JP2004018468A - ルテニウム化合物及びその製造方法並びに該化合物により得られたルテニウム含有薄膜 - Google Patents

ルテニウム化合物及びその製造方法並びに該化合物により得られたルテニウム含有薄膜 Download PDF

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10069070B2 (en) 2014-02-14 2018-09-04 Ilsoled Co., Ltd. Method and apparatus for purifying organic material by using ionic liquid
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