JP2003536103A - 画像形成性エレメントおよび無水印刷版 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
本発明は、画像化し、現像して印刷版を製造することが可能な画像形成性エレメントに関する。画像形成性エレメントは、基板と、基板に付着させた電磁放射線感応画像形成性組成物とを備える。画像形成性組成物は、(a)第1の層であって(i)化学線が吸収されると現像液に対する溶解性が低下する感光性組成物と、(ii)抑制物質とを有する、第1の層と、(b)撥インク性ポリマー材料を含む、第2の層とを含む。一実施形態において、抑制物質は、熱、または前記化学線より波長の長い前記電磁放射線によって活性化される。抑制物質は、活性化されると、化学線の吸収による感光性組成物の溶解性の低下を阻止する。他の実施形態において、抑制物質は、最初は、化学線の吸収による感光性組成物の溶解性の低下を阻止する。しかし、抑制物質は、熱、または化学線より波長の長い電磁放射線によって不活化され、不活化されると感光性組成物の溶解性の低下を阻止しなくなる。
Description
【0001】
(発明の背景)
(1.発明の分野)
本発明は、無水リソグラフ印刷版を作製するのに使用できる画像形成性エレメ
ントに関する。本発明は、より詳細には、基板、および該基板に付着させた電磁
放射線感応画像形成性組成物を有する画像形成性エレメントに関する。電磁放射
線感応画像形成性組成物は、第1の層により化学線が吸収されると現像液に対す
る溶解性が低下する感光性組成物と、活性化されて溶解性の低下を阻止し、また
は不活化されて溶解性の低下の阻止を回避することができる抑制物質とを有する
第1の層を含む。
ントに関する。本発明は、より詳細には、基板、および該基板に付着させた電磁
放射線感応画像形成性組成物を有する画像形成性エレメントに関する。電磁放射
線感応画像形成性組成物は、第1の層により化学線が吸収されると現像液に対す
る溶解性が低下する感光性組成物と、活性化されて溶解性の低下を阻止し、また
は不活化されて溶解性の低下の阻止を回避することができる抑制物質とを有する
第1の層を含む。
【0002】
(2.背景情報)
無水印刷版は、1970年から存在し、オフセット印刷に湿し水を要しないという
利点を有している。多くの無水印刷版は、吸光性の画像形成性層を覆うシリコー
ンの如きインク剥離層を含む。画像形成は、典型的には、画像形成性層を紫外線
照射源に曝露させ、次いで撥インク性塗布膜を選択的に除去することによって達
成される。
利点を有している。多くの無水印刷版は、吸光性の画像形成性層を覆うシリコー
ンの如きインク剥離層を含む。画像形成は、典型的には、画像形成性層を紫外線
照射源に曝露させ、次いで撥インク性塗布膜を選択的に除去することによって達
成される。
【0003】
ポジ型無水版については、画像形成性層は、例えば米国特許第3,511,178号、
第3,677,178号および第4,775,607号に記載されているネガ型ジアゾ樹脂を典型的
に含有する吸光層、または例えば米国特許第3,894,873号、第5,232,813号および
第5,503,074号に記載されている光重合性化合物を含有する吸光層である。ネガ
型無水版については、例えば米国特許第4,342,820号および第4,358,522号に記載
されているように、典型的にはジアゾナフトキノンを含有する画像形成性層を紫
外線照射により可溶化するか、または例えば米国特許第4,842,990号に記載され
ているように、光誘導酸触媒加水分解を受ける層を画像化することによって画像
形成を達成する。さらに、米国特許第3,933,495号には、現像工程において、使
用する現像液に応じて画像形成性層の溶解性が現像液により向上または低下する
デュアル・トーン無水版が記載されている。
第3,677,178号および第4,775,607号に記載されているネガ型ジアゾ樹脂を典型的
に含有する吸光層、または例えば米国特許第3,894,873号、第5,232,813号および
第5,503,074号に記載されている光重合性化合物を含有する吸光層である。ネガ
型無水版については、例えば米国特許第4,342,820号および第4,358,522号に記載
されているように、典型的にはジアゾナフトキノンを含有する画像形成性層を紫
外線照射により可溶化するか、または例えば米国特許第4,842,990号に記載され
ているように、光誘導酸触媒加水分解を受ける層を画像化することによって画像
形成を達成する。さらに、米国特許第3,933,495号には、現像工程において、使
用する現像液に応じて画像形成性層の溶解性が現像液により向上または低下する
デュアル・トーン無水版が記載されている。
【0004】
上述の版製造方法の多くは、作製するのに費用および労力を要する、版を画像
化するためのマスクとして使用される写真フィルムを必要とする。しかし、近年
におけるコンピュータ・ツー・プレート(CTP)技術の進歩により、写真フィルム
・マスクを必要とせずに画像化することのできる新しい無水版を開発する必要性
が生じた。
化するためのマスクとして使用される写真フィルムを必要とする。しかし、近年
におけるコンピュータ・ツー・プレート(CTP)技術の進歩により、写真フィルム
・マスクを必要とせずに画像化することのできる新しい無水版を開発する必要性
が生じた。
【0005】
無水版作製技術をCTP用途に適応させる1つの方法は、感光性無水版上にコンタ
クト・マスクを生成することである。該マスクは、例えば、インク・ジェット・
プリンタやエレクトログラフィック・プリンタの如きデジタル・デバイス、また
はデジタル制御レーザを使用した任意の他の装置を介して生成されうる。光互変
性トップ層あるいはレーザ誘導可溶化または不溶化不透明トップ層に、レーザ・
アブレーション、レーザ・アブレーティブ転写およびレーザ誘導色相変化技術に
よって該マスクを生成することもできる。しかし、マスク被覆印刷版は、マスク
を形成するために追加的な層を必要とするため、製造するのにより多くの費用お
よび時間を要するものでもある。
クト・マスクを生成することである。該マスクは、例えば、インク・ジェット・
プリンタやエレクトログラフィック・プリンタの如きデジタル・デバイス、また
はデジタル制御レーザを使用した任意の他の装置を介して生成されうる。光互変
性トップ層あるいはレーザ誘導可溶化または不溶化不透明トップ層に、レーザ・
アブレーション、レーザ・アブレーティブ転写およびレーザ誘導色相変化技術に
よって該マスクを生成することもできる。しかし、マスク被覆印刷版は、マスク
を形成するために追加的な層を必要とするため、製造するのにより多くの費用お
よび時間を要するものでもある。
【0006】
例えば、米国特許第5,339,737号には、多量のレーザ・エネルギーを用いたレ
ーザ・アブレーションによって赤外線吸収層を物理的に転換することで上部のシ
リコーン層を除去することが記載されている。しかし、この方法は多くの時間を
要し、その問題を回避するために、米国特許第5,353,705号には、赤外線吸収層
の下に融除性で赤外線吸収性をもたない層を追加することが記載されている。米
国特許第5,379,698号に記載されている他の手法は、画像形成性層として金属性
または金属酸化物の薄膜を使用するものである。
ーザ・アブレーションによって赤外線吸収層を物理的に転換することで上部のシ
リコーン層を除去することが記載されている。しかし、この方法は多くの時間を
要し、その問題を回避するために、米国特許第5,353,705号には、赤外線吸収層
の下に融除性で赤外線吸収性をもたない層を追加することが記載されている。米
国特許第5,379,698号に記載されている他の手法は、画像形成性層として金属性
または金属酸化物の薄膜を使用するものである。
【0007】
他の例として、欧州特許公報第738930号には、赤外から可視領域の光を吸収す
ることで、紫外から可視領域に吸収をもつ第2の成分Bを脱色する成分Aを含む層
をポリエステル基板に付着させることが記載されている。この層をマスクとして
第2の画像形成感光層に使用して、成分AをIRに画像露光した後、成分BをUVに全
面露光し、次いで現像を行って画像を得る。
ることで、紫外から可視領域に吸収をもつ第2の成分Bを脱色する成分Aを含む層
をポリエステル基板に付着させることが記載されている。この層をマスクとして
第2の画像形成感光層に使用して、成分AをIRに画像露光した後、成分BをUVに全
面露光し、次いで現像を行って画像を得る。
【0008】
米国特許第5,955,238号には、マスク層の使用を避けるために、撥インク性の
表面がオーバコートされた支持体上にレーザ光感応層を備えたデジタルのネガ型
無水版前駆体が記載されている。レーザ感応層は、酸発生剤、酸感受性ポリマー
および光熱転換剤を含有する。版前駆体にUVを全面照射して酸を生成した後に、
画像形成するようにIRレーザ露光を行うことで、熱誘導酸触媒反応により酸感受
性ポリマーを選択的に可溶化する。湿式現像によって、熱曝露部を選択的に除去
する。
表面がオーバコートされた支持体上にレーザ光感応層を備えたデジタルのネガ型
無水版前駆体が記載されている。レーザ感応層は、酸発生剤、酸感受性ポリマー
および光熱転換剤を含有する。版前駆体にUVを全面照射して酸を生成した後に、
画像形成するようにIRレーザ露光を行うことで、熱誘導酸触媒反応により酸感受
性ポリマーを選択的に可溶化する。湿式現像によって、熱曝露部を選択的に除去
する。
【0009】
他の例として、WIPO公報WO97/07430号には、熱または光に画像形成するように
曝露させて画像形成するように曝露した領域を硬化する撥インク性成分と光反応
性成分の混合物を含む層を支持体上に付着させることによって調製された無水版
先駆体が記載されている。
曝露させて画像形成するように曝露した領域を硬化する撥インク性成分と光反応
性成分の混合物を含む層を支持体上に付着させることによって調製された無水版
先駆体が記載されている。
【0010】
化学線に画像露光することによって画像化されるポジ型無水版が米国特許第4,
775,607号に記載されており、それは、架橋シリコーンエラストマーがオーバコ
ートされた特定のジアゾ樹脂縮合体を含む。感光性層は、長波長可視または赤外
線への露光によるデジタル画像化に適さない。
775,607号に記載されており、それは、架橋シリコーンエラストマーがオーバコ
ートされた特定のジアゾ樹脂縮合体を含む。感光性層は、長波長可視または赤外
線への露光によるデジタル画像化に適さない。
【0011】
したがって、コストが高く時間のかかるマスク層の使用を避ける無水CTP印刷
版を調製するのに使用できる画像形成性エレメントが求められる。さらに、例え
ば赤外レーザに画像露光することによってデジタル的に画像化する、または例え
ば化学線に画像露光することによってアナログ的に画像化することができるよう
にデュアル・トーンを有する無水CTP印刷版のための画像形成性エレメントが求
められる。また、ネガ型およびポジ型の実施形態を有する印刷版を調製するのに
使用できる画像形成性エレメントが求められる。本発明の目的は、当該画像形成
性エレメントおよび無水印刷版を提供することである。本発明の画像形成性エレ
メントおよび印刷版はマスク層が必要であるといった問題が克服されており、ネ
ガ型およびポジ型の実施形態に採用することができる。
版を調製するのに使用できる画像形成性エレメントが求められる。さらに、例え
ば赤外レーザに画像露光することによってデジタル的に画像化する、または例え
ば化学線に画像露光することによってアナログ的に画像化することができるよう
にデュアル・トーンを有する無水CTP印刷版のための画像形成性エレメントが求
められる。また、ネガ型およびポジ型の実施形態を有する印刷版を調製するのに
使用できる画像形成性エレメントが求められる。本発明の目的は、当該画像形成
性エレメントおよび無水印刷版を提供することである。本発明の画像形成性エレ
メントおよび印刷版はマスク層が必要であるといった問題が克服されており、ネ
ガ型およびポジ型の実施形態に採用することができる。
【0012】
(発明の概要)
感光性成分の現像液に対する溶解性に影響を及ぼす化学反応の制御に関する本
発明によって、上述した現行技術の限界が克服される。本発明の実施形態は、当
該化学反応を行うとともに、直接または間接的に化学反応に影響しうる化学反応
の抑制物質の如き干渉分子によって影響されうる任意の感光性物質を含むことが
できる。
発明によって、上述した現行技術の限界が克服される。本発明の実施形態は、当
該化学反応を行うとともに、直接または間接的に化学反応に影響しうる化学反応
の抑制物質の如き干渉分子によって影響されうる任意の感光性物質を含むことが
できる。
【0013】
本発明の一実施形態において、画像形成性エレメントは、(A)基板と、(B)基板
に付着させた電磁放射線感応画像形成性組成物とを含む。電磁放射線感応画像形
成性組成物は、(a)第1の層であって(i)第1の層により化学線が吸収されると現像
液に対する溶解性が低下する感光性組成物と、(ii)熱、または前記化学線より波
長の長い電磁放射線によって活性化されて、化学線の吸収による第1の層の感光
性組成物の溶解性の低下を阻止する抑制物質とを含む第1の層と、(b)前記化学線
と、前記化学線より波長の長い電磁放射線の両方に対して透過性の撥インク性ポ
リマー材料を含む第1の層に隣接する第2の層とを備える。
に付着させた電磁放射線感応画像形成性組成物とを含む。電磁放射線感応画像形
成性組成物は、(a)第1の層であって(i)第1の層により化学線が吸収されると現像
液に対する溶解性が低下する感光性組成物と、(ii)熱、または前記化学線より波
長の長い電磁放射線によって活性化されて、化学線の吸収による第1の層の感光
性組成物の溶解性の低下を阻止する抑制物質とを含む第1の層と、(b)前記化学線
と、前記化学線より波長の長い電磁放射線の両方に対して透過性の撥インク性ポ
リマー材料を含む第1の層に隣接する第2の層とを備える。
【0014】
本実施形態において、第1の層の感光性組成物は、アリールジアゾニウム塩ま
たはアリールジアゾニウム塩の混合物と縮合性化合物との縮合体を含むのが好ま
しい。抑制物質は、シアニン染料の如き、赤外線を吸収するとともに化学線に対
して透過性の染料または顔料であるのが好ましい。第2の層の撥インク性ポリマ
ー材料は、架橋ポリジオルガノシロキサンを含むのが好ましい。熱放射または赤
外線に画像曝露させることによってデジタル・ネガ型無水印刷版を調製し、また
は化学線を沿画像的に照射することによってアナログ・ポジ型無水印刷版を調製
するのに本実施形態を用いることができる。
たはアリールジアゾニウム塩の混合物と縮合性化合物との縮合体を含むのが好ま
しい。抑制物質は、シアニン染料の如き、赤外線を吸収するとともに化学線に対
して透過性の染料または顔料であるのが好ましい。第2の層の撥インク性ポリマ
