JP2004031928A - 清浄作業台 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】清浄作業台120は、天井板128の上にルーバユニット24を介してFFU132が設置してあって、吹出し口131から清浄作業領域152に清浄空気を吹き出すようになっている。作業面138と側壁142、144、後壁146との境界部には、排気口154、156、158が設けてあって、清浄空気の一部をステージ板136の下方に流下させる。吹出し口131の両側部には、下端が側壁142、144に接触させた一対の整流板160、162が配設してあって、吹出し口131の側方の部分を清浄作業領域152から区画している。清浄作業領域152には、循環路164の吸入部166が開口し、清浄空気の一部をFFU132に戻すようにしてある。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、清浄作業台に係り、特に局所的に高い清浄度の作業空間を形成するための清浄作業台に関する。
【0002】
【従来の技術】
圧電デバイスや半導体デバイスなどの電子部品は、電子機器の高性能化、小型化に伴って小型化、微細化が著しく、製造工程における空気中の塵埃による汚染によって性能や歩留まりが大きく左右される。このため、圧電デバイスや半導体デバイスなどの製造工場においては、高い清浄度が要求され、一般にクリーンルームを設けてクリーンルーム内で製造が行なわれる。
【0003】
しかし、広い作業部屋全体を高清浄度のクリーンルームにすると多くの設備費を必要とし、ランニングコストも多額となる。また、例えば、試作品や研究開発品の製造、不良品のちょっとした手直しなどをする場合、広い作業エリアを必要としないことが多い。そこで、周囲の清浄度はそれほど高くなくとも、局所的に高い清浄度の作業領域を確保できれば経済的で目的を充分に達成することができ、また製造工場の設備費を削減することができる。そこで、従来からクリーンベンチと称する作業台が開発されている。
【0004】
このクリーンベンチは、一般に、正方形または矩形状の作業台の三辺に壁を設けるとともに、他の一辺を作業用の開口部とし、この作業用開口部の対向面から作業用開口部に向けて高清浄度の空気を吹き付けるようになっている。また、他のクリーンベンチとして、清浄な作業領域の床面を多孔板によって形成し、上方の天井部に設けた吹き出し口から高清浄度の空気を多孔床面に向けて吹き出し、その清浄空気を多孔床面から外部に排出するように構成したものもある。そして、特許文献1には、作業領域の床面を多孔板によって構成するとともに、天井面から吹き出した清浄空気の一部を前面の作業用開口部から外部に吹き出し、多孔の床面の下方に流下した清浄空気をクリーンユニットに排出するようにしている。
【特許文献1】特開平2−114510号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、従来のいずれの垂直気流型のクリーンベンチは、一般に作業領域の平面方向における大きさが、清浄空気の吹出し口とほぼ同じ程度の大きさとなっている。そして、HEPAフィルタなどの浄化装置の利用効率、消費エネルギーの節減などを目的として、作業領域の水平方向の大きさを清浄空気の吹出し口より大きくすると、吹出し口の横方向の隅部などに滞留域を生じ、作業に伴って発生した塵埃などが作業領域にとどまり、清浄度を低下させてワークを汚染する。
【0006】
すなわち、従来の垂直気流型のクリーンベンチにおいて、例えば図14に示したように、クリーンベンチ100の作業領域102の幅Bを、清浄装置であるHEPAフィルタ104の清浄空気の吹出し口106より2倍程度以上大きくしたとする。この場合、図14に示されているように、吹出し口106から吹き出された清浄空気は、清浄作業領域102の上部両側隅部に直接届かないため、この部分に循環流が形成されて滞留域108を生ずる。また、吹出し口106の上部に設置した送風機(図示せず)は、回転中心が回転軸となっているために吹出し風速がその周囲に比較して小さい。このため、作業領域102は、中央部の気流が弱く、滞留域110が形成される。このような現象は、作業領域102の水平方向における広さが吹出し口106の大きさより20%程度以上大きくなると生ずる。
【0007】
そして、作業用開口部の対向面側から作業用開口部に向けて清浄空気を吹き出す従来のクリーンベンチは、作業台の上に大きな機器などを配置すると、清浄空気の機器の下流側、すなわちワークに対して作業を行なう作業領域に乱流が生じて渦が発生して滞留域が生じ、作業に伴ってワークや機器などから生じた微粒子などの塵埃が作業領域に滞留し、それらがワークに付着してワークを汚染する。
【0008】
また、天井部から多孔床面に向けて清浄空気を吹き下ろす従来のクリーンベンチは、下方に向かう清浄空気の流れによるエジェクタ効果によって、作業用開口部から外部の空気が清浄な作業領域内に混入し、清浄作業領域の清浄度を低下させる。そして、特許文献1に記載されているような、天井部から床面に向けて清浄空気を吹き出す従来のクリーンベンチは、床面がいわゆるパンチングメタルなどの多孔板によって形成してあるため、圧電デバイスのような小さな製品、小さな部品や工具、脚のある機器などを直接作業台の上に配置することができず、一般に床面から離れた空中において作業をしなければならず、作業性が悪い。しかも、多孔床面に大きな機器や部品トレーなどを配置すると、排気用の孔が塞がれて清浄作業領域における清浄空気の流れが乱れ、滞留域などが生じて清浄度が低下する。さらに、清浄作業領域の床面を作業が可能なように孔のあいていない部材によって形成すると、壁面の近傍に清浄空気の滞留域が発生し、作業によって生じた微粒子などの塵埃が滞留域に蓄積され、これらがワークに付着してワークを汚染する。
