JP2004010801A

JP2004010801A - 芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂

Info

Publication number: JP2004010801A
Application number: JP2002168053A
Authority: JP
Inventors: Hiromitsu Nagashima; 長島　広光; Makoto Sasaki; 佐々木　誠; Satoyuki Hashimoto; 橋本　智行
Original assignee: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Current assignee: Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
Priority date: 2002-06-10
Filing date: 2002-06-10
Publication date: 2004-01-15

Abstract

【課題】高い耐薬品性を示し、且つ耐熱性と高いアッベ数と低い光弾性定数を有する芳香族−脂肪族ポリカーボネート樹脂を製造する方法を提供すること。
【０００６】
【解決手段】芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、ポリシロキサン化合物０．０５〜５０重量部を配合してなるポリカーボネート樹脂組成物。
【選択図】　なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高い屈折率および逆分散値、低い光弾性定数を有し、耐衝撃性、耐熱性、色相に優れた透明なポリカーボネート樹脂組成物に関する。このポリカーボネート樹脂組成物は各種レンズ、プリズム、光ディスク基板などのプラスチック光学材料に好適に利用できるものである。
【０００２】
【従来の技術】
ポリカーボネート樹脂は、耐衝撃性等の機械的特性に優れ、しかも耐熱性、透明性等にも優れていることから、エンジニアリングプラスチックとして多くの分野に広く使用されている。特に、透明性に優れていることから光学材料としての用途も多い。例えば、光学材料として各種レンズ、プリズム、光ディスク基板などに利用されている。
【０００３】
しかし、芳香族ジヒドロキシ化合物からなるポリカーボネート樹脂は、光弾性定数が大きく、溶融流動性が比較的悪いために成形品の複屈折が大きくなり、また屈折率は１．５８と高いもののアッベ数が３０と低いため、広く光記録材料や光学レンズ等の用途に用いられるには十分な性能を有していないという欠点がある。
【０００４】
これらの欠点を改良する方法として、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂（特開昭６４−６６２３４号および特開平１１−１６５４２６号）が提案されている。これらの芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂は、優れた耐衝撃性、耐熱性を有し、その上、光弾性定数が低く、屈折率と分散特性のバランスが良いことから、広く光学材料として用いることが可能である。しかし、該共重合ポリカーボネート樹脂は市販の芳香族ポリカーボネート樹脂に比べて耐薬品性が不足しており、幅広い環境での使用に問題を発生する可能性を有していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記のような従来技術に伴う問題点を解決しようとするものであり、高い耐薬品性を示し、且つ耐熱性と高いアッベ数と低い光弾性定数を有する芳香族−脂肪族ポリカーボネート樹脂を安価に製造する方法を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するため手段】
本発明者らは、上記したような欠点を克服する方法について鋭意検討を重ねた結果、上記芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して式（１）で表されるポリシロキサン化合物０．０５〜５０重量部を配合してなるポリカーボネート樹脂組成物が、高い耐薬品性を示すことを見いだし本発明に至った。
【０００７】
【化３】

（上記式（１）においてＲ５〜Ｒ１２は、各々独立して炭素数１〜７のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜７のアルケニル基、炭素数１〜７のアルコキシ基、又は炭素数７〜１７のアラルキル基を表す。これらの基に炭素原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数２〜７のアルケニル基、炭素数１〜７のアルコキシ基、炭素数６〜１２のヒドロキシフェニル基を有することもできる。ｎは１〜５００の整数を表す。）
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に関わる芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂を具体的に説明する。
【０００９】
本発明における芳香族−脂肪族強重合ポリカーボネート樹脂は、芳香族ジヒドロキシ化合物と脂肪族ジヒドロキシ化合物とを、アルカリ金属化合物等の塩基類もしくはエステル交換触媒等の触媒の存在下、炭酸ジエステルをカーボネート源としてエステル交換反応により製造することが出来る。
【００１０】
本発明で、用いられる芳香族ジヒドロキシ化合物としては、下記式（３）で示されるものが用いられる。
【００１１】
【化４】

