JP2004027251A - 有機薄膜形成装置の加熱容器 - Google Patents

有機薄膜形成装置の加熱容器 Download PDF

Info

Publication number
JP2004027251A
JP2004027251A JP2002181688A JP2002181688A JP2004027251A JP 2004027251 A JP2004027251 A JP 2004027251A JP 2002181688 A JP2002181688 A JP 2002181688A JP 2002181688 A JP2002181688 A JP 2002181688A JP 2004027251 A JP2004027251 A JP 2004027251A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organic material
thin film
main body
organic
organic thin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002181688A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiichi Kitatsume
北爪 栄一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung SDI Co Ltd
Original Assignee
Samsung NEC Mobile Display Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung NEC Mobile Display Co Ltd filed Critical Samsung NEC Mobile Display Co Ltd
Priority to JP2002181688A priority Critical patent/JP2004027251A/ja
Publication of JP2004027251A publication Critical patent/JP2004027251A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

【課題】有機薄膜形成装置の加熱容器を提供する。
【解決手段】内部に有機材料が収容される空間部が形成されて密閉された上部に少なくとも一つ以上の吐出孔が形成される本体と、上記本体の外周面に設けられるヒータを含む有機薄膜形成装置の加熱容器において、吐出孔の大きさが本体の容積、蒸着レートによって設定される。
【選択図】 図7