ー材料は、架橋ポリジオルガノシロキサンを含むのが好ましい。熱放射または赤
外線に画像曝露させることによってデジタル・ネガ型無水印刷版を調製し、また
は化学線を沿画像的に照射することによってアナログ・ポジ型無水印刷版を調製
するのに本実施形態を用いることができる。
【0015】
本発明の他の実施形態において、画像形成性エレメントは、(A)基板と、(B)基
板に付着させた電磁放射線感応画像形成性組成物とを含む。電磁放射線感応画像
形成性組成物は、(a)第1の層であって(i)第1の層により化学線が吸収されると現
像液に対する溶解性が低下する感光性組成物と、(ii)化学線の吸収による第1の
層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止する抑制物質であって、熱、または前記
化学線より波長の長い電磁放射線によって不活化され、不活化すると、化学線の
吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止しなくなる抑制物質と
を含む第1の層と、(b)前記化学線と、前記化学線より波長の長い電磁放射線の両
方に対して透過性の撥インク性ポリマー材料を含む第1の層に隣接する第2の層と
を備える。
板に付着させた電磁放射線感応画像形成性組成物とを含む。電磁放射線感応画像
形成性組成物は、(a)第1の層であって(i)第1の層により化学線が吸収されると現
像液に対する溶解性が低下する感光性組成物と、(ii)化学線の吸収による第1の
層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止する抑制物質であって、熱、または前記
化学線より波長の長い電磁放射線によって不活化され、不活化すると、化学線の
吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止しなくなる抑制物質と
を含む第1の層と、(b)前記化学線と、前記化学線より波長の長い電磁放射線の両
方に対して透過性の撥インク性ポリマー材料を含む第1の層に隣接する第2の層と
を備える。
【0016】
本実施形態において、第1の層の感光性組成物は、少なくとも1つの光重合性エ
チレン不飽和基を含むのが好ましく、非赤外線吸収性光開始剤または光増感剤を
さらに含むのが好ましい。抑制物質は、好ましくは、ニトロソモノマーと平衡状
態にあるニトロソダイマーを含み、ニトロソモノマーは第1の層の遊離基重合性
化合物の重合を阻止する。第1の層は、赤外線を吸収する化合物をさらに含むこ
とができる。第2の層の撥インク性ポリマー材料は、架橋ポリジオルガノシロキ
サンを含む。熱放射または赤外線に画像曝露させることによってデジタル・ポジ
型無水印刷版を調製するのに本実施形態を用いることができる。
チレン不飽和基を含むのが好ましく、非赤外線吸収性光開始剤または光増感剤を
さらに含むのが好ましい。抑制物質は、好ましくは、ニトロソモノマーと平衡状
態にあるニトロソダイマーを含み、ニトロソモノマーは第1の層の遊離基重合性
化合物の重合を阻止する。第1の層は、赤外線を吸収する化合物をさらに含むこ
とができる。第2の層の撥インク性ポリマー材料は、架橋ポリジオルガノシロキ
サンを含む。熱放射または赤外線に画像曝露させることによってデジタル・ポジ
型無水印刷版を調製するのに本実施形態を用いることができる。
【0017】
さらなる実施形態において、本発明は、基板上に画像を形成する方法であって
、基板を設けること、基板に第1の層と電磁放射線感応画像形成性組成物の第2の
層とを付着させることによって画像形成性エレメントを形成すること、画像形成
性エレメントを赤外光に画像露光すること、画像形成性エレメントを化学線に露
光すること、および画像形成性エレメントを現像することを含む方法に向けられ
る。
、基板を設けること、基板に第1の層と電磁放射線感応画像形成性組成物の第2の
層とを付着させることによって画像形成性エレメントを形成すること、画像形成
性エレメントを赤外光に画像露光すること、画像形成性エレメントを化学線に露
光すること、および画像形成性エレメントを現像することを含む方法に向けられ
る。
【0018】
本発明およびその目的をより深く理解するために、十分な応用、および添付の
請求項に示されている本発明の範囲に鑑みて考察される以下の説明を参照する。
請求項に示されている本発明の範囲に鑑みて考察される以下の説明を参照する。
【0019】
(発明の詳細な説明)
本発明は、電磁放射線感応画像形成性組成物が基板上に第1の層を含む画像形
成性エレメントおよび画像形成性エレメント作製方法を対象とする。第1の層は
、第1の層により化学線が吸収されると現像液に対する溶解性が低下する感光性
組成物を含む。画像形成性エレメントから印刷版を作製する機能は、感光性の第
1の層の現像液に対する溶解性の変化を制御する機能に由来する。感光性の第1の
層の溶解性は、活性化されて感光性の第1の層の現像液に対する溶解性の低下を
阻止し、または不活化されて、化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶
解性を低下させることができる抑制物質によって制御される。抑制物質を熱、ま
たは化学線と異なる波長の電磁放射線に曝露させることによって活性化または不
活化を行うことができる。
成性エレメントおよび画像形成性エレメント作製方法を対象とする。第1の層は
、第1の層により化学線が吸収されると現像液に対する溶解性が低下する感光性
組成物を含む。画像形成性エレメントから印刷版を作製する機能は、感光性の第
1の層の現像液に対する溶解性の変化を制御する機能に由来する。感光性の第1の
層の溶解性は、活性化されて感光性の第1の層の現像液に対する溶解性の低下を
阻止し、または不活化されて、化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶
解性を低下させることができる抑制物質によって制御される。抑制物質を熱、ま
たは化学線と異なる波長の電磁放射線に曝露させることによって活性化または不
活化を行うことができる。
【0020】
一実施形態において、本発明は、基板に付着させた第1の層および第2の層を含
む画像形成性エレメントである。第1の層は、感光性物質を含み、紫外(UV)また
は可視スペクトル領域、あるいはそれらを併せた領域で化学線を吸収することで
、現像液に対する層の溶解性を低下させる。第1の層は、熱、または化学線より
波長の長い電磁放射線によって活性化されて、化学線の吸収による第1の層の感
光性組成物の溶解性の低下を阻止することができる抑制物質をさらに含む。本実
施形態において、抑制物質は、エネルギーを吸収して活性化することができ、活
性化すると、感光性組成物の溶解性の低下を阻止する。本実施形態において、抑
制物質は化学線に対して実質的に透明である。
む画像形成性エレメントである。第1の層は、感光性物質を含み、紫外(UV)また
は可視スペクトル領域、あるいはそれらを併せた領域で化学線を吸収することで
、現像液に対する層の溶解性を低下させる。第1の層は、熱、または化学線より
波長の長い電磁放射線によって活性化されて、化学線の吸収による第1の層の感
光性組成物の溶解性の低下を阻止することができる抑制物質をさらに含む。本実
施形態において、抑制物質は、エネルギーを吸収して活性化することができ、活
性化すると、感光性組成物の溶解性の低下を阻止する。本実施形態において、抑
制物質は化学線に対して実質的に透明である。
【0021】
本実施形態は、熱放射または赤外線に画像曝露させることによってデジタル・
ネガ型無水印刷版を調製するのに使用できる画像形成性エレメントを提供する。
この曝露において、抑制物質は、画像形成するように活性化して、画像領域にお
ける第1の層の感光性組成物の現像液に対する溶解性の低下を阻止する。化学線
に全面露光した後、続く現像により、第2の層、および画像露光された第1の層の
少なくとも一部を除去して、ネガ型無水印刷版を作製する。
ネガ型無水印刷版を調製するのに使用できる画像形成性エレメントを提供する。
この曝露において、抑制物質は、画像形成するように活性化して、画像領域にお
ける第1の層の感光性組成物の現像液に対する溶解性の低下を阻止する。化学線
に全面露光した後、続く現像により、第2の層、および画像露光された第1の層の
少なくとも一部を除去して、ネガ型無水印刷版を作製する。
【0022】
ここで用いられる「ネガ型」は、熱放射または赤外線に画像曝露された領域が
インク受容領域になることを意味する。
インク受容領域になることを意味する。
【0023】
本実施形態は、化学線の沿画像照射によってアナログ・ポジ型無水印刷版を調
製するのに使用できる画像形成性エレメントをも提供する。この露光において、
抑制物質は活性化せず、画像領域における第1の層の感光性組成物の現像液に対
する溶解性の低下を阻止することはない。続く現像により、第2の層、および画
像露光されていない領域における第1の層を除去して、ポジ型無水印刷版を作製
する。
製するのに使用できる画像形成性エレメントをも提供する。この露光において、
抑制物質は活性化せず、画像領域における第1の層の感光性組成物の現像液に対
する溶解性の低下を阻止することはない。続く現像により、第2の層、および画
像露光されていない領域における第1の層を除去して、ポジ型無水印刷版を作製
する。
【0024】
第1の層における感光性物質に有用なポリマー化合物は、反応性ジアゾニウム
塩誘導体と、好適な反応性縮合性基を有する任意の種類のモノマーまたは樹脂と
の反応生成物の如きジアゾニウム重縮合生成物でありうる。例えば、当該モノマ
ーまたは樹脂は、反応性の縮合性アルデヒド基を有することができる。好ましく
は、縮合性反応体としてホルムアルデヒドおよびビスメトキシメチルジフェニル
エーテルが使用される。本発明に使用できる当該ジアゾニウム化合物および誘導
体の例示的な例が、本発明に引用して援用する米国特許第4,631,245号に記載さ
れている。特に好ましい化合物は、4-フェニルアミノ-2-メトキシフェニルジア
ゾニウム塩と4,4'-ビスメトキシメチルジフェニルエーテルとの重縮合体、およ
びその異性体である。
塩誘導体と、好適な反応性縮合性基を有する任意の種類のモノマーまたは樹脂と
の反応生成物の如きジアゾニウム重縮合生成物でありうる。例えば、当該モノマ
ーまたは樹脂は、反応性の縮合性アルデヒド基を有することができる。好ましく
は、縮合性反応体としてホルムアルデヒドおよびビスメトキシメチルジフェニル
エーテルが使用される。本発明に使用できる当該ジアゾニウム化合物および誘導
体の例示的な例が、本発明に引用して援用する米国特許第4,631,245号に記載さ
れている。特に好ましい化合物は、4-フェニルアミノ-2-メトキシフェニルジア
ゾニウム塩と4,4'-ビスメトキシメチルジフェニルエーテルとの重縮合体、およ
びその異性体である。
【0025】
本発明の第1の層における感光性物質に有用な反応性ジアゾニウム塩誘導体と
しては、N-アリールおよびN-アルキルアミノアリールジアゾニウム塩の誘導体が
挙げられる。第1の層における感光性物質のためのポリマー化合物のさらなる例
示的な例としては、p-フェニルアミノベンゼンジアゾニウムとホルムアルデヒド
の光硬化性縮合体が挙げられる。
しては、N-アリールおよびN-アルキルアミノアリールジアゾニウム塩の誘導体が
挙げられる。第1の層における感光性物質のためのポリマー化合物のさらなる例
示的な例としては、p-フェニルアミノベンゼンジアゾニウムとホルムアルデヒド
の光硬化性縮合体が挙げられる。
【0026】
好ましい実施形態において、第1の層における感光性物質は、以下の化学式で
示されるジアゾニウム塩を含むことができる。
示されるジアゾニウム塩を含むことができる。
【化1】
式中、R1はアニオンで、R2およびR3は任意の置換基を表し、R4は-NR6-または-S-
で、R5は、電磁放射線感応画像形成性組成物の曝露後にジアゾニウム塩の残基を
親油性にし、インク不溶性にする基である。R4が-NR6-である場合は、R6は水素
であるのが好ましい。
で、R5は、電磁放射線感応画像形成性組成物の曝露後にジアゾニウム塩の残基を
親油性にし、インク不溶性にする基である。R4が-NR6-である場合は、R6は水素
であるのが好ましい。
【0027】
R1はスルホン酸塩であるのが好ましい。それが存在する場合は、R2およびR3は
アルコキシ、ハロゲン、アルキルまたはアミンから選択されるのが好ましい。置
換基R2またはR3の存在は、ジアゾニウム化合物を安定化するのに役立つ。R5は以
下の化学式で示される基である。
アルコキシ、ハロゲン、アルキルまたはアミンから選択されるのが好ましい。置
換基R2またはR3の存在は、ジアゾニウム化合物を安定化するのに役立つ。R5は以
下の化学式で示される基である。
【化2】
式中、R7は凝縮剤の残基で、nは1から100の数字である。例えば、R7は-CH2-また
は以下の化学式で表される基でありうる。
は以下の化学式で表される基でありうる。
【化3】
したがって、基R5は、曝露されたジアゾニウム塩が処理時に洗い落とされるのを
防ぐためにジアゾニウム化合物をジアゾニウム樹脂に変換する縮合性の基を含む
。
防ぐためにジアゾニウム化合物をジアゾニウム樹脂に変換する縮合性の基を含む
。
【0028】
第1の層における感光性物質は、米国特許第4,631,245号に記載されているよう
な、ジアゾニウム塩またはジアゾニウム塩とホルムアルデヒドの混合物、4,4'-
ビス-メトキシメチルジフェニルエーテルおよび混合物、ならびにそれらの誘導
体であるのが好ましい。
な、ジアゾニウム塩またはジアゾニウム塩とホルムアルデヒドの混合物、4,4'-
ビス-メトキシメチルジフェニルエーテルおよび混合物、ならびにそれらの誘導
体であるのが好ましい。
【0029】
本発明に有用なジアゾニウム塩のさらなる例示的な例を以下に示す。
【化4】
式中、nは1から11の数字で、X-はSO3R-、BF4 -、RF6 -等の対アニオンであり、Rは
アルキル、アリールまたはアラルキル残基である。
アルキル、アリールまたはアラルキル残基である。
【0030】
本発明の感光性の第1の層に好適な市販物質の例示的な例が、本発明に引用し
て援用する米国特許第4,687,727号に記載されている。好ましい化合物は、好ま
しくはNEGA107(パンチム)として入手可能なメシチレンスルフネートとして析出
される3-メトキシジフェニルアミン-4-ジアゾニウムスルフェートおよび4,4'-ビ
スメトキシメチルジフェニルエーテルである。
て援用する米国特許第4,687,727号に記載されている。好ましい化合物は、好ま
しくはNEGA107(パンチム)として入手可能なメシチレンスルフネートとして析出
される3-メトキシジフェニルアミン-4-ジアゾニウムスルフェートおよび4,4'-ビ
スメトキシメチルジフェニルエーテルである。