（上記式（３）において、Ｘは単結合もしくは
【化５】

であり、ここに、Ｒ_３およびＲ_４は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基あるいはフェニル基であり、Ｒ_３とＲ_４が結合し環を形成していてもよい。Ｒ_１とＲ_２は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基またはハロゲンであり、Ｒ_１とＲ_２は同じでも異なっていてもよい。また、ｍおよびｎは置換基数を表し０〜４の整数である。）
【００１２】
式（３）で表される芳香族ジヒドロキシ化合物としては、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等のビスフェノール類；４、４’ジヒドロキシビフェニル、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ジヒドロキシビフェニル等のビフェノール類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン等が挙げられる。これらのうちで、特に１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（以下ＢＰＺと記す）が好ましい。また、上記芳香族ジヒドロキシ化合物を２種以上併用して用いることもできる。
【００１３】
本発明で用いられる脂肪族ジヒドロキシ化合物としては下記式（２）に示されるトリシクロ（５．２．１．０^２．６）デカンジメタノール（以下、ＴＣＤＤＭと記す）が用いられる。
【００１４】
【化６】

【００１５】
また、その物性を損なわない範囲でＴＣＤＤＭと他の脂肪族ジヒドロキシ化合物を併用しても良い。脂肪族ジヒドロキシ化合物、例えば、ペンタシクロペンタデカンジメタノール、β，β，β’，β’−テトラメチル−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン−３，９−ジエタノール（スピログリコール）あるいは２，６−デカリンジメタノールあるいは１，４−シクロヘキサンジメタノールなどが好適に用いられる。
【００１６】
芳香族ジヒドロキシ化合物と脂肪族ジヒドロキシ化合物の比率は、光学特性、耐熱性等のバランスから、９５／５〜５／９５（モル比）であることが好ましい。より好ましくは９０／１０〜１０／９０（モル比）である。
【００１７】
本発明において、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂に対して添加するポリシロキサン化合物としては、前記式（１）で示されるポリシロキサン化合物が適している。ポリシロキサン化合物を添加する量としては、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．０５〜５０重量部、より好ましくは０．１〜２０重量部である。添加量がこれより多いと、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂の有する一般物性、光学特性を損ない、これより少ないとポリシロキサン化合物の添加効果が十分に得られないため好ましくない。
【００１８】
前記式（１）で表されるポリシロキサン化合物は、公知のヒドロシリル化反応による製造法、例えば不飽和基を有するフェノールとＳｉ−Ｈ基を有するポリシロキサンをヒドロシリル化触媒下で付加反応させる方法にて製造される。
【００１９】
ヒドロシリル化に使用される触媒は、均一系、不均一系のいずれでもよく、具体的には、塩化白金酸などに代表される白金錯体、金属白金、オクタカルボニル２コバルト、パラジウム錯体、ロジウム錯体等が挙げられる。反応は、本発明に使用される不飽和基含有フェノール類が溶解する溶媒中で行われる。具体的には、四塩化炭素、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、モノクロルベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族ハロゲン化物、メチルエチルケトン、酢酸エチル、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン等を挙げることができるが、溶解性や触媒との相性より、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が望ましい。反応温度は６０〜１５０℃が好ましい。
【００２０】
上記Ｓｉ−Ｈ基含有ポリシロキサンは、ポリアルキルハイドロジェンシロキサン、ポリアリールハイドロジェンシロキサン、ポリアルキルアリールハイドロジェンシロキサン等より誘導することができ、具体的には、ポリメチルハイドロジェンシロキサン、ポリエチルハイドロジェンシロキサン、ポリフェニルハイドロジェンシロキサン、ポリメチルフェニルハイドロジェンシロキサン等が挙げられる。これらは２種類以上併用しても良い。
【００２１】
本発明の式（１）のポリシロキサン化合物のポリシロキサン基の長さは、式（１）のｎで表され、ｎが１〜５００であり、好適には３〜１００である。十分なシロキサンの特性を得るためにはある程度、ｎが大きい方がよいが、ｎが５００を越えるようなものでは、不飽和基を有するフェノール類との反応性が劣り、あまり実用的ではない。また、ポリシロキサンはポリマーであるためポリマー鎖の長短混ざりあった混合物で、重合度ｎはあくまで平均重合度であり、通常は重合度は分布をもって存在する
【００２２】
式（１）で示されるポリシロキサン化合物は具体的には、
【００２３】
【化７】

