JP2004039999A - バリスタ及びその製造方法 - Google Patents

バリスタ及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2004039999A
JP2004039999A JP2002197960A JP2002197960A JP2004039999A JP 2004039999 A JP2004039999 A JP 2004039999A JP 2002197960 A JP2002197960 A JP 2002197960A JP 2002197960 A JP2002197960 A JP 2002197960A JP 2004039999 A JP2004039999 A JP 2004039999A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating layer
varistor
ceramic body
flexibility
exterior material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002197960A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyoshi Matsuda
松田 清
Akihito Kondo
近藤 昭仁
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Chemi Con Corp
Original Assignee
Nippon Chemi Con Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Chemi Con Corp filed Critical Nippon Chemi Con Corp
Priority to JP2002197960A priority Critical patent/JP2004039999A/ja
Publication of JP2004039999A publication Critical patent/JP2004039999A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Thermistors And Varistors (AREA)

Abstract

【課題】サージ吸収等の動作時、破壊による樹脂やハンダ等の飛散を抑制したバリスタ及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】セラミック素体(2)にリード線(8、10)を取り付けてなるバリスタであって、セラミック素体を覆う第1の被覆層(14)と、この第1の被覆層をその一部に露出部(18)を設けて覆う難燃性及び柔軟性を持つ第2の被覆層(16)とを備えたことを特徴とするバリスタ及びその製造方法である。第1及び第2の被覆層により外装構造の多層化とともに、第2の被覆層の柔軟性によりサージ吸収等の動作時、破壊による樹脂やハンダ等の飛散を抑制できる。
【選択図】    図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、バリスタ及びその製造方法に係り、特に、外装構造の不燃化ないし難燃化に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、電子機器、電気機器の筐体等には、軽量化のため、プラスチックが多用されているが、筐体等に用いられているプラスチックは可燃性を持っている。また、小型化のため、電子部品等の高密度実装が進むと、電子部品の焼損が機器自体を燃焼させる危険性がある。
【0003】
これら電子機器や電気機器に実装されるバリスタは、電子部品や機器を外来又は内来のサージより保護するために使用されている。バリスタが吸収エネルギの限界を超えるサージを吸収し、バリスタが破損して短絡状態になると、その外装材が高温化する。一般的に、バリスタは、バリスタ素子に無機フィラー成分とエポキシ樹脂成分よりなる外装が施されたものであり、この外装材には可燃性を持つエポキシ樹脂が使用されてきた。
【0004】