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は有機薄膜形成装置の加熱容器に係り、加熱容器の吐出孔の大きさを調節することによって高温、高圧による有機材料の変質が防止されて有機材料の無駄遣いのない有機薄膜形成装置の加熱容器に関する。
【0002】
【従来の技術】
電子発光素子は能動発光型表示素子であって、視野角が広くてコントラストに優れただけでなく応答速度が速いために次世代表示素子として注目されている。電子発光素子は発光層形成用物質によって無機電子発光素子と有機電子発光素子とに区切られる。ここで有機電子発光素子は無機電子発光素子に比べて輝度、駆動電圧及び応答速度特性に優れて多色化が可能である長所を有している。
【0003】
一般の有機電子発光素子において基板上部に所定パターンの正電極層が形成されている。そしてこの正電極層の上部にはホール輸送層、発光層、電子輸送層が順次形成され、上記電子輸送層の上面には上記正電極層と直交する方向に所定パターンの負電極層が形成されている。ここでホール輸送層、発光層及び電子輸送層は有機化合物よりなる有機薄膜である。
【0004】
このような構成を有する有機電子発光素子を製造する過程でホール輸送層、発光層、電子輸送層の有機薄膜は内部圧力が10−6ないし10−7torrに調節される真空チャンバとこの内部に基板と対向するように設けられて、少量の有機物が収容された加熱容器とこの加熱容器に設けられて有機物を加熱昇華させるためのヒータを含む蒸着装置により形成される。
【0005】
上述した有機薄膜形成装置の加熱容器により有機薄膜が蒸着される過程で加熱容器の重要性が要求される。例えば、加熱容器の上部が完全に開放されている場合に基板に蒸着された有機薄膜の均一度が落ちると同時に内部温度の不均一問題が起こる。このような問題点を解決するためにいろいろな方法が開発された。特開平12−223269号に開示されたように、加熱容器の上部が完全に開きになった小規模の加熱容器を多数形成して有機薄膜の均一度を向上させて内部温度の制御性を向上させる方法が考案された。または、加熱容器の上部を点ソースの吐出孔で形成したり、図1に示したように、カバー6で加熱容器10の本体4の開口部1を密閉して上記カバー6に点ソースの吐出孔6aを形成する方法が考案された。この場合、本体4の内部に収容されている有機材料2がヒータ3の加熱により高圧力で吐出孔6aを通じて加熱容器10の外部に吐出されて基板に蒸着されることによって有機材料の消耗を抑制するだけでなく基板に蒸着された有機薄膜の均一度など上述した問題点を解決できる。
【0006】
しかし、この場合、点ソースの吐出孔や開口部を密閉するカバーの吐出孔が加熱容器の容積に比べて小さすぎれば蒸着レートを稼ぐために温度が上昇し、材料の分解、変性温度に達してしまうという問題点を有する。
【0007】
また、高温、高圧により有機材料が分解、変性するために有機材料の消耗が多くなるという問題点がある。
【0008】
また、有機材料が分解、変性する場合には基板に蒸着された有機薄膜の組成が変化してしまう問題点がある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記のような点を勘案してなされたものであって、有機材料が変性しないように加熱容器の容積、有機材料の量及び有機材料によって吐出孔の大きさが調節された有機薄膜形成装置の加熱容器を提供するのに目的がある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明の有機薄膜形成装置の加熱容器は、内部に有機材料が収容される空間部が形成されて密閉された上部に少なくとも一つ以上の吐出孔が形成される本体と、上記本体の外周面に設けられるヒータを含む有機薄膜形成装置の加熱容器において、上記吐出孔の大きさが本体の容積、有機材料の量及び有機材料によって設定されることを特徴とする。
【0011】
また、上記本体の容積が20cc以上200cc以下の場合には、上部に形成された吐出孔が直径5mm以上25mm以下であることを特徴とする。
【0012】
また、基板−蒸発源距離が300mm以上1000mm以下であり、且つ蒸着レートが1Å/sec以上である場合には上部に形成された吐出孔が直径5mm以上25mm以下であることを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、添付した図面を参照して本発明の望ましい実施形態による有機薄膜形成装置の加熱容器を詳細に説明する。
【0014】
有機薄膜形成装置において、図2に示したように真空チャンバ21の内部に有機薄膜を真空蒸着しようとする基板22が設けられて、この基板22と対応する真空チャンバ21の下面には有機材料を昇華させるための加熱容器30が設けられて、上記基板22と加熱容器との間の基板22と近接する側には上記基板22に有機薄膜を蒸着しようとするパターンと同じパターンの開口を有するマスク23が設けられる。上記マスク23はマスクフレーム24により支持される。上記基板22の上部には上記マスクフレーム24に支持されたマスク23を基板22に密着させるためのマグネットユニット25を駆動させて上記マスク23が基板22に密着するようにする。
【0015】
図3及び図4を参照すれば、本発明の一実施形態による有機薄膜形成装置の加熱容器30は、有機材料が収容される本体33と、上記本体33と結合されるカバー36と、上記本体33の外周面に接触して設けられて上記本体33を加熱させるヒータ34とを含む。
【0016】
上記本体33は、上記基板22と対応する側に開口部31が形成され、その下部に有機材料2が収容される空間部32を有する。上記本体33の側面には上記空間部32に収容された有機材料2を加熱して昇華させるためのヒータ34が設けられ、上記本体33の下面には有機材料2の温度を測定するための温度測定手段(図示せず)が設けられる。
【0017】
図4に示したように、上記カバー36は上記加熱容器の本体33の上部に結合されて上記開口部31を密閉する。上記カバー36の中央部には少なくとも1つ以上の吐出孔37が形成される。上記吐出孔37を通じて加熱された有機材料2が吐出される。図5には吐出孔37が多数形成されたカバー36を示している。
【0018】
また、図6Aまたは図6Bに示したように、別のカバー36が形成されず、本体33の上部33aは密閉されてその中央部に少なくとも1つ以上の吐出孔37が形成されることもある。
【0019】
上記吐出孔37は有機材料2の量及び本体33の容積によって調節される。
【0020】