等が、挙げられるがこれらに限定されるものではない。またこれらポリシロキサン化合物は２種以上を併用して使用しても良い。
【００２４】
本発明では、炭酸ジエステルとしては、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等が用いられる。これらの中でも特にジフェニルカーボネートが好ましい。また、着色原因ともなるジフェニルカーボネート中の塩素含有量は、２０ｐｐｍ以下であることが好ましい。より好ましくは、１０ｐｐｍ以下である。ジフェニルカーボネートは、芳香族ジヒドロキシ化合物と脂肪族ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して０．９７〜１．２モルの量で用いられることが好ましく、特に好ましくは０．９９〜１．１０モルの量である。
【００２５】
本発明に用いられるポリカーボネート樹脂の重量平均分子量は３０，０００〜２００，０００であることが好ましく、さらに好ましくは４０，０００〜１２０，０００である。
【００２６】
本発明に関わるポリカーボネートの製造方法では、触媒として、塩基性化合物およびエステル交換触媒等が用いられる。このような化合物としては、特にアルカリ金属および／またはアルカリ土類化合物、含窒素化合物、スズ等の金属化合物等があげられる。
【００２７】
アルカリ金属およびアルカリ土類金属等の有機酸、無機塩類、酸化物、水酸化物、水素化物あるいはアルコキシド、４級アンモニウムヒドロキシドおよびそれらの塩、アミン類等が好ましく用いられ、これらの化合物は単独もしくは組み合わせて用いることができる。
【００２８】
アルカリ金属化合物としては、具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リチウム、フェニルリン酸２ナトリウム、ビスフェノールＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２セシウム塩、２リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩、リチウム塩等が用いられる。
【００２９】
アルカリ土類金属化合物としては、具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム等が用いられる。
【００３０】
含窒素化合物としては、具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル、アリール、アルアリール基などを有するアンモニウムヒドロキシド類、トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類、ジエチルアミン、ジブチルアミン等の２級アミン類、プロピルアミン、ブチルアミン等の１級アミン類、２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール等のイミダゾール類、あるいは、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基性塩等が用いられる。
【００３１】
アルカリ金属化合物として、周期律表第１４族元素のアート錯体のアルカリ金属塩あるいは周期律表第１４族元素のオキソ酸のアルカリ塩を用いることができる。ここで周期律表第１４族の元素とは珪素、ゲルマニウム、錫のことをいう。
【００３２】
具体的には周期律表第１４族元素のアート錯体のアルカリ金属塩としてＮＮａＧｅ（ＯＭｅ）_５、ＮａＧｅ（ＯＥｔ）_３などのゲルマニウム化合物、ＮａＳｎ（ＯＭｅ）_３、ＮａＳｎ（Ｏｍｅ）_２（ＯＥｔ）、などの錫化合物があげられる。また周期律表第１４族の元素のオキソ酸のアルカリ塩としてオルトケイ酸モノナトリウム、モノ錫酸ジナトリウム塩、ゲルマニウム酸モノナトリウム塩などがあげられる。
【００３３】
これらの触媒は、芳香族ジヒドロキシ化合物と脂肪族ジヒドロキシ化合物との合計１モルに対して、１０^−９〜１０^−３モルの量で、好ましくは１０^−７〜１０^−５モルの量で用いられる。
【００３４】
本発明に関わるエステル交換反応は、公知の溶融重縮合法により行うことができる。すなわち、前記の原料、および触媒を用いて、加熱下に常圧または減圧下にエステル交換反応により副生物を除去しながら溶融重縮合を行うものである。反応は、一般には二段以上の多段工程で実施される。
【００３５】
具体的には、第一段目の反応を１２０〜２６０℃、好ましくは１８０〜２４０℃の温度で０〜５時間、好ましくは０．５〜３時間反応させる。次いで反応系の減圧度を上げながら反応温度を高めて芳香族ジヒドロキシ化合物と脂肪族ジヒドロキシ化合物と炭酸ジエステルとの反応を行い、最終的には１３３Ｐａ以下の減圧下、２００〜３００℃の温度で重縮合反応を行う。このような反応は、連続式で行っても良くまたバッチ式で行っても良い。上記の反応を行うに際して用いられる反応装置は、槽型、押出機型、もしくはパドル翼、格子翼、メガネ翼等、表面更新性の優れた撹拌翼を備えた横型装置であってもよい。
【００３６】
