JP2003533463A - チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含む化合物の、汚染防止化粧剤としての使用 - Google Patents
チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含む化合物の、汚染防止化粧剤としての使用Info
- Publication number
- JP2003533463A JP2003533463A JP2001583730A JP2001583730A JP2003533463A JP 2003533463 A JP2003533463 A JP 2003533463A JP 2001583730 A JP2001583730 A JP 2001583730A JP 2001583730 A JP2001583730 A JP 2001583730A JP 2003533463 A JP2003533463 A JP 2003533463A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- group
- use according
- formula
- sulfoxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/40—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing nitrogen
- A61K8/44—Aminocarboxylic acids or derivatives thereof, e.g. aminocarboxylic acids containing sulfur; Salts; Esters or N-acylated derivatives thereof
- A61K8/447—Aminocarboxylic acids or derivatives thereof, e.g. aminocarboxylic acids containing sulfur; Salts; Esters or N-acylated derivatives thereof containing sulfur
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/46—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing sulfur
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q19/00—Preparations for care of the skin
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Dermatology (AREA)
- Birds (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 有毒な気体、特にオゾンから皮膚を保護すること、及び都市汚染で遭遇するこれらの気体の有害な作用から皮膚を保護するすること。
【解決手段】 本発明は、チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含む化合物の、局所適用における汚染防止化粧剤としての使用に関し、さらに汚染の作用に対して有機体を保護する化粧処置方法に関する。
Description
【０００１】
本発明は本質的に、チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含む化合物
の汚染防止化粧剤としての新規な使用に関する。
の汚染防止化粧剤としての新規な使用に関する。
【０００２】
都市環境は常時最大限の汚染に曝されている。燃焼の１次及び２次生成物によ
って広く代表される大気汚染物は、環境による酸化ストレスの主要な原因物質で
ある。 都市汚染は種々の型の化学物質、生体異物及び粒子から成る。 三つの主要な種類の汚染物質は皮膚及び毛髪に悪い影響を及ぼす可能性がある
：これらの物質は気体、重金属及び粒子であり、該粒子は多数の有機化合物が吸
着した燃焼残渣である。 環境の毒性物質に最初にかつ直接的に曝されるのは最外層の組織である。皮膚
は直接的かつ高頻度で酸化傾向にある環境に曝される。環境中にある酸化剤の供
給源は、酸素、太陽のＵＶ照射及び汚染した空気中ではオゾン、窒素酸化物及び
硫黄酸化物を含む。家庭及び産業による燃焼の１次及び２次生成物が代表する大
気汚染物質、例えば単環式又は多環式芳香族炭化水素も、酸化ストレスの主要な
原因である。皮膚は酸化ストレスの作用に特に敏感であり、最外層は酸化による
障害に対して障壁としての役割を果たす。多くの環境下において、ケラチン物質
と反応した後酸化剤は中和されるが、生成した反応物質は細胞及び組織に対する
攻撃の原因となっているようである。
って広く代表される大気汚染物は、環境による酸化ストレスの主要な原因物質で
ある。 都市汚染は種々の型の化学物質、生体異物及び粒子から成る。 三つの主要な種類の汚染物質は皮膚及び毛髪に悪い影響を及ぼす可能性がある
：これらの物質は気体、重金属及び粒子であり、該粒子は多数の有機化合物が吸
着した燃焼残渣である。 環境の毒性物質に最初にかつ直接的に曝されるのは最外層の組織である。皮膚
は直接的かつ高頻度で酸化傾向にある環境に曝される。環境中にある酸化剤の供
給源は、酸素、太陽のＵＶ照射及び汚染した空気中ではオゾン、窒素酸化物及び
硫黄酸化物を含む。家庭及び産業による燃焼の１次及び２次生成物が代表する大
気汚染物質、例えば単環式又は多環式芳香族炭化水素も、酸化ストレスの主要な
原因である。皮膚は酸化ストレスの作用に特に敏感であり、最外層は酸化による
障害に対して障壁としての役割を果たす。多くの環境下において、ケラチン物質
と反応した後酸化剤は中和されるが、生成した反応物質は細胞及び組織に対する
攻撃の原因となっているようである。
【０００３】
皮膚の障壁となっている角質層は空気と皮膚組織との間の接触部位である。脂
質／タンパク質の二相構造が、この皮膚障壁作用の重大な因子である。これらの
要素が酸化剤と反応し変化して、落屑の現象を促進することができる。オゾンが
誘導する脂質の過酸化は以下の二つの方法で皮膚を変化させることができる： １）角質層の脂質の酸化及び分解によって、角質層の障壁機能を変化させること
ができる。外層の脂質及び蛋白質の構造の崩壊が多くの皮膚病（乾せん、アトピ
ー性皮膚炎及び刺激性皮膚炎）の誘因であると考えられる。 ２）皮膚の上層において脂質の酸化生成物の形成が増加することが、皮膚の隣接
する層が攻撃を受ける誘因となる可能性がある。オゾン（Ｏ3）と不飽和脂質と
の反応はクリーゲー反応として知られている二重結合に対する付加反応を含み、
該反応は下記のように進行する：
質／タンパク質の二相構造が、この皮膚障壁作用の重大な因子である。これらの
要素が酸化剤と反応し変化して、落屑の現象を促進することができる。オゾンが
誘導する脂質の過酸化は以下の二つの方法で皮膚を変化させることができる： １）角質層の脂質の酸化及び分解によって、角質層の障壁機能を変化させること
ができる。外層の脂質及び蛋白質の構造の崩壊が多くの皮膚病（乾せん、アトピ
ー性皮膚炎及び刺激性皮膚炎）の誘因であると考えられる。 ２）皮膚の上層において脂質の酸化生成物の形成が増加することが、皮膚の隣接
する層が攻撃を受ける誘因となる可能性がある。オゾン（Ｏ3）と不飽和脂質と
の反応はクリーゲー反応として知られている二重結合に対する付加反応を含み、
該反応は下記のように進行する：
【０００４】
この過程は第２段階で脂質鎖の開裂に進み、ヒドロペルオキシド及びアルデヒ
ド、さらに過酸化水素の形成に至る。これは特別な機構であって従来記載されて
いる脂質過酸化の機構とは異なり、ラジカルが仲介する。オゾンが誘導する脂質
の２次又は３次酸化生成物はオゾンより反応性は低いが寿命が長く、オゾンの作
用を増大することができる。これらは相対的に安定であるために、脂質の酸化及
び過酸化生成物、すなわちコレステロールオキシド及びアルデヒドは、オゾンに
直接曝されていない離れた部位の細胞を変化させる能力を有する。 層の表面層に対するかなりの程度の酸化攻撃が引き続く局所化した炎症過程を
開始させる可能性があり、次いで食細胞の増加が生じ、酸化剤を生成することに
よりこのことが初期の酸化過程を増強する。 都市汚染では、オゾン及びＵＶに対する同時的な曝露によって酸化ストレスが
相乗的になる可能性がある。 同様に、オゾンと燃焼から誘導された有機化合物（単環式及び多環式芳香族化
合物）との間に相乗的な作用があると考えることができる。
ド、さらに過酸化水素の形成に至る。これは特別な機構であって従来記載されて
いる脂質過酸化の機構とは異なり、ラジカルが仲介する。オゾンが誘導する脂質
の２次又は３次酸化生成物はオゾンより反応性は低いが寿命が長く、オゾンの作
用を増大することができる。これらは相対的に安定であるために、脂質の酸化及
び過酸化生成物、すなわちコレステロールオキシド及びアルデヒドは、オゾンに
直接曝されていない離れた部位の細胞を変化させる能力を有する。 層の表面層に対するかなりの程度の酸化攻撃が引き続く局所化した炎症過程を
開始させる可能性があり、次いで食細胞の増加が生じ、酸化剤を生成することに
よりこのことが初期の酸化過程を増強する。 都市汚染では、オゾン及びＵＶに対する同時的な曝露によって酸化ストレスが
相乗的になる可能性がある。 同様に、オゾンと燃焼から誘導された有機化合物（単環式及び多環式芳香族化
合物）との間に相乗的な作用があると考えることができる。
【０００５】
イオウを含む基を有する化合物で組織を保護することによる化粧処置及び治療
において解決策が考慮されており、該化合物は重金属封鎖剤と同様に作用し、例