【0009】
本発明は、前記従来技術の欠点を解消するためになされたもので、清浄空気の吹出し口より大きい清浄な作業領域を得られるようにすることを目的としている。
また、本発明は、消費エネルギーを節減できるようにすることを目的としている。
さらに、本発明は、清浄作業領域の床面における作業が可能であって、作業に伴って生じた塵埃などが清浄な作業領域に滞留するのを防止することを目的としている。
また、本発明は、作業開口部から外部の空気が清浄作業領域に侵入するのを防止することを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る清浄作業台は、作業面を形成するステージと、前記作業面の周縁部に設けられて一部に作業開口部を有し、前記作業面の上部に清浄作業領域を形成する壁部と、前記ステージの上方に形成された天井部に設けた清浄空気の吹出し口と、前記吹出し口の上に設けられてそれぞれが独立して傾き角が可変な複数の羽根板を備え、前記清浄空気の吹出し方向を制御するルーバユニットと、前記吹出し口の両側部から下方に向けて漸次拡開させて設けた整流板と、前記作業面と前記壁部との境界部に設けられ、前記吹出し口から吹き出された前記清浄空気の一部を前記清浄作業領域の外部に導く排気口と、を有することを特徴としている。
【0011】
一般にクリーンベンチなどの清浄作業台内における作業、例えば圧電デバイスや半導体デバイスの組立て、手直しなどの作業は、ほとんどが作業領域の中央部付近であって、作業面の近傍において行なわれる。このため、清浄作業台の天井面に近い上部は、不要な領域となることが多い。すなわち、図14に示した滞留域108を生ずる部分は、一般にデッドスペースであって、特に必要としない部分といってよい。そこで、本発明は、ルーバーユニットの羽根板の傾き角を調整して清浄空気の吹出し方向を制御するとともに、清浄空気の吹出し口の両側から下方に向けて漸次拡開するように整流板を配置した。これにより、本発明は、吹き出した清浄空気が直接届かない清浄作業領域の両側上部を清浄作業領域から区画し、清浄作業領域内における清浄空気の循環流の形成が阻止され、滞留域が生ずるのを防ぐことができる。また、本発明は、作業面と壁部との境界部に排気口を形成したことにより、壁部の近傍における空気の滞留域をなくすことができる。しかも、壁面に沿った清浄空気が排気口を介して清浄作業領域から外部に排出されるため、壁面に沿って流下した清浄空気が作業面にぶつかって清浄作業領域の中央部に流れ込むことがなく、清浄作業領域の中央部に気流が生じて滞留域となるのを防止することができる。このため、ワークに対する処理や加工などの作業によって清浄作業領域内に生じた微粒子などの塵埃を、確実に清浄作業領域から排出することができ、清浄度が向上して清浄作業領域内のワークを汚染することがない。しかも、清浄作業領域の床面となるステージを、多孔板などの孔を有する部材によって形成する必要がなく、小さな製品や部品、工具などを配置することができ、空中で作業をする必要がないために作業性が向上する。
【0012】
ルーバユニットは、それぞれが独立して傾き角が可変な複数の第1羽根板を有する第1ルーバ部と、第1ルーバ部の第1羽根板と交差して配置され、それぞれが独立して傾き角が可変な複数の第2羽根板を有する第2ルーバ部とを有するように形成することが望ましい。これにより、清浄作業領域に吹き出された清浄空気を、二次元的に任意の方向に分散させて整流することができ、作業面の周縁部に沿って設けた排気口と作業開口部とから円滑に清浄空気を外部に排出でき、滞留域の発生を防止することができるとともに、作業開口部から外部の汚染空気が清浄作業領域内に巻き込まれて侵入するのを防ぐことができる。
【0013】
清浄作業領域には、清浄空気を清浄作業領域外に排出し、清浄作業領域の中央部に気流を生じさせる排出口を設けることができる。前記したように、清浄作業領域の中央部は、気流の速度が小さいので、機器の配置などによって滞留域を生じやすい。そこで、清浄作業領域に排出口を設けて清浄空気を外部に強制的に排出し、清浄作業領域の中央部に積極的に気流を発生させることにより、滞留域の発生を確実に防止することができる。
【0014】
そして、排出口は、吹出し口の上部に配設した送風機に清浄作業領域内の清浄空気を戻す循環路の吸入部を形成するようにしてよい。このように清浄空気の一部を循環させることにより、清浄作業領域内の清浄度をより高めることができるとともに、吹出し口の上部に配置したファン・フィルタ・ユニット(FFU)などの清浄装置のフィルタの負荷を低減することができ、フィルタの寿命(交換間隔)を大幅に伸ばすことができる。また、循環路は、複数設けてもよい。この場合、少なくとも一部の循環路は、可撓性の部材によって形成するとよい。このように、循環路を可撓性の部材によって形成することにより、清浄作業領域内に機器などを配置したときに、循環路の吸入部(排出口)を適宜の位置に設定することにより、清浄作業領域内に滞留域が生ずるのを確実に防ぐことができる。
【0015】
吹出し口からの清浄空気の一定時間あたりの吹出し量をQ、前記作業開口部から一定時間あたりに外部に吹き出す前記清浄空気を量をq1としたときに、
【数2】
