JP2005250156A - 光源装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】半導体レーザ素子と第2高調波発生素子とを備える光源装置において、半導体レーザ素子の出力や発振波長の安定化を図る。
【解決手段】半導体レーザ素子31と、光導波路に周期分極反転構造が形成された第2高調波発生素子41とが備えられ、前記第2高調波発生素子41は、前記光導波路の一側が露出することを予定して前記光導波路が形成され、前記半導体レーザ素子31の出射光を前記第2高調波発生素子41の光導波路に入射させて、入射光の第2高調波を出射する光源装置において、前記第2高調波発生素子41における光導波路が露出する面に、光導波路の屈折率よりも小さい屈折率を有する部材を塗布形成してある。
【選択図】図2
【解決手段】半導体レーザ素子31と、光導波路に周期分極反転構造が形成された第2高調波発生素子41とが備えられ、前記第2高調波発生素子41は、前記光導波路の一側が露出することを予定して前記光導波路が形成され、前記半導体レーザ素子31の出射光を前記第2高調波発生素子41の光導波路に入射させて、入射光の第2高調波を出射する光源装置において、前記第2高調波発生素子41における光導波路が露出する面に、光導波路の屈折率よりも小さい屈折率を有する部材を塗布形成してある。
【選択図】図2
Description
本発明は、半導体レーザ素子と、光導波路に周期分極反転構造が形成された第2高調波発生素子とが備えられ、前記第2高調波発生素子は、前記光導波路の一側が露出することを予定して前記光導波路が形成され、前記半導体レーザ素子の出射光を前記第2高調波発生素子の光導波路に入射させて、入射光の第2高調波を出射する光源装置に関する。
かかる光源装置は、半導体レーザ素子の出射光を第2高調波発生素子の光導波路に入射させて、入射レーザ光の1/2の波長の第2高調波を取り出す装置である。このような形式の光源装置としては、光導波路に周期分極反転構造を形成することにより高い変換効率が得られるものが実用化されている。
下記特許文献1にも記載のように、一般に、この第2高調波発生素子の光導波路は、光導波路の一側を露出させて、光導波路の一側が空気(あるいは真空)となるように作製されている。従って、光導波路の寸法や周囲との屈折率差等が、光導波路の一側が露出することを予定して設計されている。
通常、この露出面側から各種の手法により光導波路や周期分極反転構造を作り込む。
特開2003−188469号公報
下記特許文献1にも記載のように、一般に、この第2高調波発生素子の光導波路は、光導波路の一側を露出させて、光導波路の一側が空気(あるいは真空)となるように作製されている。従って、光導波路の寸法や周囲との屈折率差等が、光導波路の一側が露出することを予定して設計されている。
通常、この露出面側から各種の手法により光導波路や周期分極反転構造を作り込む。
ところが、上述のような構成の第2高調波発生素子をその設計仕様通りに使用していると、半導体レーザ素子の出力が不安定になると共に発振波長が変動してマルチモード化してしまう場合があった。
本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、光源装置において、半導体レーザ素子の出力や発振波長の安定化を図る点にある。
本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、光源装置において、半導体レーザ素子の出力や発振波長の安定化を図る点にある。
本出願の第1の発明は、半導体レーザ素子と、光導波路に周期分極反転構造が形成された第2高調波発生素子とが備えられ、前記第2高調波発生素子は、前記光導波路の一側が露出することを予定して前記光導波路が形成され、前記半導体レーザ素子の出射光を前記第2高調波発生素子の光導波路に入射させて、入射光の第2高調波を出射する光源装置において、前記第2高調波発生素子における光導波路が露出する面に、光導波路の屈折率よりも小さい屈折率を有する部材を塗布形成してある。
本発明の発明者は、半導体レーザの出射光を第2高調波発生素子の光導波路に入射させたとき、光導波路の光入射端面からの反射とは考えにくい反射方向の反射光が存在することを発見した。
この反射光を生じさせる可能性のあるものの一つとして周期分極反転構造が考えられるので、本来は露出させるはずの光導波路の一側に、光導波路の屈折率よりも小さい屈折率を有する部材を塗布し、光導波路の境界での屈折率差を小さくして光の反射率を小さくしたところ、半導体レーザ素子の光出力の変動が低減すると共に、発振波長が安定化する傾向を有することを確認した。