えば特許ＥＰ ０ ５５７ ０４２ Ａ１におけるメタロチオネイン及び特許出願Ｅ
Ｐ ０ ９１４ ８１５ Ａ１におけるチオール基を有するアミノ酸化合物である。 さらに、チオエーテル基又はスルホキシド基を有するカルボン酸が特許ＥＰ−
Ａ−０ ５７６ ２８７に記載されており、該特許は皮膚の弾力性を改良する能力
をクレームしている。 イオウを含む基を有するカルボン酸を皮膚の落屑を促進し又は表皮の更新を刺
激するために使用する先行例がある。
において解決策が考慮されており、該化合物は重金属封鎖剤と同様に作用し、例
えば特許ＥＰ ０ ５５７ ０４２ Ａ１におけるメタロチオネイン及び特許出願Ｅ
Ｐ ０ ９１４ ８１５ Ａ１におけるチオール基を有するアミノ酸化合物である。 さらに、チオエーテル基又はスルホキシド基を有するカルボン酸が特許ＥＰ−
Ａ−０ ５７６ ２８７に記載されており、該特許は皮膚の弾力性を改良する能力
をクレームしている。 イオウを含む基を有するカルボン酸を皮膚の落屑を促進し又は表皮の更新を刺
激するために使用する先行例がある。
【０００６】
従って課題は、有毒な気体、特にオゾンから皮膚を保護すること、及び都市汚
染で遭遇するこれらの気体の有害な作用から皮膚を保護することである。
染で遭遇するこれらの気体の有害な作用から皮膚を保護することである。
【０００７】
完全に驚くべきことに、チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含む化
合物を局所適用で使用することにより、気体、特にオゾンに対してケラチン物質
、皮膚及び外皮の保護が可能であることを見出した。 理由は説明できないが、汚染の有害な作用に対してケラチン物質、皮膚及び外
皮をこれらの化合物が維持しかつ保護することを本出願人は見出した。 チオエーテルによってスルホキシドの形態でオゾンに安定な酸化生成物が生じ
、一方スルホキシドはオゾンと接触して対応するスルホンに変換される可能性が
ある。これらのスルホンは過剰量のオゾンの存在下で、対応するスルホン酸に変
換される。
合物を局所適用で使用することにより、気体、特にオゾンに対してケラチン物質
、皮膚及び外皮の保護が可能であることを見出した。 理由は説明できないが、汚染の有害な作用に対してケラチン物質、皮膚及び外
皮をこれらの化合物が維持しかつ保護することを本出願人は見出した。 チオエーテルによってスルホキシドの形態でオゾンに安定な酸化生成物が生じ
、一方スルホキシドはオゾンと接触して対応するスルホンに変換される可能性が
ある。これらのスルホンは過剰量のオゾンの存在下で、対応するスルホン酸に変
換される。
【０００８】
本発明の主題は、チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含む化合物の
局所適用における、汚染防止化粧剤としての使用である。 “汚染防止化粧剤”という表現は、皮膚及びケラチン物質を保護して、オゾン
及び燃焼残渣である有機化合物のような有害な気体の有害な作用を防止し、低下
させ及び／又は除去する剤を意味する。 チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含むこれらの化合物は以下の式
Ｉ、II及びIIIに対応する： ｎ1は１〜１０の範囲の整数を表し、 ｐ1及びｑ1は、同一又は異なってもよく、０、１又は２を表し、 ｎ2は０〜５の範囲の整数を表し、 ｐ2は０、１又は２を表し、 ｑ2は０、１、２又は３を表し、 ｍ2は０〜１０の範囲の整数を表し、 ｒ2は０又は１を表し、 ｑ2とｎ2は両者が同時に０であることはない。
局所適用における、汚染防止化粧剤としての使用である。 “汚染防止化粧剤”という表現は、皮膚及びケラチン物質を保護して、オゾン
及び燃焼残渣である有機化合物のような有害な気体の有害な作用を防止し、低下
させ及び／又は除去する剤を意味する。 チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含むこれらの化合物は以下の式
Ｉ、II及びIIIに対応する： ｎ1は１〜１０の範囲の整数を表し、 ｐ1及びｑ1は、同一又は異なってもよく、０、１又は２を表し、 ｎ2は０〜５の範囲の整数を表し、 ｐ2は０、１又は２を表し、 ｑ2は０、１、２又は３を表し、 ｍ2は０〜１０の範囲の整数を表し、 ｒ2は０又は１を表し、 ｑ2とｎ2は両者が同時に０であることはない。
【０００９】
基Ｒ1とＲ'1は、同一又は異なってもよく、以下の基から選択する基を表す：
【００１０】
式中、
Ｒ2及びＲ3は、同一又は異なってもよく、水素原子又は直鎖若しくは分岐した
Ｃ1〜Ｃ8アルキル又はＣ2〜Ｃ8アルケニル基を意味し； Ｒ4は水素原子又は直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ8アルキル基、直鎖又は分岐
したＣ2〜Ｃ8アルケニル基又は直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ8アルコキシ基を意
味し； Ｒ5及びＲ6は、独立して相互に、水素原子、Ｃ2〜Ｃ8アルケニル、直鎖又は分
岐したＣ1〜Ｃ8アルコキシ、フェニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボキシル又はＣ2
〜Ｃ6アルケニルカルボキシル基を意味し； Ｒ11及びＲ12はＲ5及びＲ6と同一の意味を有し； Ｒ13は直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ17アルキル又はＣ2〜Ｃ17アルケニル基又
はアシル−ＣＯ−Ｒ14基を表し、ここでＲ14は直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ17
アルキル又はＣ2〜Ｃ17アルケニル基を意味し； Ｒ15を水素原子、直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ8アルキル又はＣ2〜Ｃ8アルケ
ニル基、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボキシル又はＣ2〜Ｃ5アルケニルカルボキシル基
、又は−ＣＯＯＨ基から選択し、
Ｃ1〜Ｃ8アルキル又はＣ2〜Ｃ8アルケニル基を意味し； Ｒ4は水素原子又は直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ8アルキル基、直鎖又は分岐
したＣ2〜Ｃ8アルケニル基又は直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ8アルコキシ基を意
味し； Ｒ5及びＲ6は、独立して相互に、水素原子、Ｃ2〜Ｃ8アルケニル、直鎖又は分
岐したＣ1〜Ｃ8アルコキシ、フェニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボキシル又はＣ2
〜Ｃ6アルケニルカルボキシル基を意味し； Ｒ11及びＲ12はＲ5及びＲ6と同一の意味を有し； Ｒ13は直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ17アルキル又はＣ2〜Ｃ17アルケニル基又
はアシル−ＣＯ−Ｒ14基を表し、ここでＲ14は直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ17
アルキル又はＣ2〜Ｃ17アルケニル基を意味し； Ｒ15を水素原子、直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ8アルキル又はＣ2〜Ｃ8アルケ
ニル基、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボキシル又はＣ2〜Ｃ5アルケニルカルボキシル基
、又は−ＣＯＯＨ基から選択し、
【００１１】
Ｒ21及びＲ'21は以下の式の基を意味し：
及び
−ＣＨ2−ＣＯ2Ｈ
Ｒ22は以下の基を表し：
【００１２】
ここで、Ｒ24は以下から選択する基を表し：
−ＣＨ2−ＣＯＯＨ及び−ＣＯ−ＣＨ3、かつＲ25は以下から選択する基を表し：
ＯＨ、ＯＣＨ3、ＯＣ(ＣＨ3)3、ＯＣＨ2ＣＯＯＨ； Ｒ23は水素原子、直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ6アルキル又はＣ2〜Ｃ6アルケ
ニル基を意味し、又はＲ22とＲ23は一緒になってアルカンジイル−(ＣＨ2)ｍ3−
基を形成し、ここでｍ3は３〜５の範囲の整数を表し、又はＲ22とＲ23は一緒に
なって以下のアラルカンジイル基を表し： ここでｎ3は３又は４を表す；又はこれらの塩。 好ましくは本発明の酸を以下から選択する： ａ）Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ、ｐ1＝ｑ1かつＲ1＝Ｒ'1である式（Ｉ）に対応する化合物
； ｂ）ｒ2＝１、Ｒ13＝Ｈ、Ｒ15＝−ＣＯＯＨかつｍ＝１（システイン誘導体）
又はｍ＝２（ホモシステイン誘導体）である式（II）に対応する化合物； ｃ）Ｒ22が芳香族基、Ｒ23＝ＨかつＲ21＝Ｒ'21である式（III）に対応する化
合物。
ＯＨ、ＯＣＨ3、ＯＣ(ＣＨ3)3、ＯＣＨ2ＣＯＯＨ； Ｒ23は水素原子、直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ6アルキル又はＣ2〜Ｃ6アルケ
ニル基を意味し、又はＲ22とＲ23は一緒になってアルカンジイル−(ＣＨ2)ｍ3−
基を形成し、ここでｍ3は３〜５の範囲の整数を表し、又はＲ22とＲ23は一緒に
なって以下のアラルカンジイル基を表し： ここでｎ3は３又は４を表す；又はこれらの塩。 好ましくは本発明の酸を以下から選択する： ａ）Ｒ5＝Ｒ6＝Ｈ、ｐ1＝ｑ1かつＲ1＝Ｒ'1である式（Ｉ）に対応する化合物