とすることが望ましい。作業開口部から外部に吹き出す清浄空気の量q1が吹出し口から吹き出す清浄空気の量Qの半分より少なくなると、外部の気流の影響、物や手の出し入れなどによって、汚れた外部の空気を清浄作業領域内に巻き込み、清浄度が低下するおそれがある。また、q1が0.8Qより大きいと、清浄作業領域内における気流の循環が充分に行なわれず、清浄作業領域および作業台の表面(作業面)に滞留域が発生し、作業に伴って発生した塵埃(パーティクル)を効率よく外部に排出できないおそれがある。
【0016】
清浄作業領域の水平方向の広さが吹出し口の大きさの1.2倍以下である場合、整流板を省くことができる。清浄作業領域が狭い場合、吹出し口に設けたルーバユニットの羽根板による清浄空気の吹出し方向の制御と、作業面と壁部との境界部に設けた排気口からの清浄空気の排出により、整流板がなくとも清浄作業領域内に滞留域が発生するのを防止することができる。また、壁部と天井部と整流板とは、帯電防止加工をした部材によって形成するとよい。これにより、壁部や天井部、整流板が乾燥した清浄空気の流れに接触しても帯電することがなく、清浄作業領域内に発生した塵埃などが壁部や天井部、整流板に付着するのを防止することができ、壁部や天井部、整流板に付着した塵埃などが飛散してワークに付着するのを防止することができる。もちろん、ステージを樹脂板などによって形成した場合、ステージも帯電防止加工をした部材によって形成する。また、ステージは、上下方向位置を可変に形成できる。これにより、作業者の身長などに応じてステージの位置を作業のしやすい高さに調節することが可能で、作業能率を向上することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
本発明に係る清浄作業台の好ましい実施の形態を、添付図面に従って詳細に説明する。
図1は本発明の第1実施の形態に係る清浄作業台の斜視図であり、図2は要部の中央従断面図である。これらの図において、清浄作業台120は、図1の手前側が前面側となっていて、この前面側の前に作業者122が位置して作業するようになっている。清浄作業台120は、本体フレーム124が4本の支柱126(126a〜126d)によって直方体状に形成してある。そして、清浄作業台120は、本体フレーム124の上端に天井部を構成している天井板128が固定してある。天井板128は、中央部がくり抜かれていて、清浄空気140の吹出し口131となっている。そして、天井板128の上面には、吹出し口131に対応して詳細を後述するルーバユニット24が取り付けてある。また、清浄作業台120は、ルーバユニット24の上に空気を浄化する浄化装置であるFFU(ファン・フィルタ・ユニット)132が設置してある。このFFU132は、図2に示してあるように、送風機134と、送風機134の吸引側に配置した前置フィルタと、送風機134の吹出し側に設けたHEPAフィルタなどの高性能フィルタ(いずれも図示せず)とを備えていて、送風機134の吐出した空気がHEPAフィルタに供給され、清浄空気140として吹出し口131から下方に向けて吹き出される。
【0018】
本体フレーム124には、ルーバユニット24の下方にステージ板(ステージ)136が配設してある。ステージ板136は、例えばアルミニウムなどの帯電しない金属から形成してあって、上面が作業面138となっている。また、ステージ板136は、本体フレーム124の高さ方向中間部に位置し、上下方向移動可能に本体フレーム124に取り付けてある。
【0019】
本体フレーム124を構成している4本の支柱126が形成する方形の4辺には、壁部が設けてある。すなわち、清浄作業台120は、両側部に壁部となる側壁142、144が設けてあり、背面に壁部である後壁146が設けてあり、前面に壁部である前壁148が設けてある。これらの側壁142、144、後壁146、前壁148は、各支柱126の外側面に取り付けた樹脂板によって形成してある。また、側壁142、144、後壁146は、上端が天井板128に密接していて、下端がステージ板136の下方に位置している。そして、前壁148は、上端が天井板128に密接し、下端がステージ板136の上方に位置し、本体フレーム124の前面側に作業開口部150を形成している。これらの側壁142、144、後壁146、前壁148は、ステージ板136が形成する作業面138の上部に清浄作業領域152を形成する。
【0020】
清浄作業台120は、図1に示したように、側壁142、144、後壁146が各支柱126の外面に取り付けてあって、ステージ板136が各支柱126の内側に位置している。したがって、ステージ板136は、両側部が側壁142、144と離間しており、後端辺が後壁146と離間している。すなわち、清浄作業台120は、ステージ板136の形成する作業面138と壁部である側壁142、144、後壁146との境界部に、細長い排気口154、156、158が形成されている。これらの排気口154、156、158は、側壁142、144、後壁146の近傍に生ずる空気の滞留域をなくすためのもので、側壁142、144、後壁146の面に沿って流れる清浄空気140をステージ板136の下方に流下させる。
【0021】
清浄作業領域152の上部には、一対の整流板160、162が設けてある。
これらの整流板160、162は、「ハ」の字状に配置されていて、上端がルーバユニット24を取り付けた吹出し口131の側部に位置し、下端が漸次拡開して側壁142、144に接触している。すなわち、整流板160、162は、本体フレーム124が形成する空間の、図1の左右方向上部に清浄空気140が循環しないようにし、この部分に滞留域が発生するのを防止している。