この反射光を生じさせる可能性のあるものの一つとして周期分極反転構造が考えられるので、本来は露出させるはずの光導波路の一側に、光導波路の屈折率よりも小さい屈折率を有する部材を塗布し、光導波路の境界での屈折率差を小さくして光の反射率を小さくしたところ、半導体レーザ素子の光出力の変動が低減すると共に、発振波長が安定化する傾向を有することを確認した。
すなわち、半導体レーザ素子に戻り光が入射すると半導体レーザ素子の出力や発振波長が不安定になるという現象は良く知られており、光導波路の露出面からの反射光が、半導体レーザ素子への戻り光となって、半導体レーザ素子の出力や波長の変動の一因となっていることを突き止めたのである。
そこで、本来は光導波路の一側を露出させたままの状態で使用するはずの第2高調波発生素子において、光導波路が露出する面に、光導波路の屈折率よりも小さい屈折率を有する部材を塗布形成して、光源装置を構成したのである。
尚、光導波路が露出する面にこのような部材を塗布形成することで、光導波路での光の伝播効率が低下することになるが、塗布する部材の屈折率を光導波路の屈折率に極端に近づけない限り実用上は問題ない。
そこで、本来は光導波路の一側を露出させたままの状態で使用するはずの第2高調波発生素子において、光導波路が露出する面に、光導波路の屈折率よりも小さい屈折率を有する部材を塗布形成して、光源装置を構成したのである。
尚、光導波路が露出する面にこのような部材を塗布形成することで、光導波路での光の伝播効率が低下することになるが、塗布する部材の屈折率を光導波路の屈折率に極端に近づけない限り実用上は問題ない。
又、本出願の第2の発明は、上記第1の発明の構成に加えて、前記第2高調波発生素子における光導波路が露出する面に、光導波路の屈折率よりも小さい屈折率を有する光学用の接着剤を塗布形成してある。
すなわち、光学部品の組み立て等に利用する光学用の接着剤が適切な屈折率を有しており、又、光導波路に塗布する作業も容易に行える。
すなわち、光学部品の組み立て等に利用する光学用の接着剤が適切な屈折率を有しており、又、光導波路に塗布する作業も容易に行える。
又、本出願の第3の発明は、上記第2の発明の構成に加えて、前記光学用の接着剤として、屈折率が1.4〜1.7の範囲のものを使用する。
この範囲の屈折率に設定すると、効果的に半導体レーザ素子の出力等を安定化させることができ、又、このような屈折率を有する光学用の接着剤は容易に入手できる。
この範囲の屈折率に設定すると、効果的に半導体レーザ素子の出力等を安定化させることができ、又、このような屈折率を有する光学用の接着剤は容易に入手できる。
上記第1の発明によれば、光導波路の露出面からの反射光が半導体レーザ素子への戻り光となって、半導体レーザ素子の出力変動等の一因となっているという知見に基づいて、光導波路が露出する面に、光導波路の屈折率よりも小さい屈折率を有する部材を塗布形成することで、光源装置において、半導体レーザ素子の出力や発振波長を安定化できるものとなった。
又、上記第2の発明によれば、簡単な作製作業で、半導体レーザ素子の出力や発振波長を安定化できるものとなった。
又、上記第3の発明によれば、入手が容易な光学用の接着剤を利用して、効果的に半導体レーザ素子の出力等を安定化させることができるものとなった。
又、上記第2の発明によれば、簡単な作製作業で、半導体レーザ素子の出力や発振波長を安定化できるものとなった。
又、上記第3の発明によれば、入手が容易な光学用の接着剤を利用して、効果的に半導体レーザ素子の出力等を安定化させることができるものとなった。
以下、本発明の光源装置を写真プリントシステムにおける露光用の光源として備えた場合の実施の形態を図面に基づいて説明する。
本実施の形態で例示する写真プリントシステムDPは、いわゆるデジタルミニラボ機として知られているものであり、図6のブロック構成図に示すように、現像処理済みの写真フィルムやメモリーカード,MOあるいはCD−R等から写真プリントを作製するための画像データを入力する画像入力装置IRと、画像入力装置IRにて入力した画像データを印画紙2に露光処理する露光・現像装置EPとから構成されている。
本実施の形態で例示する写真プリントシステムDPは、いわゆるデジタルミニラボ機として知られているものであり、図6のブロック構成図に示すように、現像処理済みの写真フィルムやメモリーカード,MOあるいはCD−R等から写真プリントを作製するための画像データを入力する画像入力装置IRと、画像入力装置IRにて入力した画像データを印画紙2に露光処理する露光・現像装置EPとから構成されている。
〔画像入力装置IRの概略構成〕
