JP2003528063A - アルカンのアルケンへの触媒による転換 - Google Patents
アルカンのアルケンへの触媒による転換Info
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Abstract
(57)【要約】
対応するアルケンおよび硫化水素を生成するための、C2〜C5アルカンと硫黄を含む化合物との触媒反応の方法であって、300から650℃の温度で反応混合物が触媒と接触され、触媒の表面積が100平方メートル/グラムより大きい方法。
Description
【0001】
本発明は、アルカンの対応するアルケンへの転換のための触媒プロセスに関し
、詳細には、アルカンおよび硫黄の対応するアルケンおよび硫化水素への接触転
換のためのプロセスに関する。
、詳細には、アルカンおよび硫黄の対応するアルケンおよび硫化水素への接触転
換のためのプロセスに関する。
【0002】
アルカンのアルケンへの触媒による脱水素はよく知られた反応であるが、この
反応の商用操作には問題がある。特に、この反応で使用する動作条件下では、高
級アルカンのクラッキングの望ましくない副反応がしばしば起こり、エテンおよ
びメタンが生成する。さらに、アルカンが低級に転換されると、所望のアルケン
生成物を単離するための追加の分離ステップが必要となる。
反応の商用操作には問題がある。特に、この反応で使用する動作条件下では、高
級アルカンのクラッキングの望ましくない副反応がしばしば起こり、エテンおよ
びメタンが生成する。さらに、アルカンが低級に転換されると、所望のアルケン
生成物を単離するための追加の分離ステップが必要となる。
【0003】
米国特許第3,801,661号は、非芳香族C3〜C5アルカンの、対応す
るアルケンへの脱水素のプロセスを開示している。この炭化水素を、金属硫化物
触媒と接触させる。この反応には、硫化水素および水蒸気が存在する必要がある
。これらの成分は、共反応物(co-reactant)ではないが、かなり過酷な動作条件
下、特に700℃の反応温度で触媒の安定性を保つのに不可欠である。このプロ
セスにおける転換率は70%であり、したがって、アルカン生成物を単離するた
めに追加の分離ステップが必要になる。
るアルケンへの脱水素のプロセスを開示している。この炭化水素を、金属硫化物
触媒と接触させる。この反応には、硫化水素および水蒸気が存在する必要がある
。これらの成分は、共反応物(co-reactant)ではないが、かなり過酷な動作条件
下、特に700℃の反応温度で触媒の安定性を保つのに不可欠である。このプロ
セスにおける転換率は70%であり、したがって、アルカン生成物を単離するた
めに追加の分離ステップが必要になる。
【0004】
米国特許第3,456,026号は、有機化合物中の硫黄による脱水素を開示
している。具体的には、この特許は、アルカンのアルケンへの脱水素のプロセス
を開示している。この特許のプロセスは、800°Fより高温で行うことができ
るが、実際にはこの動作温度は1000°Fより高い。脱水素において使用する
触媒の表面積は、触媒1グラムあたり0.01と100平方メートルの間である
。この特許は、クラッキングおよびタール形成を避けるために、触媒の表面積は
小さくなければならないと述べている。
している。具体的には、この特許は、アルカンのアルケンへの脱水素のプロセス
を開示している。この特許のプロセスは、800°Fより高温で行うことができ
るが、実際にはこの動作温度は1000°Fより高い。脱水素において使用する
触媒の表面積は、触媒1グラムあたり0.01と100平方メートルの間である
。この特許は、クラッキングおよびタール形成を避けるために、触媒の表面積は
小さくなければならないと述べている。
【0005】
米国特許第3,787,517号は、硫化カルボニルを用いた気相触媒反応に
よる、アルカンの酸化的脱水素を開示している。好ましい触媒は、鉄ベースの触
媒である。この特許は、触媒の表面積に関しては記載していない。
よる、アルカンの酸化的脱水素を開示している。好ましい触媒は、鉄ベースの触
媒である。この特許は、触媒の表面積に関しては記載していない。
【0006】
本発明者らは、触媒の存在下で、それほど過酷でない反応条件下で、特に、低
温と表面積が大きい触媒という特定の組合せにおいて、アルカンを、硫黄を含む
化合物と反応させると、アルカンの高率の転換および対応するアルケンへの高い
選択性が実現できることを発見した。