【0022】
清浄作業台120は、清浄作業領域152内の清浄空気140をFFU132に戻す循環路164が形成してある。この循環路164は、清浄作業領域152の中央部に滞留域が生じないようにするためのもので、清浄作業領域152の左右方向中央部の背面側に設けてある。そして、循環路164は、実施形態の場合、断面が細長い矩形状をなし、下端が清浄作業領域152内の清浄空気140を取り入れる吸入部166となっている。吸入部166は、清浄作業領域152内の清浄空気140を外部に排出する排出口の役割をなし、ステージ板136に比較的近い位置、例えばステージ板136から5〜20cmの高さに位置し、上端がFFU132の外気168を取り入れる外気取入れ口170に連通している。これにより、清浄作業領域152内の清浄空気140は、吸入部166から矢印172のように循環路164に流入し、矢印174のように送風機134に吸引されて吹出し口131から清浄作業領域152に再度清浄空気140として吹き出される。
【0023】
ルーバユニット24は、図3に示したようになっていて、第1ルーバ部52と第2ルーバ部54とからなっている。第1ルーバ部52は、清浄作業台120の前後方向に沿って配置した複数の第1羽根板56を有する。また、第2ルーバ部54は、第1ルーバ部52の上側に位置しており、第1ルーバ部52の第1羽根板56と直交して配置した複数の第2羽根板58を備えている。これらの羽根板56、58は、それぞれ独立して傾き角を調節できるようになっていて、HEPAフィルタから吹き出された清浄空気140を2次元的に整流できるようにしてある。
【0024】
第1ルーバ部52は、実施形態の場合、図4(1)に示したように、中央部の第1羽根板56が上下方向と平行にしてあって、中央部から左右方向に向かうに従って第1羽根板56の傾き角が大きくしてある。これらの第1羽根板56の傾斜角度は、中央部に対して左右対称にしてある。また、第2ルーバ部54は、実施形態の場合、図4(2)に示したように、中央部の第2羽根板58が上下方向と平行にしてあって、中央部から前後方向に向かうに従って傾き角が大きくなるようにしてある。そして、実施形態の場合、前側(前壁148側)の第2羽根板58の傾き角が後方側の第2羽根板58の傾き角より大きくしてあって、清浄作業領域152内の清浄空気140を確実に作業開口部150から作業者122側に吹き出し、清浄作業領域152内に生じた塵埃などを外部に確実に排出できるようにするとともに、清浄作業領域152内に外部の汚れた空気を巻き込まないようにしている。
【0025】
なお、清浄作業台120は、実施形態の場合、天井板128、側壁142、144、後壁146、前壁148が透明な塩化ビニル樹脂板などの帯電防止加工した部材によって形成してある。また、整流板160、162も帯電防止加工した樹脂板などによって形成してある。したがって、清浄作業台120は、乾燥した清浄空気140の流れが壁部や整流板160、162に接触しても帯電せず、周囲の塵埃や清浄作業領域42内で発生した微粒子などが付着しないようになっている。
【0026】
このようになっている清浄作業台120は、ルーバユニット24を構成している第1ルーバ部52と第2ルーバ部54との羽根板56、58の傾き角を調整し、天井板128に設けた吹出し口131から吹き出された清浄空気140の流れの向きを制御する。これにより、清浄空気140は、図2に示したように、整流された気流となって清浄作業領域152を流下し、清浄作業領域152内の清浄空気140の一部が、作業開口部150を介して清浄作業領域152の外部に吹き出される。このため、清浄作業台120の外部の汚れた空気が、作業開口部150を介して清浄空気140の流れに巻き込まれて清浄作業領域152に侵入するのを確実に防止することができる。また、清浄空気140は、壁部に沿った流れが、作業面138と側壁142、144、後壁146との境界部に形成した排気口154、156、158を介してステージ板136の下方に排出される。したがって、側壁142、144、後壁146の近傍に空気の滞留域が形成されることがない。
【0027】
さらに、清浄作業台120は、清浄作業領域152の中央部の清浄空気140が、循環路164を介したFFU132の送風機134の吸引力により吸引され、強制的に排出される。これにより、送風機134の中心部に対応した清浄作業領域152の中央部に気流が生じ、滞留域の発生が防止される。また、清浄作業台120は、本体フレーム124に整流板160、162を設けて清浄空気140がフレーム本体124の上部の隅部に流れないようにし、吹出し口131の側方部を清浄作業領域152から区画したことにより、清浄作業領域152内に滞留域が発生することがない。
【0028】
このため、第1実施形態の清浄作業台120は、清浄作業領域152の水平方向の面積が清浄空気140の吹出し口131の面積より3倍程度の広さであっても、清浄作業領域152を高い清浄度に保持することができる。そして、清浄作業台120は、クリーンルーム外の汚染された環境化において使用した場合であっても、清浄作業領域152の内部をクラス0〜クラス100のレベルに保持することができる。したがって、FFU132の利用効率を向上することができ、結果的に消費エネルギーの節減を図ることができる。また、清浄作業台120は、清浄作業領域152内において例えば圧電振動片のパッケージへの実装、圧電振動片の電極部とパッケージの電極部とのワイヤボンディングなど、ワークに対する作業をすることにより生じた塵埃などを清浄作業領域42から確実に排出することができ、図示しないワークが塵埃などによって汚染されるのを防ぐことができる。また、清浄作業台120は、清浄空気140の一部を循環路164を介してFFU132に戻すようにしているため、HEPAフィルタの負荷が軽減され、HEPAフィルタの寿命(交換間隔)を大幅に伸ばすことができる。