【0031】
本発明に使用されるジアゾニウム重縮合生成物は、ジアゾモノマーとアルデヒ
ドの縮合反応、ならびに4-ジアゾ-ジフェニルアミン、1-ジアゾ-4-N,N-ジメチル
アミノベンゼン、1-ジアゾ-4-N,N-ジエチルアミノベンゼン、1-ジアゾ-4-N-エチ
ル-N-ヒドロキシエチルアミノベンゼン、1-ジアゾ-4-N-メチル-N-ヒドロキシエ
チルアミノベンゼン、1-ジアゾ-2,5-ジエトキシ-4-ベンゾイルアミノベンゼン、
1-ジアゾ-4-N-ベンジルアミノベンゼン、1-ジアゾ-4-N,N-ジメチルアミノベンゼ
ン、1-ジアゾ-4-モルホリノベンゼン、1-ジアゾ-2,5-ジメトキシ-4-p-トリメル
カプトベンゼン、1-ジアゾ-2-エトキシ-4-N,N-ジメチルアミノベンゼン、p-ジア
ゾジメチルアニリン、1-ジアゾ-2,5-ジブトキシ-4-モルホリノベンゼン、1-ジア
ゾ-2,5-ジエトキシ-4-モルホリノベンゼン、1-ジアゾ-2,5-ジメトキシ-4-p-トリ
メルカプトベンゼン、1-ジアゾ-3-エトキシ-4-N-メチル-N-ベンジルアミノベン
ゼン、1-ジアゾ-3-クロロ-4-N,N-ジエチルアミノベンゼン、1-ジアゾ-3-メチル-
4-ピロリジノベンゼン、1-ジアゾ-2-クロロ-4-N,N-ジメチルアミノ-5-メトキシ
ベンゼン、1-ジアゾ-3-メトキシ-4-ピロロジノベンゼン、3-メトキシ-4-ジアゾ
ジフェニルアミン、3-エトキシ-4-ジアゾジフェニルアミン、3-(n-プロポキシ)-
4-ジアゾジフェニルアミンまたは3-(イソプロポキシ)-4-ジアゾジフェニルアミ
ンの如きジアゾモノマーを、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオン
アルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ベンズアルデヒド、ま
たは(本願に引用して援用する)米国特許第5,112,743号に記載の1つまたは複数の
カルボン酸基を好ましくは1:1から1:0.5、より好ましくは1:1から1:08のモル比
で含有するアルデヒドの如き縮合剤で縮合させることによって調製される特定の
アニオンで析出させた後に、好適なアニオンで析出させることによって得ること
ができる。
ドの縮合反応、ならびに4-ジアゾ-ジフェニルアミン、1-ジアゾ-4-N,N-ジメチル
アミノベンゼン、1-ジアゾ-4-N,N-ジエチルアミノベンゼン、1-ジアゾ-4-N-エチ
ル-N-ヒドロキシエチルアミノベンゼン、1-ジアゾ-4-N-メチル-N-ヒドロキシエ
チルアミノベンゼン、1-ジアゾ-2,5-ジエトキシ-4-ベンゾイルアミノベンゼン、
1-ジアゾ-4-N-ベンジルアミノベンゼン、1-ジアゾ-4-N,N-ジメチルアミノベンゼ
ン、1-ジアゾ-4-モルホリノベンゼン、1-ジアゾ-2,5-ジメトキシ-4-p-トリメル
カプトベンゼン、1-ジアゾ-2-エトキシ-4-N,N-ジメチルアミノベンゼン、p-ジア
ゾジメチルアニリン、1-ジアゾ-2,5-ジブトキシ-4-モルホリノベンゼン、1-ジア
ゾ-2,5-ジエトキシ-4-モルホリノベンゼン、1-ジアゾ-2,5-ジメトキシ-4-p-トリ
メルカプトベンゼン、1-ジアゾ-3-エトキシ-4-N-メチル-N-ベンジルアミノベン
ゼン、1-ジアゾ-3-クロロ-4-N,N-ジエチルアミノベンゼン、1-ジアゾ-3-メチル-
4-ピロリジノベンゼン、1-ジアゾ-2-クロロ-4-N,N-ジメチルアミノ-5-メトキシ
ベンゼン、1-ジアゾ-3-メトキシ-4-ピロロジノベンゼン、3-メトキシ-4-ジアゾ
ジフェニルアミン、3-エトキシ-4-ジアゾジフェニルアミン、3-(n-プロポキシ)-
4-ジアゾジフェニルアミンまたは3-(イソプロポキシ)-4-ジアゾジフェニルアミ
ンの如きジアゾモノマーを、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオン
アルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、ベンズアルデヒド、ま
たは(本願に引用して援用する)米国特許第5,112,743号に記載の1つまたは複数の
カルボン酸基を好ましくは1:1から1:0.5、より好ましくは1:1から1:08のモル比
で含有するアルデヒドの如き縮合剤で縮合させることによって調製される特定の
アニオンで析出させた後に、好適なアニオンで析出させることによって得ること
ができる。
【0032】
有機溶媒に可溶なジアゾニウム重縮合生成物は、例えば、テトラフルオロホウ
酸、ヘキサフルオロリン酸、ヘキサフルオロアンチモン酸、ヘキサフルオロヒ酸
、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、4-4'-ビフェニルジスルホン酸、5-
ニトロ-o-トルエンスルホン酸、5-スルホサリチル酸、2,5-ジメチルベンゼンス
ルホン酸、2,4,6-トリメチルベンゼンスルホン酸、2-ニトロベンゼンスルホン酸
、3-クロロベンゼンスルホン酸、3-ブロモベンゼンスルホン酸、2-クロロ-5-ニ
トロベンゼンスルホン酸、2-フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、1-ナフト
ール-5-スルホン酸、2-メトキシ-4-ヒドロキシ-5-ベンゾイル-ベンゼン-スルホ
ン酸、4-トルエンスルホン酸などをアニオン源として選択することによって得ら
れる。これらの中でも、2,4,6-トリメチルベンゼンスルホン酸および2-メトキシ
-4-ヒドロキシ-5-ベンゾイルベンゼンスルホン酸が特に好ましい。
酸、ヘキサフルオロリン酸、ヘキサフルオロアンチモン酸、ヘキサフルオロヒ酸
、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、4-4'-ビフェニルジスルホン酸、5-
ニトロ-o-トルエンスルホン酸、5-スルホサリチル酸、2,5-ジメチルベンゼンス
ルホン酸、2,4,6-トリメチルベンゼンスルホン酸、2-ニトロベンゼンスルホン酸
、3-クロロベンゼンスルホン酸、3-ブロモベンゼンスルホン酸、2-クロロ-5-ニ
トロベンゼンスルホン酸、2-フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、1-ナフト
ール-5-スルホン酸、2-メトキシ-4-ヒドロキシ-5-ベンゾイル-ベンゼン-スルホ
ン酸、4-トルエンスルホン酸などをアニオン源として選択することによって得ら
れる。これらの中でも、2,4,6-トリメチルベンゼンスルホン酸および2-メトキシ
-4-ヒドロキシ-5-ベンゾイルベンゼンスルホン酸が特に好ましい。
【0033】
さらに、ジアゾニウム塩ユニットとは別に、縮合性化合物、特に芳香族アミン
、フェノール、フェノールエーテル、芳香族チオエーテル、芳香族炭化水素、芳
香族ヘテロサイクルまたは有機酸アミドから誘導される他の非感光性ユニットを
含む混合縮合精製物を使用することが可能である。
、フェノール、フェノールエーテル、芳香族チオエーテル、芳香族炭化水素、芳
香族ヘテロサイクルまたは有機酸アミドから誘導される他の非感光性ユニットを
含む混合縮合精製物を使用することが可能である。
【0034】
ジアゾニウム重縮合生成物の他の例示的な例としては、スルホン化ポリマーの
ジアゾニウム樹脂の付加物がある。当該ジアゾニウム付加物は、結合剤とともに
使用できるジアゾニウム塩縮合体の代わりに、結合剤無しで使用することが可能
である。米国特許第5,846,685号にはスルホン化アクリルポリマーのジアゾニウ
ム樹脂から構成されるジアゾニウム付加物が記載され、いずれも本願に引用して
援用する米国特許第4,408,532号および第5,846,685号にはスルホン化ポリエステ
ルのジアゾニウム樹脂から構成される対応する付加物が開示されている。
ジアゾニウム樹脂の付加物がある。当該ジアゾニウム付加物は、結合剤とともに
使用できるジアゾニウム塩縮合体の代わりに、結合剤無しで使用することが可能
である。米国特許第5,846,685号にはスルホン化アクリルポリマーのジアゾニウ
ム樹脂から構成されるジアゾニウム付加物が記載され、いずれも本願に引用して
援用する米国特許第4,408,532号および第5,846,685号にはスルホン化ポリエステ
ルのジアゾニウム樹脂から構成される対応する付加物が開示されている。
【0035】
電磁放射線感応組成物に1つまたは複数のジアゾニウム重縮合生成物が、組成
物の全重量に対して、好ましくは約1から約98重量%、より好ましくは約5から80
重量%、最も好ましくは約20から約60重量%の量で含まれる。
物の全重量に対して、好ましくは約1から約98重量%、より好ましくは約5から80
重量%、最も好ましくは約20から約60重量%の量で含まれる。
【0036】
感光性の第1の層は、結合剤として作用するポリマー化合物を追加的に含むこ
とができる。好ましい結合剤は、化学線に露光した際の基板への接着性を向上さ
せる。第1の層に好適な結合剤ポリマー化合物の例示的な例としては、酢酸ビニ
ル/クロトネート/ネオデカン酸ビニルコポリマーの如き酢酸ビニルのコポリマー
、スチレンと無水マレイン酸のコポリマー、カルボキシル官能化ポリビニルアセ
タール、アセタール官能化ポリビニルアルコールおよびカルボキシ官能アクリル
誘導体が挙げられる。
とができる。好ましい結合剤は、化学線に露光した際の基板への接着性を向上さ
せる。第1の層に好適な結合剤ポリマー化合物の例示的な例としては、酢酸ビニ
ル/クロトネート/ネオデカン酸ビニルコポリマーの如き酢酸ビニルのコポリマー
、スチレンと無水マレイン酸のコポリマー、カルボキシル官能化ポリビニルアセ
タール、アセタール官能化ポリビニルアルコールおよびカルボキシ官能アクリル
誘導体が挙げられる。
【0037】
ポリマー結合剤としては、ジアゾニウム重縮合生成物に基づく従来の印刷版に
有用であることが知られている任意の結合剤を使用できる。当該結合剤は、通常
はアルカリ可溶性樹脂である。現像性の観点からはアクリル系樹脂が好ましく、
耐用性の観点からはポリウレタン樹脂およびアセタール化ポリ(ビニルアルコー
ル)樹脂が好ましい。例えば、そのすべてを本願に引用して援用する米国特許第5
,700,619号、米国特許第3,847,614号、米国特許第4,154,614号、DE19644515、米
国特許第5,695,905号、米国特許第4,877,711号および欧州特許第208145号には好
適な結合剤材が開示されている。特に好ましいのは、以下に示すユニットA、Bお
よびCを含むポリビニルアセタール結合剤である。
有用であることが知られている任意の結合剤を使用できる。当該結合剤は、通常
はアルカリ可溶性樹脂である。現像性の観点からはアクリル系樹脂が好ましく、
耐用性の観点からはポリウレタン樹脂およびアセタール化ポリ(ビニルアルコー
ル)樹脂が好ましい。例えば、そのすべてを本願に引用して援用する米国特許第5
,700,619号、米国特許第3,847,614号、米国特許第4,154,614号、DE19644515、米
国特許第5,695,905号、米国特許第4,877,711号および欧州特許第208145号には好
適な結合剤材が開示されている。特に好ましいのは、以下に示すユニットA、Bお
よびCを含むポリビニルアセタール結合剤である。
【化5】
式中、R1はHまたは炭素数が1から4のアルキル、CH=CHCOOH、または以下に示す基
である。
である。
【化6】
R2は、H、炭素数が1から4のアルキル、アリール、または以下に示す基である。
【化7】
式中、R3およびR4は、独立に水素およびメチルから選択される。nは1から3の整
数である。R5はアルキル、アラルキル、アリール、アルコキシアリールまたはア
ルカノイルアミドアリールで、アルキル成分は1から8個の炭素原子を有し、アリ
ール成分は6または10個の炭素原子を有し、R6は水素、あるいは1から10個の炭素
原子を有する脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基で、Yは-CR7R8-CR9R10-、-CR7=
CR8-、または以下の構造を有する基である。
数である。R5はアルキル、アラルキル、アリール、アルコキシアリールまたはア
ルカノイルアミドアリールで、アルキル成分は1から8個の炭素原子を有し、アリ
ール成分は6または10個の炭素原子を有し、R6は水素、あるいは1から10個の炭素
原子を有する脂肪族、芳香族または芳香脂肪族基で、Yは-CR7R8-CR9R10-、-CR7=
CR8-、または以下の構造を有する基である。
【化8】
式中、R7、R8、R9およびR10は、独立に水素、または炭素数が1から4のアルキル
で、Xは-CH2、-CH(CH3)または-CH2CH2CH2である。
で、Xは-CH2、-CH(CH3)または-CH2CH2CH2である。
【0038】
ユニット(B)および(C)は、独立に選択された異なる基R1およびR2を有するポリ
マー分子に複数存在していてもよい。
マー分子に複数存在していてもよい。
【0039】
結合剤が存在する場合は、結合剤とジアゾニウム塩縮合体の重量比は、好まし
くは約50:1から0.1:1、より好ましくは約20:1から約0.2:1、最も好ましくは約5:
1から約0.3:1である。
くは約50:1から0.1:1、より好ましくは約20:1から約0.2:1、最も好ましくは約5:
1から約0.3:1である。
【0040】
本実施形態において、第1の層は、熱エネルギー、より波長の長い可視光線、
または好ましくは赤外線を吸収し、それらによって活性化され、活性化されると
、化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止する抑制物
質をも含む。本実施形態において、抑制物質は化学線に対して実質的に透過性を
維持するのが好ましい。1つの理論に縛られることを意図するのではないが、抑
制物質は、活性化すると、化学線を吸収することにより反応する感光性の第1の
層の機能を妨害するものと考えられる。したがって、抑制物質に吸収されるエネ
ルギーまたは電磁放射線に第1の層を画像曝露させると、化学線に反応する第1の
層の機能が画像に関して低下する。
または好ましくは赤外線を吸収し、それらによって活性化され、活性化されると
、化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止する抑制物
質をも含む。本実施形態において、抑制物質は化学線に対して実質的に透過性を
維持するのが好ましい。1つの理論に縛られることを意図するのではないが、抑
制物質は、活性化すると、化学線を吸収することにより反応する感光性の第1の
層の機能を妨害するものと考えられる。したがって、抑制物質に吸収されるエネ
ルギーまたは電磁放射線に第1の層を画像曝露させると、化学線に反応する第1の
層の機能が画像に関して低下する。
【0041】
