JP2004066113A - 小型化学反応装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】基板の一面に形成された微小な流路内に設けられた触媒層に薄膜ヒータによって熱エネルギーを供給する小型化学反応装置において、熱エネルギーの損失を激減してエネルギーの利用効率を良くする。
【解決手段】第1基板11と第2基板14とは陽極接合されている。第1基板11の一面に形成された蛇行した微小な流路12内には触媒層13が設けられている。第2基板14の第1基板11との対向面において流路12と対応する箇所には蛇行した薄膜ヒータ17が設けられている。すなわち、流路12内には薄膜ヒータ17が設けられている。これにより、薄膜ヒータ17を第1基板11の外面に設けた場合と比較して、熱エネルギーの損失を激減してエネルギーの利用効率を良くすることができる。
【選択図】    図2

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は小型化学反応装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
化学反応の技術分野では、流体化された混合物質を流路内に設けられた触媒による化学反応(触媒反応)により、所望の流体物質を生成する化学反応装置が知られている。従来のこのような化学反応装置には、半導体集積回路などの半導体製造技術で蓄積された微細加工技術を用いて、シリコン基板上にミクロンオーダーあるいはミリメートルオーダーの流路を形成したものがある。
【0003】
図18は従来のこのような小型化学反応装置の一例の透過平面図を示し、図19は図18のE−E線に沿う断面図を示したものである。この小型化学反応装置は小型のシリコン基板1を備えている。シリコン基板1の一面には、半導体製造技術で蓄積された微細加工技術を用いて、蛇行した微小な流路2が形成されている。流路2の内壁面には触媒層3が設けられている。
【0004】
シリコン基板1の一面にはガラス基板4が接合されている。ガラス基板4の流路2の両端部に対応する所定の2箇所には、ガラス基板4の厚さ方向に貫通する流入口5および流出口6が形成されている。シリコン基板1の他面には、流路2に対応して蛇行した薄膜ヒータ7が設けられている。薄膜ヒータ7は、この小型化学反応装置における化学反応(触媒反応)が所定の熱条件による吸熱反応を伴うとき、化学反応時に流路2内の触媒層3に所定の熱エネルギーを供給するためのものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記従来の小型化学反応装置では、流路2内の触媒層3に熱エネルギーを供給する薄膜ヒータ7をシリコン基板1の他面側に設けているが、シリコン基板1を介しているために流路2内に熱が伝達される前にシリコン基板1が熱を吸収してしまい、熱エネルギーの損失が大きく、エネルギーの利用効率が悪いという問題があった。
そこで、この発明は、薄膜ヒータによる熱エネルギーの損失を激減して、エネルギーの利用効率を良くすることができる小型化学反応装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、互いに接合された一対の小型の基板と、該両基板間に設けられた微小な流路と、該流路内に設けられた薄膜ヒータとを備えていることを特徴とするものである。
そして、この発明によれば、互いに接合された両基板間に設けられた微小な流路内に薄膜ヒータを設けているので、流路内に熱エネルギーを直接供給することができる上、流路内で発生した熱エネルギーの拡散を両基板で抑制して周囲への放熱を激減することができ、したがって薄膜ヒータによる熱エネルギーの損失を激減して、エネルギーの利用効率を良くすることができる。
【0007】
【発明の実施の形態】
図1はこの発明の第1実施形態としての小型化学反応装置の透過平面図を示し、図2は図1のA−A線に沿う断面図を示し、図3は図1のB−B線に沿う断面図を示したものである。この小型化学反応装置はシリコンやガラスなどからなる小型の第1基板11を備えている。第1基板11の寸法は、一例として、長さ15〜35mm程度、幅10〜25mm程度、厚さ0.4〜1mm程度である。
【0008】
第1基板11の一面には、半導体製造技術で蓄積された微細加工技術を用いて、蛇行した微小な流路12が形成されている。流路12の両端部は、第1基板11の一方の辺の端面の所定の2箇所まで延ばされている。流路12の寸法は、一例として、幅0.2〜0.8mm程度、深さ0.2〜0.6mm程度であり、全長は30〜1000mm程度である。流路12の内壁面には触媒層13が設けられている。