； ｂ）ｒ2＝１、Ｒ13＝Ｈ、Ｒ15＝−ＣＯＯＨかつｍ＝１（システイン誘導体）
又はｍ＝２（ホモシステイン誘導体）である式（II）に対応する化合物； ｃ）Ｒ22が芳香族基、Ｒ23＝ＨかつＲ21＝Ｒ'21である式（III）に対応する化
合物。
【００１３】
特に、本発明の酸を以下から選択する：メチレン−２，２'−ジチオジ安息香
酸、エチレン−２，２'−ジチオジ安息香酸、エチレン−２，２'−ジスルフィニ
ルジ安息香酸、２，２'−(１，３−プロパンジイルジチオ)ジ安息香酸、２，２'
−(１，４−ブタンジイルジチオ)ジ安息香酸、２，２'−(１，５−ペンタンジイ
ルジチオ)ジ安息香酸、２，２'−(１，６−ヘキサンジイルジチオ)ジ安息香酸、
２，２'−(１，６−ヘキサンジイルジスルフィニル)ジ安息香酸、α，α'−(１
，６−ヘキサンジイルジチオ)ジ安息香酸、２，２'−(１，８−オクタンジイル
ジチオ)ジ安息香酸、２，２'−(１，１０−デカンジイルジチオ)ジ安息香酸、α
，α'−(１，１０−デカンジイルジチオ)ジ安息香酸、メチレン−α，α'−ジチ
オジ酢酸、エチレン−α，α'−ジチオジ酢酸、エチレン−α，α'−ジスルフィ
ニルジ酢酸、エチレン−α，α'−ジスルホニルジ酢酸、α，α'−(１，６−ヘ
キサンジイルジチオ)ジ酢酸、α，α'−(１，６−ヘキサンジイルジスルフィニ
ル)ジ酢酸、α，α'−(１，６−ヘキサンジイルジスルホニル)ジ酢酸、α，α'
−(１，１０−デカンジイルジチオ)ジ酢酸、α，α'−(１，１０−デカンジイル
ジスルフィニル)ジ酢酸、α，α'−(１，１０−デカンジイルジスルホニル)ジ酢
酸、Ｓ−（カルボキシメチル）システイン、Ｓ−（カルボキシエチル）システイ
ン、Ｓ−（４−カルボキシブチル）システイン、Ｓ−（カルボキシメチル）スル
フィニルシステイン、Ｓ−（カルボキシメチル）スルホニルシステイン、Ｓ−（
１−カルボキシ−１−エチル）システイン、Ｓ−（２−カルボキシ−２−プロピ
ル）システイン、α，α'−（ｐ−メトキシベンジリデンジチオ）ジコハク酸、
α，α'−（ベンジリデンジチオ）ジコハク酸、α，α'−（ピペロニリデンジチ
オ）ジコハク酸、α，α'−（バニリリデンジチオ）ジコハク酸、α，α'−（ベ
ラトリリデンジチオ）ジコハク酸、α，α'−（４−ブトキシ−３−メトキシベ
ンジリデンジチオ）ジコハク酸、α，α'−（４−カルボキシメチルオキシ−３
−メトキシベンジリデンジチオ）ジコハク酸、α，α'−（ｐ−メトキシベンジ
リデンジチオ）ジ酢酸、α，α'−（ベンジリデンジチオ）ジ酢酸、α，α'−（
ピペロニリデンジチオ）ジ酢酸、α，α'−（バニリリデンジチオ）ジ酢酸、α
，α'−（ベラトリリデンジチオ）ジ酢酸及び無機又は有機塩基とこれらとのモ
ノ塩及びジ塩。
酸、エチレン−２，２'−ジチオジ安息香酸、エチレン−２，２'−ジスルフィニ
ルジ安息香酸、２，２'−(１，３−プロパンジイルジチオ)ジ安息香酸、２，２'
−(１，４−ブタンジイルジチオ)ジ安息香酸、２，２'−(１，５−ペンタンジイ
ルジチオ)ジ安息香酸、２，２'−(１，６−ヘキサンジイルジチオ)ジ安息香酸、
２，２'−(１，６−ヘキサンジイルジスルフィニル)ジ安息香酸、α，α'−(１
，６−ヘキサンジイルジチオ)ジ安息香酸、２，２'−(１，８−オクタンジイル
ジチオ)ジ安息香酸、２，２'−(１，１０−デカンジイルジチオ)ジ安息香酸、α
，α'−(１，１０−デカンジイルジチオ)ジ安息香酸、メチレン−α，α'−ジチ
オジ酢酸、エチレン−α，α'−ジチオジ酢酸、エチレン−α，α'−ジスルフィ
ニルジ酢酸、エチレン−α，α'−ジスルホニルジ酢酸、α，α'−(１，６−ヘ
キサンジイルジチオ)ジ酢酸、α，α'−(１，６−ヘキサンジイルジスルフィニ
ル)ジ酢酸、α，α'−(１，６−ヘキサンジイルジスルホニル)ジ酢酸、α，α'
−(１，１０−デカンジイルジチオ)ジ酢酸、α，α'−(１，１０−デカンジイル
ジスルフィニル)ジ酢酸、α，α'−(１，１０−デカンジイルジスルホニル)ジ酢
酸、Ｓ−（カルボキシメチル）システイン、Ｓ−（カルボキシエチル）システイ
ン、Ｓ−（４−カルボキシブチル）システイン、Ｓ−（カルボキシメチル）スル
フィニルシステイン、Ｓ−（カルボキシメチル）スルホニルシステイン、Ｓ−（
１−カルボキシ−１−エチル）システイン、Ｓ−（２−カルボキシ−２−プロピ
ル）システイン、α，α'−（ｐ−メトキシベンジリデンジチオ）ジコハク酸、
α，α'−（ベンジリデンジチオ）ジコハク酸、α，α'−（ピペロニリデンジチ
オ）ジコハク酸、α，α'−（バニリリデンジチオ）ジコハク酸、α，α'−（ベ
ラトリリデンジチオ）ジコハク酸、α，α'−（４−ブトキシ−３−メトキシベ
ンジリデンジチオ）ジコハク酸、α，α'−（４−カルボキシメチルオキシ−３
−メトキシベンジリデンジチオ）ジコハク酸、α，α'−（ｐ−メトキシベンジ
リデンジチオ）ジ酢酸、α，α'−（ベンジリデンジチオ）ジ酢酸、α，α'−（
ピペロニリデンジチオ）ジ酢酸、α，α'−（バニリリデンジチオ）ジ酢酸、α
，α'−（ベラトリリデンジチオ）ジ酢酸及び無機又は有機塩基とこれらとのモ
ノ塩及びジ塩。
【００１４】
好ましくは、Ｓ−カルボキシメチルシステイン及びその無機又は有機塩基との
モノ塩及びジ塩を、本発明に従って使用する。 チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含むこれらの化合物を、毒性気
体の捕捉用化粧剤として使用する。 本発明の主題はさらに、チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含む化
合物を、局所適用のための汚染防止化粧組成物の製造における又は製造のために
使用することでもある。 本発明で使用する化粧組成物は有利には、組成物の全質量に対して、チオエー
テル、スルホキシド又はスルホン基を含む化合物を、０．００１質量％〜１０質
量％、好ましくは０．０１質量％〜５質量％含む。 本組成物はさらに少なくとも一つの他の汚染防止化合物を含むこともできる。 該汚染防止化合物を特に以下から選択することができる：アントシアン及び／
又はその誘導体、エルゴチオネイン及び／又はその誘導体、金属キレート化剤、
例えばＮ，Ｎ'−ジベンジルエチレンジアミン−Ｎ，Ｎ'−ジ酢酸誘導体、抗酸化
剤及びミズアオイ科植物の細胞抽出物。抗酸化剤のうち特に選択するものは、ポ
リフェノール、例えばエラグ酸である。
モノ塩及びジ塩を、本発明に従って使用する。 チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含むこれらの化合物を、毒性気
体の捕捉用化粧剤として使用する。 本発明の主題はさらに、チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含む化
合物を、局所適用のための汚染防止化粧組成物の製造における又は製造のために
使用することでもある。 本発明で使用する化粧組成物は有利には、組成物の全質量に対して、チオエー
テル、スルホキシド又はスルホン基を含む化合物を、０．００１質量％〜１０質
量％、好ましくは０．０１質量％〜５質量％含む。 本組成物はさらに少なくとも一つの他の汚染防止化合物を含むこともできる。 該汚染防止化合物を特に以下から選択することができる：アントシアン及び／
又はその誘導体、エルゴチオネイン及び／又はその誘導体、金属キレート化剤、
例えばＮ，Ｎ'−ジベンジルエチレンジアミン−Ｎ，Ｎ'−ジ酢酸誘導体、抗酸化
剤及びミズアオイ科植物の細胞抽出物。抗酸化剤のうち特に選択するものは、ポ
リフェノール、例えばエラグ酸である。
【００１５】
本発明で使用する化粧組成物はさらに、化粧品として受容可能な媒体を含むこ
ともでき、これは特に水及び／又は化粧品として受容可能な有機溶媒から成る。 これらを以下から成る群から選択することができる：親水性有機溶媒、両親媒
性溶媒及び親油性有機溶媒、又はこれらの混合物。 親水性有機溶媒のうち例えば以下を挙げることができる：１〜８の炭素原子を
含む直鎖又は分岐した低級モノアルコール、例えばエタノール、プロパノール、
ブタノール、イソプロパノール及びイソブタノール、６〜８０のエチレンオキシ
ドを含むポリエチレングリコール、ポリオール、例えばプロピレングリコール、
イソプレングリコール、ブチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、アル
キル基が１〜５の炭素原子を含むモノアルキル又はジアルキルイソソルビド、例
えばジメチルイソソルビド、グリコールエーテル、例えばジエチレングリコール
モノメチルエーテル又はモノエチルエーテル、及びプロピレングリコールエーテ
ル、例えばジプロピレングリコールメチルエーテル。
ともでき、これは特に水及び／又は化粧品として受容可能な有機溶媒から成る。 これらを以下から成る群から選択することができる：親水性有機溶媒、両親媒
性溶媒及び親油性有機溶媒、又はこれらの混合物。 親水性有機溶媒のうち例えば以下を挙げることができる：１〜８の炭素原子を
含む直鎖又は分岐した低級モノアルコール、例えばエタノール、プロパノール、
ブタノール、イソプロパノール及びイソブタノール、６〜８０のエチレンオキシ
ドを含むポリエチレングリコール、ポリオール、例えばプロピレングリコール、
イソプレングリコール、ブチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、アル
キル基が１〜５の炭素原子を含むモノアルキル又はジアルキルイソソルビド、例
えばジメチルイソソルビド、グリコールエーテル、例えばジエチレングリコール
モノメチルエーテル又はモノエチルエーテル、及びプロピレングリコールエーテ
ル、例えばジプロピレングリコールメチルエーテル。
【００１６】
挙げることができる両親媒性有機溶媒は以下を含む：ポリオール、例えばプロ
ピレングリコール（ＰＰＧ）誘導体、例えばポリプロピレングリコールと脂肪酸