1つの理論に縛られることを意図するのではないが、抑制物質は活性化されて
、感光性物質と直接相互作用し、化学線の吸収による感光性物質の反応を阻止す
ることができるものと考えられる。他の実施形態において、抑制物質は、直接的
に、例えば吸収した化学線を熱に変換することによって光熱変換材として機能す
ることができ、それが次に感光性物質の反応を阻止する。
、感光性物質と直接相互作用し、化学線の吸収による感光性物質の反応を阻止す
ることができるものと考えられる。他の実施形態において、抑制物質は、直接的
に、例えば吸収した化学線を熱に変換することによって光熱変換材として機能す
ることができ、それが次に感光性物質の反応を阻止する。
【0042】
本実施形態において、抑制物質は、IRまたは近IRスペクトル領域に吸収をもつ
顔料または染料であるのが好ましい。当該製品の多くは当業者に知られたもので
ある。好ましくは、抑制物質は、アリールアミニウム、ポリメチン、キノリウム
、トリアリールメタン、トリアリールアミン、チアゾリウム、インドリウム、オ
キサゾリウム、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、チオレン金属錯
体、スクアリリウム、クロコネート、シアニン、フタロシアニン、メロシアニン
、カルコゲノピリロアリーリジン、ビス(カルコゲノピリロ)ポリメチン、オキシ
インドリジン、キノイド、インドリジン、ピリリウム、チアジン、アズレニウム
、キサンテン、カーボンブラック、暗色無機顔料、黒色顔料、黄色顔料、橙色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、ポリマー
結合アゾ顔料、ポリマー結合アントラキノン顔料、ポリマー結合キナクリドン顔
料、およびそれらの混合物よりなる群から選択される染料または顔料を含む。さ
らに、本発明の抑制物質に好適な赤外線吸収性化合物の例示的な例が、本願に引
用して援用する米国特許第5,858,625号に示されている。本実施形態における抑
制物質は、4-メチルベンゼンスルホン酸の2-[2-[2-クロロ-3-[(1,3-ジヒドロ-1,
1,3-トリメチル-2H-ベンズ[ゼ]インドル-2-イリデン)エチリデン]-1-シクロヘキ
セン-1-イル]エチニル]-1,1,3-トリメチル-1H-ベンズ[ゼ]インドリウム塩である
のが最も好ましい。
顔料または染料であるのが好ましい。当該製品の多くは当業者に知られたもので
ある。好ましくは、抑制物質は、アリールアミニウム、ポリメチン、キノリウム
、トリアリールメタン、トリアリールアミン、チアゾリウム、インドリウム、オ
キサゾリウム、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、チオレン金属錯
体、スクアリリウム、クロコネート、シアニン、フタロシアニン、メロシアニン
、カルコゲノピリロアリーリジン、ビス(カルコゲノピリロ)ポリメチン、オキシ
インドリジン、キノイド、インドリジン、ピリリウム、チアジン、アズレニウム
、キサンテン、カーボンブラック、暗色無機顔料、黒色顔料、黄色顔料、橙色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、ポリマー
結合アゾ顔料、ポリマー結合アントラキノン顔料、ポリマー結合キナクリドン顔
料、およびそれらの混合物よりなる群から選択される染料または顔料を含む。さ
らに、本発明の抑制物質に好適な赤外線吸収性化合物の例示的な例が、本願に引
用して援用する米国特許第5,858,625号に示されている。本実施形態における抑
制物質は、4-メチルベンゼンスルホン酸の2-[2-[2-クロロ-3-[(1,3-ジヒドロ-1,
1,3-トリメチル-2H-ベンズ[ゼ]インドル-2-イリデン)エチリデン]-1-シクロヘキ
セン-1-イル]エチニル]-1,1,3-トリメチル-1H-ベンズ[ゼ]インドリウム塩である
のが最も好ましい。
【0043】
本実施形態に有用な例示的なIR吸収性化合物は、酸化電位が低く、約0.8eV(標
準水素電極に基づく)未満である。特に好ましいのは、以下の化学式(I)で示され
るIR染料である。
準水素電極に基づく)未満である。特に好ましいのは、以下の化学式(I)で示され
るIR染料である。
【化9】
式中、各X'は、独立にS、O、NR'またはC(アルキル)2を表し、
各R1'は、独立にアルキル基、アルキルスルホネートまたはアルキルアンモニ
ウム基で、 R2'は、ハロゲン原子、SR'、SO2R'、OR'またはNR2'を表し、 各R3'は、独立に水素原子、アルキル基、COOR'、OR'、SR'、NR'2;ハロゲン原
子または置換もしくは非置換のベンゾ導入環を表し、 A-はアニオンを表し、 R4'およびR5'は、それぞれ水素原子であるか、あるいは互いに結合されて炭素
環式の五員環または六員環を形成し、 各R'は、独立に水素、アルキルまたはアリール基を表し、 各n'は、独立に0、1、2または3である。
ウム基で、 R2'は、ハロゲン原子、SR'、SO2R'、OR'またはNR2'を表し、 各R3'は、独立に水素原子、アルキル基、COOR'、OR'、SR'、NR'2;ハロゲン原
子または置換もしくは非置換のベンゾ導入環を表し、 A-はアニオンを表し、 R4'およびR5'は、それぞれ水素原子であるか、あるいは互いに結合されて炭素
環式の五員環または六員環を形成し、 各R'は、独立に水素、アルキルまたはアリール基を表し、 各n'は、独立に0、1、2または3である。
【0044】
R4'およびR5'が互いに結合されて炭素環式の五員環を形成する本発明の実施形
態において、IR染料は以下の化学式(II)で表されうる。
態において、IR染料は以下の化学式(II)で表されうる。
【化10】
式中、残りの可変要素は先述したものと同じである。
【0045】
R4'およびR5'が互いに結合されて炭素環式の六員環を形成する本発明の実施形
態において、IR染料は以下の化学式(III)で表されうる。
態において、IR染料は以下の化学式(III)で表されうる。
【化11】
式中、残りの可変要素は先述したものと同じである。
【0046】
これらの染料は、750から1100nmの範囲に吸収をもつことができ、810から860n
mの範囲に吸収をもつ上記化学式(I)で示される染料が特に好ましい。好ましい実
施形態において、 X'はC(アルキル)2であるのが好ましく、 R1'は、1から4個の炭素原子を有するアルキル基であるのが好ましく、 R2'はSR'であるのが好ましく、 R3'は水素原子であるのが好ましく、 R'は、アルキルまたはアリール基であるのが好ましく、フェニル基であるのが
特に好ましく、 A-は、塩化物イオンまたはトシル化物イオンであるのが好ましい。
mの範囲に吸収をもつ上記化学式(I)で示される染料が特に好ましい。好ましい実
施形態において、 X'はC(アルキル)2であるのが好ましく、 R1'は、1から4個の炭素原子を有するアルキル基であるのが好ましく、 R2'はSR'であるのが好ましく、 R3'は水素原子であるのが好ましく、 R'は、アルキルまたはアリール基であるのが好ましく、フェニル基であるのが
特に好ましく、 A-は、塩化物イオンまたはトシル化物イオンであるのが好ましい。
【0047】
特に好ましいのは以下に示すIR染料である:
2-[2-[2-フェニルスルホニル-3-[2-(1,3-ジヒドロ-1,3,3-トリメチル-2H-イン
ドル-2-イリデン)-エチリデン]-1-シクロヘキセン-1-イル]-エテニル]-1,3,3-ト
リメチル-3H-インドリウムクロライド; 2-[2-[2-チオフェニル-3-[2-(1,3-ジヒドロ-1,3,3-トリメチル-2H-インドル-2
-イリデン)-エチリデン]-1-シクロヘキセン-1-イル]-エテニル]-1,3,3-トリメチ
ル-3H-インドリウムクロライド; 2-[2-[2-チオフェニル-3-[2-(1,3-ジヒドロ-1,3,3-トリメチル-2H-インドル-2
-イリデン)-エチリデン]-1-シクロペンテン-1-イル]-エテニル]-1,3,3-トリメチ
ル-3H-インドリウムトシレート; 2-[2-[2-クロロ-3-[2-エチル-(3H-ベンズチアゾル-2-イリデン)-エチリデン]-
1-シクロヘキセン-1-イル]-エテニル]-3-エチル-ベンズチアゾリウム-トシレー
ト; 2-[2-[2-クロロ-3-[2-(1,3-ジヒドロ-1,3,3-トリメチル-2H-インドル-2-イリ
デン)-エチリデン]-1-シクロヘキセン-1-イル]-エテニル]-1,3,3-トリメチル-3H
-インドリウム-トシレート。
ドル-2-イリデン)-エチリデン]-1-シクロヘキセン-1-イル]-エテニル]-1,3,3-ト
リメチル-3H-インドリウムクロライド; 2-[2-[2-チオフェニル-3-[2-(1,3-ジヒドロ-1,3,3-トリメチル-2H-インドル-2
-イリデン)-エチリデン]-1-シクロヘキセン-1-イル]-エテニル]-1,3,3-トリメチ
ル-3H-インドリウムクロライド; 2-[2-[2-チオフェニル-3-[2-(1,3-ジヒドロ-1,3,3-トリメチル-2H-インドル-2
-イリデン)-エチリデン]-1-シクロペンテン-1-イル]-エテニル]-1,3,3-トリメチ
ル-3H-インドリウムトシレート; 2-[2-[2-クロロ-3-[2-エチル-(3H-ベンズチアゾル-2-イリデン)-エチリデン]-
1-シクロヘキセン-1-イル]-エテニル]-3-エチル-ベンズチアゾリウム-トシレー
ト; 2-[2-[2-クロロ-3-[2-(1,3-ジヒドロ-1,3,3-トリメチル-2H-インドル-2-イリ
デン)-エチリデン]-1-シクロヘキセン-1-イル]-エテニル]-1,3,3-トリメチル-3H
-インドリウム-トシレート。
【0048】
抑制物質は、本実施形態の電磁放射線感応画像形成性組成物の第1の層に、層
に対して好ましくは約0.1から約30重量%、より好ましくは約1から約20重量%、最
も好ましくは約3から約15重量%の量で存在しうる。
に対して好ましくは約0.1から約30重量%、より好ましくは約1から約20重量%、最
も好ましくは約3から約15重量%の量で存在しうる。
【0049】
他の実施形態において、本発明は、基板と、基板に付着させた電磁放射線感応
画像形成性組成物であって、(a)第1の層であって(i)第1の層により化学線が吸収
されると現像液に対する溶解性が低下する感光性組成物と、(ii)化学線の吸収に
よる第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止する抑制物質であって、熱、
または前記化学線より波長の長い電磁放射線によって不活化され、不活化される
と化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止しなくなる
抑制物質とを含む第1の層と、(b)前記化学線と、前記化学線より波長の長い電磁
放射線の両方に対して透過性の撥インク性ポリマー材料を含む第1の層に隣接す
る第2の層とを含む電磁放射線感応画像形成性組成物とを備えた画像形成性エレ
メントに向けられる。
画像形成性組成物であって、(a)第1の層であって(i)第1の層により化学線が吸収
されると現像液に対する溶解性が低下する感光性組成物と、(ii)化学線の吸収に
よる第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止する抑制物質であって、熱、
または前記化学線より波長の長い電磁放射線によって不活化され、不活化される
と化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止しなくなる
抑制物質とを含む第1の層と、(b)前記化学線と、前記化学線より波長の長い電磁
放射線の両方に対して透過性の撥インク性ポリマー材料を含む第1の層に隣接す
る第2の層とを含む電磁放射線感応画像形成性組成物とを備えた画像形成性エレ
メントに向けられる。
【0050】
本実施形態において、抑制物質は、第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を
阻止する固有特性を有する。換言すれば、抑制物質は、感光性組成物の溶解性を
阻止する固有の活性を有する。本実施形態における抑制物質は、エネルギーを吸
収することにより不活化され、不活化されると化学線の吸収による第1の層の感
光性組成物の溶解性の低下を阻止することができなくなる。本実施形態の抑制物
質は、作用の仕方が異なるため、先述の実施形態の抑制物質とは異なる化学構造
を有する。本実施形態において、抑制物質は、現像液に対する溶解性が低下する
第1の層の感光性組成物の機能を連続的に妨害する特性を有する。本実施形態に
おいて、第1の層の感光性組成物がその現像液に対する溶解性を低下させうるの
は、抑制物質がエネルギーの吸収によって不活化したときだけであり、それは抑
制物質が現像液に対する溶解性の低下を阻止するよう機能しなくなるからである
。
阻止する固有特性を有する。換言すれば、抑制物質は、感光性組成物の溶解性を
阻止する固有の活性を有する。本実施形態における抑制物質は、エネルギーを吸
収することにより不活化され、不活化されると化学線の吸収による第1の層の感
光性組成物の溶解性の低下を阻止することができなくなる。本実施形態の抑制物
質は、作用の仕方が異なるため、先述の実施形態の抑制物質とは異なる化学構造
を有する。本実施形態において、抑制物質は、現像液に対する溶解性が低下する
第1の層の感光性組成物の機能を連続的に妨害する特性を有する。本実施形態に
おいて、第1の層の感光性組成物がその現像液に対する溶解性を低下させうるの
は、抑制物質がエネルギーの吸収によって不活化したときだけであり、それは抑
制物質が現像液に対する溶解性の低下を阻止するよう機能しなくなるからである
。
【0051】
本実施形態は、熱放射または赤外線に画像曝露させることによってデジタル・
ポジ型無水印刷版を調製するのに使用できる画像形成性エレメントを提供する。
この曝露において、抑制物質は画像不活化され、第1の層の感光性組成物は、続
く化学線に対する全面露光を通じて沿画像曝露領域の現像液に対する溶解性が低
下することになる。続く現像によって、第2の層、および画像露光されなかった
領域における第1の層を除去してポジ型無水印刷版を作製する。
ポジ型無水印刷版を調製するのに使用できる画像形成性エレメントを提供する。
この曝露において、抑制物質は画像不活化され、第1の層の感光性組成物は、続
く化学線に対する全面露光を通じて沿画像曝露領域の現像液に対する溶解性が低
下することになる。続く現像によって、第2の層、および画像露光されなかった
領域における第1の層を除去してポジ型無水印刷版を作製する。
【0052】
本実施形態において、第1の層の感光性組成物は、少なくとも1つの光重合性エ
チレン不飽和基を含むのが好ましい。光重合性エチレン不飽和組成物としては、