画像入力装置IRには、図6に概略的に示すように、写真フィルムの駒画像を読み取るフィルムスキャナ3と、メモリーリーダ,MOドライブ及びCD−Rドライブ等を備えた外部入出力装置4と、パーソナルコンピュータにて構成されてフィルムスキャナ3や外部入出力装置4の制御のほか写真プリントシステムDP全体の管理を実行する主制御装置5とが備えられ、更に、主制御装置5には、仕上がりプリント画像をシミュレートしたシミュレート画像や各種の制御用の情報を表示するモニタ5aと、露光条件の手動設定等や制御情報の入力操作をするための操作卓5bとが接続されている。
画像入力装置IRには、図6に概略的に示すように、写真フィルムの駒画像を読み取るフィルムスキャナ3と、メモリーリーダ,MOドライブ及びCD−Rドライブ等を備えた外部入出力装置4と、パーソナルコンピュータにて構成されてフィルムスキャナ3や外部入出力装置4の制御のほか写真プリントシステムDP全体の管理を実行する主制御装置5とが備えられ、更に、主制御装置5には、仕上がりプリント画像をシミュレートしたシミュレート画像や各種の制御用の情報を表示するモニタ5aと、露光条件の手動設定等や制御情報の入力操作をするための操作卓5bとが接続されている。
〔露光・現像装置EPの全体構成〕
露光・現像装置EPは、筐体内部に、画像露光装置EXと、画像露光装置EXにて露光された印画紙2を現像処理する現像処理装置PPと、印画紙マガジン6から引き出された印画紙2を多数の搬送ローラ9等にて現像処理装置PPへ搬送する印画紙搬送系PTとが設けられている。
図示を省略するが、露光・現像装置EPの筐体外部には、現像処理装置PPにて現像処理及び乾燥処理された印画紙2をオーダ毎に分類するためのソータが備えられ、このソータへ印画紙2を搬送するコンベア10が筐体上面に備えられている。
更に、印画紙搬送系PTの搬送経路の途中には、印画紙マガジン6から引き出された長尺の印画紙2を設定プリントサイズに切断するカッタ11と、一列で搬送される印画紙2を複数の搬送列に振り分けるための振り分け装置12とが備えられている。
露光・現像装置EPは、筐体内部に、画像露光装置EXと、画像露光装置EXにて露光された印画紙2を現像処理する現像処理装置PPと、印画紙マガジン6から引き出された印画紙2を多数の搬送ローラ9等にて現像処理装置PPへ搬送する印画紙搬送系PTとが設けられている。
図示を省略するが、露光・現像装置EPの筐体外部には、現像処理装置PPにて現像処理及び乾燥処理された印画紙2をオーダ毎に分類するためのソータが備えられ、このソータへ印画紙2を搬送するコンベア10が筐体上面に備えられている。
更に、印画紙搬送系PTの搬送経路の途中には、印画紙マガジン6から引き出された長尺の印画紙2を設定プリントサイズに切断するカッタ11と、一列で搬送される印画紙2を複数の搬送列に振り分けるための振り分け装置12とが備えられている。
〔画像露光装置EXの構成〕
画像露光装置EXは、印画紙2に対してレーザビームを走査することにより印画紙2上に露光画像を形成する露光ユニット13と、露光ユニット13を制御する露光制御装置14とを主要部として構成されている。
〔露光ユニット13の構成〕
露光ユニット13は、レーザを光源として印画紙2上に画像を露光するいわゆるレーザ露光式を採用しており、その概略構成を図5のブロック構成図に示す。
露光ユニット13には、赤色光源装置21と、緑色光源装置22と、青色光源装置23と、緑色光源装置22及び青色光源装置23から出射したレーザビームを強度変調するための音響光学変調素子24(以下、「AOM素子24」と略記する)と、レーザビームの光路を屈曲させるミラー25と、球面レンズ26と、シリンドリカルレンズ27と、図示を省略するモータにて回転駆動されるポリゴンミラー28と、f−θ特性と面倒れ補正機能とを有するレンズ群29とが備えられている。
画像露光装置EXは、印画紙2に対してレーザビームを走査することにより印画紙2上に露光画像を形成する露光ユニット13と、露光ユニット13を制御する露光制御装置14とを主要部として構成されている。
〔露光ユニット13の構成〕
露光ユニット13は、レーザを光源として印画紙2上に画像を露光するいわゆるレーザ露光式を採用しており、その概略構成を図5のブロック構成図に示す。
露光ユニット13には、赤色光源装置21と、緑色光源装置22と、青色光源装置23と、緑色光源装置22及び青色光源装置23から出射したレーザビームを強度変調するための音響光学変調素子24(以下、「AOM素子24」と略記する)と、レーザビームの光路を屈曲させるミラー25と、球面レンズ26と、シリンドリカルレンズ27と、図示を省略するモータにて回転駆動されるポリゴンミラー28と、f−θ特性と面倒れ補正機能とを有するレンズ群29とが備えられている。
