JP2004060964A - 焼成用セッター及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】焼成用セッターは、未焼成または半焼成のセラミックス成形体で形成された対象物が載置される載置面をもつ緻密なセラミックス焼成体を基材とする。これは、載置面10をもつセッター本体1と、セッター本体1の載置面10に形成され対象物100の焼成時に発生したバインダガスを逃がす溝状または貫通孔状をなすガス逃がし路2と具備する。対象物の焼成時に対象物からバインダガスが発生したとしても、そのバインダガスをガス逃がし路2から外方に逃がすことができる。
【選択図】図1
Description
【産業上の利用分野】
本発明はセラミックス系の電子材料部品等の対象物を焼成する際に用いられる焼成用セッターに関する。
【0002】
【従来の技術】
圧電セラミックスの焼成を例にとって従来技術について説明する。PZT(PbZrTiO3)等を原料とする圧電セラミックスは、次のように形成されている。即ち、原料粉末をバインダと共に成形して未焼成のセラミックス成形体からなる対象物を形成し、この未焼成の対象物を焼成用セッターの載置面に載置する。そして、対象物を焼成用セッターの載置面に載置した状態で、焼成用セッターを焼成炉に装入し、高温の焼成温度(例えば800〜1400℃)で所定時間加熱保持して焼成することによって、圧電セラミックスは製造されている。上記した焼成用セッターは、アルミナ製のセラミックス焼成体で形成されており、未焼成のセラミックス成形体からなる焼成用の対象物を載せるための載置面を有する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら上記した対象物である未焼成または半焼成のセラミックス成形体は樹脂系等のバインダを含んでいる。このバインダの蒸散が良好でないと、対象物の焼成は良好でなくなるおそれがある。本発明は上記した実情に鑑みなされたものであり、対象物である未焼成または半焼成のセラミックス成形体のバインダの蒸散を良好に行う焼成用セッター及びその製造方法を提供することを課題とするにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る焼成用セッターは、未焼成または半焼成のセラミックス成形体で形成された対象物が載置される載置面をもつ緻密なセラミックス焼成体を基材とする焼成用セッターであって、載置面をもつセッター本体と、セッター本体の載置面に形成され対象物の焼成時に発生したバインダガスを逃がす溝状または貫通孔状をなすガス逃がし路と具備することを特徴とするものである。対象物の焼成時に対象物からバインダガスが発生したとしても、そのバインダガスをガス逃がし路から外方に逃がすことができる。このため対象物の焼成を良好に行うことができる。
【0005】
本発明に係る焼成用セッターの製造方法は、セラミックス粉末と焼失可能物質とを含む板状の圧粉体を形成し、圧粉体を焼成して焼失可能物質を焼失させて溝状または貫通孔状をなすガス逃がし路を形成することを特徴とするものである。圧粉体の焼成時に焼失可能物質を焼失させて溝状または貫通孔状をなすガス逃がし路を形成するため、ガス逃がし路を低コストで容易に形成することができる。殊に、ガス逃がし路が薄いときや微小のときであっても、ガス逃がし路をセッター本体に容易に形成することができる。
【0006】
【発明の実施の形態】
セッター本体の基材は酸化物系でも、窒化物系でも、炭化物系でもよいが、一般的には、ジルコニア、アルミナ、マグネシア、ムライトのうちの少なくとも1種を基材とすることができる。ジルコニアは立方晶のジルコニア、あるいは、立方晶及び正方晶が混在するジルコニアとすることができる。焼成用セッターが立方晶のジルコニアを基材とする場合には、立方晶のジルコニアは極めて安定であるため、未焼成または半焼成の対象物を焼成する際に、対象物と焼成用セッターとの反応を極めて少なくできる。このため焼成用セッターのセッター本体は、長期間にわたり対象物との反応が抑えられ、安定して使用できる。特に、PZT成形体等(Pbを含む成形体)で形成された対象物を焼成する場合に極めて適しており、焼成用セッターはPZT等で形成された対象物との反応が少なくなり、耐汚染性が向上し、PZT成形体等で形成された対象物の寿命、セッター本体の寿命が長くなる。これは、ジルコニアの相変態が起こりにくいためである。換言すれば、本発明の好ましい形態によれば、焼成用セッターは、安定化剤としてY2O3、CaO、MgO、希土類元素(La、Ce、Nd等)のうちの少なくとも1種を4〜10mol%含む安定化ジルコニアまたは部分安定化ジルコニアを基材とする形態を採用することができる。