例えば遊離基重合性物質を挙げることができる。本願に引用して援用する米国特
許第3,885,964号、米国特許第4,050,942号および米国特許第4,198,242号には本
実施形態に好適な例示的な光重合性組成物が記載されている。
チレン不飽和基を含むのが好ましい。光重合性エチレン不飽和組成物としては、
例えば遊離基重合性物質を挙げることができる。本願に引用して援用する米国特
許第3,885,964号、米国特許第4,050,942号および米国特許第4,198,242号には本
実施形態に好適な例示的な光重合性組成物が記載されている。
【0053】
本実施形態において、第1の層の感光性組成物は、非赤外線吸収性光開始剤ま
たは光増感剤をさらに含むことができる。ベンゾフェノンおよび置換ベンゾフェ
ノンを含めて、非常に多くの当該組成物が当業者に知られている。そのすべての
本願に引用して援用する米国特許第3,885,964号、米国特許第4,050,942号および
米国特許第4,198,242号には本実施形態に好適な光開始剤の例示的な例が記載さ
れている。
たは光増感剤をさらに含むことができる。ベンゾフェノンおよび置換ベンゾフェ
ノンを含めて、非常に多くの当該組成物が当業者に知られている。そのすべての
本願に引用して援用する米国特許第3,885,964号、米国特許第4,050,942号および
米国特許第4,198,242号には本実施形態に好適な光開始剤の例示的な例が記載さ
れている。
【0054】
本実施形態の抑制物質は、好ましくは、ニトロソモノマーと平衡状態にあるニ
トロソダイマーを含み、ニトロソモノマーは第1の層の遊離基重合性化合物の重
合を阻止する。第1の層に化学線を照射すると、エネルギーを吸収することによ
ってニトロソモノマーを消費して、第1の層の感光性組成物の化学変化を阻止す
る。しかし、ニトロソダイマーを解離させることによって未消費のモノマーの濃
度を維持して、第1の層の感光性組成物の現像液に対する溶解性の低下を抑制す
る抑制物質として作用するさらなるニトロソモノマーを供給することができる。
米国特許第4,050,942号および米国特許第4,198,242号には本実施形態に好適なニ
トロソ化合物の例示的な例が記載されている。本実施形態に好適な抑制物質のさ
らなる例示的な例としては、米国特許第3,885,964号に記載されているようなニ
トロソ芳香族化合物が挙げられる。
トロソダイマーを含み、ニトロソモノマーは第1の層の遊離基重合性化合物の重
合を阻止する。第1の層に化学線を照射すると、エネルギーを吸収することによ
ってニトロソモノマーを消費して、第1の層の感光性組成物の化学変化を阻止す
る。しかし、ニトロソダイマーを解離させることによって未消費のモノマーの濃
度を維持して、第1の層の感光性組成物の現像液に対する溶解性の低下を抑制す
る抑制物質として作用するさらなるニトロソモノマーを供給することができる。
米国特許第4,050,942号および米国特許第4,198,242号には本実施形態に好適なニ
トロソ化合物の例示的な例が記載されている。本実施形態に好適な抑制物質のさ
らなる例示的な例としては、米国特許第3,885,964号に記載されているようなニ
トロソ芳香族化合物が挙げられる。
【0055】
第1の層は、赤外線吸収性染料または顔料をさらに含むことができる。赤外線
を吸収することにより、該染料または顔料は、例えば赤外線を熱に変換すること
によって、本発明に使用される抑制物質を不活化させる。本実施形態の染料また
は顔料に好適な赤外線吸収性化合物としては、本発明の先の実施形態に関して上
述した化合物が挙げられ、それらは当業者によく知られているものである。
を吸収することにより、該染料または顔料は、例えば赤外線を熱に変換すること
によって、本発明に使用される抑制物質を不活化させる。本実施形態の染料また
は顔料に好適な赤外線吸収性化合物としては、本発明の先の実施形態に関して上
述した化合物が挙げられ、それらは当業者によく知られているものである。
【0056】
第1の層は、結合剤として作用し、基板に対する接着を促進させるポリマー化
合物を追加的に含むことができる。米国特許第4,050,942号および米国特許第4,1
98,242号には第1の層に好適な結合剤ポリマー化合物の例示的な例が記載されて
いる。
合物を追加的に含むことができる。米国特許第4,050,942号および米国特許第4,1
98,242号には第1の層に好適な結合剤ポリマー化合物の例示的な例が記載されて
いる。
【0057】
本発明の好ましい実施形態において、第2のポリマー層は、第1の層を変性させ
る電磁放射線に対して透明で、第2のポリマー層は撥インク性ポリマー材料を含
む。撥インク性ポリマー材料を架橋させて耐溶媒性を向上させ、プレス化学物質
に対する耐性を強化してプレス寿命を延ばし、UV/EBインクによる印刷を可能に
する。
る電磁放射線に対して透明で、第2のポリマー層は撥インク性ポリマー材料を含
む。撥インク性ポリマー材料を架橋させて耐溶媒性を向上させ、プレス化学物質
に対する耐性を強化してプレス寿命を延ばし、UV/EBインクによる印刷を可能に
する。
【0058】
本発明の好ましい実施形態に使用される撥インク性ポリマー材料の例示的な例
としては、-SiR1R2-O-の反復ユニット(ただし、R1およびR2は、独立に一価のア
ルキル、アリールまたはアルケニル基、あるいはその組合せから選択される)を
含む架橋ポリジオルガノシロキサンが挙げられる。R1およびR2は、ヒドロキシル
、ハロゲン、アミノ、アルコキシ、アリロキシ、(メタ)アクリロキシおよびチオ
ールの如き官能置換基を含有することができる。R1およびR2は、R1の基とR2の基
の混合物を使用するときに大多数を占めるメチルであるのが好ましい。シリコー
ン層は、任意に顔料、ならびにシリカ、炭酸カルシウムおよび酸化チタンの如き
充填剤を含有することができる。接着促進剤をコーティングに添加して、シリコ
ーン層の形成を改善することもできる。
としては、-SiR1R2-O-の反復ユニット(ただし、R1およびR2は、独立に一価のア
ルキル、アリールまたはアルケニル基、あるいはその組合せから選択される)を
含む架橋ポリジオルガノシロキサンが挙げられる。R1およびR2は、ヒドロキシル
、ハロゲン、アミノ、アルコキシ、アリロキシ、(メタ)アクリロキシおよびチオ
ールの如き官能置換基を含有することができる。R1およびR2は、R1の基とR2の基
の混合物を使用するときに大多数を占めるメチルであるのが好ましい。シリコー
ン層は、任意に顔料、ならびにシリカ、炭酸カルシウムおよび酸化チタンの如き
充填剤を含有することができる。接着促進剤をコーティングに添加して、シリコ
ーン層の形成を改善することもできる。
【0059】
例えば、シラノールおよびアシロキシまたはアルコキシシランの縮合の如き既
知の架橋反応、ヒドロシランまたはアルケニル基の添加、ならびに(メタ)アクリ
レートまたはエポキシ基の光開始重合によってポリジオルガノシロキサン・ネッ
トワークを形成することができるが、縮合および添加法が好ましい。
知の架橋反応、ヒドロシランまたはアルケニル基の添加、ならびに(メタ)アクリ
レートまたはエポキシ基の光開始重合によってポリジオルガノシロキサン・ネッ
トワークを形成することができるが、縮合および添加法が好ましい。
【0060】
縮合架橋法では、例えば、シラノール末端ジオルガノシロキサンポリマーを好
適な触媒の存在下でポリアクリロキシまたはポリアルコキシシラン架橋剤と反応
させることができる。熱および水分によってこの反応を加速させることができる
。製造時の可使時間を改善するためには、本願に引用して援用する欧州特許出願
EP0763780号に記載されているように、両末端におけるポリジオルガノシロキサ
ンとトリアルコキシシリル基の自己縮合を介してシリコン・ネットワークを形成
することができる。この縮合に好適な触媒は、スズ、亜鉛および当該技術分野に
おいてよく知られている他の多価金属の有機カルボン酸塩である。この種のシリ
コーン・コーティング配合物に接着促進剤を含めることもできる。好ましい接着
促進剤としては、一般化学式RmR'nSi(OR")4-m-n(ただし、Rは非置換または一置
換アミノアルキルで、R'およびR"はそれぞれアルキルまたはアリールで、mは1ま
たは2、nは0または1で、m+nは1または2に等しい)で表されるようなアミノシラン
がある。当該アミノシランの具体的な例としては、γ-アミノプロピルトリエト
キシシランおよびγ-[N-(2-アミノエチル)-アミノ]プロピルトリメトキシシラン
が挙げられる。
適な触媒の存在下でポリアクリロキシまたはポリアルコキシシラン架橋剤と反応
させることができる。熱および水分によってこの反応を加速させることができる
。製造時の可使時間を改善するためには、本願に引用して援用する欧州特許出願
EP0763780号に記載されているように、両末端におけるポリジオルガノシロキサ
ンとトリアルコキシシリル基の自己縮合を介してシリコン・ネットワークを形成
することができる。この縮合に好適な触媒は、スズ、亜鉛および当該技術分野に
おいてよく知られている他の多価金属の有機カルボン酸塩である。この種のシリ
コーン・コーティング配合物に接着促進剤を含めることもできる。好ましい接着
促進剤としては、一般化学式RmR'nSi(OR")4-m-n(ただし、Rは非置換または一置
換アミノアルキルで、R'およびR"はそれぞれアルキルまたはアリールで、mは1ま
たは2、nは0または1で、m+nは1または2に等しい)で表されるようなアミノシラン
がある。当該アミノシランの具体的な例としては、γ-アミノプロピルトリエト
キシシランおよびγ-[N-(2-アミノエチル)-アミノ]プロピルトリメトキシシラン
が挙げられる。
【0061】
ヒドロシランとアルケニル基の付加反応を介して架橋されるポリジオルガノシ
ロキサンは、例えば、好適な触媒の存在下で、ビニル官能ポリジオルガノシロキ
サンおよびメチルヒドロシロキサン単独ポリマーまたはコポリマーから調製され
うる。シロキサンポリマーにおけるアルケニル基は、ポリマー鎖に沿って無作為
に分布させるか、または鎖の末端に配置させることができる。添加触媒は既知の
ものから選択できるが、白金元素、塩化白金、ヘキサクロロ白金酸、およびオレ
フィン調和白金が好ましい。可使時間を改善するために、ケトン、アルコールお
よびアルキンの如き揮発性抑制物質を使用することができる。本願に引用して援
用する米国特許第4,184,006号に開示されているようなアルキンが特に好ましい
。当該アルキンの具体的な例としては、2-メチル-3-ブチン-2-オール、エチニル
シクロヘキサノール、2-ブチン、2-メチルーブト-1-エン-3-イエンおよびフェニ
ルアセチレンが挙げられる。
ロキサンは、例えば、好適な触媒の存在下で、ビニル官能ポリジオルガノシロキ
サンおよびメチルヒドロシロキサン単独ポリマーまたはコポリマーから調製され
うる。シロキサンポリマーにおけるアルケニル基は、ポリマー鎖に沿って無作為
に分布させるか、または鎖の末端に配置させることができる。添加触媒は既知の
ものから選択できるが、白金元素、塩化白金、ヘキサクロロ白金酸、およびオレ
フィン調和白金が好ましい。可使時間を改善するために、ケトン、アルコールお
よびアルキンの如き揮発性抑制物質を使用することができる。本願に引用して援
用する米国特許第4,184,006号に開示されているようなアルキンが特に好ましい
。当該アルキンの具体的な例としては、2-メチル-3-ブチン-2-オール、エチニル
シクロヘキサノール、2-ブチン、2-メチルーブト-1-エン-3-イエンおよびフェニ
ルアセチレンが挙げられる。
【0062】
有機溶媒を使用して、シリコーン層の膜形成を促進させることができる。好適
な溶媒としては、脂肪族および芳香族炭化水素、ケトンおよびエステルが挙げら
れる。有用な溶媒の具体的な例としては、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシ
レン、2-ブタノンおよび酢酸アミルが挙げられる。溶媒の使用量は、シリコーン
開始物質の分子量、膜厚および膜塗布技術に依存する。シリコーン膜を付着させ
るためのコーティング法は当該技術において知られている。本発明に使用される
好ましいコーティング法としては、渦コーティング、巻線棒コーティング、直接
的グラビア・コーティング、グラビア・オフセット・コーティング、液体カーテ
ン・コーティング、スリット押出しコーティング、メニスカス・コーティング等
が挙げられる。
な溶媒としては、脂肪族および芳香族炭化水素、ケトンおよびエステルが挙げら
れる。有用な溶媒の具体的な例としては、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシ
レン、2-ブタノンおよび酢酸アミルが挙げられる。溶媒の使用量は、シリコーン
開始物質の分子量、膜厚および膜塗布技術に依存する。シリコーン膜を付着させ
るためのコーティング法は当該技術において知られている。本発明に使用される
好ましいコーティング法としては、渦コーティング、巻線棒コーティング、直接
的グラビア・コーティング、グラビア・オフセット・コーティング、液体カーテ
ン・コーティング、スリット押出しコーティング、メニスカス・コーティング等
が挙げられる。
【0063】
本発明の好ましい実施形態に使用できる基板は、平版印刷版を調製するのに従
来使用されている任意のシート剤であってもよい。好適な基板としては、アルミ
ニウム薄板の如き金属、紙、ポリエチレンの如きアルファオレフィンポリマーが
片面または両面に付着させた紙、酢酸セルロース・フィルム、ポリビニルアセタ
ール・フィルム、ポリスチレン・フィルム、ポリプロピレン・フィルム、ポリエ
チレンテレフタレート・フィルムのようなポリエステル・フィルム、ポリアミド
・フィルム、ポリイミド・フィルム、ニトロセルロース・フィルム、ポリカーボ
ネートフィルムおよびポリ塩化ビニル・フィルムの如きフィルム、ポリエチレン
・フィルムが付着させたポリエステル、ポリプロピレンまたはポリスチレン・フ
ィルムの如き複合フィルム、金属蒸着紙または金属蒸着フィルム、金属/紙積層
体等が挙げられる。当該基板はハレーション防止化合物またはサブ・コーティン
グ剤を含有することができる。
来使用されている任意のシート剤であってもよい。好適な基板としては、アルミ
ニウム薄板の如き金属、紙、ポリエチレンの如きアルファオレフィンポリマーが
片面または両面に付着させた紙、酢酸セルロース・フィルム、ポリビニルアセタ
ール・フィルム、ポリスチレン・フィルム、ポリプロピレン・フィルム、ポリエ
チレンテレフタレート・フィルムのようなポリエステル・フィルム、ポリアミド
・フィルム、ポリイミド・フィルム、ニトロセルロース・フィルム、ポリカーボ
ネートフィルムおよびポリ塩化ビニル・フィルムの如きフィルム、ポリエチレン
・フィルムが付着させたポリエステル、ポリプロピレンまたはポリスチレン・フ