そして、上記吐出孔37が小さい場合には蒸着レートが低くなるため、所定の蒸着レートを得るために上記ヒータ34により加熱され材料の分解温度に達し、ガスが発生した場合真空度が急に上昇してしまう。したがって、上記本体33の内部に存在する有機材料2が容易に変形して変性物が生じる。このような変性物が基板上に蒸着される場合には電流−電圧特性や発光色度の異常が生じる。このような本体内部の高温、高圧を防止するために吐出孔37の大きさを本体33の容積及び蒸着レートの量に比例するように形成する。すなわち、図7または図8に示したように、本体33の容積が大きくなるほど、また、蒸着レートの量が多くなるほど吐出孔37を大きくすることによって有機材料2が容易に高温、高圧になることを防止する。
【0021】
上記本体の容積が20cc以上200cc以下の場合には上部に形成された吐出孔の大きさが直径5mm以上25mm以下であることが望ましい。
【0022】
以下、本発明を下記実施形態をあげて詳細に説明する。
【0023】
<実施形態1>
特開平10−88121号に開示された有機材料を5g程度使用した場合に本体の容積を50cc、吐出孔の直径を15mm、加熱容器と基板との距離を350mm、蒸着率が2Å/sになるように加熱する時、上記有機材料の最高温度は240℃になって、有機材料がなくなるまで、すなわち、12時間以上2±0.1Å/sの良好な蒸着率の安定性を有して蒸着される。また、本体内部の真空度は1×10−4以上に増加して悪化しない。したがって、このような条件下で形成された有機電界発光素子の特性が良好である。
【0024】
<比較形態1>
吐出孔の直径を2mmで形成することを除いては実施形態1と同じ条件下で有機材料を基板上に蒸着させた。この場合、上記有機材料の最高温度は300℃以上となり、5時間程度2±0.5Å/sの蒸着率の安定性を有して蒸着されるので有機材料が変形、変質するか、不均一に薄膜が形成される恐れがある。また、本体内部の真空度は1×10−4から1×10−2に急激に増加する。有機材料の変性物が基板に蒸着されることによって有機電界発光素子に色度異常が生じる。
【0025】
<実施形態2>
特開平10−72579号に開示された有機材料を5g程度使用した場合に本体の容積を50cc、吐出孔の直径を15mm、加熱容器と基板との距離を350mm、蒸着率が2Å/sになるように加熱する時、上記有機材料の最高温度は360℃となり、有機材料がなくなるまで、すなわち、12時間以上2±0.1Å/sの良好な蒸着率の安定性を有する。また、本体内部の真空度は1×10−4以上に増加して悪化しない。したがって、有機電界発光素子の特性が良好である。
【0026】
<比較形態2>
吐出孔の直径を2mmで形成することを除いては実施形態2と同じ条件下で有機材料を基板上に蒸着させた。この場合、上記有機材料の最高温度は400℃以上になって有機材料が変形、変質する恐れがある。しかし、上記有機材料がなくなるまで、すなわち、12時間程度2±0.1Å/sの良好な蒸着率の安定性を有して蒸着される。そして、本体内部の真空度は1×10−4以上に増加しない。したがって、変形された有機材料が基板に蒸着されることによって有機電界発光素子に色度異常が生じる。
【0027】
<実施形態3>
特開平8−333569号に開示された有機材料を5g程度使用した場合に本体の容積を50cc、吐出孔の直径を15mm、加熱容器と基板との距離を350mm、蒸着率が2Å/sになるように加熱する時、上記有機材料の最高温度は320℃となり、有機材料がなくなるまで、すなわち、12時間以上2±0.1Å/sの良好な蒸着率の安定性を有して蒸着される。また、本体内部の真空度は1×10−4以上に増加して悪化しない。したがって、有機電界発光素子の特性が良好である。
【0028】
<比較形態3>
吐出孔の直径を2mmで形成することを除いては実施形態3と同じ条件下で有機材料を基板上に蒸着させた。この場合、上記有機材料の最高温度は400℃以上になって有機材料が変形、変質して変性物が生じることがある。8時間程度2±0.1Å/sの良好な蒸着率の安定性を有して蒸着され、残り物は変形、変質により蒸着されない。しかし、本体内部の真空度は1×10−4以上に増加しない。したがって、変形された有機材料が基板に蒸着されることによって有機電界発光素子に色度異常が生じる。残り物が多く生じる有機材料は有効に使用できない。
【0029】
上記の実施形態と比較形態とを比較してみる時、有機材料の種類と量、有機材料が収容される本体の容積による吐出孔の大きさによって有機薄膜の特性が決定されることが分かる。
【0030】
上述したように構成された本発明による有機薄膜形成装置の加熱容器の作用を説明すれば次の通りである。
【0031】
まず、有機薄膜形成装置を利用して基板に有機薄膜を形成するためには加熱容器内部の空間部に電子輸送層、発光層または正孔輸送層を形成するための有機材料を注入する。そして本体の円周面に設けられたヒータにより上記有機材料が加熱されて昇華される。昇華された有機材料は上記加熱容器のカバーの吐出孔を通じて上記基板に蒸着されて有機薄膜を形成する。有機材料の種類、本体の容積、蒸着レートによって上記吐出孔の直径を大きくすることによって上記有機材料が容易に高温、高圧の状態で分解、変性することを防止できる。
【0032】
上述したように分解、変性せずに昇華された有機材料はカバーの吐出孔を通じて吐出された後基板には材料と同じ組成で蒸着される。
【0033】
本発明は添付した図面に示された一実施形態を参考に説明されたが、これは例示的なものに過ぎず、当業者であればこれより多様な変形及び均等な他の実施形態が可能であるという点を理解できる。したがって本発明の真の保護範囲は特許請求の範囲により決まらねばならない。
【0034】
【発明の効果】
上記のように、本発明による有機薄膜形成装置の加熱容器は吐出孔の大きさを調節することによって加熱容器内部の高温を防止して有機材料の分解、変性を防止できる。
【0035】
また、吐出孔の大きさを調節することによって加熱容器内部の真空度の急上昇による圧力の上昇を防止することによって有機材料の分解、変性を防止できる。
【0036】
また、有機材料が分解、変性されて基板に蒸着された場合に生じる色度異常を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】通常の有機薄膜形成装置の加熱容器の断面図である。
【図2】本発明の一実施形態による有機薄膜形成装置の概略的な断面図である。
【図3】本発明の一実施形態による有機薄膜形成装置の加熱容器の断面図である。
【図4】図3の有機薄膜形成装置の加熱容器の斜視図である。
【図5】本発明による加熱容器の吐出孔が多数形成されたことを示す斜視図である。
【図6A】本発明による加熱容器の上部が密閉されて中央部に吐出孔が形成されたことを示す斜視図である。
【図6B】本発明による加熱容器の上部が密閉されて中央部に多数の吐出孔が形成されたことを示す斜視図である。
【図7】本発明による加熱容器の本体容積による適した吐出孔の全体面積を示す図面である。
【図8】本発明による加熱容器の有機材料の量による適した吐出孔の全体面積を示す図面である。
【符号の説明】
33 本体
34 ヒータ
36 カバー
37 吐出孔