温と表面積が大きい触媒という特定の組合せにおいて、アルカンを、硫黄を含む
化合物と反応させると、アルカンの高率の転換および対応するアルケンへの高い
選択性が実現できることを発見した。
【0007】
したがって、本発明は、対応するアルケンおよび硫化水素を生成するための、
C2〜C5アルカンと硫黄含有化合物の触媒反応のプロセスであって、300〜
650℃の温度で反応混合物を触媒と接触させ、その際触媒の表面積が100平
方メートル/グラムより大きいプロセスを提供する。
C2〜C5アルカンと硫黄含有化合物の触媒反応のプロセスであって、300〜
650℃の温度で反応混合物を触媒と接触させ、その際触媒の表面積が100平
方メートル/グラムより大きいプロセスを提供する。
【0008】
本発明のプロセスは、所望のアルケンに転換されるアルカンの割合が高い点で
、従来技術よりも有利である。したがって、下流の分離ステップは簡略化される
。さらに、比較的低温でこのプロセスを動作させることにより、望ましくない副
反応の量が減少する。
、従来技術よりも有利である。したがって、下流の分離ステップは簡略化される
。さらに、比較的低温でこのプロセスを動作させることにより、望ましくない副
反応の量が減少する。
【0009】
本発明のプロセスは、対応するアルケンおよび硫化水素を生成するための、C 2
〜C5アルカンと硫黄含有化合物の反応に関する。「対応するアルケン」は、
供給された原料の炭化水素と炭素原子数が同じである不飽和生成物を意味する。
本発明で使用するための特に好ましいアルカン供給物はプロパンであり、したが
って、プロペンと硫化水素をもたらすプロパンと硫黄含有化合物の反応が特に好
ましい。
供給された原料の炭化水素と炭素原子数が同じである不飽和生成物を意味する。
本発明で使用するための特に好ましいアルカン供給物はプロパンであり、したが
って、プロペンと硫化水素をもたらすプロパンと硫黄含有化合物の反応が特に好
ましい。
【0010】
本発明のプロセスは、気相または液相で実施することができる。このプロセス
は気相で実施することが好ましい。
は気相で実施することが好ましい。
【0011】
本発明のプロセスで使用する硫黄を含む化合物は、アルカンと反応して硫化水
素を生成可能な化合物である。硫黄を含む適当な化合物としては、酸化硫黄、す
なわち二酸化硫黄および三酸化硫黄、H2SO3、H2SO4、亜硫酸アンモニ
ウム、硫酸アンモニウム、硫黄元素、ならびにそれらの混合物などが挙げられる
。硫黄を含む化合物は、液体または気体の形で反応混合物中に存在してもよい。
硫黄を含む化合物は、ガス状の硫黄として存在することが好ましい。
素を生成可能な化合物である。硫黄を含む適当な化合物としては、酸化硫黄、す
なわち二酸化硫黄および三酸化硫黄、H2SO3、H2SO4、亜硫酸アンモニ
ウム、硫酸アンモニウム、硫黄元素、ならびにそれらの混合物などが挙げられる
。硫黄を含む化合物は、液体または気体の形で反応混合物中に存在してもよい。
硫黄を含む化合物は、ガス状の硫黄として存在することが好ましい。
【0012】
硫黄とアルカンのモル比は、適当にはアルカン1モルに対して硫黄0.1〜1
0モル、好ましくはアルカン1モルに対して硫黄0.2〜5モル、特にアルカン
1モルに対して硫黄0.25〜0.5モルである。
0モル、好ましくはアルカン1モルに対して硫黄0.2〜5モル、特にアルカン
1モルに対して硫黄0.25〜0.5モルである。
【0013】
反応混合物中には、窒素、例えばヘリウムおよびアルゴンなどの希ガス、一酸
化炭素、硫化水素、および二硫化炭素またはそれらの混合物など、不活性な希釈
剤を含むことができる。不活性な希釈剤は、合計の濃度が混合物の0〜95%、
好ましくは0〜75%で存在してもよい。
化炭素、硫化水素、および二硫化炭素またはそれらの混合物など、不活性な希釈
剤を含むことができる。不活性な希釈剤は、合計の濃度が混合物の0〜95%、
好ましくは0〜75%で存在してもよい。
【0014】
好ましい反応混合物は、プロパン10%、ガス状の硫黄5%、窒素85%であ
る。
る。
【0015】
本発明のプロセスで使用する触媒は、知られている脱水素触媒から選択するこ
とができる。適当な脱水素触媒には、特に金属が周期表のVB、VIB、VII
B、VIIIB族、およびIB族の金属である金属硫化物がある。硫化物触媒の
例には、硫化タングステン、硫化ニッケル、硫化モリブデン、硫化銅、または硫
化コバルトがある。金属硫化物触媒は、2種以上の金属の混合物を含むことがで