のエステル、ＰＰＧと脂肪アルコールの誘導体、例えばＰＰＧ−２３オレイルエ
ーテル、及びＰＰＧ−３６オレエート。 挙げることができる親油性有機溶媒は例えば脂肪エステル、例えばジイソプロ
ピルアジペート、ジオクチルアジペート及びアルキルベンゾエートを含む。 有機溶媒を好ましくは以下から選択する：単官能性又は多官能性アルコール、
任意にオキシエチレン化したポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ルエステル、ソルビトール及びその誘導体、ジアルキルイソソルビド、グリコー
ルエーテル及びポリプロピレングリコールエーテル、及び脂肪エステル。 有機溶媒は組成物の全質量の５％〜９８％存在することができる。 本発明で使用する組成物をより快適に使用し、適用をより柔らかくし、より滋
養に富みかつより緩和にするために、これらの組成物の媒体に脂肪相を添加する
ことができる。
ピレングリコール（ＰＰＧ）誘導体、例えばポリプロピレングリコールと脂肪酸
のエステル、ＰＰＧと脂肪アルコールの誘導体、例えばＰＰＧ−２３オレイルエ
ーテル、及びＰＰＧ−３６オレエート。 挙げることができる親油性有機溶媒は例えば脂肪エステル、例えばジイソプロ
ピルアジペート、ジオクチルアジペート及びアルキルベンゾエートを含む。 有機溶媒を好ましくは以下から選択する：単官能性又は多官能性アルコール、
任意にオキシエチレン化したポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコー
ルエステル、ソルビトール及びその誘導体、ジアルキルイソソルビド、グリコー
ルエーテル及びポリプロピレングリコールエーテル、及び脂肪エステル。 有機溶媒は組成物の全質量の５％〜９８％存在することができる。 本発明で使用する組成物をより快適に使用し、適用をより柔らかくし、より滋
養に富みかつより緩和にするために、これらの組成物の媒体に脂肪相を添加する
ことができる。
【００１７】
脂肪相は好ましくは組成物の全質量に対して０〜５０％存在する。
脂肪相は以下から成る群から選択する一又は複数の油を好ましくは含むことが
できる： − 揮発性又は非揮発性、直鎖、分岐した又は環状の有機変性した又は有機変性
していない、水溶性又は脂溶性シリコーン、 − 鉱油、例えば流動パラフィン及び流動ワセリン、 − 動物起源の油、例えばペルヒドロスクアレン、 − 植物起源の油、例えばヘントウ油、アボカド油、ヒマシ油、オリーブ油、ホ
ホバ油、ゴマ油、グランドナッツ油、マカダミア油、ブドウ種子油、ナタネ油又
はココナツ油、 − 合成油、例えばパーセリン油及びイソパラフィン、 − フルオロ油及びペルフルオロ油、 − 脂肪酸エステル、例えばパーセリン油。 該脂肪相はさらに脂肪物質として一又は複数の脂肪アルコール、脂肪酸又はワ
ックス（パラフィンワックス、ポリエチレンワックス、カルナウバワックス又は
ミツロウ）を含むこともできる。
できる： − 揮発性又は非揮発性、直鎖、分岐した又は環状の有機変性した又は有機変性
していない、水溶性又は脂溶性シリコーン、 − 鉱油、例えば流動パラフィン及び流動ワセリン、 − 動物起源の油、例えばペルヒドロスクアレン、 − 植物起源の油、例えばヘントウ油、アボカド油、ヒマシ油、オリーブ油、ホ
ホバ油、ゴマ油、グランドナッツ油、マカダミア油、ブドウ種子油、ナタネ油又
はココナツ油、 − 合成油、例えばパーセリン油及びイソパラフィン、 − フルオロ油及びペルフルオロ油、 − 脂肪酸エステル、例えばパーセリン油。 該脂肪相はさらに脂肪物質として一又は複数の脂肪アルコール、脂肪酸又はワ
ックス（パラフィンワックス、ポリエチレンワックス、カルナウバワックス又は
ミツロウ）を含むこともできる。
【００１８】
公知の方法により、本発明で使用する組成物はさらに化粧品で一般的な以下の
添加物も含むことができる：標準的な水性又は親油性ゲル化剤及び／又は増粘剤
、親水性又は親油性活性剤、保存剤、抗酸化剤、芳香剤、乳化剤、保湿剤、顔料
、脱色剤、角質溶解剤、ビタミン、エモリエント、封鎖剤、界面活性剤、ポリマ
ー、酸性化剤又は塩基性化剤、フィラー、フリーラジカル捕捉剤、セラミド、日
焼け止め剤、特に紫外線遮蔽剤、昆虫忌避剤、スライム剤、着色剤、殺菌剤及び
抗ふけ剤。 これらの種々の添加物の量は、対象とする分野で常用されるものである。 いうまでもなく当業者は、本発明に従って添加する任意の化合物を注意して選
択して、本発明に従う組成物が本来有している有利な性質が、目的とする添加に
よって有害な影響を受けないか実質的に受けないようにするであろう。
添加物も含むことができる：標準的な水性又は親油性ゲル化剤及び／又は増粘剤
、親水性又は親油性活性剤、保存剤、抗酸化剤、芳香剤、乳化剤、保湿剤、顔料
、脱色剤、角質溶解剤、ビタミン、エモリエント、封鎖剤、界面活性剤、ポリマ
ー、酸性化剤又は塩基性化剤、フィラー、フリーラジカル捕捉剤、セラミド、日
焼け止め剤、特に紫外線遮蔽剤、昆虫忌避剤、スライム剤、着色剤、殺菌剤及び
抗ふけ剤。 これらの種々の添加物の量は、対象とする分野で常用されるものである。 いうまでもなく当業者は、本発明に従って添加する任意の化合物を注意して選
択して、本発明に従う組成物が本来有している有利な性質が、目的とする添加に
よって有害な影響を受けないか実質的に受けないようにするであろう。
【００１９】
本発明に従って使用する組成物は局所適用で通常使用する形態、特に以下の形
態であることができる：水性、水性−アルコール性又は油性溶液、水中油又は油
中水又は多層エマルション、水性又は油性ジェル、リキッド、ペースト状又は固
形無水製品又は球体を補助とする水性相中の油の分散物、これらの球体はナノス
フェア及びナノカプセルのようなポリマーナノ粒子であってもよく、又はさらに
はイオン性及び／又は非イオン性の脂質ベヒクルであってもよい。 本発明で使用する組成物は多少とも流体であることができ、白色又は着色した
クリーム、軟膏、ミルク、ローション、セラム、ペースト、ムース又は固形物の
外観を有することができる。 これらをエアゾールの形態で皮膚に適用することができる。 これらは又固形物の形態、例えばスティックの形態で適用することもできる。 これらをケア製品及び／又はメーキャップ製品として使用することができる。
態であることができる：水性、水性−アルコール性又は油性溶液、水中油又は油
中水又は多層エマルション、水性又は油性ジェル、リキッド、ペースト状又は固
形無水製品又は球体を補助とする水性相中の油の分散物、これらの球体はナノス
フェア及びナノカプセルのようなポリマーナノ粒子であってもよく、又はさらに
はイオン性及び／又は非イオン性の脂質ベヒクルであってもよい。 本発明で使用する組成物は多少とも流体であることができ、白色又は着色した
クリーム、軟膏、ミルク、ローション、セラム、ペースト、ムース又は固形物の
外観を有することができる。 これらをエアゾールの形態で皮膚に適用することができる。 これらは又固形物の形態、例えばスティックの形態で適用することもできる。 これらをケア製品及び／又はメーキャップ製品として使用することができる。
【００２０】
本発明の他の主題は、チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含む化合
物を化粧品として有効な量で皮膚に適用することから成る、汚染の作用に対して
身体を保護する化粧処置方法から成る。 汚染の作用に対して身体を保護する本発明に従う他の化粧処置方法は、上記の
本発明に従う化粧組成物を皮膚に適用することから成る。 以下の例は本発明を説明するためのものであり、本質的に制限するものではな
い。
物を化粧品として有効な量で皮膚に適用することから成る、汚染の作用に対して
身体を保護する化粧処置方法から成る。 汚染の作用に対して身体を保護する本発明に従う他の化粧処置方法は、上記の
本発明に従う化粧組成物を皮膚に適用することから成る。 以下の例は本発明を説明するためのものであり、本質的に制限するものではな
い。
【００２１】
【実施例】実験
原理：
オゾンは細胞構成成分を酸化する能力を有し、特にカルボニル化したタンパク
質及び脂質ヒドロペルオキシドを生成する能力を有する。脂質ヒドロペルオキシ
ドの定量は、皮膚組織をこの汚染物に曝露した場合に誘導される酸化ストレスを
測定するための一つの手段である。この量が減少することは保護作用があること
を意味する。 細胞の型及び培養： ヒトのケラチン生成細胞の単層培養物について研究を行った。培養培地５００
μl中に２５，０００細胞／cm2の割合で、４８−ウェルのディッシュへＤ−３で
細胞を接種する。３７℃、５％ＣＯ2の高湿度の大気圧下でインキュベーション
を行う。 Ｓ−カルボキシメチルシステイン（ＣＭＣ）によるケラチン生成細胞の前処理： 細胞を２４時間ＣＭＣで前処理した（培養培地に溶解した０．５mg／ml、この
量は細胞に対して非毒性である最大投与量の半量である）。
質及び脂質ヒドロペルオキシドを生成する能力を有する。脂質ヒドロペルオキシ
ドの定量は、皮膚組織をこの汚染物に曝露した場合に誘導される酸化ストレスを
測定するための一つの手段である。この量が減少することは保護作用があること
を意味する。 細胞の型及び培養： ヒトのケラチン生成細胞の単層培養物について研究を行った。培養培地５００
μl中に２５，０００細胞／cm2の割合で、４８−ウェルのディッシュへＤ−３で
細胞を接種する。３７℃、５％ＣＯ2の高湿度の大気圧下でインキュベーション
を行う。 Ｓ−カルボキシメチルシステイン（ＣＭＣ）によるケラチン生成細胞の前処理： 細胞を２４時間ＣＭＣで前処理した（培養培地に溶解した０．５mg／ml、この
量は細胞に対して非毒性である最大投与量の半量である）。
【００２２】
酸化ストレスマーカー、ＤＣＦＨ−ＤＡ（２，７−ジクロロフルオレセインジア
セテート）の取り込み： ヒドロペルオキシドは細胞内のストレスマーカーを構成する。これらを蛍光技
