、光源装置の装置コストの低減と小型化とを実現できるに至った。
【0037】
又、上記請求項2記載の構成によれば、複数個のレーザ光源から出射されたレーザ光又はそのレーザ光によって生成された第2高調波の光路を合流させることによって、複数色の第2高調波を同一光軸の光ビームとして取り出すことができ、光源装置の後段に備えられる光学系を簡素化することができる。
又、上記請求項3記載の構成によれば、複数の周期の周期ドメイン反転構造は、複数の入力側光導波路に亘る状態で形成しても良いが、光導波路の数が少ない出力側光導波路に複数の周期の周期ドメイン反転構造を形成することで、周期ドメイン反転構造を形成する際に位置合わせを容易に行え、且つ、周期ドメイン反転構造をコンパクトに形成することが可能となる。
【0038】
又、上記請求項4記載の構成によれば、赤色のレーザ光源としては、既に赤色レーザ光を出射する半導体レーザ素子が実用化されており、光導波路型SHG素子を必要とはしないのであるが、例えば写真プリント装置の露光用光源のように赤色,緑色,及び,青色のレーザ光を必要として、尚且つ、緑色及び青色のレーザ光を単一の光導波路型SHG素子にて生成する場合には、赤色のレーザ光を伝播する光導波路を、緑色及び青色のレーザ光の生成のための光導波路と共に光導波路型SHG素子に作り込んでおくことで、製造工程の煩雑化を回避しながら、光導波路型SHG素子からは赤色,緑色,及び,青色のレーザ光が単一の光ビームとして得ることができ、光源装置自身の構成及び後段の光学系の構成を極めて簡素化することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態にかかる光導波路型SHG素子の平面図
【図2】本発明の第1実施形態にかかる露光用光源の概略構成図
【図3】本発明の第1実施形態にかかる第2高調波発生装置の斜視図
【図4】本発明の第1実施形態にかかる半導体レーザ装置の斜視図
【図5】本発明の第1実施形態にかかる画像露光装置の概略構成図
【図6】本発明の第1実施形態にかかる写真プリントシステムのブロック構成図
【図7】本発明の第2実施形態にかかる光導波路型SHG素子の平面図
【図8】本発明の第2実施形態にかかる露光用光源の概略構成図
【図9】本発明の第2実施形態にかかる第2高調波発生装置の斜視図
【図10】本発明の第2実施形態にかかる画像露光装置の概略構成図
【符号の説明】
JC 合流点
LG 光導波路
RD 周期ドメイン反転構造
51a 入力側光導波路
51b 出力側光導波路
71 第1入力側光導波路
72 第2入力側光導波路
73 第3入力側光導波路
Claims (4)
- 光導波路とその光導波路に形成される周期ドメイン反転構造とを備えて、光導波路に入射された光の第2高調波を生成する光導波路型SHG素子であって、
前記周期ドメイン反転構造は、出射する複数色の第2高調波に対応して異なる周期を有する複数の周期ドメイン反転構造が光の伝播方向に沿って並ぶ状態で形成されている光導波路型SHG素子。 - 前記光導波路は、複数の光導波路が合流点で合流するように構成されている請求項1記載の光導波路型SHG素子。
- 前記複数の周期ドメイン反転構造が、前記合流点よりも下流側の出力側光導波路に形成されている請求項2記載の光導波路型SHG素子。
- 前記合流点よりも上流側の入力側光導波路は、赤色のレーザ光を伝播する第1入力側光導波路と、緑色光の第2高調波を生成するための波長のレーザ光を伝播する第2入力側光導波路と、青色光の第2高調波を生成するための波長のレーザ光を伝播する第3入力側光導波路とを備えて構成され、
前記複数の周期ドメイン反転構造は、前記第2入力側光導波路を伝播するレーザ光の波長に対応する周期を有する周期ドメイン反転構造と、前記第3入力側光導波路を伝播するレーザ光の波長に対応する周期を有する周期ドメイン反転構造とによって構成されている請求項2又は3記載の光導波路型SHG素子。
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JP2016212244A (ja) * | 2015-05-08 | 2016-12-15 | 株式会社島津製作所 | 波長変換素子及びレーザ装置 |
-
2002
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