この場合一般的にはジルコニアが96〜90mol%となる。即ち、ジルコニアに、安定化剤としてY2O3、CaO、MgO、あるいは希土類元素を4〜10mol%混合して所定の形状に成形した後に焼成して、焼成用セッターは形成される。これにより立方晶系のジルコニアが90%以上を占めるようになり、安定化ジルコニア、殊に完全安定化ジルコニアとなり易い。安定化剤の混合量は0.1〜10mol%、1〜10mol%、殊に6〜10mol%を例示できる。希土類元素としてはCeが好ましい。ジルコニアにCeを混合したとき、より良好な安定化ジルコニアが得られる。
【0007】
好ましくは、セッター本体の載置面には段差が形成されていると共に、段差には脚部が載せられており、脚部を介してセッター本体を複数段に積層する方式を採用することができる。
【0008】
【実施例】
(第1実施例)本発明に係る第1実施例を図1,図2を参照して具体的に説明する。本実施例に係る焼成用セッターは、未焼成または半焼成のセラミックス成形体で形成された対象物100(例えばPZT成形体)が載置される載置面10をもつ。焼成用セッターは、対象物100を載置する載置面10をもつ緻密な焼結セラミックスで形成されたセッター本体1と、セッター本体1の載置面10である上面10aに設けられた溝状のガス逃がし路2とを有する。ガス逃がし路2の深さh1(図1参照)は例えば0.1〜2mmとすることができ,溝巾D1は例えば1〜5mm)とすることができる。セッター本体1は非多孔質体であり、緻密構造であるため、高い強度をもち、薄肉化されており、例えば、安定化剤(例えばY2O3)を1〜10mol%含む安定化ジルコニア等のセラミックスを基材として形成されている。この場合、立方晶系のジルコニアが90%以上を占める。セッター本体1は、載置面10である互いに平行な上面10aおよび下面10bとをもつ。セッター本体1の厚みt(図1参照)は例えば厚み1.5〜3mmにできるが、これに限定されるものではない。
【0009】
セッター本体1の載置面10である上面10a及び下面10bの周縁領域には、それぞれ凹状の段差15(凹状の係合部)が背向するように複数個形成されている。段差15は、平坦な底面15mと、内側面15nとで形成されている。セッター本体1のうち凹状の段差15が形成されている部分は、それだけ薄肉とされている。段差15には、支柱として機能できる脚部17が着脱可能に載せられており、脚部17を介してセッター本体1を複数段に上下方向に積層する方式が採用されている。なお脚部17の端面17mは平坦面とされている。
【0010】
本実施例では、図1に示すように、セッター本体1の載置面10である上面10a及び下面10bの双方に凹状の段差15が背向するように形成されているため、複数のセッター本体1を上下方向に積層したとき、凹状の段差15が形成されていない場合に比較して、凹状の段差15の深さに相当する量、セッター本体1の積層構造体の高さHK寸法を低くするのに貢献できる。故に、焼成用の加熱炉の炉室の高さが制約されているときであっても、多数のセッター本体1を上下方向に積層することができる。更に、セッター本体1を上下方向に複数段に積層するとき、脚部17とセッター本体1との係合性を凹状の段差15により高めることができ、セッター本体1を上下方向に複数段に積層するのに有利となる。
【0011】
図1に示すように、段差15の幅DA(図1参照)は、脚部17の幅DBよりも多少大きく設定されており、脚部17の周りに隙間17xが設けられている。即ち、段差15の底面15mの投影面積は、隙間17xを形成するように、脚部17の投影面積よりも大きくされている。このため、隙間17xの隙間幅を増減する方向に、セッター本体1の載置面10に対して載置面10の面方向にそって脚部17の位置調整を行うことができる。本実施例では、セッター本体1の載置面10である上面10a及び下面10bの双方に、段差15が背向するように形成されているため、セッター本体1の表裏を反転させて使用することもできる。このようにセッター本体1の表裏を反転させて使用すれば、使用に伴うセッター本体1の微視的な撓みの矯正にも貢献できる。
【0012】
使用の際には、対象物100を上面10aに載せたセッター本体1を、脚部17を介して複数段に上下方向に積層した状態で、焼成用の加熱炉に装入する。これによりセッター本体1と共に対象物100を高温に加熱して対象物100を焼成する。焼成時に対象物100から発生したバインダガスをガス逃がし路2から外方に逃がすことができ、対象物100の焼成を良好に行うことができる。ガス逃がし路2はセッター本体1の上面10a及び下面10bの双方に形成されているため、表裏反転して使用することができる。