【0009】
第1基板11の一面にはガラスやシリコンなどからなる第2基板14が陽極接合されている。第2基板14の長さは第1基板11の長さと同じであるが、幅は第1基板11の幅よりもやや大きくなっている。そして、両基板11、14を陽極接合した状態では、第2基板14の一方の辺部は第1基板11から突出されている。また、流路12の両端部は開放され、これらの開放部は流入口15および流出口16となっている。
【0010】
第2基板14の第1基板11との対向面において流路12と対応する箇所には、TaSiOxやTaSiOxNなどの抵抗体薄膜からなる蛇行した薄膜ヒータ17が設けられている。薄膜ヒータ17は、その幅が流路12の幅よりもある程度小さく、流路12内に配置されている。薄膜ヒータ17は、この小型化学反応装置における化学反応(触媒反応)が所定の熱条件による吸熱反応を伴うとき、化学反応時に流路12内の触媒層13に所定の熱エネルギーを供給するためのものである。
【0011】
薄膜ヒータ17の両端部は、流入口15および流出口16から突出されて第2基板12の一方の辺の端面の所定の2箇所まで延ばされている。薄膜ヒータ17の当該両延出部上には、それぞれ、上下をTi−W層に挟まれたAu層からなる3層構造の配線18、19が設けられている。そして、薄膜ヒータ17は、これらの配線18、19に電圧が印加されることにより加熱する抵抗体である。
【0012】
このように、この小型化学反応装置では、互いに陽極接合された両基板11、14間に設けられた微小な流路12内に薄膜ヒータ17を設けているので、流路12内の触媒層13に熱エネルギーを直接供給することができるので、薄膜ヒータ17による熱エネルギーの損失を激減して、エネルギーの利用効率を良くすることができる。
【0013】
ここで、この小型化学反応装置において、流路12の両端部を第1基板11の一方の辺の所定の2箇所まで延ばしている理由について説明する。薄膜ヒータ又はその配線は、それらが設けられている基板の端面まで引き回して外部回路と接続されている。本発明のように流路12内に薄膜ヒータ17を設けた構造において、例えば、図18および図19に示す従来例と同様に、第1基板11に流入口5および流出口6を設け、流路12の両端部を第1基板11の一方の辺の所定の2箇所まで延ばさずに、従来例のように流入口5および流出口6までとするように設定すると、図18の領域Xでは基板1には流路2が設けられていないので、本発明における同領域では、第1基板11が第2基板14上の薄膜ヒータ17上に乗り上げてしまい流路12に隙間が生じ、また両基板11、14を陽極接合することができなくなってしまう。
【0014】
これに対し、上記第1実施形態では、流路12の両端部を第1基板11の一方の辺の所定の2箇所まで延ばしているので、その中に薄膜ヒータ17の両端部を配置することができるため第1基板11が薄膜ヒータ17上に乗り上げることがないので、流路12に隙間が生じることがなく、これにより両基板11、14を確実に陽極接合することができる。また、薄膜ヒータ17の両端部を流路12の両端部(流入口15および流出口16)から突出させ、当該両突出部上に配線18、19を設けているので、これらの配線18、19に外部配線(図示せず)を容易に且つ確実に接続することができる。
【0015】
次に、この発明に係る小型化学反応装置を燃料改質型の燃料電池を用いた燃料電池システムに適用した場合について説明する。図4は燃料電池システム31の要部のブロック図を示したものである。この燃料電池システム31は、発電用燃料部32、燃料気化部33、改質部34、一酸化炭素除去部35、発電部36、充電部37などを備えている。
【0016】
発電用燃料部32は、発電用燃料(例えばメタノール水溶液)が封入された燃料パックなどからなり、発電用燃料を燃料気化部34に供給する。
【0017】
燃料気化部34は、一例として、図1〜図3に示すような構造となっている。ただし、この場合、流路12内には触媒層13は設けられていない。そして、燃料気化部33は、燃料部32からの発電用燃料が流入口15を介して流路12内に供給されると、流路12内において、薄膜ヒータ17の加熱(120℃程度)により、発電用燃料を気化させ、この気化された発電用燃料ガス(例えば発電用燃料がメタノール水溶液の場合、CHOH+HO)を流出口16から流出させる。
【0018】