術によって検出し定量する（Lebel C. P., Ischiropoulos H.及び Bondy S. C.
(1992) Evaluation of the probe 2,7-dichlorofluorescin as an indicator of
Reactive Oxygen Species formation and oxidative stress. Chem. Res. Toxi
col.; 5: 227-231）。 細胞内のヒドロペルオキシド及びペルオキシダーゼの存在下に、ＤＣＦＨは酸化
して蛍光性２，７−ジクロロフルオレセイン（ＤＣＦ）となる。 ＣＭＣで２４時間前処理した細胞を次いで、ＰＢＳ緩衝液で洗浄し、培養培地
中で３２０μMの濃度としたＤＣＦＨ−ＤＡ溶液（５００μl／ウェル）と３０分
間接触させる。
セテート）の取り込み： ヒドロペルオキシドは細胞内のストレスマーカーを構成する。これらを蛍光技
術によって検出し定量する（Lebel C. P., Ischiropoulos H.及び Bondy S. C.
(1992) Evaluation of the probe 2,7-dichlorofluorescin as an indicator of
Reactive Oxygen Species formation and oxidative stress. Chem. Res. Toxi
col.; 5: 227-231）。 細胞内のヒドロペルオキシド及びペルオキシダーゼの存在下に、ＤＣＦＨは酸化
して蛍光性２，７−ジクロロフルオレセイン（ＤＣＦ）となる。 ＣＭＣで２４時間前処理した細胞を次いで、ＰＢＳ緩衝液で洗浄し、培養培地
中で３２０μMの濃度としたＤＣＦＨ−ＤＡ溶液（５００μl／ウェル）と３０分
間接触させる。
【００２３】
オゾンへの曝露：
細胞を再度ＰＢＳ緩衝液で洗浄し、次いでＰＢＳ中の濃度が１mg／mlであるＣ
ＭＣ溶液（１００μl／ウェル）と接触させる。３７℃に設定したインキュベー
ター中、高湿度の大気圧下で、オゾン（１ ppm）にこれらを曝露する。 オゾンが誘導する脂質ヒドロペルオキシドの測定： ヒドロペルオキシドが生成した結果生じる蛍光性ＤＣＦ（励起フィルターが４
８５nmかつ発光フィルターが５３０nm）の形成を、異なる時間オゾンに曝露した
後測定する：０、５、１０及び２０分。 結果： ２００μMの濃度のＳ−カルボキシメチルシステインの存在下又は非存在下にお
ける、曝露時間に対する関数としての培養ヒトケラチン生成細胞に対するオゾン
の毒性（ｎ＝４）
ＭＣ溶液（１００μl／ウェル）と接触させる。３７℃に設定したインキュベー
ター中、高湿度の大気圧下で、オゾン（１ ppm）にこれらを曝露する。 オゾンが誘導する脂質ヒドロペルオキシドの測定： ヒドロペルオキシドが生成した結果生じる蛍光性ＤＣＦ（励起フィルターが４
８５nmかつ発光フィルターが５３０nm）の形成を、異なる時間オゾンに曝露した
後測定する：０、５、１０及び２０分。 結果： ２００μMの濃度のＳ−カルボキシメチルシステインの存在下又は非存在下にお
ける、曝露時間に対する関数としての培養ヒトケラチン生成細胞に対するオゾン
の毒性（ｎ＝４）
【００２４】
各時間について、保護のない対照の蛍光値を１００％とする。次いでＣＭＣの
存在下における結果をこの対照の値に対して表現する。ＣＭＣはオゾンが誘導す
るストレスを顕著に減少させる。この保護は曝露時間が５分までの場合に最大で
ある（誘導されたストレスを６７．７％低下させる）。曝露時間が２０分後であ
っても保護のない対照に対して保護は顕著である（誘導されたストレスを５３．
５％低下させる）。 ヒトの上皮を起源とする細胞（ケラチン生成細胞／皮膚）を使用し、試験管内
で生物学的なモデルを使用する場合、以下のことが示された： − 大気汚染物質の種類に入る代表的な剤、例えばオゾンは、本実験条件下で、
実質的な酸化ストレスを生じること、 − この汚染物質によって誘導された作用に対して、ＣＭＣが高度に顕著な保護
作用を示すこと。
存在下における結果をこの対照の値に対して表現する。ＣＭＣはオゾンが誘導す
るストレスを顕著に減少させる。この保護は曝露時間が５分までの場合に最大で
ある（誘導されたストレスを６７．７％低下させる）。曝露時間が２０分後であ
っても保護のない対照に対して保護は顕著である（誘導されたストレスを５３．
５％低下させる）。 ヒトの上皮を起源とする細胞（ケラチン生成細胞／皮膚）を使用し、試験管内
で生物学的なモデルを使用する場合、以下のことが示された： − 大気汚染物質の種類に入る代表的な剤、例えばオゾンは、本実験条件下で、
実質的な酸化ストレスを生じること、 − この汚染物質によって誘導された作用に対して、ＣＭＣが高度に顕著な保護
作用を示すこと。
【００２５】配合例 例１
：通常の製造技術に従って、以下の成分を一緒に混合してエマルションを製
造する。 局所適用のための組成物 Ｓ−カルボキシメチルシステイン 5 g ５０モルのエチレンオキシドでオキシ エチレン化したポリエチレングリコール 3 g モノジグリセリルステアレート 3 g 流動ワセリン 24 g エチルアルコール 5 g 水 適量 100 g
造する。 局所適用のための組成物 Ｓ−カルボキシメチルシステイン 5 g ５０モルのエチレンオキシドでオキシ エチレン化したポリエチレングリコール 3 g モノジグリセリルステアレート 3 g 流動ワセリン 24 g エチルアルコール 5 g 水 適量 100 g
【００２６】例２
：以下の化合物を使用して、同様の方法で標準的な技術に従ってエマルショ
ンを製造する： Ｓ−カルボキシメチルシステイン 1 g オクチルパルミテート 10 g グリセリルイソステアレート 4 g パーセリン油 23 g ビタミンＥ 1 g グリセリン 3 g 水 適量 100 g
ンを製造する： Ｓ−カルボキシメチルシステイン 1 g オクチルパルミテート 10 g グリセリルイソステアレート 4 g パーセリン油 23 g ビタミンＥ 1 g グリセリン 3 g 水 適量 100 g
【００２７】例３
：以下の化合物を使用して、同様の方法で標準的な技術に従ってエマルショ
ンを製造する： α，α'−(１，６−ヘキサンジイルジチオ)ジ酢酸 1 g オクチルパルミテート 10 g グリセリルイソステアレート 4 g 流動ワセリン 20 g ソルビトール 2 g ビタミンＥ 1 g グリセリン 3 g 水 適量 100 g
ンを製造する： α，α'−(１，６−ヘキサンジイルジチオ)ジ酢酸 1 g オクチルパルミテート 10 g グリセリルイソステアレート 4 g 流動ワセリン 20 g ソルビトール 2 g ビタミンＥ 1 g グリセリン 3 g 水 適量 100 g
【００２８】例４
：以下の化合物を使用して、同様の方法で標準的な技術に従ってエマルショ
ンを製造する： α，α'−(１，１０−デカンジイルジスルフィニル)ジ酢酸 1 g オクチルパルミテート 10 g グリセリルイソステアレート 4 g 流動ワセリン 24 g ビタミンＥ 1 g グリセリン 3 g 水 適量 100 g
ンを製造する： α，α'−(１，１０−デカンジイルジスルフィニル)ジ酢酸 1 g オクチルパルミテート 10 g グリセリルイソステアレート 4 g 流動ワセリン 24 g ビタミンＥ 1 g グリセリン 3 g 水 適量 100 g
【００２９】例５
：以下の成分を原料として以下の組成物を製造する：
α，α'−(ｐ−メトキシベンジリデンジチオ)ジコハク酸 1.5 g
ホホバ油 13 g
メチルイソプロピルパラ−ベンゾキシベンゾエート 0.05 g
カリウムソルベート 0.3 g
シクロペンタジメチルシロキサン 10 g
ステアリルアルコール 1 g
ステアリン酸 4 g
ポリエチレングリコールステアレート 3 g
ビタミンＥ 1 g
グリセリン 3 g
水 適量 100 g
【００３０】例６
：以下の成分を原料として以下の組成物を製造する：
α，α'−(ｐ−メトキシベンジリデンジチオ）ジ酢酸 1 g
ホホバ油 13 g
メチルイソプロピルパラ−ベンゾキシベンゾエート 0.05 g
カリウムソルベート 0.3 g
シクロペンタジメチルシロキサン 10 g
ステアリルアルコール 1 g
Ｎ，Ｎ'−ビス(３−ヒドロキシベンジル)
エチレンジアミン−Ｎ，Ｎ'−ジ酢酸 0.01 g
ステアリン酸 4 g
ポリエチレングリコールステアレート 3 g
ビタミンＥ 1 g
グリセリン 3 g
水 適量 100 g
【００３１】例７
：以下の成分を原料として以下の組成物を製造する：
α，α'−(バニリリデンジチオ）ジ酢酸 0.5 g
ホホバ油 13 g
メチルイソプロピルパラ−ベンゾキシベンゾエート 0.05 g
カリウムソルベート 0.3 g
シクロペンタジメチルシロキサン 10 g
ステアリルアルコール 1 g
ステアリン酸 4 g
ホテイアオイの細胞抽出物 0.05 g
ポリエチレングリコールステアレート 3 g
ビタミンＥ 1 g
グリセリン 3 g
水 適量 100 g
【００３２】
ミズアオイ科（Eichhornia crassipes）のホテイアオイの細胞抽出物を以下の
方法で得た：１２のホテイアオイ植物を水洗し、次いで粗く水切りした。ナイフ
ミル（チョッピングプロセサー）でチョッピングした後、７００gの材料を得た
。７００mlの水を加え、次いで３００mlのMilliQＨ2Ｏを加えた。チョッピング
プロセサーでさらに５分間チョッピングし、ワットマン（Whatmann）ＧＦＤを使
用して８０００×Ｇで２０分間遠心し、次いでＧＦＦろ過し、凍結乾燥した：こ
のようにして５．４３gの凍結乾燥物が得られる。
方法で得た：１２のホテイアオイ植物を水洗し、次いで粗く水切りした。ナイフ
ミル（チョッピングプロセサー）でチョッピングした後、７００gの材料を得た