きる。このカテゴリーに分類される適当な触媒には、タングステン/ニッケル、
モリブデン/ニッケル、およびモリブデン/コバルト硫化物がある。好ましい金
属硫化物触媒は、硫化コバルト/硫化モリブデン触媒である。金属硫化物触媒は
、反応器中に硫化物の形で導入することができ、あるいは、硫化物の形に転換可
能な別の形で導入することができ、例えば、酸化物の形を使用して、使用前に水
素と硫化水素の混合物で処理することができる。
とができる。適当な脱水素触媒には、特に金属が周期表のVB、VIB、VII
B、VIIIB族、およびIB族の金属である金属硫化物がある。硫化物触媒の
例には、硫化タングステン、硫化ニッケル、硫化モリブデン、硫化銅、または硫
化コバルトがある。金属硫化物触媒は、2種以上の金属の混合物を含むことがで
きる。このカテゴリーに分類される適当な触媒には、タングステン/ニッケル、
モリブデン/ニッケル、およびモリブデン/コバルト硫化物がある。好ましい金
属硫化物触媒は、硫化コバルト/硫化モリブデン触媒である。金属硫化物触媒は
、反応器中に硫化物の形で導入することができ、あるいは、硫化物の形に転換可
能な別の形で導入することができ、例えば、酸化物の形を使用して、使用前に水
素と硫化水素の混合物で処理することができる。
【0016】
金属酸化物触媒、特にVIB族の酸化物およびアルミニウムの酸化物を、本発
明のプロセスに使用することができる。金属酸化物触媒は、酸化アルミニウムお
よび酸化クロムであることが好ましい。金属酸化物触媒は、2種以上の金属を含
むことができ、特にモリブデンとクロムの混合物が好ましい。
明のプロセスに使用することができる。金属酸化物触媒は、酸化アルミニウムお
よび酸化クロムであることが好ましい。金属酸化物触媒は、2種以上の金属を含
むことができ、特にモリブデンとクロムの混合物が好ましい。
【0017】
金属硫化物触媒または金属酸化物触媒は、支持体上に支持することができる。
適当な支持体には、アルミナ、チタニア、ジルコニア、シリカ、アルミノケイ酸
塩、またはそれらの混合物がある。触媒の支持体はアルミナであることが好まし
い。
適当な支持体には、アルミナ、チタニア、ジルコニア、シリカ、アルミノケイ酸
塩、またはそれらの混合物がある。触媒の支持体はアルミナであることが好まし
い。
【0018】
本発明のプロセスを触媒することが可能な他のクラスの材料は、活性炭などの
炭素ベースの材料である。こうした材料を、場合によっては金属硫化物などの適
当な活性材料で活性促進させることができる。
炭素ベースの材料である。こうした材料を、場合によっては金属硫化物などの適
当な活性材料で活性促進させることができる。
【0019】
本発明で使用するのに適していると判明している他のクラスの化合物は、アル
ミノケイ酸塩、具体的にはゼオライト、特にZSM−5であり、これは、リチウ
ムまたはマグネシウムなどI族またはII族金属で活性促進する。
ミノケイ酸塩、具体的にはゼオライト、特にZSM−5であり、これは、リチウ
ムまたはマグネシウムなどI族またはII族金属で活性促進する。
【0020】
本発明のプロセスで使用する触媒の表面積は、100平方メートル/グラムよ
り大きい。実際の表面積は、触媒と共に用いる支持体または担体に応じて変動し
得る。例えば、触媒が金属硫化物または金属酸化物である場合、触媒の表面積は
、100m2/gより大きく、かつ400m2/gより小さい、特に200m2 /gと300m2/gの間であることが好ましい。触媒が炭素ベースである場合
、表面積は、100m2/gより大きく、かつ600m2/gより小さくするこ
とができる。
り大きい。実際の表面積は、触媒と共に用いる支持体または担体に応じて変動し
得る。例えば、触媒が金属硫化物または金属酸化物である場合、触媒の表面積は
、100m2/gより大きく、かつ400m2/gより小さい、特に200m2 /gと300m2/gの間であることが好ましい。触媒が炭素ベースである場合
、表面積は、100m2/gより大きく、かつ600m2/gより小さくするこ
とができる。
【0021】
長時間使用した後、触媒の再生が必要になる場合がある。上記反応温度で、適
当な時間、触媒中にガス状の硫黄を通過させることによって、再生を行うことが
できる。通常、硫黄を触媒と10〜15時間接触させる。
当な時間、触媒中にガス状の硫黄を通過させることによって、再生を行うことが
できる。通常、硫黄を触媒と10〜15時間接触させる。
【0022】
