JP2004029736A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004029736A5 JP2004029736A5 JP2003089974A JP2003089974A JP2004029736A5 JP 2004029736 A5 JP2004029736 A5 JP 2004029736A5 JP 2003089974 A JP2003089974 A JP 2003089974A JP 2003089974 A JP2003089974 A JP 2003089974A JP 2004029736 A5 JP2004029736 A5 JP 2004029736A5
- Authority
- JP
- Japan
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003089974A JP2004029736A (ja) | 2002-03-29 | 2003-03-28 | 電子デバイス用基板の平坦度決定方法および製造方法、マスクブランクおよび転写用マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002093479 | 2002-03-29 | ||
| JP2003089974A JP2004029736A (ja) | 2002-03-29 | 2003-03-28 | 電子デバイス用基板の平坦度決定方法および製造方法、マスクブランクおよび転写用マスクの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2010024275A Division JP4917156B2 (ja) | 2002-03-29 | 2010-02-05 | マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004029736A JP2004029736A (ja) | 2004-01-29 |
| JP2004029736A5 true JP2004029736A5 (enExample) | 2006-05-18 |
Family
ID=31189925
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003089974A Pending JP2004029736A (ja) | 2002-03-29 | 2003-03-28 | 電子デバイス用基板の平坦度決定方法および製造方法、マスクブランクおよび転写用マスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2004029736A (enExample) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006251781A (ja) * | 2005-02-09 | 2006-09-21 | Asahi Glass Co Ltd | マスクブランクス |
| JP2008109060A (ja) * | 2005-11-10 | 2008-05-08 | Asahi Glass Co Ltd | Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランクの多層反射膜を成膜する方法、ならびにｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法 |
| JP2007279214A (ja) * | 2006-04-04 | 2007-10-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フォトマスクブランク及びその製造方法、並びにフォトマスク及びその製造方法 |
| JP4958147B2 (ja) * | 2006-10-18 | 2012-06-20 | Ｈｏｙａ株式会社 | 露光用反射型マスクブランク及び露光用反射型マスク、多層反射膜付き基板、並びに半導体装置の製造方法 |
| CN103382575B (zh) * | 2006-12-28 | 2016-12-07 | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 | 蓝宝石基材 |
| WO2010061828A1 (ja) * | 2008-11-26 | 2010-06-03 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板 |
| CN101957556B (zh) * | 2009-07-16 | 2012-05-23 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 掩模版图修正方法、掩模版制作方法和光学邻近校正方法 |
| JP5828226B2 (ja) * | 2011-06-01 | 2015-12-02 | 大日本印刷株式会社 | インプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択プログラム、インプリントシステム、インプリント用基板選択方法及びインプリント方法 |
| JP5953725B2 (ja) * | 2011-12-07 | 2016-07-20 | 大日本印刷株式会社 | インプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択プログラム、インプリントシステム、インプリント用基板選択方法及びインプリント方法 |
| KR102495226B1 (ko) * | 2021-08-20 | 2023-02-06 | 에스케이엔펄스 주식회사 | 블랭크 마스크용 기판의 세정방법, 블랭크 마스크용 기판 및 이를 포함하는 블랭크 마스크 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02137323A (ja) * | 1988-11-18 | 1990-05-25 | Nec Corp | 低応力薄膜の形成方法 |
| JP2882079B2 (ja) * | 1991-04-12 | 1999-04-12 | 三菱電機株式会社 | Ｘ線マスクの製造方法 |
| JPH04320320A (ja) * | 1991-04-19 | 1992-11-11 | Fujitsu Ltd | Ｘ線露光用マスクの作製方法およびそれに用いる装置 |
| JPH0536590A (ja) * | 1991-07-25 | 1993-02-12 | Toshiba Corp | Ｘ線マスクおよびｘ線マスクの製造方法 |
| JPH07181669A (ja) * | 1993-02-12 | 1995-07-21 | Mitsubishi Electric Corp | 減衰型位相シフトマスクおよびその製造方法 |
| JPH06260397A (ja) * | 1993-03-08 | 1994-09-16 | Toppan Printing Co Ltd | Ｘ線露光用マスクとその製造方法 |
| JPH10198018A (ja) * | 1997-01-13 | 1998-07-31 | Mitsubishi Electric Corp | 減衰型位相シフトマスクおよびその製造方法 |
| JP3588223B2 (ja) * | 1997-03-24 | 2004-11-10 | 三菱電機株式会社 | Ｘ線マスクの製造方法 |
| JP3037941B2 (ja) * | 1997-12-19 | 2000-05-08 | ホーヤ株式会社 | ハーフトーン型位相シフトマスク及びハーフトーン型位相シフトマスクブランク |
| JP2000003844A (ja) * | 1998-06-15 | 2000-01-07 | Fujitsu Ltd | Ｘ線露光用マスク及びその製造方法 |
| JP2000347386A (ja) * | 1999-06-04 | 2000-12-15 | Sony Corp | 露光用マスクの欠陥修正方法、露光用マスク、露光方法、並びに、半導体装置及びその製造方法 |
| JP3627805B2 (ja) * | 2001-04-20 | 2005-03-09 | 信越化学工業株式会社 | フォトマスク用ガラス基板及びその製造方法 |
-
2003
- 2003-03-28 JP JP2003089974A patent/JP2004029736A/ja active Pending