Claims (3)

  1. 内部に有機材料が収容される空間部が形成されて密閉された上部に少なくとも1つ以上の吐出孔が形成される本体と、上記本体の外周面に設けられるヒータを含む有機薄膜形成装置の加熱容器において、
    上記吐出孔の大きさが本体の容積、有機材料の量及び有機材料によって設定されることを特徴とする有機薄膜形成装置の加熱容器。
  2. 上記本体の容積が20cc以上200cc以下の場合には、上部に形成された吐出孔が直径5mm以上25mm以下であることを特徴とする請求項1に記載の有機薄膜形成装置の加熱容器。
  3. 基板−蒸発源距離が300mm以上1000mm以下であり、且つ蒸着レートが1Å/sec以上である場合には上部に形成された吐出孔が直径5mm以上25mm以下であることを特徴とする請求項1に記載の有機薄膜形成装置の加熱容器。
JP2002181688A 2002-06-21 2002-06-21 有機薄膜形成装置の加熱容器 Pending JP2004027251A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002181688A JP2004027251A (ja) 2002-06-21 2002-06-21 有機薄膜形成装置の加熱容器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002181688A JP2004027251A (ja) 2002-06-21 2002-06-21 有機薄膜形成装置の加熱容器

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011034890A Division JP2011153379A (ja) 2011-02-21 2011-02-21 有機薄膜形成装置の加熱容器

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2004027251A true JP2004027251A (ja) 2004-01-29

Family

ID=31178462

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002181688A Pending JP2004027251A (ja) 2002-06-21 2002-06-21 有機薄膜形成装置の加熱容器

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004027251A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101001369B1 (ko) 2008-11-28 2010-12-14 주식회사 유엠티 고체화합물의 기화용 가열장치