【0013】
図2に示すように、ガス逃がし路2は、多数の縦路2a及び多数の横路2bからなる碁盤の目状に形成されている。上面10a及び下面10bのうち、ガス逃がし路2以外の載置面10には、高さh2(図2参照)が100μm以下、特に50μm以下の微小凹凸3が連続して形成されている。微小凹凸3からのガス抜けも期待することができる。微小凹凸3はショット粒、グリッド粒、砂粒等の粒子を上面10a及び下面10bにブラスト処理して形成する方法を例示できる。
【0014】
ガス逃がし路2は、図3(A)に示すように、セッター本体1が本焼成される前の状態において、つまりセッター本体1が未焼成または半焼成の状態のときに、ピン状の型押圧具105で押圧したり、あるいは、ドリル等の切削工具110の回転で浅く切削したりすることにより形成できる。また図4(A)(B)に示すように、焼成用セッターの焼成前の圧粉体1rを成形するとき、圧粉体1rの表面に焼失可能物質1w(例えば紙シート、わら等の有機系物質)を配置する。即ち、セラミックス粉末を主要成分とすると共に焼失可能物質1wを含む板状の圧粉体1rを形成する。そして、圧粉体1rの焼成時に焼失可能物質1wを焼失させて、ガス逃がし路2を形成することができる。焼失可能物質1wが紙等のようにシート状であれば、浅いガス逃がし路2をセッター本体1に容易に形成することができる。
【0015】
なお、仮にセッター本体が多孔質であるときには、バインダガスがセッター本体に浸透し、セッター本体の劣化、変形が生じ、最終的には破損(破壊)に繋がる不具合が生じる。この点本実施例では、セッター本体1は緻密なセラミックス焼成体であるため、バインダガスがセッター本体1に浸透することが抑制され、上記したセッター本体1の劣化、変形等の不具合が抑えられる。なお本実施例では、セッター本体1を構成する緻密なセラミックス焼成体の気孔率は10%以下が好ましく、更に5%以下、3%以下、1%以下がより好ましく、限りなく0%に近いことが更に好ましい。
【0016】
(他の実施例)
以下に示す他の実施例は基本的には第1実施例と同様の構成であり、同様の作用効果を奏する。以下、相違する部分を中心として説明する。図5に示す実施例では、ガス逃がし路2Cの平面形状は放射状されており、放射方向に形成された通路路210で形成されている。図6に示す実施例では、ガス逃がし路2Dの平面形状は、複数の同心円状の通路220と、通路220に連通する放射状の通路230で形成されている。また図示はしないものの、ガス逃がし路の平面形状は渦巻き状とすることもできる。
【0017】
図7に示す実施例では、複数の焼成用セッターのセッター本体1で対象物100を挟んだ状態で、高温の焼成温度に加熱して対象物100を焼成する。複数のセッター本体1で対象物100を挟んでいるにもかかわらず、焼成時に対象物100から発生したバインダガスを、上側のセッター本体1のガス逃がし路2Eと下側のセッター本体1のガス逃がし路2Eの双方から外方に逃がすことができ、対象物100の焼成を良好に行うことができる。
【0018】
図7に示すように、ガス逃がし路2Eはセッター本体1の上面10a及び下面10bの双方に形成されているため、セッター本体1を表裏反転して使用することができる。図7に示す実施例では、ガス逃がし路2Eは、セッター本体1の厚み方向に貫通する貫通孔状の通路300と、通路300の貫通方向の一端または両端に形成された浅溝状の通路310(深さh3:例えば300μm以下にできるが、これに限定されるものではない)とで形成されている。対象物100からのバインダガスのガス抜け性を向上させるべく、通路310の溝幅Lは、貫通孔状の通路300の内径よりも大きくされている。
【0019】
図8に示す実施例では、ガス逃がし路2Fはセッター本体1の厚み方向に貫通する貫通孔状(内径DC:例えば0.1〜5mm程度)とされており、間隔を隔ててセッター本体1に分散して多数個形成されている。ガス逃がし路2Fは、セッター本体1が本焼成される前の状態において、つまりセッター本体1が未焼成または半焼成の状態のときに、ドリル等の切削工具で切削したり、またはピン状の型押圧具で押圧したりすることにより形成できる。また焼成用セッターの焼成前の圧粉体を成形するときに、圧粉体の厚み方向に延びる焼失可能物質(紙質、わら等の有機系物質)を配置し、圧粉体の焼成時に焼失可能物質を焼失させることにより、貫通孔状のガス逃がし路2Fを形成することができる。