【0029】
なお、この実施形態の場合、ルーバユニット24の羽根板の傾き角を調整することにより、作業面138における清浄空気140を作業開口部150から外部に吹き出す気流放出領域と、清浄空気140を循環させる気流循環領域との境界部を、作業開口部150から15〜30cm程度入った位置となるように調整している。また、FFU132の外気取入れ口170は、実施形態の場合、全開のときの1/4となるように設定し、FFU132に戻す清浄空気140の循環量q2を、吹出し口131からの清浄空気140の吹出し量Qの半分(q2=Q/2)となるようにしている。したがって、HEPAフィルタの寿命は、外気取入れ口170を全開にした場合と比較して4倍にすることができる。しかも、清浄空気140を循環させているため、清浄作業領域152の清浄度をより高めることができる。
【0030】
なお、作業開口部150から外部に吹き出す清浄空気140の量をq1とした場合、
【数3】
とすることが望ましい。作業開口部150から外部に吹き出す清浄空気の量q1が吹出し口131から吹き出す清浄空気140の吹出し量Qの1/2より少なくなると、外部の気流の影響、物や手の出し入れなどによって、汚れた外部の空気を清浄作業領域152内に巻き込み、清浄度が低下するおそれがある。また、q1が0.8Qより大きいと、清浄作業領域152内における気流の循環が充分に行なわれず、清浄作業領域152および作業面138に滞留域が発生し、作業に伴って発生した塵埃(パーティクル)を効率よく外部に排出できないおそれがある。
【0031】
なお、図5は、清浄空気140をFFU132に戻す循環路の他の例を示したものである。循環路は、同図(1)に示した断面が矩形状の循環路164に限定されず、例えば同図(2)に示した循環路190のように断面が円形または楕円形、長円形などであってもよいし、同図(3)に示した循環路192のように断面が三角形であってもよい。さらに、図5(4)〜(6)に示した循環路ユニット194、196、198のように、複数の循環路を有するように形成してもよい。そして、この場合、複数の循環路の少なくとも一部は、可撓性の部材によって形成するとよい。これにより、清浄作業領域152に機器を配置したときに滞留域を生ずるような場合、または機器が排気ファンを有するような場合、その近傍に循環路の吸入部を配置して滞留域の発生を防止し、機器からの排気をFFU132に循環させる。また、図6に示した循環路200のように、下部の吸入部側を上部より広くなるように形成してもよい。
【0032】
図7は、第2実施形態を模式的に示した説明図である。この清浄作業台210は、循環路を有しておらず、後壁146に排出口212が設けてある。この排出口212には、排気ファン214が取り付けてあって、清浄作業領域152内の清浄空気140を強制的に外部に排出するようにしている。これにより、清浄作業領域152の中央部に気流を発生させることができ、滞留域の発生を確実に防ぐことができる。
【0033】
図8は、第3実施形態に係る清浄作業台の説明図であって、(1)は正面図、(2)は(1)のA−A線に沿った断面図であり、図9は側面図である。この第3実施形態の清浄作業台10は、清浄作業領域の水平方向における面積が、清浄空気の吹出し口の大きさ程度か、それよりやや大きい程度、すなわち吹出し口面積の1.2倍程度以下の例である。
【0034】
図8および図9において、清浄作業台10は、前記実施形態に示した整流板160、162と循環路164とが省かれていて、本体フレーム12が4本の支柱14(14a〜14d)を有している(図8(2)参照)。これらの支柱14は、方形(正方形または矩形)をなす頂点位置に配置してある。そして、清浄作業台10は、支柱14a、14bの間が作業開口部16となっていて、作業開口部16から作業者(図示せず)が後述する清浄作業領域内に手を入れて作業することができるようになっている。
【0035】
清浄作業台10は、上端部における各支柱14間にビーム18が取り付けてあって、その上に天井部となる天井板20が固定してある。天井板20は、中央部がくり抜かれていて、清浄空気22の吹出し口(図示せず)となっている。そして、天井板20の上面には、吹出し口に対応して詳細を後述するルーバユニット24が取り付けてある。また、清浄作業台10は、ルーバユニット24の上に設置したHEPAフィルタ26と図示しない送風機、この送風機の吸引側に設けた図示しない前置フィルタとを有する空気清浄ユニットを備えていて、送風機の吐出した空気がHEPAフィルタに供給され、清浄空気22として吹出し口から下方に向けて吹き出される。
【0036】
本体フレーム12の高さ方向中間部には、作業面28を形成するステージ板(ステージ)30が配設してある。このステージ板30は、ステージフレーム32の上部に取り付けてあって、ステージフレーム32が固定金具33を介して本体フレーム12の各支柱14に固定してある。そして、ステージフレーム32は、後述するように、支柱14に沿って上下方向に移動可能となっていて、作業者の身長などに応じて高さを変えられるようになっている。