燃料気化部33で気化された発電用燃料ガス(CHOH+HO)は改質部34に供給される。この場合、改質部34も、一例として、図1〜図3に示すような構造となっている。ただし、この場合、触媒層13は、例えば、Cu、ZnO、Alなどからなる改質触媒を含むものからなっている。そして、改質部34は、燃料気化部33からの発電用燃料ガス(CHOH+HO)が流入口15を介して流路12内に供給されると、流路12内において、薄膜ヒータ17の加熱(280℃程度)により、次の式(1)に示すような吸熱反応を引き起こし、水素と副生成物の二酸化炭素とを生成する。
CHOH+HO→3H+CO……(1)
【0019】
上記式(1)の左辺における水(HO)は、反応の初期では、燃料部32の燃料に含まれているものでよいが、後述する発電部36の発電に伴い生成される水を回収して改質部34に供給するようにしてもよい。また、発電部36の発電中の上記式(1)の左辺のおける水(HO)の供給源は、発電部36のみでもよく、発電部36および燃料部32でも、また燃料部32のみでもよい。なお、このとき微量ではあるが、一酸化炭素が改質部34内で生成されることがある。
【0020】
そして、上記式(1)の右辺の生成物(水素、二酸化炭素)および微量の一酸化炭素は改質部34の流出口16から流出される。改質部34の流出口16から流出された生成物のうち、気化状態の水素および一酸化炭素は一酸化炭素除去部35に供給され、二酸化炭素は分離されて大気中に放出される。
【0021】
次に、一酸化炭素除去部35も、一例として、図1〜図3に示すような構造となっている。ただし、この場合、触媒層13は、例えば、Pt、Alなどからなる選択酸化触媒を含むものからなっている。そして、一酸化炭素除去部35は、改質部34からの気化状態の水素および一酸化炭素が流入口15を介して流路12内に供給されると、薄膜ヒータ17の加熱(180℃程度)により、流路12内に供給された水素、一酸化炭素、水のうち、一酸化炭素と水とが反応し、次の式(2)に示すように、水素と副生成物の二酸化炭素とが生成される。
CO+HO→H+CO……(2)
【0022】
上記式(2)の左辺における水(HO)は反応の初期では、燃料部32の燃料に含まれているものでよいが、発電部36の発電に伴い生成される水を回収して一酸化炭素除去部35に供給することが可能である。また、一酸化炭素除去部35における反応式(2)の左辺のおける水の供給源は、発電部36のみでもよく、発電部36および燃料部32でも、また燃料部32のみでもよい。
【0023】
そして、最終的に一酸化炭素除去部35の流出口16に到達する流体はそのほとんどが水素、二酸化炭素となる。なお、一酸化炭素除去部35の流出口16に到達する流体に極微量の一酸化炭素が含まれている場合、残存する一酸化炭素を大気中から逆止弁を介して取り込まれた酸素に接触させることで、次の式(3)に示すように、二酸化炭素が生成され、これにより一酸化炭素が確実に除去される。
CO+(1/2)O→CO……(3)
【0024】
上記一連の反応後の生成物は水素および二酸化炭素(場合によって微量の水を含む)で構成されるが、これらの生成物のうち、二酸化炭素は水素から分離されて大気中に放出される。したがって、一酸化炭素除去部35から発電部36には水素のみが供給される。なお、一酸化炭素除去部35は、燃料気化部33と改質部34との間に設けてもよい。
【0025】
次に、発電部36は、図5に示すように、固体高分子型の燃料電池からなっている。すなわち、発電部36は、Pt、Cなどの触媒が担持された炭素電極からなるカソード41と、Pt、Ru、Cなどの触媒が担持された炭素電極からなるアノード42と、カソード41とアノード42との間に介在されたフィルム状のイオン導電膜43と、を有して構成され、カソード41とアノード42との間に設けられた2次電池やコンデンサなどからなる充電部37に電力を供給するものである。
【0026】
この場合、カソード41の外側には空間部44が設けられている。この空間部44内には一酸化炭素除去部35からの水素が供給され、カソード41に水素が供給される。また、アノード42の外側には空間部45が設けられている。この空間部45内には大気中から逆止弁を介して取り込まれた酸素が供給され、アノード42酸素が供給される。
【0027】
そして、カソード41側では、次の式(4)に示すように、水素から電子(e)が分離した水素イオン(プロトン;H)が発生し、イオン導電膜43を介してアノード42側に通過するとともに、カソード41により電子(e)が取り出されて充電部37に供給される。
3H→6H+6e……(4)
【0028】
一方、アノード42側では、次の式(5)に示すように、充電部37を経由して供給された電子(e)とイオン導電膜43を通過した水素イオン(H)と酸素とが反応して副生成物の水が生成される。