〔光源装置21,22,23の構成〕
赤色光源装置21は、図示を省略するが、赤色半導体レーザ素子と赤色半導体レーザ素子の出射光を集光する集光レンズとが備えられ、緑色光源装置22及び青色光源装置23と異なり、半導体レーザ素子の駆動電流を直接変調することによって出射レーザビームを強度変調している。
緑色光源装置22と青色光源装置23とは基本的な構成は共通であり、これらの構成を緑色光源装置22によって代表して説明する。
図2に示すように、緑色光源装置22には、近赤外半導体レーザ装置22aと、近赤外半導体レーザ装置22aの出射レーザ光の第2高調波を生成する第2高調波発生装置22bと、第2高調波発生装置22bの出射光をコリメートするコリメートレンズ22cとが備えられ、図示を省略するが、コリメートレンズ22cの後段には、更に、コリメートレンズ22cを通過したレーザビームをAOM素子24の受光開口に集光するための集光レンズが備えられている。
赤色光源装置21は、図示を省略するが、赤色半導体レーザ素子と赤色半導体レーザ素子の出射光を集光する集光レンズとが備えられ、緑色光源装置22及び青色光源装置23と異なり、半導体レーザ素子の駆動電流を直接変調することによって出射レーザビームを強度変調している。
緑色光源装置22と青色光源装置23とは基本的な構成は共通であり、これらの構成を緑色光源装置22によって代表して説明する。
図2に示すように、緑色光源装置22には、近赤外半導体レーザ装置22aと、近赤外半導体レーザ装置22aの出射レーザ光の第2高調波を生成する第2高調波発生装置22bと、第2高調波発生装置22bの出射光をコリメートするコリメートレンズ22cとが備えられ、図示を省略するが、コリメートレンズ22cの後段には、更に、コリメートレンズ22cを通過したレーザビームをAOM素子24の受光開口に集光するための集光レンズが備えられている。
近赤外半導体レーザ装置22aは、図2に示すように、半導体レーザ素子31と、半導体レーザ素子31を支持するレーザ支持部材32と、半導体レーザ素子31の温度調整をするための熱電冷却装置33とが備えられ、半導体レーザ素子31の出射光は、半導体レーザ素子31の光出射位置に正確に位置決めされた光ファイバ35にて第2高調波発生装置22bへ導かれる。
第2高調波発生装置22bは、図2に示すように、第2高調波発生素子41と、第2高調波発生素子41を支持するSHG支持部材42と、第2高調波発生素子41の温度調整をするための熱電冷却装置43と、光ファイバ35の一端を支持するファイバ支持部材44とが備えられて構成されている。
第2高調波発生装置22bは、図2に示すように、第2高調波発生素子41と、第2高調波発生素子41を支持するSHG支持部材42と、第2高調波発生素子41の温度調整をするための熱電冷却装置43と、光ファイバ35の一端を支持するファイバ支持部材44とが備えられて構成されている。
第2高調波発生素子41は、光導波路型の第2高調波発生素子であり、図1の平面図に示すように、その光導波路41aに周期分極反転構造41bが形成されている。この光導波路41aの一端(光入射端)に光ファイバ35の先端が位置決めされている。
本実施の形態では、第2高調波発生素子41の基板としてLiNbO3を用いており、光導波路41aはプロトン交換法等により形成し、周期分極反転構造41bは、電界印加法あるいはTi拡散法等で周期的に分極を反転させることにより形成する。
本実施の形態では、第2高調波発生素子41の基板としてLiNbO3を用いており、光導波路41aはプロトン交換法等により形成し、周期分極反転構造41bは、電界印加法あるいはTi拡散法等で周期的に分極を反転させることにより形成する。
第2高調波発生素子41は、光導波路41aの一側(第2高調波発生素子41の上面側)が露出しており、この一側が空気層となることを予定して、光導波路41aの寸法等が設計されている。
従って第2高調波発生素子41の上面側は露出させたままで使用するのが本来の標準的な使用態様であるが、図3の斜視図及び図1に示すように、この光導波路41aが露出する面に、光導波路41aの屈折率よりも小さい屈折率を有する部材GLを塗布形成している。尚、図3では、図面を見易くするために周期分極反転構造41bの記載を省略している。
この光導波路41aの屈折率よりも小さい屈折率を有する部材GLとして、具体的には、光学用の接着剤を用いている。
従って第2高調波発生素子41の上面側は露出させたままで使用するのが本来の標準的な使用態様であるが、図3の斜視図及び図1に示すように、この光導波路41aが露出する面に、光導波路41aの屈折率よりも小さい屈折率を有する部材GLを塗布形成している。尚、図3では、図面を見易くするために周期分極反転構造41bの記載を省略している。