【0020】
図8に示す実施例においても、セッター本体1の載置面10である上面10a及び下面10bの周縁領域には、それぞれ凹状の段差15が背向するように形成されている。段差15には脚部17が着脱可能に載せられており、脚部17を介してセッター本体1を複数段に上下方向に積層する方式が採用されている。
【0021】
図9に示す実施例では、ガス逃がし路2Hは、多数の縦路2a及び多数の横路2bからなる碁盤の目状として形成されている。上面10a及び下面10bである載置面10のうち、ガス逃がし路2H以外の部分には、高さh2(図9参照)が100μm以下、50μm以下、20μm以下の微小凹凸3が形成されている。微小凹凸3からのガス抜けも期待することができる。更に図9に示すように、セッター本体1の厚み方向に貫通する貫通孔状のガス逃がし路2Kが間隔を隔てて分散して多数個形成されている。
【0022】
本発明は上記し且つ図面に示した実施例のみに限定されるものではなく、要旨を逸脱しない範囲内で適宜変更して実施できるものである。上記した記載から次の技術的思想も把握できる。
(付記項1)未焼成または半焼成のセラミックス成形体で形成された対象物が載置される載置面をもつセラミックス焼成体を基材とする焼成用セッターであって、載置面をもつセッター本体をもち、セッター本体の載置面には凹状の段差が形成されていると共に、段差には、支柱として機能する脚部が載せられており、脚部を介してセッター本体を複数段に上下方向に積層することを特徴とする焼成用セッター。この場合、脚部を介してセッター本体を複数段に上下方向に積層することができ、加熱炉の炉室の高さが制約されているときであっても、多数の対象物を焼成できる。
(付記項2)付記項1において、セッター本体の載置面に形成され対象物の焼成時に発生したバインダガスを逃がす溝状または貫通孔状をなすガス逃がし路がセッター本体に設けられていることを特徴とする焼成用セッター。対象物の焼成時に発生したバインダガスをガス逃がし路を経て逃がすことができる。
(付記項3)付記項1または2において、凹状の段差は、セッター本体の表裏に形成されていることを特徴とする焼成用セッター。
【図面の簡単な説明】
【図1】焼成用セッターを複数個上下方向に積層する状態を分解して示す断面図である。
【図2】焼成用セッターの要部の平面図である。
【図3】焼成用セッターのガス抜き路の製造過程の一例を示す構成図である。
【図4】焼成用セッターのガス抜き路の製造過程の一例を示す構成図である。
【図5】他の実施例に係るガス抜き路の要部の平面図である。
【図6】他の実施例に係るガス抜き路の要部の平面図である。
【図7】複数の焼成用セッターで対象物を挟んでいる状態の断面図である。
【図8】他の実施例に係る焼成用セッターを複数個上下方向に積層した状態を分解して示す断面図である。
【図9】他の実施例に係る焼成用セッターの要部の平面図である。
【符号の説明】
図中、1はセッター本体、2はガス逃がし路、100は対象物、15は段差、17は脚部を示す。
Claims (6)
- 未焼成または半焼成のセラミックス成形体で形成された対象物が載置される載置面をもつ緻密なセラミックス焼成体を基材とする焼成用セッターであって、載置面をもつセッター本体と、セッター本体の載置面に形成され対象物の焼成時に発生したバインダガスを逃がす溝状または貫通孔状をなすガス逃がし路と具備することを特徴とする焼成用セッター。
- 請求項1において、ガス逃がし路はセッター本体の載置面に碁盤の目状、十文字状、複数同心円状、渦巻き状、放射状から選ばれた一つのまたは2以上の組み合せの形態で形成されていることを特徴とする焼成用セッター。
- 請求項1または請求項2において、セッター本体の載置面には、高さが100μm以下の微小凹凸が形成されていることを特徴とする焼成用セッター。
- 請求項1〜請求項3のうちいずれか一項において、セッター本体の載置面には段差が形成されていると共に、段差には脚部が載せられており、脚部を介してセッター本体を複数段に積層することを特徴とする焼成用セッター。
- 請求項1〜請求項4のうちいずれか一項において、セッター本体はジルコニア、アルミナ、マグネシア、ムライトの少なくとも1種を基材としていることを特徴とする焼成用セッター。
- セラミックス粉末を主要成分とすると共に焼失可能物質を含む板状の圧粉体を形成し、圧粉体を焼成して焼失可能物質を焼失させて溝状または貫通孔状をなすガス逃がし路を形成することを特徴とする焼成用セッターの製造方法。
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