。７００mlの水を加え、次いで３００mlのMilliQＨ2Ｏを加えた。チョッピング
プロセサーでさらに５分間チョッピングし、ワットマン（Whatmann）ＧＦＤを使
用して８０００×Ｇで２０分間遠心し、次いでＧＦＦろ過し、凍結乾燥した：こ
のようにして５．４３gの凍結乾燥物が得られる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，
ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ
Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ
，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，
ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ
Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ
，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，
ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，
ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ
Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＯ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ
，ＤＫ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＣ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，
ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，Ｉ
Ｎ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ
，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，
ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，Ｐ
Ｌ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ
，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，
ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ
(72)発明者 コトヴィオ ジョセ
フランス エフ−77270 ダンマルタン
アン ガレ リュー デュ クロ リシャ
ール ９
Ｆターム(参考） 4C083 AA111 AA112 AA122 AB051
AC012 AC071 AC102 AC111
AC122 AC181 AC252 AC342
AC351 AC352 AC401 AC422
AC441 AC442 AC531 AC532
AC641 AC711 AC761 AC762
AC771 AC841 AD041 AD042
AD172 AD611 AD662 BB01
BB21 BB31 BB41 BB42 BB43
BB45 BB46 BB47 BB48 BB51
BB53 CC01 CC02 DD21 DD22
DD23 DD27 DD30 DD32 DD33
DD34 DD39 DD41
Claims (23)
- 【請求項１】 チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含む式（Ｉ）
、（II）又は（III）の少なくとも一つの誘導体の、汚染防止剤、好ましくは汚
染防止化粧剤としての局所適用における使用： 式中、 ｎ1は１〜１０の範囲の整数を表し、 ｐ1及びｑ1は、同一又は異なってもよく、０、１又は２を表し、 ｎ2は０〜５の範囲の整数を表し、 ｐ2は０、１又は２を表し、 ｑ2は０、１、２又は３を表し、 ｍ2は０〜１０の範囲の整数を表し、 ｒ2は０又は１を表し、 ｑ2とｎ2は両者が同時に０であることはなく、 Ｒ1とＲ'1は、同一又は異なってもよく、以下の基から選択する基を表し： 式中、 Ｒ2及びＲ3は、同一又は異なってもよく、水素原子又は直鎖若しくは分岐した
Ｃ1〜Ｃ8アルキル又はＣ2〜Ｃ8アルケニル基を意味し； Ｒ4は水素原子又は直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ8アルキル基、直鎖又は分岐
したＣ2〜Ｃ8アルケニル基又は直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ8アルコキシ基を意
味し； Ｒ5及びＲ6は、独立して相互に、水素原子、Ｃ2〜Ｃ8アルケニル、直鎖又は分
岐したＣ1〜Ｃ8アルコキシ、フェニル、Ｃ1〜Ｃ6アルキルカルボキシル又はＣ2
〜Ｃ6アルケニルカルボキシル基を意味し； Ｒ11及びＲ12はＲ5及びＲ6と同一の意味を有し； Ｒ13は直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ17アルキル又はＣ2〜Ｃ17アルケニル基又
はアシル−ＣＯ−Ｒ14基を表し、ここでＲ14は直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ17
アルキル又はＣ2〜Ｃ17アルケニル基を意味し； Ｒ15を水素原子、直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ8アルキル又はＣ2〜Ｃ8アルケ
ニル基、Ｃ1〜Ｃ5アルキルカルボキシル又はＣ2〜Ｃ5アルケニルカルボキシル基
、又は−ＣＯＯＨ基から選択し、 Ｒ21及びＲ'21は以下の式の基を意味し： 及び −ＣＨ2−ＣＯ2Ｈ、 Ｒ22は以下の基を表し： 式中、Ｒ24は以下から選択する基を表し： −ＣＨ2−ＣＯＯＨ及び−ＣＯ−ＣＨ3、かつＲ25は以下から選択する基を表し：
ＯＨ、ＯＣＨ3、ＯＣ(ＣＨ3)3、ＯＣＨ2ＣＯＯＨ； Ｒ23は水素原子、直鎖若しくは分岐したＣ1〜Ｃ6アルキル又はＣ2〜Ｃ6アルケ
ニル基を意味し、又はＲ22とＲ23は一緒になってアルカンジイル−(ＣＨ2)ｍ3−
基を形成し、ここでｍ3は３〜５の範囲の整数を表し、又はＲ22とＲ23は一緒に
なって以下のアラルカンジイル基を表し： ここでｎ3は３又は４を表す；又はこれらの塩。 - 【請求項２】 チオエーテル基を含む誘導体がＲ5＝Ｒ6＝Ｈ、ｐ1＝ｑ1かつ
Ｒ1＝Ｒ'1である式（Ｉ）に対応することを特徴とする、請求項１に記載の使用
。 - 【請求項３】 スルホキシド基を含む誘導体がｒ2＝１、Ｒ13＝Ｈ、Ｒ15＝
−ＣＯＯＨかつｍ＝１（システイン誘導体）又はｍ＝２（ホモシステイン誘導体
）である式（II）に対応することを特徴とする、請求項１に記載の使用。 - 【請求項４】 スルホン基を含む誘導体がＲ22が芳香族基、Ｒ23＝ＨかつＲ21 ＝Ｒ'21である式（III）に対応することを特徴とする、請求項１に記載の使用
。 - 【請求項５】 チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含む誘導体を
以下から選択することを特徴とする、請求項１ないし４のいずれか１項に記載の
使用：メチレン−２，２'−ジチオジ安息香酸、エチレン−２，２'−ジチオジ安
息香酸、エチレン−２，２'−ジスルフィニルジ安息香酸、２，２'−(１，３−
プロパンジイルジチオ)ジ安息香酸、２，２'−(１，４−ブタンジイルジチオ)ジ
安息香酸、２，２'−(１，５−ペンタンジイルジチオ)ジ安息香酸、２，２'−(
１，６−ヘキサンジイルジチオ)ジ安息香酸、２，２'−(１，６−ヘキサンジイ
ルジスルフィニル)ジ安息香酸、α，α'−(１，６−ヘキサンジイルジチオ)ジ安
息香酸、２，２'−(１，８−オクタンジイルジチオ)ジ安息香酸、２，２'−(１
，１０−デカンジイルジチオ)ジ安息香酸、α，α'−(１，１０−デカンジイル
ジチオ)ジ安息香酸、メチレン−α，α'−ジチオジ酢酸、エチレン−α，α'−
ジチオジ酢酸、エチレン−α，α'−ジスルフィニルジ酢酸、エチレン−α，α'
−ジスルホニルジ酢酸、α，α'−(１，６−ヘキサンジイルジチオ)ジ酢酸、α
，α'−(１，６−ヘキサンジイルジスルフィニル)ジ酢酸、α，α'−(１，６−
ヘキサンジイルジスルホニル)ジ酢酸、α，α'−(１，１０−デカンジイルジチ
オ)ジ酢酸、α，α'−(１，１０−デカンジイルジスルフィニル)ジ酢酸、α，α
'−(１，１０−デカンジイルジスルホニル)ジ酢酸、Ｓ−（カルボキシメチル）
システイン、Ｓ−（カルボキシエチル）システイン、Ｓ−（４−カルボキシブチ
ル）システイン、Ｓ−（カルボキシメチル）スルフィニルシステイン、Ｓ−（カ
ルボキシメチル）スルホニルシステイン、Ｓ−（１−カルボキシ−１−エチル）
システイン、Ｓ−（２−カルボキシ−２−プロピル）システイン、α，α'−（
ｐ−メトキシベンジリデンジチオ）ジコハク酸、α，α'−（ベンジリデンジチ
オ）ジコハク酸、α，α'−（ピペロニリデンジチオ）ジコハク酸、α，α'−（
バニリリデンジチオ）ジコハク酸、α，α'−（ベラトリリデンジチオ）ジコハ
ク酸、α，α'−（４−ブトキシ−３−メトキシベンジリデンジチオ）ジコハク
酸、α，α'−（４−カルボキシメチルオキシ−３−メトキシベンジリデンジチ
オ）ジコハク酸、α，α'−（ｐ−メトキシベンジリデンジチオ）ジ酢酸、α，
α'−（ベンジリデンジチオ）ジ酢酸、α，α'−（ピペロニリデンジチオ）ジ酢
酸、α，α'−（バニリリデンジチオ）ジ酢酸、α，α'−（ベラトリリデンジチ