このバリスタの外装材の燃焼を抑制する技術として、例えば、特開2002−93602号「電子部品」が提案されており、この電子部品では、外装材から可燃性成分を減少させ、無機不燃性成分を増加させて不燃性が高められている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、外装材から樹脂成分を減少させると、外装材の強度が低下し、脆くなる傾向がある。バリスタが破壊し、短絡状態となったとき、バリスタ素子に穿孔が生じ、スパークを起こすが、外装材が機械的強度の低下によって脆いと、スパーク発生時、その衝撃により、バリスタ素子から外装材が剥離する。剥離した外装材は破片化し、スパーク発生時に高温化して溶融したセラミックや、溶融したハンダとともにバリスタの周囲にその破片が飛散する。このため、バリスタの外装材自体の燃焼性を抑制しても、高温化した飛散物がバリスタの周囲に実装されている可燃物に引火する危険性があり、その飛散物に含まれるハンダは導電性物質であるため、付着した回路にショートを生じさせる等の危険性を回避できない。
【0006】
そこで、本発明は、サージ吸収等の動作時、破壊による樹脂やハンダ等の飛散を抑制したバリスタ及びその製造方法を提供することを課題とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決した本発明のバリスタ及びその製造方法は、次の通りである。
【0008】
請求項1に係る本発明のバリスタは、セラミック素体(2)にリード線(8、10)を取り付けてなるバリスタであって、前記セラミック素体を覆う第1の被覆層(14)と、この第1の被覆層をその一部に露出部(18)を設けて覆う難燃性及び柔軟性を持つ第2の被覆層(16)とを備えたことを特徴とする。
【0009】
第1の被覆層が難燃性及び柔軟性を持つ第2の被覆層で覆われているので、バリスタが破損、ショートした際にその衝撃を第1及び第2の被覆層による多層化と、第2の被覆層が持つ柔軟性とによって緩和でき、第1の被覆層の破損をも防止できるとともに、高温物質、導電性物質の飛散を抑制することができる。しかも、第2の被覆層が難燃性であることから第1の被覆層が可燃性である場合にも、バリスタを難燃化できる。
【0010】
また、第2の被覆層は、第1の被覆層を完全に覆うのではなく、その一部に露出部を設けているので、第2の被覆層が完全な密閉空間を形成することがなく、バリスタの損傷、ショート時、第2の被覆層からなる空間内に発生ガスを閉じ込めることがない。その結果、そのガスを露出部側から放出でき、密閉空間における内圧上昇を生じさせることがないので、破裂による内容物の飛散を防止できる。
【0011】
請求項2に係る本発明のバリスタは、前記第1の被覆層が無機フィラーを主成分とする外装材で形成されていることを特徴とする。第1の被覆層に無機フィラーを主成分とする外装材を用いれば、無機フィラーは不燃成分であるから、可燃成分である樹脂の含有量を低減でき、第1の被覆層の不燃化を高めることができ、第2の被覆層の難燃化と相俟って不燃化バリスタを構成できる。
【0012】
請求項3に係る本発明のバリスタは、前記第2の被覆層が前記セラミック素体の少なくとも前記リード線の導出部を除いて形成されていることを特徴とする。即ち、リード線の導出部側に第1の被覆層の露出部を形成しているので、基盤側に向かう部分からガスや内容物が放出され、内容物の周囲への飛散を防止できる。
【0013】
請求項4に係る本発明のバリスタの製造方法は、リード線(8、10)を接続したセラミック素体(2)に無機フィラーを主成分とする液状外装材を付着させた後、該液状外装材を硬化させて前記セラミック素体に第1の被覆層(14)を形成する処理と、前記第1の被覆層上に難燃性及び柔軟性を持つ液状樹脂を付着させて硬化させ、前記第1の被覆層上に第2の被覆層(16)を形成する処理とを含むことを特徴とする。このような製造方法によれば、第1及び第2の被覆層を形成した安全性の高いバリスタを容易に製造することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】
図1及び図2は本発明の実施の形態に係るバリスタ及びその製造方法を示し、、図1はバリスタの外観形状、図2は図1に示すバリスタのリード線に沿う断面を示している。
【0015】
セラミック素体2は、酸化亜鉛を主成分とし、酸化マグネシウム、酸化ビスマス、酸化コバルト等を加えた焼結体であって、この実施の形態では円盤状に形成されている。このセラミック素体2の両面には、導電性材料の印刷及び焼成によって電極4、6が形成され、各電極4、6にはリード線8、10がハンダ12により固着されて電気的に接続されている。