6H+(3/2)O+6e→3HO……(5)
【0029】
以上のような一連の電気化学反応(式(4)および式(5))は概ね室温〜80℃程度の比較的低温の環境下で進行し、電力以外の副生成物は、基本的に水のみとなる。発電部36で生成された電力は充電部37に供給され、これにより充電部37が充電される。
【0030】
発電部36で生成された副生成物としての水は回収される。この場合、上述の如く、発電部36で生成された水の少なくとも一部を改質部34や一酸化炭素除去部35に供給するようにすると、燃料部32内に当初封入される水の量を減らすことができ、また回収される水の量を減らすことができる。
【0031】
ところで、現在、研究開発が行われている燃料改質方式の燃料電池に適用されている燃料としては、少なくとも、水素元素を含む液体燃料または液化燃料または気体燃料であって、発電部36により、比較的高いエネルギー変換効率で電気エネルギーを生成することができる燃料であればよく、上記のメタノールの他、例えば、エタノール、ブタノールなどのアルコール系の液体燃料や、ジメチルエーテル、イソブタン、天然ガス(CNG)などの液化ガスなどの常温常圧で気化される炭化水素からなる液体燃料、あるいは、水素ガスなどの気体燃料などの流体物質を良好に適用することができる。
【0032】
なお、上記第1実施形態では、図2に示すように、第1基板(一方の基板)11の一面に形成された流路12内に触媒層13を設け、第2基板(他方の基板)14の第1基板11との対向面において流路12と対応する箇所に薄膜ヒータ17を設けた場合について説明したが、これに限定されるものではない。
【0033】
例えば、図6に示すこの発明の第2実施形態のように、薄膜ヒータ17(ただし、図1および図3に示す配線18、19形成領域を除く)上にも、触媒層13と同一の触媒からなる触媒層21を設けるようにしてもよい。また、図7に示すこの発明の第3実施形態のように、流路12内に触媒層を設けずに、薄膜ヒータ17上にのみ触媒層21を設けるようにしてもよい。
【0034】
ところで、図6に示す第2実施形態の場合には、図2に示す第1実施形態の場合や図7に示す第3実施形態の場合と比較して、触媒の量を多くすることができるので、触媒の量に大きく依存する流路12内での反応速度を比較的速くすることができる。また、薄膜ヒータ17に触媒を直接接触させると何らかの影響があるような場合には、図2に示す第1実施形態のようにすればよい。
【0035】
また、図8に示すこの発明の第4実施形態のように、第2基板(一方の基板)14および第1基板(他方の基板)11の両方にそれぞれ設けられた溝で構成された流路12を形成し、第2基板14の流路12の内壁に薄膜ヒータ17を設けるようにしてもよい。このとき、改質部34、一酸化炭素除去部35であれば、第1基板11の流路12の内壁に触媒層13が設けられ、燃料気化部33であれば触媒層13は不要である。
【0036】
上記第4実施形態では、第1基板11の流路12の内壁に化学反応のための触媒層13が設けられ、第2基板14の流路12の内壁に薄膜ヒータ17が設けられているが、第1基板11の流路12の内壁に薄膜ヒータ17が設けられ且つ第2基板14の流路12の内壁に触媒層13が設けられてもよい。
【0037】
また、図9に示すこの発明の第5実施形態のように、第2基板14の流路12内に設けられた薄膜ヒータ17上に触媒層21を設けるようにしてもよい。このとき、触媒層13および触媒層21は同じ材料であっても異なる材料であってもよく、厚さが同じであっても異なってもよい。
【0038】
上記第5実施形態では、第2基板14の流路12の内壁にのみ薄膜ヒータ17が設けられているが、第1基板11の流路12の内壁にのみ薄膜ヒータ17が設けられてもよく、また第1基板11および第2基板14の流路12の内壁に薄膜ヒータ17が設けられ、薄膜ヒータ17の表面に、つまり、第1基板11側の流路12および第2基板14側の流路12の両方に触媒層13が設けられてもよい。
【0039】
また、図10に示すこの発明の第6実施形態のように、第1基板11の流路12内に触媒層を設けずに、第2基板14の流路12内に設けられた薄膜ヒータ17上にのみ触媒層21を設けるようにしてもよい。
【0040】
さらに、図11に示すこの発明の第7実施形態のように、第1基板(他方の基板)11に溝を形成せずに、第2基板(一方の基板)14にのみ溝を設けることで流路12を形成し、この流路12内に設けられた薄膜ヒータ17上に触媒層21を設けるようにしてもよい。