この光導波路41aの屈折率よりも小さい屈折率を有する部材GLとして、具体的には、光学用の接着剤を用いている。
図4に、光導波路41aの露出面(第2高調波発生素子41の上面)に光学用の接着剤を塗布する場合と、塗布しないで標準の使用状態とした場合との半導体レーザ素子31の発光スペクトルの測定結果を示す。
図4(a)は、光学用の接着剤を塗布しない場合の典型的な発光スペクトルであり、図4(b)は光学用の接着剤を塗布した場合の典型的な発光スペクトルを示している。図4(b)のデータは、光導波路41aの屈折率2.2に対して、屈折率が1.59の光学用の接着剤を塗布したときのデータを示している。
光学用の接着剤を塗布しない場合では、発光スペクトルがマルチモード化し、光出力が不安定となるのに対し、光学用の接着剤を塗布することによって、シングルモード発振となって発振波長が安定している。これに伴って半導体レーザ素子31の出力も安定している。
図4(a)は、光学用の接着剤を塗布しない場合の典型的な発光スペクトルであり、図4(b)は光学用の接着剤を塗布した場合の典型的な発光スペクトルを示している。図4(b)のデータは、光導波路41aの屈折率2.2に対して、屈折率が1.59の光学用の接着剤を塗布したときのデータを示している。
光学用の接着剤を塗布しない場合では、発光スペクトルがマルチモード化し、光出力が不安定となるのに対し、光学用の接着剤を塗布することによって、シングルモード発振となって発振波長が安定している。これに伴って半導体レーザ素子31の出力も安定している。
又、塗布する光学用の接着剤としては、屈折率が1.4〜1.7の範囲のものを使用することで、良好な特性が得られることを確認できた。
以上、緑色光源装置22について説明したが、上述のように、青色光源装置23の構成要素は緑色光源装置22の構成要素と共通であり、使用する半導体レーザ素子の発振波長や、第2高調波発生素子の周期分極反転構造の周期等の、光の波長に関する部分が異なる。
以上、緑色光源装置22について説明したが、上述のように、青色光源装置23の構成要素は緑色光源装置22の構成要素と共通であり、使用する半導体レーザ素子の発振波長や、第2高調波発生素子の周期分極反転構造の周期等の、光の波長に関する部分が異なる。
〔露光制御装置14の構成〕
露光制御装置14には、図5に概略的に示すように、上記構成の露光ユニット13を制御するために、画像入力装置IRから入力される赤色,緑色及び青色夫々の露光用画像データを露光ユニット13の露光特性を考慮した画像データに補正するルックアップテーブル51と、ルックアップテーブル51にて補正された画像データを赤色,緑色及び青色の各色毎に記憶する画像データメモリ52と、赤色,緑色及び青色の各色毎に備えられて画像データメモリ52の出力データをD/A変換するD/Aコンバータ53と、緑色及び青色についてD/Aコンバータ53からの入力信号に応じて変調されたAOM素子24の駆動信号を生成するAOM制御回路54と、赤色光源装置21の半導体レーザ素子の駆動電流を変調するLD駆動回路55とが備えられている。
露光制御装置14には、図5に概略的に示すように、上記構成の露光ユニット13を制御するために、画像入力装置IRから入力される赤色,緑色及び青色夫々の露光用画像データを露光ユニット13の露光特性を考慮した画像データに補正するルックアップテーブル51と、ルックアップテーブル51にて補正された画像データを赤色,緑色及び青色の各色毎に記憶する画像データメモリ52と、赤色,緑色及び青色の各色毎に備えられて画像データメモリ52の出力データをD/A変換するD/Aコンバータ53と、緑色及び青色についてD/Aコンバータ53からの入力信号に応じて変調されたAOM素子24の駆動信号を生成するAOM制御回路54と、赤色光源装置21の半導体レーザ素子の駆動電流を変調するLD駆動回路55とが備えられている。
オペレータが、フィルムスキャナ3あるいは外部入出力装置4からプリント対象の画像データを入力すると、適宜に画像処理等が施され、画像処理後の露光用画像データがルックアップテーブル51へ送信される。
画像入力装置IRから入力された赤色,緑色及び青色の露光用画像データに基づいて、AOM素子24及びLD駆動回路55にて強度変調された赤色,緑色及び青色のレーザビームは、各光学部品を通過してポリゴンミラー28の反射面に照射され、回転駆動されているポリゴンミラー28の反射面で反射されたレーザビームは、レンズ群29によって印画紙2上に集光される。レーザビームの走査方向(主走査方向)は印画紙2の搬送方向(副走査方向)と直交しており、レーザビームの走査と印画紙2の搬送移動によって、印画紙2上にプリントする画像が潜像として形成される。これが現像処理装置PPで現像処理されて写真プリントとして仕上がる。