本発明の芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂は、触媒を除去または失活させることにより、優れた熱安定性、および加水分解安定性が得られる。一般的には、公知の酸性物質の添加によるアルカリ金属化合物あるいはアルカリ土類金属化合物等のエステル交換触媒の中和による失活を行う方法が好適に実施される。これらの物質として具体的には、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、フェニルリン酸、フェニルホスフィン、フェニルホスフィン酸、フェニルホスホン酸、ジフェニルホスフェート、ジフェニルホスファイト、ジフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィンオキシド、ジフェニルホスフィン酸、モノメチルアシッドホスフェート、モノメチルアシッドホスファイト、ジメチルアシッドホスフェート、ジメチルアシッドホスファイト、モノブチルアシッドホスフェート、モノブチルアシッドホスファイト、ジブチルアシッドホスフェート、ジブチルアシッドホスファイト、モノステアリルアシッドホスフェート、ジステアリルアシッドホスフェート等のリン含有酸性化合物、ｐ−トルエンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸メチル、ｐ−トルエンスルホン酸エチル、ｐ−トルエンスルホン酸プロピル、ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ペンチル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル、ｐ−トルエンスルホン酸オクチル、ｐ−トルエンスルホン酸フェニル、ｐ−トルエンスルホン酸フェネチル、ｐ−トルエンスルホン酸ナフチル等の芳香族スルホン酸化合物が挙げられる。
【００３７】
このリン含有酸性化合物、芳香族スルホン酸化合物の添加量は、アルカリ金属化合物及び／またはアルカリ土類金属化合物触媒に対して中和当量の１／５〜２０倍量、好ましくは１／２〜１０倍量であり、これより少ないと所望の効果が得られず、過剰では耐熱物性、機械的物性が低下し適当ではない。
【００３８】
また、芳香族スルホン酸ホスホニウム塩も好適に用いることができ、例えば、ベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ｐ−トルエンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ブチルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、オクチルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラメチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラエチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩等が挙げられる。
【００３９】
この芳香族スルホン酸ホスホニウム塩の添加量は、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートに対して１〜３００ｐｐｍ、好ましくは１０〜１００ｐｐｍであり、これより少ないと所望の効果が得られず、過剰では耐熱物性、機械的物性が低下し適当ではない。
【００４０】
本発明において、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂に、上記の特定の化合物と共にその物性を損なわない範囲で目的に応じ、各種公知の添加剤を加えることが望ましい。
【００４１】
酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、トリス（４−メチルフェニル）ホスファイト、トリス（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（モノノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２−メチル−４−エチルフェニル）ホスファイト、トリス（２−メチル−４−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）ホスファイト、トリス（モノ，ジノニルフェニル）ホスファイト、ビス（モノノニルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、ビス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）ペンタエリスリトール−ジ−ホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジメチルフェニル）オクチルホスファイト、２，２−メチレンビス（４−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）オクチルホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジメチルフェニル）ヘキシルホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ヘキシルホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ステアリルホスファイト等のホスファイト化合物、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，９−ビス｛２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、１，１，３−トリス［２−メチル−４−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシ）−５−ｔ−ブチルフェニル］ブタン等のヒンダードフェノール系化合物、５，７−ジ−ｔ−ブチル−３−（３，４−ジメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン等が挙げられる。これらは、単独、あるいは２種以上併用して用いてもよい。