【0037】
ステージフレーム32は、ほぼ額縁状に形成してあって、図8(2)に示してあるように、支柱14a、14b間に配置した前側枠材34aと、この前側枠材34aの両端部に結合され、清浄作業台10の前後方向に延在している一対の側部枠材34b、34c、さらに側部枠材34b、34cの後端部を連結した後側枠材34dとからなっている。ただし、後側枠材34dは、実施形態の場合、側部枠材34b、34cの後端よりやや手前側に配置してある。そして、ステージ板30は、実施形態の場合、塵付着防止を目的とした金属板からなっていて、外縁がステージフレーム32の外側輪郭線に沿って形成してある。
【0038】
4本の支柱14が形成する方形の3辺には、壁部が設けてある。すなわち、清浄作業台10は、両側部に壁部となる側壁36、38が設けてあり、背面に壁部である後壁40が設けてある。これらの側壁36、38、後壁40は、各支柱14の外側面に取り付けた樹脂板によって形成してある。また、側壁36、38、後壁40は、上端が天井板20に密接していて、下端がステージ板30の下方に位置している。そして、これらの側壁36、38、後壁40は、ステージ板30が形成する作業面28の上部に、前面側(作業開口部16側)が解放された清浄作業領域42を形成する。
【0039】
ステージフレーム32は、図8(2)に示したように、側部枠材34bが支柱14a、14cに対して清浄作業台10の中央側に位置し、側部枠材34cが支柱14b、14dに対して清浄作業台10の中央側に位置し、後側枠材34dが側部枠部材34b、34cの後端より前側(実施形態の場合、支柱14c、14dより前側)に位置している。そして、前記したように、ステージ板30は、ステージフレーム32の外側輪郭線に沿って設けてある。したがって、ステージ板30は、両側部が側壁36、38と離間しており、後端辺に凹部44が形成されて、この凹部44の部分が後壁40と離間している。すなわち、ステージ板30の形成する作業面28と壁部材である側壁36、38、後壁40との境界部には、細長い排気口46、48、50が形成されている。これらの排気口46、48、50は、側壁36、38、後壁40の近傍に生ずる空気の滞留域をなくすためのもので、側壁36、38、後壁40の面に沿って流れる清浄空気22をステージ板30の下方に流下させる。
【0040】
ステージ板30を取り付けたステージフレーム32は、図10に示したようにL字状の固定金具33を介してねじ60によって支柱14に着脱自在に固定してある。そして、支柱14には、支柱14aを例にして示したように、高さ方向に複数の高さ調節用のねじ孔62が設けてある。したがって、ねじ60を螺合させるねじ孔62の位置を変えることにより、ステージ板30の上下方向の位置を任意に変えることができ、各作業者の作業に適した高さ位置とすることができるようにしてある。
【0041】
なお、ステージ板30の上下位置を調節する機構は、図11のように構成してもよい。すなわち、支柱14の上下方向にC字状のガイド溝64を形成し、そのガイド溝64内に、ボルト66に螺合させたナット68を配置する。これにより、ボルト66を回転させてナット68を緩めることにより、ステージ板30を取り付けたステージフレーム32を支柱14の上下方向に沿って容易に移動させることができる。ただし、ステージ板30の移動機構は、これらに限定されるものでない。
【0042】
清浄作業台10は、実施形態の場合、天井板20および側壁36、38、後壁40が透明な塩化ビニル樹脂板などの帯電防止加工した部材によって形成してあり、乾燥した清浄空気22の流れが接触しても帯電しないようにしてあって、周囲の塵埃や清浄作業領域42内で発生した微粒子などが付着しないようになっている。そして、天井板20の上面の前端側には、蛍光灯などからなる照明器具70が設けてあって、清浄作業領域42内を照らし、作業に支障がないようにしてある。また、清浄作業台10は、各支柱14の下端に高さ調節ねじ72が設けてあり、清浄作業台10を設置する床面に凹凸があってもがたつくことなく設置できるとともに、ステージ板30を水平に保持することができるようにしてある。
【0043】
このようになっている清浄作業台10は、ルーバユニット24を構成している第1ルーバ部52と第2ルーバ部54との羽根板56、58の傾き角を調整し、HEPAフィルタ26から吹き出された清浄空気22の流れの向きを制御することにより、図8(1)および図9に示したように、清浄作業領域42内の清浄空気22を、作業開口部16を介して清浄作業領域42の外部に吹き出させることができるとともに、作業面28と側壁36、38、後壁40との境界部に形成した排気口46、48、50を介してステージ板30の下方に排出することができる。このため、清浄作業台10の外部の汚れた空気が、作業開口部16を介して清浄空気22の流れに巻き込まれて清浄作業領域42に侵入するのを確実に防止することができる。また、側壁36、38、後壁40の近傍を流れる清浄空気22は、排気口46、48、50を介して清浄作業領域42から排出されるため、側壁36、38、後壁40の近傍に空気の滞留域が形成されることがない。したがって、清浄作業領域42内において例えば圧電振動片のパッケージへの実装、圧電振動片の電極部とパッケージの電極部とのワイヤボンディングなどのワークに対する作業をすることにより生じた塵埃などを、清浄作業領域42から確実に排出することができ、図示しないワークが塵埃などによって汚染されるのを防ぐことができる。しかも、清浄作業台10は、照明器具70が清浄作業領域42の外部に配設してあるため、清浄作業領域42の清浄空気22の流れが照明器具70の熱によって乱されることがなく、清浄作業領域42内に清浄空気22の滞留域が形成されるのを防ぐことができる。このため、清浄作業台10をクリーンルーム外の汚染された環境化において使用した場合であっても、清浄作業領域42を非常に高い清浄度に保持することができ、従来に比較してパーティクルの量を1/5以下にすることができる。