【0041】
また、図12に示すこの発明の第8実施形態のように、第2基板14側の流路12の表面に薄膜ヒータ17および第1の触媒層21Aが設けられ、第1基板11側の流路12に触媒層21Bを設けるようにしてもよい。
【0042】
また、図13に示すこの発明の第9実施形態のように、第2基板14側の流路12にのみ薄膜ヒータ17だけを設け、薄膜ヒータ17上に触媒層を設けずに、第1基板11側の流路12にのみ触媒層21を設けるようにしてもよい。
【0043】
図8に示す第4実施形態〜図13に示す第9実施形態では、薄膜ヒータ17が設けられている一方の基板の少なくとも一辺が、他方の基板の対応する一辺よりも突出し、突出している部分に薄膜ヒータ17の両端部又は配線18、19の端部が配置されているため、薄膜ヒータ17の両端部又は配線18、19の端部が他方の基板の外側に露出する構造となっている。
【0044】
ところで、例えば図1〜図3に示す第1実施形態の小型化学反応装置では、流路12の両端部を開放し、これらの開放部を流入口15および流出口16とし、薄膜ヒータ17の両端部の流入口15および流出口16から突出された両突出部上に配線18、19を設けているので、配線18、19に外部配線を接続したとき、流入口15および流出口16にパイプ(図示せず)などを接続することが困難となることが考えられる。
【0045】
そこで、次に、このような不都合を解消することができる実施形態について説明する。図14はこの発明の第10実施形態としての小型化学反応装置の透過平面図を示し、図15は図14のC−C線に沿う断面図を示し、図16は図14のD−D線に沿う断面図を示す。この小型化学反応装置では、流路12の両端部はガラスやエポキシ系樹脂などからなる封止材23で封止され、流路12の両端部近傍における第1基板11にそれぞれ第1基板11の厚さ方向に貫通する流入口24および流出口25が形成されている。
【0046】
このように、この小型化学反応装置では、流路12の両端部近傍における第1基板11にそれぞれ第1基板11の厚さ方向に貫通する流入口24および流出口25を形成しているので、配線18、19に外部配線を接続しても、流入口15および流出口16にパイプ(図示せず)などを容易に接続することができる。なお、このような構造とすることは、上記第2〜第9実施形態においても可能である。
【0047】
上記各実施形態では、基板11、14間に設けられた流路12は1本のみであったが、これに限らず、図17に示すように、第1基板11に設けられた蛇行した溝で構成された第1流路12Aと、第1流路12Aに沿って設けられた第2流路12Bと、が並列されるようにしてもよい。
【0048】
この場合、第1流路12Aは第1基板11の端面に設けられた第1流入口15Aと第1流出口16Aとを連結し、第1基板11側の第1流路12Aの表面には、図示しない触媒層が設けられている。第1流路12A内の第2基板14の表面に形成された第1薄膜ヒータ17Aは、第1流入口15A近傍および第1流出口16A近傍にそれぞれ設けられた第1配線18Aおよび第2配線19Aに接続されて、第1配線18Aおよび第2配線19A間に印加される電圧により加熱されるように制御されている。
【0049】
第2流路12Bは第1基板11の端面に設けられた第2流入口15Bと第2流出口16Bとを連結し、第1基板11側の第2流路12Bの表面には、図示しない触媒層が設けられている。この触媒層は、第1流路12A内の触媒層と同じであっても異なっていてもよい。第2流路12B内の第2基板14の表面に形成された第2薄膜ヒータ17Bは、第2流入口15B近傍および第2流出口16B近傍にそれぞれ設けられた第2配線19Bおよび第2配線18Bに接続されて、第2配線18Bおよび第2配線19B間に印加される電圧により加熱されるように制御されている。
【0050】
2本の流路が設けられた図17に示す実施形態は、第2実施形態〜第9実施形態のいずれかに示すような配置構成をとることが可能である。また、基板に設けられた流路が3本以上であってもいいのはいうまでもない。
【0051】
また、上記各実施形態では、流路内にのみ薄膜ヒータを設けたが、これに限らず、流路内の薄膜ヒータに加えて流路外に第2の薄膜ヒータを設けてもよい。
【0052】
そして、上記各実施形態では、配線18、19は、流路外に設けられているが、これに限らず、流路内の薄膜ヒータ上又は薄膜ヒータ下に積層することができる。この場合、薄膜ヒータの厚さ方向の流路の長さは、薄膜ヒータの厚さおよび配線の厚さよりも厚く設定されている。また、配線18、19が第1基板11の外側に露出していれば、配線18、19および薄膜ヒータは第2基板14の少なくとも1辺の端面まで延在していなくてもよく、配線18、19は必ずしも薄膜ヒータと重なるように形成されていなくてもよい。