【００４２】
これらの酸化防止剤の添加量は、芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート１００重量部に対して０．００５〜０．１重量部、好ましくは、０．０１〜０．０８重量部、さらに好ましくは、０．０１〜０．０５重量であり、これより少ないと所望の効果が得られず、過剰では耐熱物性、機械的物性が低下し適当ではない。
【００４３】
紫外線吸収剤としては、例えば、２−（５−メチル―２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］］、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、２，４−ジヒドロキソベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６，−テトラメチルピペリジン重縮合物、ビス（１−オクチロキシ−２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート等が挙げられる。これらは、単独、あるいは２種以上併用して用いてもよい。
【００４４】
離型剤としては、一般的に使用されているものでよく、例えば、天然、合成パラフィン類、シリコーンオイル、ポリエチレンワックス類、蜜蝋、ステアリン酸モノグリセリド、パルミチン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールテトラステアレート等の脂肪酸エステル等が挙げられ、これらは、単独、あるいは２種以上併用して用いてもよい。
【００４５】
その他難燃剤、耐電防止剤、顔料、染料等必要に応じて単独または組み合わせて用いることができる。また、添加時期、添加方法、添加形態については特に制限はないが、触媒失活剤と同時に、あるいは触媒失活剤を添加した後に添加するのが好ましい。
【００４６】
芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートへのこれら触媒失活剤、添加剤等の添加時期に制限はなく、例えば、重縮合反応の終了後樹脂が溶融状態にあるうちに添加する方法、あるいは一端冷却ペレット化した後に再溶融混合するなどの方法が挙げられる。また、添加方法にも制限はなく、例えば、重合器に直接投入混合する方法、単軸、あるいは２軸押出機等を用い混練する方法などが挙げられる。添加の形態としては、希釈せずにそのまま添加する方法、可溶性溶媒に希釈し添加する方法、マスターバッチの形態で添加する方法などが挙げられるが特に制限はない。
【００４７】
触媒失活後、ポリマー中の低沸点化合物を１３〜１３３Ｐａの圧力、２００〜３００℃の温度で脱揮除去する工程を設けても良く、このためにはパドル翼、格子翼、メガネ翼等を備えた横型混練機、多ベント式２軸押出機あるいは薄膜蒸発器が好適に用いられる。
【００４８】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例に何らの制限を受けるものではない。なお、得られた芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂組成物の評価は、以下の方法で行った。
【００４９】
また、実施例において物性値は以下の方法で測定した。
分子量：ＧＰＣ（ＳｈｏｄｅｘＧＰＣｓｙｓｔｅｍ２１Ｈ）を用い、ポリスチレン換算分子量（重量平均分子量：Ｍｗ）として測定した。展開溶媒にはクロロホルムを用いた。
屈折率：ＪＩＳ　Ｋ　７１０５に従いアッベ屈折計にて測定した。
アッベ数：アッベ屈折計にて測定し、計算して求めた。
耐油性評価：ＡＳＴＭ−Ｄ７９０に基づく棒状試験片を射出成形により成形し、曲げ歪試験法により、試験片に所定の撓み量を与え、試験薬品を塗布後クラックの発生状況を観察した。試験薬品塗布後、２４時間経過した時点でクラックの発生しなかった最大撓み量（ｍｍ）を評価値とした。
【００５０】合成例１
ＢＰＺ６０３８．１ｋｇ（２２．５モル）、ＴＣＤＤＭ４４１６．５ｇ（２２．５モル）、ジフェニルカーボネート１０８３２．５ｇ（４７．２５モル）、炭酸水素ナトリウム０．０１１３ｇ（１．３５＊１０^−４モル）を、撹拌機および留出装置付きの５０リットル反応釜に入れ、窒素雰囲気下２００℃に加熱し、３０分間撹拌した。その後、減圧度を１８０００Ｐａに調整すると同時に、２４０℃まで昇温し副生するフェノールを留去しながらエステル交換反応を行った。ほぼフェノールの留出が終了した時点で真空度をさらに上げ、１３３Ｐａ以下の条件でさらに２時間撹拌を行い、反応終了後、反応器内に窒素を吹き込み常圧に戻し、生成ポリカーボネートを取り出した。この共重合体のＢＰＺから誘導される構成単位とＴＣＤＤＭから誘導される構成単位のモル比は、５０：５０であり、Ｍｗ＝５７０００の樹脂が得られた。
【００５１】実施例１
合成例１で合成したポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、触媒失活剤として、ｐ−トルエンスルホン酸ｎ−ブチル０．０００７重量部、酸化防止剤としてトリス（２、４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト（旭電化工業社商品名アデカスタブ−２１１２）０．０５重量部、ポリシロキサン化合物として下記構造を主成分とするポリシロキサン１重量部を２軸押出機（バレル温度２４０℃）で混練してポリカーボネート樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の耐薬品性評価結果を表１に示す。
【００５２】
【化８】