ィルムの如き複合フィルム、金属蒸着紙または金属蒸着フィルム、金属/紙積層
体等が挙げられる。当該基板はハレーション防止化合物またはサブ・コーティン
グ剤を含有することができる。
【0064】
好ましい基板はアルミニウム薄板である。ブラシ粗化、電気化学粗化、化学粗
化、陽極酸化、ケイ酸塩シーリングなどを含む当該技術分野において知られてい
る金属仕上げ技術によってアルミニウム薄板の表面を処理することができる。表
面を粗化する場合、表面粗さ(Ra)を好ましくは0.1から0.8マイクロメートル、よ
り好ましくは0.4から0.6マイクロメートルの範囲内とする。アルミニウム薄板の
好ましい厚さは、約0.005から0.020インチの範囲である。
化、陽極酸化、ケイ酸塩シーリングなどを含む当該技術分野において知られてい
る金属仕上げ技術によってアルミニウム薄板の表面を処理することができる。表
面を粗化する場合、表面粗さ(Ra)を好ましくは0.1から0.8マイクロメートル、よ
り好ましくは0.4から0.6マイクロメートルの範囲内とする。アルミニウム薄板の
好ましい厚さは、約0.005から0.020インチの範囲である。
【0065】
当該技術分野において知られている表面処理技術を用いてプラスチック・フィ
ルムの表面を処理して、基板と有機塗布膜の間の接着性を向上させることができ
る。
ルムの表面を処理して、基板と有機塗布膜の間の接着性を向上させることができ
る。
【0066】
本発明の好ましい実施形態において、感光性の第1の層の乾燥重量が好ましく
は約0.1から約6g/m2、より好ましくは約0.2から約4g/m2、最も好ましくは約0.4
から約2g/m2になるように、電磁放射線感応画像形成性組成物を基板に付着させ
ることができる。
は約0.1から約6g/m2、より好ましくは約0.2から約4g/m2、最も好ましくは約0.4
から約2g/m2になるように、電磁放射線感応画像形成性組成物を基板に付着させ
ることができる。
【0067】
本発明の好ましい実施形態において、撥インク性の第2の層の乾燥重量が好ま
しくは約0.1から約6g/m2、より好ましくは約0.2から約4g/m2、最も好ましくは約
0.4から約2g/m2になるように、電磁放射線感応画像形成性組成物を基板に付着さ
せることができる。
しくは約0.1から約6g/m2、より好ましくは約0.2から約4g/m2、最も好ましくは約
0.4から約2g/m2になるように、電磁放射線感応画像形成性組成物を基板に付着さ
せることができる。
【0068】
渦コーティング、スピン・コーティング、ナイフ・コーティング、スプレー・
コーティング、ラミネーティング法などを含む(ただしこれらに限定されない)当
業者に知られた方法によってそれらの層を基板に付着させることができる。
コーティング、ラミネーティング法などを含む(ただしこれらに限定されない)当
業者に知られた方法によってそれらの層を基板に付着させることができる。
【0069】
本発明により調製される画像形成性エレメントは、層間接着性の向上、ハレー
ション効果の低減、印刷面の特性の改善などのために1つまたは複数の補助層を
含むこともできる。本発明を改良するために追加できる任意の層としては、第2
の層の上面に積層される保護層、第2の層と第1の層との間の接着促進層、および
第1の層と基板との間の下塗層を挙げることができる。
ション効果の低減、印刷面の特性の改善などのために1つまたは複数の補助層を
含むこともできる。本発明を改良するために追加できる任意の層としては、第2
の層の上面に積層される保護層、第2の層と第1の層との間の接着促進層、および
第1の層と基板との間の下塗層を挙げることができる。
【0070】
任意の下塗層を第1の層と電磁放射線感応画像形成性組成物の基板との間に挿
入して、例えば、特に基板が金属薄板の場合における熱損失を防止し、インク受
容性を調節し、現像版を染めて視覚的な画像コントラストを高める必要がある場
合に染料受容体として機能させ、または接着促進剤として作用させることができ
る。コーティング剤が赤外線吸収層を作製するのに採用される溶媒に溶解しない
とすれば、下塗り層を熱可塑性膜とすることができる。熱硬化性コーティング剤
の例としては、ポリエステルーメラミン・コーティング剤、アクリルメラミン・
コーティング剤、エポキシ・コーティング剤およびポリイソシアネート・コーテ
ィング剤が挙げられる。熱可塑性コーティング剤の例としてはポリビニルアルコ
ールが挙げられる。紫外線によって硬化する場合は、遊離基重合性コーティング
剤、光生成酸の触媒作用を受けるカチオン架橋性コーティング剤、および好適な
結合剤を有するジアゾ樹脂から下塗層を調製することができる。
入して、例えば、特に基板が金属薄板の場合における熱損失を防止し、インク受
容性を調節し、現像版を染めて視覚的な画像コントラストを高める必要がある場
合に染料受容体として機能させ、または接着促進剤として作用させることができ
る。コーティング剤が赤外線吸収層を作製するのに採用される溶媒に溶解しない
とすれば、下塗り層を熱可塑性膜とすることができる。熱硬化性コーティング剤
の例としては、ポリエステルーメラミン・コーティング剤、アクリルメラミン・
コーティング剤、エポキシ・コーティング剤およびポリイソシアネート・コーテ
ィング剤が挙げられる。熱可塑性コーティング剤の例としてはポリビニルアルコ
ールが挙げられる。紫外線によって硬化する場合は、遊離基重合性コーティング
剤、光生成酸の触媒作用を受けるカチオン架橋性コーティング剤、および好適な
結合剤を有するジアゾ樹脂から下塗層を調製することができる。
【0071】
好ましくは一般化学式RmR'nSi(OR")4-m-n(ただし、Rは非置換または一置換ア
ミノアルキルで、R'およびR"はそれぞれアルキルまたはアリールで、mは1または
2、nは0または1で、m+nは1または2に等しい)で表されるようなアミノシランを含
む任意の接着促進剤を第2の層と電磁放射線感応画像形成性組成物の第1の層との
間に挿入することができる。当該アミノシランの具体的な例としては、γ-アミ
ノプロピルトリエトキシシランおよびγ-[N-(2-アミノエチル)-アミノ]プロピル
トリメトキシシランが挙げられる。
ミノアルキルで、R'およびR"はそれぞれアルキルまたはアリールで、mは1または
2、nは0または1で、m+nは1または2に等しい)で表されるようなアミノシランを含
む任意の接着促進剤を第2の層と電磁放射線感応画像形成性組成物の第1の層との
間に挿入することができる。当該アミノシランの具体的な例としては、γ-アミ
ノプロピルトリエトキシシランおよびγ-[N-(2-アミノエチル)-アミノ]プロピル
トリメトキシシランが挙げられる。
【0072】
保存時および操作時に第2の層の表面を保護するために第2の層の上面に任意の
保護層を積層することができる。典型的には、保護層は、ポリエチレンテレフタ
レートの如きポリエステル、ポリエチレンやポリプロピレンの如きポリオレフィ
ンなどを含む薄いポリマー・フィルムである。保護層は、処理前または処理時に
第2の層の表面を損なうことなく容易に除去されるように設計される。
保護層を積層することができる。典型的には、保護層は、ポリエチレンテレフタ
レートの如きポリエステル、ポリエチレンやポリプロピレンの如きポリオレフィ
ンなどを含む薄いポリマー・フィルムである。保護層は、処理前または処理時に
第2の層の表面を損なうことなく容易に除去されるように設計される。
【0073】
ビクトリア・ブルーBO、ビクトリア・ブルーR、クリスタル・バイオレットの
如きトリアリールメタン染料シリーズ、または4-フェニルアゾジフェニルアミン
、アゾベンゼンまたは4-N,N-ジメチルアミノアゾベンゼンの如きジアゾ染料の曝
露指示薬のような、電磁放射線感応画像形成性組成物に使用可能な任意の曝露指
示薬が当業者に知られている。曝露指示薬は、第1の層の重量に対して好ましく
は約0.02から10重量%、より好ましくは約0.5から6重量%の量で電磁放射線感応画
像形成性組成物中に存在する。
如きトリアリールメタン染料シリーズ、または4-フェニルアゾジフェニルアミン
、アゾベンゼンまたは4-N,N-ジメチルアミノアゾベンゼンの如きジアゾ染料の曝
露指示薬のような、電磁放射線感応画像形成性組成物に使用可能な任意の曝露指
示薬が当業者に知られている。曝露指示薬は、第1の層の重量に対して好ましく
は約0.02から10重量%、より好ましくは約0.5から6重量%の量で電磁放射線感応画
像形成性組成物中に存在する。
【0074】
画像コントラストを高めるための任意の染料は、コーティングに使用される溶
媒または溶媒混合物に容易に溶解する物質、または分散した顔料として導入され
うる物質である。好適なコントラスト染料としては、例えば、ローダミン染料、
メチルバイオレット、アントラキノン顔料およびフタロシアミン染料または顔料
がある。染料は、第1の層の重量に対して約1から15重量%、好ましくは約2から7
重量%の量で電磁放射線感応画像形成性組成物中に存在するのが好ましい。
媒または溶媒混合物に容易に溶解する物質、または分散した顔料として導入され
うる物質である。好適なコントラスト染料としては、例えば、ローダミン染料、
メチルバイオレット、アントラキノン顔料およびフタロシアミン染料または顔料
がある。染料は、第1の層の重量に対して約1から15重量%、好ましくは約2から7
重量%の量で電磁放射線感応画像形成性組成物中に存在するのが好ましい。
【0075】
本発明に係る電磁放射線感応画像形成性組成物を、成分を溶解することにより
調製した溶液の形で基板に付着させる。溶媒の例示的な例としては、シクロヘキ
サノン、シクロペンタノン、2-ヘプタノン、γ-ブチロラクトン、メチルエチル
ケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、2-メトキシエチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メタノール、ア
セテート、テトラヒドロフラン、乳酸メチルおよび乳酸エチルが挙げられる。こ
れらの溶剤は、単体または混合して使用できる。
調製した溶液の形で基板に付着させる。溶媒の例示的な例としては、シクロヘキ
サノン、シクロペンタノン、2-ヘプタノン、γ-ブチロラクトン、メチルエチル
ケトン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、2-メトキシエチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メタノール、ア
セテート、テトラヒドロフラン、乳酸メチルおよび乳酸エチルが挙げられる。こ
れらの溶剤は、単体または混合して使用できる。
【0076】
溶媒に1つまたは複数の界面活性剤を添加することができる。当該界面活性剤
の具体的な例としては、当業者に知られているポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレン-ポリオキシプロピレンブロックコポリマー、フッ素
界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーおよびアクリルまたはメタクリルコポ
リマーの如きノニオン界面活性剤が挙げられる。導入される1つまたは複数の界
面活性剤の量は、本発明に係る電磁放射線感応画像形成性組成物の固形分100重
量部に対して、通常は約2重量部以下、好ましくは約1重量部以下である。
の具体的な例としては、当業者に知られているポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレン-ポリオキシプロピレンブロックコポリマー、フッ素
界面活性剤、オルガノシロキサンポリマーおよびアクリルまたはメタクリルコポ
リマーの如きノニオン界面活性剤が挙げられる。導入される1つまたは複数の界
面活性剤の量は、本発明に係る電磁放射線感応画像形成性組成物の固形分100重
量部に対して、通常は約2重量部以下、好ましくは約1重量部以下である。
【0077】
有利にも、本発明の好ましい実施形態には、デジタルであろうとアナログであ
ろうとマスク層は使用されず、写真フィルムまたは追加的な感光性層を必要とす
る処理とは対照的に1つの現像工程しか必要とされない。
ろうとマスク層は使用されず、写真フィルムまたは追加的な感光性層を必要とす
る処理とは対照的に1つの現像工程しか必要とされない。
【0078】
現像液は、第2の層に浸透するとともに、赤外線吸収層の非曝露領域に実質的
に影響を及ぼすことなく、選択的に反応生成物を溶解または分散させることので
きる任意の液体または溶液でありうる。好ましい現像液は、ポリプロピレングリ
コールエーテルを含有する現像液である。より好ましい現像液は、トリプロピレ
ングリコールn-ブチルエーテルである。現像液は非現像液で希釈してもよい。こ
こで用いられる非現像液という言葉は、第2の層に浸透しないか、または曝露領
域を選択的に溶解または分散させないか、またはそのいずれをも行わない任意の
液体を意味するものである。非現像液としては、ポリプロピレングリコールおよ
び脂肪族炭化水素溶媒の如き液体が挙げられる。具体的な脂肪族炭化水素溶媒と
しては、ヘプタンおよびエクソン化学株式会社(Exxon Chemical Company)から入
手可能なISOPAR溶媒がある。
に影響を及ぼすことなく、選択的に反応生成物を溶解または分散させることので
きる任意の液体または溶液でありうる。好ましい現像液は、ポリプロピレングリ
コールエーテルを含有する現像液である。より好ましい現像液は、トリプロピレ
ングリコールn-ブチルエーテルである。現像液は非現像液で希釈してもよい。こ
こで用いられる非現像液という言葉は、第2の層に浸透しないか、または曝露領
域を選択的に溶解または分散させないか、またはそのいずれをも行わない任意の
液体を意味するものである。非現像液としては、ポリプロピレングリコールおよ
び脂肪族炭化水素溶媒の如き液体が挙げられる。具体的な脂肪族炭化水素溶媒と
しては、ヘプタンおよびエクソン化学株式会社(Exxon Chemical Company)から入
手可能なISOPAR溶媒がある。
【0079】
典型的には、現像液を含む塗布具で第2の層を擦るか、または拭くことによっ
て現像液を画像化無水版に付着させる。現像操作において、現像液は第2の層に
浸透するとともに、赤外線吸収層の画像化領域を溶解または分散させ、ぬぐい取
り作用により、第2の層の上部領域に沿って溶解領域を物理的に除去する。ある
いは、画像化無水版にブラシで現像液を塗るか、または溶解領域を除去するのに
十分な力で第2の層に吹きつけることによって現像液を版に付着させることがで
きる。いずれの場合も、実質的に撥インク性を有する、赤外線が照射されていな
い第2の層のインク受容および相補的領域である非被覆領域を有する現像印刷版
が製造される。
て現像液を画像化無水版に付着させる。現像操作において、現像液は第2の層に