【0044】
なお、排気口46、48、50の大きさは、作業面28の広さ、清浄作業領域42の大きさ、HEPAフィルタ26から吹き出す清浄空気22の風量などによって異なる。また、ルーバユニット24の羽根板56、58の傾き角は、作業面28に配置するワークや機器の大きさなどによって適宜に調整し、清浄作業領域42内に空気の滞留域が生じないようにする。また、ステージ板30の上に重量のある機器を配置する場合には、ステージフレーム32に補強リブなどを設ける。
【0045】
そして、実施形態に係る清浄作業台10は、側壁36、38、後壁40、天井板20を樹脂板によって形成してあるため、極めて軽量にすることができ、容易に移動することができる。また、実施形態の清浄作業台10は、側壁36、38、後壁40が樹脂板によって形成してあるため、清浄作業領域42に収納が困難な大きさの機器であっても、機器を容易に清浄作業領域42から突出させて配置することができる。図12は、このような使用状態を示したものである。
【0046】
すなわち、清浄作業台10は、後壁40に機器74を挿入可能な切欠き76が形成してあり、機器74の後端部が切欠き76から清浄作業領域42の外部に突出していて、機器74の前側の清浄作業領域42に充分な作業スペースを確保している。切欠き76は、機器74の形状に合わせて、できるだけ機器74と後壁40との間に隙間が生じないように形成してある。そして、作業面28を形成するステージ板30は、機器74の大きさに合わせて形成してあり、一部が後壁40の後方に突出している。また、ステージ板30には、後壁40の内側に排気口50が形成してある。さらに、ステージ板30を支持するステージフレーム32の後端部を後壁40から突出させる場合には、側部枠材34b、34cの後端に補強用の後端枠材34eを連結する。
【0047】
清浄作業台10は、このような使用状態においても、清浄作業領域42の内部で発生した塵埃などを確実に清浄作業領域から排出することができるとともに、作業開口部16から外部の空気が清浄作業領域42に巻き込まれるのを防ぐことができる。なお、切欠き76は、必要に応じて側壁36、38に形成することができる。
【0048】
図13は、他の使用例を示したものである。この使用例は、2台の清浄作業台10a、10bを密接させて配置している。そして、清浄作業台10aは、清浄作業台10bに接する側壁38aにワーク搬送開口80aが形成してある。また、清浄作業台10bは、清浄作業台10aに接する側壁36bに、ワーク搬送開口80aと対応させてワーク搬送開口80bが設けてある。
【0049】
このようにワーク搬送口80a、80bを形成した2つの清浄作業台10a、10bを相互に密接させて配置することにより、例えば清浄作業台10aの清浄作業領域42aにおいて加工や処理などをした図示しないワークを、ワーク搬送開口80a、80bを介して清浄作業台10bの清浄作業領域42bに搬入することができる。したがって、清浄な雰囲気下で加工、処理したワークを汚染した空気に触れることなく次の加工や処理を行なうことができる。
【0050】
なお、清浄作業台10a、10bの間に必要に応じてシール材を配置してもよい。また、3つ以上の清浄作業台10を連接してもよいことはもちろんである。また、清浄作業台10a、10bを背中合わせに配置してもよい。また、第1実施形態に係る清浄作業台120も、同様に連接して使用することができる。
【0051】
以上に説明した実施形態は、本発明の一態様を説明したものであって、これに限定されるものではない。例えば、本体フレーム12の支柱14にキャスタを取り付けて移動を容易にしてもよいし、HEPAフィルタ26を移動可能に取付け、作業面28に設置する機器の大きさ、場所によってHEPAフィルタ26の取付け位置を変えるようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施形態に係る清浄作業台の斜視図である。
【図2】第1実施形態の要部の従断面図である。
【図3】実施形態の係るルーバユニットの詳細説明図である。
【図4】実施の形態に係るルーバユニットの羽根板の傾き角の設定例を説明する図である。
【図5】循環路の他の実施形態の説明図である。
【図6】循環路のさらに他の例を示す斜視図である。
【図7】第2実施形態を模式的に示した説明図である。
【図8】第3実施形態に係る清浄作業台の説明図である。
【図9】第3実施形態に係る清浄作業台の側面図である。
【図10】実施の形態に係るステージ板の上下方向位置を変える機構の説明図である。
【図11】実施の形態に係るステージ板の上下方向位置を変える他の機構の説明図である。
【図12】実施の形態に係る清浄作業台の使用例を説明する図である。
【図13】実施の形態に係る清浄作業台の他の使用例を説明する図である。
【図14】従来の清浄作業台の気流の状態の説明図である。
【符号の説明】