本発明の特別有利な点は、そのプロセスが、温和な反応条件下で動作可能なこ
とである。このプロセスを、300〜650℃の温度で、より好ましくは450
〜580℃で動作させる。このプロセスを550℃で動作させる場合、1パス当
たりの生成物の転換率および生成物の選択率が良好である。
とである。このプロセスを、300〜650℃の温度で、より好ましくは450
〜580℃で動作させる。このプロセスを550℃で動作させる場合、1パス当
たりの生成物の転換率および生成物の選択率が良好である。
【0023】
このプロセスは、例えば大気圧より低い、大気圧より高い、または大気圧など
、どのような適当な圧力でも動作可能である。適切には、このプロセスは、0.
05〜50バール、好ましくは0.1〜20バールで動作させることができる。
、どのような適当な圧力でも動作可能である。適切には、このプロセスは、0.
05〜50バール、好ましくは0.1〜20バールで動作させることができる。
【0024】
空間速度は、適当には50〜5000h−1、好ましくは500〜1500h −1
である。空間速度が温度および圧力に応じて異なるということは、当分野の
技術者には当然明らかであろう。
技術者には当然明らかであろう。
【0025】
このプロセスは、触媒床への熱伝達の操作が可能などんな適当な反応器中でも
動作させることができる。適当な反応器には、多管式(multi-tubular)反応器、
内部の加熱コイルを備えた標準の反応器、または簡単な断熱反応器がある。
動作させることができる。適当な反応器には、多管式(multi-tubular)反応器、
内部の加熱コイルを備えた標準の反応器、または簡単な断熱反応器がある。
【0026】
このプロセスは、バッチ式、半連続的、または連続的に動作させることができ
る。このプロセスは、半連続的または連続的プロセスとして動作させることが好
ましい。
る。このプロセスは、半連続的または連続的プロセスとして動作させることが好
ましい。
【0027】
連続的な反応の結果として、アルカンの転換が高率になると、アルケン生成物
への選択率が低くなることは、当分野の技術者にはよく知られている。したがっ
て、本発明のプロセスでは、アルケン生成物を、未反応のアルカンから分離し、
連続的にアルカンを再循環させることが好ましい。未反応のアルカンを再循環さ
せる際、未反応のアルカンの反応したアルカンに対する適当な再循環比は、1〜
10、好ましくは3〜5である。
への選択率が低くなることは、当分野の技術者にはよく知られている。したがっ
て、本発明のプロセスでは、アルケン生成物を、未反応のアルカンから分離し、
連続的にアルカンを再循環させることが好ましい。未反応のアルカンを再循環さ
せる際、未反応のアルカンの反応したアルカンに対する適当な再循環比は、1〜
10、好ましくは3〜5である。
【0028】
このプロセスの生成物は、主にアルカンと硫化水素である。アルカンの総転換
率は、通常、再循環比3〜5で、90〜95%である。1パス当たりの転換率は
、通常、15〜35%である。アルケンへの選択率は、通常50%より高く、好
ましくは90%より高く、特に95%より高い。水素、メタン、エタン、エテン
、および二硫化炭素など少量の副産物が、生成物ストリーム中に存在する。こう
した副産物は、小量、通常100〜50000体積ppmで存在し、例えば蒸留
など、任意の簡単な方法によって分離することができる。
率は、通常、再循環比3〜5で、90〜95%である。1パス当たりの転換率は
、通常、15〜35%である。アルケンへの選択率は、通常50%より高く、好
ましくは90%より高く、特に95%より高い。水素、メタン、エタン、エテン
、および二硫化炭素など少量の副産物が、生成物ストリーム中に存在する。こう
した副産物は、小量、通常100〜50000体積ppmで存在し、例えば蒸留
など、任意の簡単な方法によって分離することができる。
【0029】
ここで、本発明を、以下の実施例を参照して説明する。
【0030】
実施例1:アルミナ触媒を用いた、プロパンおよび硫黄の、プロペンおよび硫 化水素への転換
ガラス製反応器に、表面積が190m2/gのアルミナ粒子8.3mlを装入
した。モル比0.56:1の硫黄とプロパンのガス状混合物を、空間速度120
0h−1で、この反応器に送り込んだ。この気体の流速は10リットル/時間で
あった。この反応物ストリーム中に、希釈剤としてヘリウムも導入し、プロパン
濃度を10.4%とした。
した。モル比0.56:1の硫黄とプロパンのガス状混合物を、空間速度120