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63277752A (ja) * 1987-05-08 1988-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd 真空蒸着装置
JPH06223970A (ja) * 1993-01-25 1994-08-12 Idemitsu Kosan Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JPH07138738A (ja) * 1993-11-16 1995-05-30 Canon Inc 蒸発用るつぼ及びそれを用いた薄膜形成方法
JPH1025563A (ja) * 1996-07-08 1998-01-27 Shinko Seiki Co Ltd 真空蒸着装置及び真空蒸着方法
JPH10195639A (ja) * 1997-01-09 1998-07-28 Ulvac Japan Ltd 有機材料用蒸発源及びこれを用いた有機薄膜形成装置
JPH10204622A (ja) * 1997-01-13 1998-08-04 Tdk Corp 薄膜形成装置
WO2000028103A2 (en) * 1998-11-12 2000-05-18 Flex Products, Inc. Vapor source having linear aperture and coating process
JP2002146516A (ja) * 2000-11-07 2002-05-22 Sony Corp 有機薄膜の蒸着方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63277752A (ja) * 1987-05-08 1988-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd 真空蒸着装置
JPH06223970A (ja) * 1993-01-25 1994-08-12 Idemitsu Kosan Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JPH07138738A (ja) * 1993-11-16 1995-05-30 Canon Inc 蒸発用るつぼ及びそれを用いた薄膜形成方法
JPH1025563A (ja) * 1996-07-08 1998-01-27 Shinko Seiki Co Ltd 真空蒸着装置及び真空蒸着方法
JPH10195639A (ja) * 1997-01-09 1998-07-28 Ulvac Japan Ltd 有機材料用蒸発源及びこれを用いた有機薄膜形成装置
JPH10204622A (ja) * 1997-01-13 1998-08-04 Tdk Corp 薄膜形成装置
WO2000028103A2 (en) * 1998-11-12 2000-05-18 Flex Products, Inc. Vapor source having linear aperture and coating process
JP2002146516A (ja) * 2000-11-07 2002-05-22 Sony Corp 有機薄膜の蒸着方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101001369B1 (ko) 2008-11-28 2010-12-14 주식회사 유엠티 고체화합물의 기화용 가열장치

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100484702B1 (ko) 유기전기발광소자의제조방법
US9209427B2 (en) Method of fabricating light-emitting device and apparatus for manufacturing light-emitting device
KR100712217B1 (ko) 증발원 및 이를 이용한 진공증착기
US8524313B2 (en) Method for manufacturing a device
JP5373221B2 (ja) 蒸着粒子射出装置および蒸着装置並びに蒸着方法
TWI453800B (zh) 用於製造顯示裝置之設備
US8158012B2 (en) Film forming apparatus and method for manufacturing light emitting element
JP5324010B2 (ja) 蒸着粒子射出装置および蒸着装置並びに蒸着方法
JP2010511784A (ja) Oled基板への有機材料の堆積
JP2004052113A (ja) 加熱容器とそれを利用した蒸着装置
TW200306131A (en) Manufacturing system, manufacturing method, method of operating a manufacturing apparatus, and light emitting device
WO2012133201A1 (ja) 蒸着粒子射出装置、蒸着粒子射出方法および蒸着装置
JPH10195639A (ja) 有機材料用蒸発源及びこれを用いた有機薄膜形成装置
JP2013104117A (ja) 蒸発源及び蒸着装置
JP2001085157A (ja) 電子デバイス及びその製造方法
KR101097303B1 (ko) 증착 소스 유닛, 이를 구비한 증착 장치 및 이를 이용한유기 발광 소자의 제조방법
JP2004027251A (ja) 有機薄膜形成装置の加熱容器
JP2004079528A (ja) 製造装置
JP2000353593A (ja) 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造装置および製造方法
JP3719797B2 (ja) 有機薄膜表面への導電性薄膜形成方法
JP2005340225A (ja) 有機el素子
JP2003313655A (ja) 製造装置
KR100696531B1 (ko) 가열용기와 이를 이용한 증착장치
JPH10270164A (ja) 有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法およびその製造装置
KR100829736B1 (ko) 진공 증착장치의 가열용기

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20050527

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050615

A072 Dismissal of procedure [no reply to invitation to correct request for examination]

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A073

Effective date: 20060203

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20070322

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20070322

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070827

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080527

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080825

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20081208

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090908

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091208

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20101019