浸透するとともに、赤外線吸収層の画像化領域を溶解または分散させ、ぬぐい取
り作用により、第2の層の上部領域に沿って溶解領域を物理的に除去する。ある
いは、画像化無水版にブラシで現像液を塗るか、または溶解領域を除去するのに
十分な力で第2の層に吹きつけることによって現像液を版に付着させることがで
きる。いずれの場合も、実質的に撥インク性を有する、赤外線が照射されていな
い第2の層のインク受容および相補的領域である非被覆領域を有する現像印刷版
が製造される。
【0080】
本発明は、第1の層の感光性組成物の現像液に対する溶解性に影響する化学反
応の制御に関する。本発明の実施形態は、上述の感光性物質に限定されず、介在
分子に影響されうる化学反応を行う任意の感光性物質を含む。
応の制御に関する。本発明の実施形態は、上述の感光性物質に限定されず、介在
分子に影響されうる化学反応を行う任意の感光性物質を含む。
【0081】
以下に示す実施例は、本発明の範囲内で、実施形態をさらに説明し、実証する
ものである。該実施例は、例示のみを目的とし、本発明を制限するものとして提
示されるものではない。本発明の例示的な実施形態を説明したが、本発明の主旨
および範囲を逸脱することなくそれらを変更または改造できること、また添付の
請求項に定められる本発明の真の範囲に含まれるすべての当該変更および改造を
請求することを意図するものであることを当業者なら理解するであろう。本明細
書で参照されるすべての文書を、その全体について具体的に引用して援用する。
ものである。該実施例は、例示のみを目的とし、本発明を制限するものとして提
示されるものではない。本発明の例示的な実施形態を説明したが、本発明の主旨
および範囲を逸脱することなくそれらを変更または改造できること、また添付の
請求項に定められる本発明の真の範囲に含まれるすべての当該変更および改造を
請求することを意図するものであることを当業者なら理解するであろう。本明細
書で参照されるすべての文書を、その全体について具体的に引用して援用する。
【0082】
実施例1
まず、米国特許第5,700,619号の実施例5に記載されているように、ポリビニル
アセタール樹脂10.8g、ネガチブジアゾ樹脂、NEGA107(P.C.A.S.、フランス)(4-
フェニルアミノ-2-メトキフェニルジアゾニウムスルフェートと、メシチレンス
ルホン酸塩として単離された4,4'-ビスメトキシメチルジフェニルエーテルとの
重合縮合から誘導される樹脂)9.6g、およびIR染料、4-メチルベンゼンスルホン
酸の2-[2-[2-クロロ-3-[(1,3-ジヒドロ-1,1,3-トリメチル-2H-ベンズ[ゼ]インド
ル-2-イリデン)エチリデン]-1-シクロヘキセン-1-イル]エチニル]-1,1,3-トリメ
チル-1H-ベンズ[ゼ]インドリウム塩3.6gを2-メトキシエタノール30%と、メタノ
ール45%と、メチルエチルケトン25%の溶媒混合物776gに溶解させることによって
無水印刷版を調製した。その溶液を、70rpmで3分間にわたって、ポリビニルホス
ホン酸で親水性化した電解研磨リソグラフィック基板にスピン・コートして、約
1.0g/m2の第1の層を設けた。
アセタール樹脂10.8g、ネガチブジアゾ樹脂、NEGA107(P.C.A.S.、フランス)(4-
フェニルアミノ-2-メトキフェニルジアゾニウムスルフェートと、メシチレンス
ルホン酸塩として単離された4,4'-ビスメトキシメチルジフェニルエーテルとの
重合縮合から誘導される樹脂)9.6g、およびIR染料、4-メチルベンゼンスルホン
酸の2-[2-[2-クロロ-3-[(1,3-ジヒドロ-1,1,3-トリメチル-2H-ベンズ[ゼ]インド
ル-2-イリデン)エチリデン]-1-シクロヘキセン-1-イル]エチニル]-1,1,3-トリメ
チル-1H-ベンズ[ゼ]インドリウム塩3.6gを2-メトキシエタノール30%と、メタノ
ール45%と、メチルエチルケトン25%の溶媒混合物776gに溶解させることによって
無水印刷版を調製した。その溶液を、70rpmで3分間にわたって、ポリビニルホス
ホン酸で親水性化した電解研磨リソグラフィック基板にスピン・コートして、約
1.0g/m2の第1の層を設けた。
【0083】
表1に示されているシリコーン組成物を第1の層にオーバコートし、95℃で3分
間、さらに130℃で1分間乾燥および硬化させて1.5g/m2のシリコーン層を設けた
。
間、さらに130℃で1分間乾燥および硬化させて1.5g/m2のシリコーン層を設けた
。
【表1】
【0084】
ネガ型デジタル方式において、クレオ・トレンドセッタを使用して、150から2
60mJ/cm2(830nm)の露光範囲でデジタル無水印刷版にIRレーザ画像形成を行った
後に、200mJ/cm2の前面UV照射を行った。版をメチルエチルケトン、2-ブトキシ
エタノールまたは2-メチル-2,4-ペンタンジオールで現像して、第1および第2の
層の画像露光された領域を除去した。これらの版をプレス上で使用して良質の画
像を作成した。
60mJ/cm2(830nm)の露光範囲でデジタル無水印刷版にIRレーザ画像形成を行った
後に、200mJ/cm2の前面UV照射を行った。版をメチルエチルケトン、2-ブトキシ
エタノールまたは2-メチル-2,4-ペンタンジオールで現像して、第1および第2の
層の画像露光された領域を除去した。これらの版をプレス上で使用して良質の画
像を作成した。
【0085】
実施例2
ポジ型アナログ方式において、まず実施例1に記載されている版に200mJ/cm2の
UVに画像露光し、次いで実施例に記載されているように現像して、第1の層およ
び第2の層の非露光領域を除去した。その版を無水インクとともにプレスで処理
して、50,000を上回る数の高質の刷りを作成した。
UVに画像露光し、次いで実施例に記載されているように現像して、第1の層およ
び第2の層の非露光領域を除去した。その版を無水インクとともにプレスで処理
して、50,000を上回る数の高質の刷りを作成した。
【0086】
実施例3
まず、実施例3の以下に記載するポリビニルアセタール樹脂Z467を5.3gと、NEG
A107を7.5gと、IR染料、4-メチルベンゼンスルホン酸の2-[2-[2-[クロロ-3-[(1,
3-ジヒドロ-1,1,3-トリメチル-2H-ベンズ(ゼ)インドル-2-イリデン)エチリデン]
-1-シクロヘキセン-1-イル]エチニル]-1,1,3-トリメチル-1H-ベンズ[ゼ]インド
リウム塩2.1gを実施例1の溶媒混合物484gに溶解させることによって無水印刷版
を調製した。その溶液を同じ条件で実施例1の基板にスピン・コートして、約1.0
g/m2の第1の層を設けた。
A107を7.5gと、IR染料、4-メチルベンゼンスルホン酸の2-[2-[2-[クロロ-3-[(1,
3-ジヒドロ-1,1,3-トリメチル-2H-ベンズ(ゼ)インドル-2-イリデン)エチリデン]
-1-シクロヘキセン-1-イル]エチニル]-1,1,3-トリメチル-1H-ベンズ[ゼ]インド
リウム塩2.1gを実施例1の溶媒混合物484gに溶解させることによって無水印刷版
を調製した。その溶液を同じ条件で実施例1の基板にスピン・コートして、約1.0
g/m2の第1の層を設けた。
【0087】
第1の層に実施例1のシリコーン組成物をオーバコートし、同様に硬化させて1.
5g/m2のシリコーン層を設けた。
5g/m2のシリコーン層を設けた。
【0088】
150から300mJ/cm2の範囲で、実施例1に記載したように版にレーザ画像形成を
行った後に、140、200、220、240および260mJ/cm2の全面UV露光を行った。1.8フ
ィート/分のコーニング現像処理機でトリプロピレングリコールn-ブチルエーテ
ルを用いて版を現像した。浸漬部の温度および洗浄部の温度をそれぞれ40℃およ
び35℃とした。全面UV露光量が200mJ/cm2を超えない場合に、150から300mJ/cm2
の範囲を通じて良質の画像を得た。
行った後に、140、200、220、240および260mJ/cm2の全面UV露光を行った。1.8フ
ィート/分のコーニング現像処理機でトリプロピレングリコールn-ブチルエーテ
ルを用いて版を現像した。浸漬部の温度および洗浄部の温度をそれぞれ40℃およ
び35℃とした。全面UV露光量が200mJ/cm2を超えない場合に、150から300mJ/cm2
の範囲を通じて良質の画像を得た。
【0089】
ポリビニルアセタールZ467の合成を以下のように行った。ポリビニルアルコー
ル(MW=31,000-50,000;アルドリッチ・ケミカル)150gを脱イオン水2600gに溶解さ
せた。その溶液を5℃に冷却し、アセトアルデヒド60g、ブチルアルデヒド100gお
よび20%HCL90gを加えた。5℃で24時間反応させた。生成物を濾過し、濾液が中性
になるまで脱イオン水で洗浄した。生成物をまず空気乾燥し、次いで60℃で一昼
夜放置した。
ル(MW=31,000-50,000;アルドリッチ・ケミカル)150gを脱イオン水2600gに溶解さ
せた。その溶液を5℃に冷却し、アセトアルデヒド60g、ブチルアルデヒド100gお
よび20%HCL90gを加えた。5℃で24時間反応させた。生成物を濾過し、濾液が中性
になるまで脱イオン水で洗浄した。生成物をまず空気乾燥し、次いで60℃で一昼
夜放置した。
【0090】
実施例4
N-フェニル-N-メチルアクリルアミドおよびニトロソシクロヘキサンダイマー
を含む第1の層を実施例1の基板に付着させることによって画像形成性エレメント
を調製する。第1の層に実施例1のシリコーン組成物をオーバコートし、同様に硬
化させて1.5g/m2のシリコーン層を設ける。
を含む第1の層を実施例1の基板に付着させることによって画像形成性エレメント
を調製する。第1の層に実施例1のシリコーン組成物をオーバコートし、同様に硬
化させて1.5g/m2のシリコーン層を設ける。
【0091】
本明細書に記載されている好ましい実施形態に様々な変更および改造が加えら
れることを当業者なら理解するであろうことに留意されたい。本発明の主旨およ
び範囲を逸脱することなく、またそれに付随する利点を損なうことなく当該変更
および改造を加えることができる。したがって、当該変更および改造は添付の請
求項の範囲に含められることを意味するものである。
れることを当業者なら理解するであろうことに留意されたい。本発明の主旨およ
び範囲を逸脱することなく、またそれに付随する利点を損なうことなく当該変更
および改造を加えることができる。したがって、当該変更および改造は添付の請
求項の範囲に含められることを意味するものである。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成14年8月19日(2002.8.19)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項5】 抑制物質は化学線に対して透明である、請求項1に記載の画
像形成性エレメント。
像形成性エレメント。
【請求項6】 第2の層の撥インク性ポリマー材料は架橋ポリジオルガノシ
ロキサンを含む、請求項1に記載の画像形成性エレメント。
ロキサンを含む、請求項1に記載の画像形成性エレメント。
【請求項7】 (A)基板と、
(B)基板に付着させた電磁放射線感応画像形成性組成物であって、
(a)第1の層であって
(i)第1の層により化学線が吸収されると現像液に対する溶解性が低下する
感光性組成物と、 (ii)化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止す
る抑制物質であって、熱、または前記化学線より波長の長い電磁放射線によって
不活化され、不活化されると化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解
性の低下を阻止しなくなる抑制物質と を含む第1の層と、 (b)前記化学線と、前記化学線より波長の長い電磁放射線の両方に対して透
過性の撥インク性ポリマー材料を含む、第1の層に隣接する、第2の層とを含む電
磁放射線感応画像形成性組成物と を備えた画像形成性エレメント。
感光性組成物と、 (ii)化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止す
る抑制物質であって、熱、または前記化学線より波長の長い電磁放射線によって
不活化され、不活化されると化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解
性の低下を阻止しなくなる抑制物質と を含む第1の層と、 (b)前記化学線と、前記化学線より波長の長い電磁放射線の両方に対して透
過性の撥インク性ポリマー材料を含む、第1の層に隣接する、第2の層とを含む電
磁放射線感応画像形成性組成物と を備えた画像形成性エレメント。
【請求項8】 第1の層の感光性組成物は、少なくとも1つの光重合性エチレ
ン不飽和基を含む、請求項7に記載の画像形成性エレメント。
ン不飽和基を含む、請求項7に記載の画像形成性エレメント。
【請求項9】 第1の層の感光性組成物は、非赤外線吸収性光開始剤または
光増感剤をさらに含む、請求項7に記載の画像形成性エレメント。
光増感剤をさらに含む、請求項7に記載の画像形成性エレメント。
【請求項10】 抑制物質はニトロソモノマーと平衡状態にあるニトロソダ
イマーを含み、ニトロソモノマーは第1の層のフリーラジカル重合性化合物の重
合を阻止する、請求項7に記載の画像形成性エレメント。
イマーを含み、ニトロソモノマーは第1の層のフリーラジカル重合性化合物の重
合を阻止する、請求項7に記載の画像形成性エレメント。
【請求項11】 第1の層は赤外線を吸収する化合物をさらに含む、請求項
7に記載の画像形成性エレメント。
7に記載の画像形成性エレメント。
【請求項12】 第2の層の撥インク性ポリマー材料は架橋ポリジオルガノ
シロキサンを含む、請求項7に記載の画像形成性エレメント。
シロキサンを含む、請求項7に記載の画像形成性エレメント。
【請求項13】 第1の層は、アリールアミニウム、ポリメチン、キノリウ
ム、トリアリールメタン、トリアリールアミン、チアゾリウム、インドリウム、
オキサゾリウム、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、チオレン金属
錯体、スクアリリウム、クロコネート、シアニン、フタロシアニン、メロシアニ
ン、カルコゲノピリロアリーリジン、ビス(カルコゲノピリロ)ポリメチン、オキ
シインドリジン、キノイド、インドリジン、ピリリウム、チアジン、アズレニウ
ム、キサンテン、カーボンブラック、暗色無機顔料、黒色顔料、黄色顔料、橙色
顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、ポリマ
ー結合アゾ顔料、ポリマー結合アントラキノン顔料、ポリマー結合キナクリドン
顔料、およびそれらの混合物よりなる群から選択される染料または顔料をさらに