0h−1で、この反応器に送り込んだ。この気体の流速は10リットル/時間で
あった。この反応物ストリーム中に、希釈剤としてヘリウムも導入し、プロパン
濃度を10.4%とした。
【0031】
この反応器を550℃に加熱し、圧力1.05バールで、約5時間、このプロ
セスをストリームに作用させた。
セスをストリームに作用させた。
【0032】
ガス状の生成物ストリームを、ガスクロマトグラフィで、連続的に分析した。
この分析では、プロパンの36〜45%の転換、および硫黄の100〜90%の
転換が示された。プロペン選択率は、44〜53%まで変動した。
この分析では、プロパンの36〜45%の転換、および硫黄の100〜90%の
転換が示された。プロペン選択率は、44〜53%まで変動した。
【0033】
実施例2:酸化クロム触媒を用いた、プロパンおよび硫黄の、プロペンおよび 硫化水素への転換
ガラス製反応器に、表面積が250m2/gの酸化クロム6mlを装入した。
モル比0.90:1の硫黄とプロパンのガス状混合物を、空間速度520h−1 で、この反応器に送り込んだ。この気体の流速は3.2リットル/時間であった
。この反応物ストリーム中に、希釈剤としてヘリウムも導入し、プロパン濃度を
10.7%とした。
モル比0.90:1の硫黄とプロパンのガス状混合物を、空間速度520h−1 で、この反応器に送り込んだ。この気体の流速は3.2リットル/時間であった
。この反応物ストリーム中に、希釈剤としてヘリウムも導入し、プロパン濃度を
10.7%とした。
【0034】
この反応器を450℃に加熱し、圧力1.04バールで、約7時間、このプロ
セスをストリームに作用させた。
セスをストリームに作用させた。
【0035】
ガス状の生成物ストリームを、ガスクロマトグラフィで、連続的に分析した。
この分析では、プロパンの20〜7%の転換、および硫黄の完全な転換が示唆さ
れた。プロペン選択率は、90〜50%まで変動した。
この分析では、プロパンの20〜7%の転換、および硫黄の完全な転換が示唆さ
れた。プロペン選択率は、90〜50%まで変動した。
【0036】
実施例3:アルミナ担持硫化ニッケル/硫化タングステン触媒を用いた、プロ パンおよび硫黄の、プロペンおよび硫化水素への転換
表面積180m2/gの酸化ニッケル/酸化タングステン触媒を、水素と硫化
水素の混合物で、350℃を越えない温度で6時間処理し、硫化ニッケル/硫化
タングステンの形態とした。
水素の混合物で、350℃を越えない温度で6時間処理し、硫化ニッケル/硫化
タングステンの形態とした。
【0037】
ガラス製反応器に、アルミナ担持硫化ニッケル/硫化タングステン13.8m
lを装入した。モル比0.19:1の硫黄とプロパンのガス状混合物を、空間速
度1170h−1で、この反応器に送り込んだ。この気体の流速は16.2リッ
トル/時間であった。この反応物ストリーム中に、希釈剤としてヘリウムも導入
し、プロパン濃度を13.4%とした。
lを装入した。モル比0.19:1の硫黄とプロパンのガス状混合物を、空間速
度1170h−1で、この反応器に送り込んだ。この気体の流速は16.2リッ
トル/時間であった。この反応物ストリーム中に、希釈剤としてヘリウムも導入
し、プロパン濃度を13.4%とした。
【0038】
この反応器を555℃に加熱し、圧力1.04バールで、約12時間、このプ
ロセスをストリームに作用させた。
ロセスをストリームに作用させた。
【0039】
ガス状の生成物ストリームを、ガスクロマトグラフィで、連続的に分析した。
この分析では、プロパンの46〜14%の転換、および硫黄の80〜93%の転
換が示唆された。プロペン選択率は、50〜74%まで変動した。
この分析では、プロパンの46〜14%の転換、および硫黄の80〜93%の転
換が示唆された。プロペン選択率は、50〜74%まで変動した。
【0040】
実施例4:五酸化バナジウム触媒を用いた、プロパンおよび硫黄の、プロペン および硫化水素への転換
表面積190m2/gのアルミナ担体を、シュウ酸バナジルの湿式含浸(wet i
mpregnation)によって、五酸化バナジウムで活性促進させ、続いて500℃でか
焼した。
mpregnation)によって、五酸化バナジウムで活性促進させ、続いて500℃でか
焼した。
【0041】
ガラス製反応器に、五酸化バナジウム8.3mlを装入した。モル比0.57
:1の、硫黄とプロパンのガス状混合物を、空間速度900h−1で、この反応