【0016】
そして、セラミック素体2の外面部には、無機フィラーを主成分とする外装材からなる第1の被覆層14が設置され、この被覆層14はセラミック素体2上の電極4、6及びリード線8、10、電極4、6の近傍におけるリード線8、10の一部を覆って形成されている。
【0017】
被覆層14の外面部には、難燃性ないし不燃性を有するとともに柔軟性を有するシリコン樹脂等の合成樹脂からなる第2の被覆層16が形成されている。この実施の形態では、リード線8、10の導出部側の被覆層14の一部を露出させる露出部18を設けて形成されている。露出部18は、被覆層14の未コート部である。この場合、被覆層16を全面的に形成した場合のバリスタ本体部分の仮想直径をL、被覆層16によるオーバーコート部の幅をAとすると、オーバーコート被覆率ηA を、
ηA =(A/L)×100%            ・・・(1)
とする。この実施の形態では、被覆層16が電極4、6を全面的に覆う位置まで形成されており、この場合のオーバーコート被覆率ηA は95%である。露出部18を幅方向にB、C、D、E、Fに変更した場合において、オーバーコート被覆率は、例えば、ηB {=(B/L)×100%=90%}、ηC {=(C/L)×100%=80%}、ηD {=(D/L)×100%=70%}、ηE {=(E/L)×100%=60%}、ηF {=(F/L)×100%=50%}等、任意の値を設定することができる。
【0018】
このように、セラミック素体2を覆う被覆層14上に電極4、6をほぼカバーする位置まで被覆層16を形成したので、被覆層14、16の多層化された外装構造が構成され、被覆層16が持つ柔軟性と相俟ってサージ吸収によるスパーク時の被覆層14やハンダ12の破片の飛散を防止できる。また、被覆層16は、難燃性ないし不燃性を有することから、バリスタの不燃化に寄与している。しかも、露出部18を設けているので、被覆層16の密閉空間の形成がなく、その内圧上昇による内容物の飛散をも防止でき、動作時の安全性を高めることができる。
【0019】
次に、このバリスタの製造方法について説明すると、このバリスタは、セラミック素体2の形成処理、リード線8、10の接続処理、被覆層14の形成処理及び被覆層16の形成処理から製造される。
【0020】
(1) セラミック素体2の形成処理
セラミック素体2は、酸化亜鉛等を主成分とし、酸化マグネシウム、酸化ビスマス、酸化コバルト等を加えた素子材料を成形、焼結することにより焼結体として形成される。この焼結体は任意の形状に形成でき、この実施形態では、円盤状である。このセラミック素体2の表裏面には導電性材料の印刷及び焼成により、電極4、6が形成され、この結果、バリスタ素子が得られる。
【0021】
(2) リード線8、10の接続処理
リード線8、10には導線が使用され、セラミック素体2の表面に形成された各電極4、6に各リード線8、10をハンダ12によって固着し、電気的に接続する。
【0022】
(3) 被覆層14の形成処理
被覆層14には、無機フィラーを主成分とする液状外装材が用いられ、この液状外装材中にセラミック素体2を浸漬し、このディップ処理により液状外装材層を形成し、常温乾燥の後、セラミック素体2の外面部に被覆層14が形成される。この場合、セラミック素体2、電極4、6及び電極4、6上のリード線8、10を液状外装材中に漬け、バリスタ本体部分の近傍のリード線8、10にも液状外装材で被覆する。
【0023】
また、この被覆層14の形成処理は、セラミック素体2の液状外装材中への浸漬と、乾燥とを一回又は数回交互に行い、また、その浸漬時間、乾燥温度及び乾燥時間は任意に設定される。
【0024】
(4) 樹脂層16の形成処理
この被覆層14上に被覆層16を形成する。被覆層16には、難燃性ないし不燃性を有するとともに柔軟性を有するシリコン樹脂等の液状合成樹脂が使用される。この場合、被覆層14が形成されたバリスタ本体部分を、その一部に露出部18を残して液状合成樹脂中に漬け込み、ディップ処理によって合成樹脂を付着させ、常温乾燥の後、難燃性ないし不燃性を有するとともに柔軟性を有する被覆層16が形成される。
【0025】
このような製造方法によれば、被覆層14の上に露出部18を設けて所望の範囲で難燃性ないし不燃性を有するとともに柔軟性を有するシリコン樹脂等の被覆層16を容易に形成でき、信頼性の高いバリスタを製造することができる。この実施の形態では、露出部18がリード線8、10の導出部分側に形成されている。