含む、請求項7に記載の画像形成性エレメント。
ム、トリアリールメタン、トリアリールアミン、チアゾリウム、インドリウム、
オキサゾリウム、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、チオレン金属
錯体、スクアリリウム、クロコネート、シアニン、フタロシアニン、メロシアニ
ン、カルコゲノピリロアリーリジン、ビス(カルコゲノピリロ)ポリメチン、オキ
シインドリジン、キノイド、インドリジン、ピリリウム、チアジン、アズレニウ
ム、キサンテン、カーボンブラック、暗色無機顔料、黒色顔料、黄色顔料、橙色
顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、ポリマ
ー結合アゾ顔料、ポリマー結合アントラキノン顔料、ポリマー結合キナクリドン
顔料、およびそれらの混合物よりなる群から選択される染料または顔料をさらに
含む、請求項7に記載の画像形成性エレメント。
【請求項14】 基板上に画像を形成する方法であって、
(a)基板を設けること、
(b)(i)第1の層により化学線が吸収されると現像液に対する溶解性が低下する
感光性組成物と、 (ii)熱、または前記化学線より波長の長い電磁放射線によって活性化されて
、化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止する抑制物
質と を含む電磁放射線感応画像形成性組成物の第1の層を基板に付着させること、 (c)前記化学線と、前記化学線より波長の長い前記電磁放射線の両方に対して
透過性の撥インク性ポリマー材料を含む電磁放射線感応画像形成性組成物の第2
の層を第1の層に隣接して付着させることによって、画像形成性エレメントを形
成すること、 (d)画像形成性エレメントを熱、または化学線より波長の長い電磁放射線に画
像露光すること、 (e)その後、画像形成性エレメントを化学線に露光すること、および (f)画像形成性エレメントを現像することを含む方法。
感光性組成物と、 (ii)熱、または前記化学線より波長の長い電磁放射線によって活性化されて
、化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止する抑制物
質と を含む電磁放射線感応画像形成性組成物の第1の層を基板に付着させること、 (c)前記化学線と、前記化学線より波長の長い前記電磁放射線の両方に対して
透過性の撥インク性ポリマー材料を含む電磁放射線感応画像形成性組成物の第2
の層を第1の層に隣接して付着させることによって、画像形成性エレメントを形
成すること、 (d)画像形成性エレメントを熱、または化学線より波長の長い電磁放射線に画
像露光すること、 (e)その後、画像形成性エレメントを化学線に露光すること、および (f)画像形成性エレメントを現像することを含む方法。
【請求項15】 第1の層の感光性組成物は、アリールジアゾニウム塩また
はアリールジアゾニウム塩の混合物と縮合性化合物との縮合体を含む、請求項1 4 に記載の方法。
はアリールジアゾニウム塩の混合物と縮合性化合物との縮合体を含む、請求項1 4 に記載の方法。
【請求項16】 基板上に画像を形成する方法であって、
(a)基板を設けること、
(b)(i)第1の層により化学線が吸収されると現像液に対する溶解性が低下する
感光性組成物と、 (ii)前記化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止
する抑制物質であって、熱、または前記化学線より波長の長い電磁放射線によっ
て不活化され、不活化されると化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶
解性の低下を阻止しなくなる抑制物質と を含む電磁放射線感応画像形成性組成物の第1の層を基板に付着させること、 (c)前記化学線と、前記化学線より波長の長い前記電磁放射線の両方に対して
透過性の撥インク性ポリマー材料を含む電磁放射線感応画像形成性組成物の第2
の層を第1の層に隣接して付着させることによって、画像形成性エレメントを形
成すること、 (d)画像形成性エレメントを熱、または化学線より波長の長い電磁放射線に画
像露光すること、 (e)その後、画像形成性エレメントを化学線に露光すること、および (f)画像形成性エレメントを現像することを含む方法。
感光性組成物と、 (ii)前記化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止
する抑制物質であって、熱、または前記化学線より波長の長い電磁放射線によっ
て不活化され、不活化されると化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶
解性の低下を阻止しなくなる抑制物質と を含む電磁放射線感応画像形成性組成物の第1の層を基板に付着させること、 (c)前記化学線と、前記化学線より波長の長い前記電磁放射線の両方に対して
透過性の撥インク性ポリマー材料を含む電磁放射線感応画像形成性組成物の第2
の層を第1の層に隣接して付着させることによって、画像形成性エレメントを形
成すること、 (d)画像形成性エレメントを熱、または化学線より波長の長い電磁放射線に画
像露光すること、 (e)その後、画像形成性エレメントを化学線に露光すること、および (f)画像形成性エレメントを現像することを含む方法。
【請求項17】 第1の層の感光性組成物は、少なくとも1つの光重合性エチ
レン不飽和基を含む、請求項16に記載の方法。
レン不飽和基を含む、請求項16に記載の方法。
【請求項18】 抑制物質はニトロソモノマーと平衡状態にあるニトロソダ
イマーを含み、ニトロソモノマーは第1の層の遊離基重合性化合物の重合を阻止
する、請求項16に記載の方法。
イマーを含み、ニトロソモノマーは第1の層の遊離基重合性化合物の重合を阻止
する、請求項16に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成15年6月19日(2003.6.19)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
G03F 7/11 501 G03F 7/11 501
7/20 511 7/20 511
(72)発明者 エス・ピーター・パパス
アメリカ合衆国・フロリダ・33408・ジュ
ノ・ビーチ・オーシャン・ドライヴ・530
Fターム(参考) 2H025 AA04 AB04 AC01 AC08 AD01
AD03 BA03 BC13 BC42 CC10
CC13 DA37 FA06 FA17
2H095 AA10 AB28 AD02
2H096 AA11 BA03 BA05 BA09 CA05
EA02 EA04 EA23
2H097 BA10 FA02 FA05 JA02 LA09
Claims (20)
- 【請求項1】 (A)基板と、 (B)基板に付着させた電磁放射線感応画像形成性組成物であって、 (a)第1の層であって (i)第1の層により化学線が吸収されると現像液に対する溶解性が低下する
感光性組成物と、 (ii)熱、または前記化学線より波長の長い電磁放射線によって活性化され
て、化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止する抑制
物質と を含む第1の層と、 (b)前記化学線と、前記化学線より波長の長い前記電磁放射線の両方に対し
て透過性の撥インク性ポリマー材料を含む、第1の層に隣接する、第2の層と を含む電磁放射線感応画像形成性組成物とを備えた画像形成性エレメント。 - 【請求項2】 第1の層の感光性組成物は、アリールジアゾニウム塩または
アリールジアゾニウム塩の混合物と縮合性化合物との縮合体を含む、請求項1に
記載の画像形成性エレメント。 - 【請求項3】 縮合性化合物は、アルデヒド、ビスメトキシメチルジフェニ
ルエーテルおよびそれらの混合物よりなる群から選択される、請求項2に記載の
画像形成性エレメント。 - 【請求項4】 抑制物質は赤外線を吸収する、請求項1に記載の画像形成性
エレメント。 - 【請求項5】 抑制物質は、アリールアミニウム、ポリメチン、キノリウム
、トリアリールメタン、トリアリールアミン、チアゾリウム、インドリウム、オ
キサゾリウム、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、チオレン金属錯
体、スクアリリウム、クロコネート、シアニン、フタロシアニン、メロシアニン
、カルコゲノピリロアリーリジン、ビス(カルコゲノピリロ)ポリメチン、オキシ
インドリジン、キノイド、インドリジン、ピリリウム、チアジン、アズレニウム
、キサンテン、カーボンブラック、暗色無機顔料、黒色顔料、黄色顔料、橙色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、ポリマー
結合アゾ顔料、ポリマー結合アントラキノン顔料、ポリマー結合キナクリドン顔
料、およびそれらの混合物よりなる群から選択される染料または顔料である、請
求項1に記載の画像形成性エレメント。 - 【請求項6】 抑制物質は化学線に対して透明である、請求項1に記載の画
像形成性エレメント。 - 【請求項7】 抑制物質はシアニン染料である、請求項1に記載の画像形成
性エレメント。 - 【請求項8】 第2の層の撥インク性ポリマー材料は架橋ポリジオルガノシ
ロキサンを含む、請求項1に記載の画像形成性エレメント。 - 【請求項9】 (A)基板と、 (B)基板に付着させた電磁放射線感応画像形成性組成物であって、 (a)第1の層であって (i)第1の層により化学線が吸収されると現像液に対する溶解性が低下する
感光性組成物と、 (ii)化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止す
る抑制物質であって、熱、または前記化学線より波長の長い電磁放射線によって
不活化され、不活化されると化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解
性の低下を阻止しなくなる抑制物質と を含む第1の層と、 (b)前記化学線と、前記化学線より波長の長い電磁放射線の両方に対して透
過性の撥インク性ポリマー材料を含む、第1の層に隣接する、第2の層とを含む電
磁放射線感応画像形成性組成物と を備えた画像形成性エレメント。 - 【請求項10】 第1の層の感光性組成物は、少なくとも1つの光重合性エチ
レン不飽和基を含む、請求項9に記載の画像形成性エレメント。 - 【請求項11】 第1の層の感光性組成物は、非赤外線吸収性光開始剤また
は光増感剤をさらに含む、請求項9に記載の画像形成性エレメント。 - 【請求項12】 抑制物質はニトロソモノマーと平衡状態にあるニトロソダ
イマーを含み、ニトロソモノマーは第1の層のフリーラジカル重合性化合物の重
合を阻止する、請求項9に記載の画像形成性エレメント。 - 【請求項13】 第1の層は赤外線を吸収する化合物をさらに含む、請求項9
に記載の画像形成性エレメント。 - 【請求項14】 第2の層の撥インク性ポリマー材料は架橋ポリジオルガノ
シロキサンを含む、請求項9に記載の画像形成性エレメント。 - 【請求項15】 第1の層は、アリールアミニウム、ポリメチン、キノリウ
ム、トリアリールメタン、トリアリールアミン、チアゾリウム、インドリウム、
オキサゾリウム、ポリアニリン、ポリピロール、ポリチオフェン、チオレン金属
錯体、スクアリリウム、クロコネート、シアニン、フタロシアニン、メロシアニ
ン、カルコゲノピリロアリーリジン、ビス(カルコゲノピリロ)ポリメチン、オキ
シインドリジン、キノイド、インドリジン、ピリリウム、チアジン、アズレニウ
ム、キサンテン、カーボンブラック、暗色無機顔料、黒色顔料、黄色顔料、橙色
顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、ポリマ
ー結合アゾ顔料、ポリマー結合アントラキノン顔料、ポリマー結合キナクリドン
顔料、およびそれらの混合物よりなる群から選択される染料または顔料をさらに
含む、請求項9に記載の画像形成性エレメント。 - 【請求項16】 基板上に画像を形成する方法であって、 (a)基板を設けること、 (b)(i)第1の層により化学線が吸収されると現像液に対する溶解性が低下する
感光性組成物と、 (ii)熱、または前記化学線より波長の長い電磁放射線によって活性化されて
、化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止する抑制物
質と を含む電磁放射線感応画像形成性組成物の第1の層を基板に付着させること、 (c)前記化学線と前記化学線より波長の長い前記電磁放射線の両方に対して透
過性の撥インク性ポリマー材料を含む、第1の層に隣接する、電磁放射線感応画
像形成性組成物の第2の層を第1の層に付着させることによって、画像形成性エレ
メントを形成すること、 (d)画像形成性エレメントを赤外光に画像露光すること、 (e)画像形成性エレメントを化学線に露光すること、および (f)画像形成性エレメントを現像することを含む方法。 - 【請求項17】 第1の層の感光性組成物は、アリールジアゾニウム塩また
はアリールジアゾニウム塩の混合物と縮合性化合物との縮合体を含む、請求項16
に記載の方法。 - 【請求項18】 基板上に画像を形成する方法であって、 (a)基板を設けること、 (b)(i)第1の層により化学線が吸収されると現像液に対する溶解性が低下する
感光性組成物と、 (ii)化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性の低下を阻止する
抑制物質であって、熱、または前記化学線より波長の長い電磁放射線によって不
活化され、不活化されると化学線の吸収による第1の層の感光性組成物の溶解性
の低下を阻止しなくなる抑制物質と を含む電磁放射線感応画像形成性組成物の第1の層を基板に付着させること、 (c)前記化学線と、前記化学線より波長の長い電磁放射線の両方に対して透過
性の撥インク性ポリマー材料を含む、第1の層に隣接する、電磁放射線感応画像
形成性組成物の第2の層を第1の層に付着させることによって、画像形成性エレメ
ントを形成すること、 (d)画像形成性エレメントを赤外光に画像露光すること、 (e)画像形成性エレメントを化学線に露光すること、および (f)画像形成性エレメントを現像することを含む方法。 - 【請求項19】 第1の層の感光性組成物は、少なくとも1つの光重合性エチ
レン不飽和基を含む、請求項18に記載の方法。 - 【請求項20】 抑制物質はニトロソモノマーと平衡状態にあるニトロソダ
イマーを含み、ニトロソモノマーは第1の層の遊離基重合性化合物の重合を阻止
する、請求項18に記載の方法。
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