10、120、210………清浄作業台、16、150………作業開口部、20、128………天井部(天井板)、22、140………清浄空気、24………ルーバユニット、26………HEPAフィルタ、28、138………作業面、30、136………ステージ(ステージ板)、36、38、40………壁部(側壁、後壁)、42、152………清浄作業領域、46、48、50………排気口、52………第1ルーバ部、54………第2ルーバ部、56………第1羽根板、58………第2羽根板、70………照明器具、131………吹出し口、132………FFU、142、144、146、148………壁部(側壁、後壁、前壁)、164、190、192、200………循環路、166………排出口(吸入部)194、196、198………循環路ユニット、212………排出口、212………排出口、214………排気ファン。
Claims (9)
- 作業面を形成するステージと、
前記作業面の周縁部に設けられて一部に作業開口部を有し、前記作業面の上部に清浄作業領域を形成する壁部と、
前記ステージの上方に形成された天井部に設けた清浄空気の吹出し口と、
前記吹出し口の上に設けられてそれぞれが独立して傾き角が可変な複数の羽根板を備え、前記清浄空気の吹出し方向を制御するルーバユニットと、
前記吹出し口の両側部から下方に向けて漸次拡開させて設けた整流板と、
前記作業面と前記壁部との境界部に設けられ、前記吹出し口から吹き出された前記清浄空気の一部を前記清浄作業領域の外部に導く排気口と、
を有することを特徴とする清浄作業台。 - 請求項1に記載の清浄作業台において、
前記ルーバユニットは、それぞれが独立して傾き角が可変な複数の第1羽根板を有する第1ルーバ部と、この第1ルーバ部の前記第1羽根板と交差して配置され、それぞれが独立して傾き角が可変な複数の第2羽根板を有する第2ルーバ部とからなることを特徴とする清浄作業台。 - 請求項1または請求項2に記載の清浄作業台において、
前記清浄作業領域には、前記清浄空気を清浄作業領域外に排出し、清浄作業領域の中央部に気流を生じさせる排出口が設けてあることを特徴とする清浄作業台。 - 請求項3に記載の清浄作業台において、
前記排出口は、前記吹出し口の上方に配設した送風機に前記清浄作業領域内の前記清浄空気を戻す循環路の吸入部を形成していることを特徴とする清浄作業台。 - 請求項4に記載の清浄作業台において、
前記循環路は複数設けられ、少なくとも一部の循環路が可撓性の部材によって形成してあることを特徴とする清浄作業台。 - 請求項1ないし請求項6のいずれかに記載の清浄作業台において、
前記清浄作業領域は、水平方向の広さが前記吹出し口の大きさの1.2倍以下であって、前記整流板が省かれていることを特徴とする清浄作業台。 - 請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の清浄作業台において、
前記壁部と天井部と前記整流板とは、帯電防止加工した部材によって形成してあることを特徴とする清浄作業台。 - 請求項1ないし請求項8のいずれかに記載の清浄作業台において、前記ステージは、上下方向位置が可変に形成してあることを特徴とする清浄作業台。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003124371A JP4513275B2 (ja) | 2002-05-07 | 2003-04-28 | 清浄作業台 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002131365 | 2002-05-07 | ||
JP2003124371A JP4513275B2 (ja) | 2002-05-07 | 2003-04-28 | 清浄作業台 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004031928A true JP2004031928A (ja) | 2004-01-29 |
JP4513275B2 JP4513275B2 (ja) | 2010-07-28 |
Family
ID=31190083
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003124371A Expired - Fee Related JP4513275B2 (ja) | 2002-05-07 | 2003-04-28 | 清浄作業台 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4513275B2 (ja) |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP4513275B2 (ja) | 2010-07-28 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A521 | Written amendment |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100503 |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130521 Year of fee payment: 3 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140521 Year of fee payment: 4 |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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