【００５３】実施例２
ポリシロキサン化合物として下記構造を主成分とするポリシロキサン２重量部を用いた以外は実施例１と全く同様の操作で樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の耐薬品性評価結果を表１に示す。
【００５４】
【化９】

【００５５】比較例１
ポリシロキサン化合物を添加しない他は、実施例１と全く同様の操作を行い樹脂組成物を得た。この樹脂組成物の耐薬品性評価結果を表１に示す。
【００５６】
【表１】

【００５７】
【発明の効果】
本発明によれば、高いアッベ数、低い光弾性定数を有する耐薬品性に優れた芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネートを合成することが可能となり、各種光学レンズやプリズム、光学ディスク基板、光ファイバーなどのプラスチック光学材料用として好適に利用できる。

Claims

芳香族炭酸ジエステルと少なくとも１種の脂環構造を有するジヒドロキシ化合物及び少なくとも１種の芳香族ジヒドロキシ化合物とをアルカリ金属化合物及び／またはアルカリ土類金属化合物触媒の存在下、溶融重合せしめて得られた芳香族―脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂１００重量部に、式（１）で表されるポリシロキサン化合物０．０５〜５０重量部を配合してなる芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂組成物。

（上記式（１）においてＲ５〜Ｒ１２は、各々独立して炭素数１〜７のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜７のアルケニル基、炭素数１〜７のアルコキシ基、又は炭素数７〜１７のアラルキル基を表す。これらの基に炭素原子を有する場合には置換基として、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数２〜７のアルケニル基、炭素数１〜７のアルコキシ基、炭素数６〜１２のヒドロキシフェニル基を有することもできる。ｎは１〜５００の整数を表す。）
少なくとも１種の脂環構造を有するジヒドロキシ化合物が、下記式（２）で示されるトリシクロ（５．２．１．０^２，６）デカンジメタノールであることを特徴とする請求項１記載の芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂組成物。
少なくとも１種の芳香族ジヒドロキシ化合物が、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンであることを特徴とする請求項１又は２記載の芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂組成物。
芳香族炭酸ジエステルがジフェニルカーボネートであることを特徴とする請求項１〜３何れか１項記載の芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂組成物。
請求項１〜４記載の芳香族−脂肪族共重合ポリカーボネート樹脂組成物と芳香族ポリカーボネート樹脂からなる、（１）屈折率１．５４〜１．６０、（２）アッベ数３５〜５０である光学材料。
【０００１】