【0026】
【実施例】
本発明のバリスタ及びその製造方法の一実施例を説明する。
【0027】
セラミック素体2には、酸化亜鉛を主成分とし、酸化マグネシウム、酸化ビスマス、酸化コバルト等を加えたφ10mmの円盤状焼結体を使用し、このセラミック素体2の両面にφ8mmの電極4、6を印刷し、焼成した。この電極4、6にφ8mmのリード線8、10をハンダ付けした。
【0028】
そして、無機フィラーを主成分とする液状外装材中に電極4、6及びリード線8、10を備えたセラミック素体2を漬け込み、外装コーティング処理によって被覆層14を形成する。その手順としては、例えば、第1のディップ処理(例えば、2秒間)→常温乾燥(例えば、5秒間)→第2のディップ処理(例えば、2秒間)→常温乾燥(例えば、20秒間)→第3のディップ(例えば、2秒間)→常温乾燥(例えば、12時間)→所定温度(例えば、150℃)下で硬化処理(例えば、1時間)を行う。この結果、被覆層14が形成される。
【0029】
このような処理によって被覆層14が形成されたバリスタ本体部分をその一部に露出部18を残して液状アルコキシラン中に所定時間(例えば、20秒間)だけ漬け、このディップ処理の後、常温乾燥(例えば、12時間の乾燥)を行い、所定温度(例えば、150℃)下で硬化処理(例えば、10時間の硬化処理)を行うことにより、露出部18とともに被覆層16が形成される。
【0030】
この実施例に係るバリスタの飛散防止効果を確認するため、従来の不燃性バリスタとともに過電圧を印加し、破壊時の飛散状態の試験結果を図3に示している。この場合、試験条件は、課電率=印加電圧(ACVrms)÷バリスタ電圧(V/1mA)=0.85であり、試料にはφ10、定格電圧が270Vのバリスタを使用し、試験回数n(回)は本発明品及び従来品に対して共にn=20とした。図3において、例えば、A点:ηA {=(A/L)×100%=95%}、B点:ηB {=(B/L)×100%=90%}、C点:ηC {=(C/L)×100%=80%}、D点:ηD {=(D/L)×100%=70%}、E点:ηE {=(E/L)×100%=60%}、F点:ηF {=(F/L)×100%=50%}である。
【0031】
このバリスタでは、図3に示すグラフから明らかなように、被覆層16が被覆層14の上部から2/3以上で、内容物の飛散防止効果が得られており、被覆層16で完全被覆を施した場合には再び内容物の飛散が発生している。これは、少なくとも焼結体(セラミック素体2)に形成された電極4、6を被覆層16で覆うことが必要であり、しかも、電極4、6を覆う位置まで柔軟性を持つ被覆層16が存在しないと、内容物が飛散し、また、被覆層16で完全被覆を施すと、内部の発生ガスの逃げ場が閉ざされ、その結果、被覆層16が形成する空間の内圧が上昇し、内容物を飛散させることが確認されている。
【0032】
なお、実施例では、被覆層16にシリコン系樹脂を使用しているが、難燃性を持ち、柔軟性を有する材料であれば、何れのものでもよく、シリコン系樹脂に限定されるものではない。
【0033】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、次の効果が得られる。
a 難燃性且つ柔軟性を有する第2の被覆層を以て一部に露出部を設けてオーバーコートしたので、バリスタが破損、ショートしたとき、この衝撃による高温物質及び導電性物質の飛散を抑制でき、バリスタ周辺部への類焼を防止でき、安全性の高いバリスタを提供できる。
b 第1の被覆層上に形成する第2の被覆層には一部に第1の被覆層を露出させる露出部を設けたので、破壊ショート時の高温ガスをその露出部より放出させることができ、第2の被覆層の破壊を防止でき、また、高温ガスとともに高温物質及び導電性物質が噴出したとしても、周辺部への飛散を確実に防止でき、安全性の高いバリスタを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のバリスタ及びその製造方法を示す実施の形態であって、バリスタを示す平面図である。
【図2】図1に示すバリスタをリード線に沿って切り欠いて示した断面図である。
【図3】本発明の実施例に係るバリスタの試験結果を示すグラフである。
【符号の説明】
2 セラミック素体
4、6 電極
8、10 リード線
14 第1の被覆層
16 第2の被覆層
18 露出部