オ）ジ酢酸及び無機又は有機塩基とこれらとのモノ塩及びジ塩。 - 【請求項６】 チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含む式（Ｉ）
、（II）又は（III）の誘導体をカルボキシメチルシステイン及びその無機又は
有機塩基とのモノ塩及びジ塩から選択することを特徴とする、請求項１ないし５
のいずれか１項に記載の使用。 - 【請求項７】 請求項１ないし６の１項に記載した、チオエーテル、スルホ
キシド又はスルホン基を含む式（Ｉ）、（II）又は（III）の誘導体の少なくと
も一つの、オゾンのような有害気体を捕捉する化粧剤としての局所適用における
使用。 - 【請求項８】 請求項１ないし６の１項に記載した、チオエーテル、スルホ
キシド又はスルホン基を含む式（Ｉ）、（II）又は（III）の誘導体の少なくと
も一つの、より健康なケラチン物質を得るために細胞の再生及びケラチン物質に
おける生体恒常性への回帰を増加させるための使用。 - 【請求項９】 請求項１ないし６のいずれか１項に記載した、チオエーテル
、スルホキシド又はスルホン基を含む式（Ｉ）、（II）又は（III）の誘導体の
、局所適用における汚染防止組成物、好ましくは汚染防止化粧組成物の製造にお
ける又は製造のための使用。 - 【請求項１０】 汚染防止化粧組成物が組成物の全質量に対して、チオエー
テル、スルホキシド又はスルホン基を含む式（Ｉ）、（II）又は（III）の化合
物を、０．００５質量％〜１０質量％、好ましくは０．１質量％〜５質量％含む
ことを特徴とする、請求項９に記載の使用。 - 【請求項１１】 組成物がさらに少なくとも一つの他の汚染防止化合物を含
むことを特徴とする、請求項９又は１０に記載の使用。 - 【請求項１２】 汚染防止化合物を以下から選択することを特徴とする、請
求項１１に記載の使用：アントシアン及び／又はその誘導体、エルゴチオネイン
及び／又はその誘導体、金属キレート化剤、例えばＮ，Ｎ'−ジベンジルエチレ
ンジアミン−Ｎ，Ｎ'−ジ酢酸誘導体、抗酸化剤、例えばエラグ酸及びミズアオ
イ科植物の細胞抽出物。 - 【請求項１３】 組成物がさらに以下から成る化粧品として受容可能な媒体
を含むことを特徴とする、請求項９ないし１２のいずれか１項に記載の使用：水
及び／又は親水性有機溶媒、親油性有機溶媒及び両親媒性溶媒から成る群から選
択する少なくとも一つの有機溶媒、又はこれらの混合物。 - 【請求項１４】 有機溶媒を以下から成る群から選択することを特徴とする
、請求項１３に記載の使用：単官能性又は多官能性アルコール、任意にオキシエ
チレン化したポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールエステル、ソ
ルビトール及びその誘導体、ジアルキルイソソルビド、グリコールエーテル及び
ポリプロピレングリコールエーテル、及び脂肪エステル。 - 【請求項１５】 有機溶媒が組成物の全質量に対して５％〜９８％存在する
ことを特徴とする、請求項１３又は１４に記載の使用。 - 【請求項１６】 組成物がさらに少なくとも一つの脂肪相を含むことを特徴
とする、請求項９ないし１５のいずれか１項に記載の使用。 - 【請求項１７】 脂肪相が組成物の全質量の０〜５０％存在することを特徴
とする、請求項１６に記載の使用。 - 【請求項１８】 組成物がさらに以下から成る群から選択する少なくとも一
つの添加物を含むことを特徴とする、請求項９ないし１７のいずれか１項に記載
の使用：標準的な水性又は親油性ゲル化剤及び／又は増粘剤、親水性又は親油性
活性剤、保存剤、抗酸化剤、芳香剤、乳化剤、保湿剤、顔料、脱色剤、角質溶解
剤、ビタミン、エモリエント、封鎖剤、界面活性剤、ポリマー、酸性化剤又は塩
基性化剤、フィラー、フリーラジカル捕捉剤、セラミド、日焼け止め剤、特に紫
外線遮蔽剤、昆虫忌避剤、スライム剤、着色剤、殺菌剤及び抗ふけ剤。 - 【請求項１９】 組成物が以下の形態にあることを特徴とする、請求項９な
いし１８のいずれか１項に記載の使用：水性、水性−アルコール性又は油性溶液
、水中油又は油中水又は多層エマルション、水性又は油性ジェル、リキッド、ペ
ースト状又は固形無水製品又は球体を補助とする水性相中の油の分散物。 - 【請求項２０】 組成物が以下の外観を有することを特徴とする、請求項９
ないし１９のいずれか１項に記載の使用：白色又は着色したクリーム、軟膏、ミ
ルク、ローション、セラム、ペースト、ムース又は固形物 - 【請求項２１】 組成物が３〜８のｐＨを有することを特徴とする、請求項
９ないし２０のいずれか１項に記載の使用。 - 【請求項２２】 請求項１ないし６に記載した式（Ｉ）、（II）又は（III
）の、チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含む化合物を化粧品として
有効な量でケラチン物質に適用することから成ることを特徴とする、汚染の作用
に対して身体を保護する化粧処置方法。 - 【請求項２３】 請求項９ないし２１のいずれか１項に記載の化粧組成物を
ケラチン物質に適用することから成ることを特徴とする、汚染の作用に対して身
体を保護する化粧処置方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR0006386A FR2809007B1 (fr) | 2000-05-18 | 2000-05-18 | Utilisation de composes contenant une fonction thio-ether, sulfoxyde ou sulfone comme agent cosmetique anti-pollution |
| FR00/06386 | 2000-05-18 | ||
| PCT/FR2001/001453 WO2001087261A1 (fr) | 2000-05-18 | 2001-05-14 | Utilisation de composes contenant une fonction thio-ether, sulfoxyde ou sulfone comme agent cosmetique anti-pollution |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003533463A true JP2003533463A (ja) | 2003-11-11 |
| JP2003533463A5 JP2003533463A5 (ja) | 2005-12-08 |
Family
ID=8850386
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001583730A Pending JP2003533463A (ja) | 2000-05-18 | 2001-05-14 | チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含む化合物の、汚染防止化粧剤としての使用 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20040037856A1 (ja) |
| EP (1) | EP1282397B1 (ja) |
| JP (1) | JP2003533463A (ja) |
| AT (1) | ATE294569T1 (ja) |
| AU (1) | AU2001260420A1 (ja) |
| DE (1) | DE60110581D1 (ja) |
| ES (1) | ES2238046T3 (ja) |
| FR (1) | FR2809007B1 (ja) |
| WO (1) | WO2001087261A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004277354A (ja) * | 2003-03-17 | 2004-10-07 | Sansho Seiyaku Co Ltd | 皮膚外用剤 |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10036655A1 (de) * | 2000-07-26 | 2002-02-07 | Basf Ag | Kosmetische oder dermatologische Zubereitungen zur Vermeidung von Hautschädigungen durch Peroxide |
| FR2920306B1 (fr) * | 2007-09-04 | 2010-07-30 | Oreal | Utilisation cosmetique d'un lysat de bifidobacterieum species. |
| EP2572720A1 (en) | 2011-09-21 | 2013-03-27 | Elzbieta Cosmetics B.V. | Formulation and treatment for acne |
| FR3003170A1 (fr) * | 2013-03-15 | 2014-09-19 | Rech Cosmetique S A R L Soc D | Utilisation d'un extrait de jacinthe d'eau pour l'hydratation de la peau |
| FR3012963B1 (fr) * | 2013-11-12 | 2015-12-11 | Rech Cosmetique S A R L Soc D | Composition huileuse a base d'extraits lipophiles de rose de porcelaine et de jacinthe d'eau. |
| CN105851003A (zh) * | 2015-01-20 | 2016-08-17 | 宁波碧悦环保科技有限公司 | 一种空气净化剂及其制备方法 |