【0053】
また、上記各実施形態の流路は進行方向に直交する方向に切った断面積が半円状又は真円状であるが、これに限らず、多角形であってもよい。
【0054】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、互いに接合された両基板間に設けられた微小な流路内に薄膜ヒータを設けているので、流路内に熱エネルギーを直接供給することができる上、流路内で発生した熱エネルギーの拡散を両基板で抑制して周囲への放熱を激減することができ、したがって薄膜ヒータによる熱エネルギーの損失を激減して、エネルギーの利用効率を良くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1実施形態としての小型化学反応装置の透過平面図。
【図2】図1のA−A線に沿う断面図。
【図3】図1のB−B線に沿う断面図。
【図4】この発明に係る小型化学反応装置を備えた燃料電池システムの一例の要部のブロック図。
【図5】図4に示す燃料電池システムの発電部および充電部の概略構成図。
【図6】この発明の第2実施形態としての小型化学反応装置の一部の断面図。
【図7】この発明の第3実施形態としての小型化学反応装置の一部の断面図。
【図8】この発明の第4実施形態としての小型化学反応装置の一部の断面図。
【図9】この発明の第5実施形態としての小型化学反応装置の一部の断面図。
【図10】この発明の第6実施形態としての小型化学反応装置の一部の断面図。
【図11】この発明の第7実施形態としての小型化学反応装置の一部の断面図。
【図12】この発明の第8実施形態としての小型化学反応装置の一部の断面図。
【図13】この発明の第9実施形態としての小型化学反応装置の一部の断面図。
【図14】この発明の第10実施形態としての小型化学反応装置の透過平面図。
【図15】図14のC−C線に沿う断面図。
【図16】図14のD−D線に沿う断面図。
【図17】この発明の変形例としての小型化学反応装置の透過平面図。
【図18】従来の小型化学反応装置の一例の透過平面図。
【図19】図18のE−E線に沿う断面図。
【符号の説明】
11 第1基板
12 流路
13 触媒層
14 第2基板
15 流入口
16 流出口
27 薄膜ヒータ
18、19 配線
21 触媒層
23 封止材
24 流入口
25 流出口

Claims (9)

  1. 互いに接合された一対の小型の基板と、該両基板間に設けられた微小な流路と、該流路内に設けられた薄膜ヒータとを備えていることを特徴とする小型化学反応装置。
  2. 請求項1に記載の小型化学反応装置において、前記流路は前記一対の基板のうちの一方の基板の他方の基板との対向面に設けられ、前記薄膜ヒータは前記他方の基板の前記一方の基板との対向面に設けられていることを特徴とする小型化学反応装置。
  3. 請求項2に記載の小型化学反応装置において、前記流路内に触媒層が設けられていることを特徴とする小型化学反応装置。
  4. 請求項2に記載の小型化学反応装置において、前記薄膜ヒータ上に触媒層が設けられていることを特徴とする小型化学反応装置。
  5. 請求項2〜4のいずれかに記載の小型化学反応装置において、前記流路の端部は前記一方の基板の一端面まで延ばされ、前記他方の基板に形成された前記薄膜ヒータの端部或いは前記薄膜ヒータの配線の端部は前記一方の基板の一端面の外側まで延ばされていることを特徴とする小型化学反応装置。
  6. 請求項1に記載の小型化学反応装置において、前記流路は前記一対の基板の互いに対向する双方の面にそれぞれ設けられた溝で構成され、前記薄膜ヒータは前記一対の基板のうちの一方の基板側の前記流路内に設けられていることを特徴とする小型化学反応装置。
  7. 請求項6に記載の小型化学反応装置において、前記薄膜ヒータ上に触媒層が設けられていることを特徴とする小型化学反応装置。
  8. 請求項6に記載の小型化学反応装置において、前記一対の基板のうちの他方の基板側の前記流路内に触媒層が設けられていることを特徴とする小型化学反応装置。
  9. 請求項6に記載の小型化学反応装置において、前記薄膜ヒータ上および前記一対の基板のうちの他方の基板に設けられた前記流路内にそれぞれ触媒層が設けられていることを特徴とする小型化学反応装置。
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