画像入力装置IRから入力された赤色,緑色及び青色の露光用画像データに基づいて、AOM素子24及びLD駆動回路55にて強度変調された赤色,緑色及び青色のレーザビームは、各光学部品を通過してポリゴンミラー28の反射面に照射され、回転駆動されているポリゴンミラー28の反射面で反射されたレーザビームは、レンズ群29によって印画紙2上に集光される。レーザビームの走査方向(主走査方向)は印画紙2の搬送方向(副走査方向)と直交しており、レーザビームの走査と印画紙2の搬送移動によって、印画紙2上にプリントする画像が潜像として形成される。これが現像処理装置PPで現像処理されて写真プリントとして仕上がる。
〔別実施形態〕
以下、本発明の別実施形態を列記する。
(1)上記実施の形態では、光導波路41aが露出する面に光学用の接着剤を塗布する場合を例示しているが、適切な屈折率を有するものであれば、各種の部材を用いることができる。
(2)上記実施の形態では、光源装置22,23において半導体レーザ素子31の出射光を光ファイバ35にて第2高調波発生素子41の光導波路41aへ導いているが、例えば、レンズにて光導波路41aの光入射端に集光する等、光導波路41aへの半導体レーザ素子31の出射光の導入形態は、種々変更可能である。
以下、本発明の別実施形態を列記する。
(1)上記実施の形態では、光導波路41aが露出する面に光学用の接着剤を塗布する場合を例示しているが、適切な屈折率を有するものであれば、各種の部材を用いることができる。
(2)上記実施の形態では、光源装置22,23において半導体レーザ素子31の出射光を光ファイバ35にて第2高調波発生素子41の光導波路41aへ導いているが、例えば、レンズにて光導波路41aの光入射端に集光する等、光導波路41aへの半導体レーザ素子31の出射光の導入形態は、種々変更可能である。
31 半導体レーザ素子
41 第2高調波発生素子
41a 光導波路
41b 周期分極反転構造
41 第2高調波発生素子
41a 光導波路
41b 周期分極反転構造
Claims (3)
- 半導体レーザ素子と、光導波路に周期分極反転構造が形成された第2高調波発生素子とが備えられ、
前記第2高調波発生素子は、前記光導波路の一側が露出することを予定して前記光導波路が形成され、
前記半導体レーザ素子の出射光を前記第2高調波発生素子の光導波路に入射させて、入射光の第2高調波を出射する光源装置であって、
前記第2高調波発生素子における光導波路が露出する面に、光導波路の屈折率よりも小さい屈折率を有する部材を塗布形成してある光源装置。 - 前記第2高調波発生素子における光導波路が露出する面に、光導波路の屈折率よりも小さい屈折率を有する光学用の接着剤を塗布形成してある請求項1記載の光源装置。
- 前記光学用の接着剤の屈折率が、1.4〜1.7の範囲である請求項2記載の光源装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004061058A JP2005250156A (ja) | 2004-03-04 | 2004-03-04 | 光源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2004061058A JP2005250156A (ja) | 2004-03-04 | 2004-03-04 | 光源装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005250156A true JP2005250156A (ja) | 2005-09-15 |
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ID=35030684
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2004061058A Withdrawn JP2005250156A (ja) | 2004-03-04 | 2004-03-04 | 光源装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2005250156A (ja) |
-
2004
- 2004-03-04 JP JP2004061058A patent/JP2005250156A/ja not_active Withdrawn
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