| FR3069779A1 (fr) | 2017-08-02 | 2019-02-08 | Basf Beauty Care Solutions France Sas | Utilisation d'un extrait de pericarpe de nephelium lappaceum pour hydrater la peau et/ou les muqueuses |
| WO2019025724A1 (fr) * | 2017-08-02 | 2019-02-07 | Basf Beauty Care Solutions France Sas | Nouvelle utilisation cosmetique d'un extrait de nephelium lappaceum |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2476484A1 (fr) * | 1980-02-22 | 1981-08-28 | Elf Aquitaine | Compositions pour l'hydratation des substances keratiniques constituees par des sulfoxydes d'alpha amino acides |
| CH686285A5 (fr) * | 1992-08-06 | 1996-02-29 | Beiersdorf Ag | Preparation cosmetique ou pharmaceutique servant a retarder le vieillissement de la peau humaine. |
| FR2735977B1 (fr) * | 1995-06-27 | 1997-07-25 | Sederma Sa | Nouvelles compositions cosmetiques et dermopharmaceutiques contenant des thioethers |
| FR2740340B1 (fr) * | 1995-10-30 | 1997-12-05 | Oreal | Utilisation d'acides carboxyliques porteurs d'une fonction soufree pour favoriser la desquamation de la peau ou stimuler le renouvellement epidermique |
-
2000
- 2000-05-18 FR FR0006386A patent/FR2809007B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-05-14 JP JP2001583730A patent/JP2003533463A/ja active Pending
- 2001-05-14 AU AU2001260420A patent/AU2001260420A1/en not_active Abandoned
- 2001-05-14 US US10/276,541 patent/US20040037856A1/en not_active Abandoned
- 2001-05-14 AT AT01934114T patent/ATE294569T1/de not_active IP Right Cessation
- 2001-05-14 ES ES01934114T patent/ES2238046T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-14 EP EP01934114A patent/EP1282397B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 2001-05-14 WO PCT/FR2001/001453 patent/WO2001087261A1/fr active IP Right Grant
- 2001-05-14 DE DE60110581T patent/DE60110581D1/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004277354A (ja) * | 2003-03-17 | 2004-10-07 | Sansho Seiyaku Co Ltd | 皮膚外用剤 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2001087261A1 (fr) | 2001-11-22 |
| EP1282397A1 (fr) | 2003-02-12 |
| EP1282397B1 (fr) | 2005-05-04 |
| AU2001260420A1 (en) | 2001-11-26 |
| DE60110581D1 (de) | 2005-06-09 |
| ES2238046T3 (es) | 2005-08-16 |
| ATE294569T1 (de) | 2005-05-15 |
| FR2809007A1 (fr) | 2001-11-23 |
| US20040037856A1 (en) | 2004-02-26 |
| FR2809007B1 (fr) | 2003-01-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR0166576B1 (ko) | 킬레이트화제를 함유하는 광보호조성물 | |
| JP2002104994A (ja) | 頭髪及びその他の体毛の成長を減衰、低下又は停止するための、プロスタグランジンｅｐ−３レセプタアゴニストの、化粧料配合物における使用 | |
| JP2003533462A (ja) | エルゴチオネイン及び／又はその誘導体の汚染防止剤としての使用 | |
| EP1282395B1 (fr) | Utilisation de l'acide ellagique comme agent cosmetique anti-pollution | |
| JPH05301811A (ja) | 美白化粧料 | |
| JP2003533463A (ja) | チオエーテル、スルホキシド又はスルホン基を含む化合物の、汚染防止化粧剤としての使用 | |
| JP2002053438A (ja) | 頭髪及びその他の体毛の成長を減衰、低下又は停止するための、プロスタグランジンｅｐ−２及び／又はｅｐ−４レセプタアンタゴニストの、化粧料配合物における使用 | |
| JP2006273789A (ja) | セラミダーゼ阻害剤、及びその阻害剤を含む皮膚外用剤、化粧料、医薬部外品 | |
| KR101502475B1 (ko) | 오돈텔라 아우리타의 친지성 추출물의 피부 재구조화를위한 용도, 사용되는 조성물 및 상기 추출물을 사용하는화장 방법 | |
| WO2018029673A1 (en) | Compositions comprising dead sea water and polysaccharides and uses thereof as skin protectants | |
| JP2003533461A (ja) | アントシアンをベースとする汚染防止組成物 | |
| WO2001043705A2 (en) | Compositions containing a retinoid and a stilbene for skin care | |
| JP2003533458A (ja) | Ｎ，ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン−ｎ，ｎ’−ジ酢酸誘導体の汚染防止剤としての使用 | |
| JPH07309739A (ja) | ムコ多糖類断片化抑制剤および化粧料 | |
| US20040047831A1 (en) | Use of a cell extract of at least a plant of the family pontederiaceae as anti-pollution agent | |
| KR102278167B1 (ko) | 지질산화 방지, 자외선에 의한 손상 피부 개선 및 피부 진정 효과가 우수한 화장료 조성물 | |
| JPH0725660B2 (ja) | 日焼けに対する消炎性を有する化粧料 | |
| JPH072640A (ja) | 紫外線障害防御外用剤 | |
| JPH04334310A (ja) | 過酸化脂質生成抑制剤 | |
| JP2006001837A (ja) | オピオイドレセプター傷害抑制剤 | |
| JPH06321747A (ja) | 皮膚外用剤 | |
| JP2003171226A (ja) | 皮膚外用剤 | |
| EP3842028A1 (en) | Composition for reducing skin damage from pollution | |
| JPS6410488B2 (ja) | ||
| JP2000154133A (ja) | 化粧料組成物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040518 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040518 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050418 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050425 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051024 |