Claims (4)

  1. セラミック素体にリード線を取り付けてなるバリスタであって、
    前記セラミック素体を覆う第1の被覆層と、
    この第1の被覆層をその一部に露出部を設けて覆う難燃性及び柔軟性を持つ第2の被覆層と、
    を備えたことを特徴とするバリスタ。
  2. 前記第1の被覆層が、無機フィラーを主成分とする外装材で形成されていることを特徴とする請求項1記載のバリスタ。
  3. 前記第2の被覆層が、前記セラミック素体の少なくとも前記リード線の導出部を除いて形成されていることを特徴とする請求項1記載のバリスタ。
  4. リード線を接続したセラミック素体に無機フィラーを主成分とする液状外装材を付着させた後、該液状外装材を硬化させて前記セラミック素体に第1の被覆層を形成する処理と、
    前記第1の被覆層上に難燃性及び柔軟性を持つ液状樹脂を付着させて硬化させ、前記第1の被覆層上に第2の被覆層を形成する処理と、
    を含むことを特徴とするバリスタの製造方法。
JP2002197960A 2002-07-05 2002-07-05 バリスタ及びその製造方法 Pending JP2004039999A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002197960A JP2004039999A (ja) 2002-07-05 2002-07-05 バリスタ及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002197960A JP2004039999A (ja) 2002-07-05 2002-07-05 バリスタ及びその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004039999A true JP2004039999A (ja) 2004-02-05

Family

ID=31705557

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002197960A Pending JP2004039999A (ja) 2002-07-05 2002-07-05 バリスタ及びその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004039999A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005243746A (ja) * 2004-02-24 2005-09-08 Nippon Chemicon Corp バリスタ
WO2010092833A1 (ja) * 2009-02-16 2010-08-19 日本ケミコン株式会社 電子部品の製造方法
JP2011129781A (ja) * 2009-12-18 2011-06-30 Tdk Corp ラジアルリード電子部品

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005243746A (ja) * 2004-02-24 2005-09-08 Nippon Chemicon Corp バリスタ
WO2010092833A1 (ja) * 2009-02-16 2010-08-19 日本ケミコン株式会社 電子部品の製造方法
US20110274831A1 (en) * 2009-02-16 2011-11-10 Nippon Chemi-Con Corporation Manufacturing method of electronic part
CN102318016A (zh) * 2009-02-16 2012-01-11 日本贵弥功株式会社 电子部件的制造方法
KR101190900B1 (ko) 2009-02-16 2012-10-12 닛뽄 케미콘 가부시끼가이샤 전자 부품의 제조 방법
JP2011129781A (ja) * 2009-12-18 2011-06-30 Tdk Corp ラジアルリード電子部品

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7940155B2 (en) Varistor and electronic component module using same
KR101190900B1 (ko) 전자 부품의 제조 방법
KR100216418B1 (ko) 보호소자
JP6130393B2 (ja) 電気的構成素子及びその製造方法
JP2002203707A (ja) ガラスコーティング膜を有するセラミックチップ素子及びその製造方法
JP2004519085A (ja) ヒューズエレメント
JP6561839B2 (ja) 電子部品およびその製造方法
JP2004039999A (ja) バリスタ及びその製造方法
JP2005243746A (ja) バリスタ
JP5157349B2 (ja) 電子部品
KR20090030127A (ko) 칩형 퓨즈 저항기
JP2004095609A (ja) 外装被覆形バリスタ
JP2011119568A (ja) 過電圧保護部品およびその製造方法
JP6751343B2 (ja) バリスタ装置の製造方法およびバリスタ装置
JP2004281934A (ja) 電子部品およびその製造方法
JP2003249403A (ja) チップ抵抗器
WO2011122182A1 (ja) アンチヒューズモジュール
JP4513938B2 (ja) 電子部品
KR200405295Y1 (ko) 칩형 써지 어레스터
KR19980702815A (ko) 고장 전류 퓨즈 저항기 및 방법
WO2020107190A1 (zh) 抗工频灭弧封装压敏电阻器及封装方法
JP2001284103A (ja) 外装被覆型電子部品
KR101696412B1 (ko) 공극을 구비하는 칩 소자 및 그 제조 방법
JP3549462B2 (ja) 回路保護素子
JPH04354102A (ja) 電圧非直線抵抗体

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20050425

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20071130

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20071218

A521 Written amendment

Effective date: 20080215

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A02 Decision of refusal

Effective date: 20080902

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

A521 Written amendment

Effective date: 20081028

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Effective date: 20081225

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

A912 Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Effective date: 20090327

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

A521 Written amendment

Effective date: 20110930

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523