器に送り込んだ。この気体の流速は7.5リットル/時間であった。この反応物
ストリーム中に、希釈剤としてヘリウムも導入し、プロパン濃度を10.2%と
した。
:1の、硫黄とプロパンのガス状混合物を、空間速度900h−1で、この反応
器に送り込んだ。この気体の流速は7.5リットル/時間であった。この反応物
ストリーム中に、希釈剤としてヘリウムも導入し、プロパン濃度を10.2%と
した。
【0042】
この反応器を550℃に加熱し、圧力1.03バールで、約5時間、このプロ
セスをストリームに作用させた。
セスをストリームに作用させた。
【0043】
ガス状の生成物ストリームを、ガスクロマトグラフィで、連続的に分析した。
この分析では、プロパンの82〜36%の転換、および硫黄の100〜90%の
転換が示唆された。プロペン選択率は、38〜60%まで変動した。
この分析では、プロパンの82〜36%の転換、および硫黄の100〜90%の
転換が示唆された。プロペン選択率は、38〜60%まで変動した。
【0044】
比較実施例1:表面積が小さいアルミナを触媒を用いた、プロパンおよび硫黄 の、プロペンおよび硫化水素への転換
ガラス製反応器に、表面積が72m2/gのアルミナ粒子8.3mlを装入し
た。モル比0.56:1の硫黄とプロパンのガス状混合物を、空間速度1200
h−1で、この反応器に送り込んだ。この気体の流速は10リットル/時間であ
った。この反応物ストリーム中に、希釈剤としてヘリウムも導入し、プロパン濃
度を10.3%とした。
た。モル比0.56:1の硫黄とプロパンのガス状混合物を、空間速度1200
h−1で、この反応器に送り込んだ。この気体の流速は10リットル/時間であ
った。この反応物ストリーム中に、希釈剤としてヘリウムも導入し、プロパン濃
度を10.3%とした。
【0045】
この反応器を550℃に加熱し、圧力1.05バールで、約3時間、このプロ
セスをストリームに作用させた。
セスをストリームに作用させた。
【0046】
ガス状の生成物ストリームを、ガスクロマトグラフィで、連続的に分析した。
この分析では、プロパンの1.3〜0%の転換、および硫黄のごくわずかな転換
が示唆された。プロペン選択率は、正確には測定できなかった。
この分析では、プロパンの1.3〜0%の転換、および硫黄のごくわずかな転換
が示唆された。プロペン選択率は、正確には測定できなかった。
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(81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY,
DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I
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,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,
ML,MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,G
M,KE,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ
,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,
MD,RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,
AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,B
Z,CA,CH,CN,CO,CR,CU,CZ,DE
,DK,DM,DZ,EE,ES,FI,GB,GD,
GE,GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,I
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,TJ,TM,TR,TT,TZ,UA,UG,US,
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Claims (15)
- 【請求項1】 対応するアルケンおよび硫化水素を生成するための、C2〜
C5アルカンと硫黄含有化合物の触媒反応の方法であって、300〜650℃の
温度で反応混合物を100平方メートル/グラムより大きい表面積を有する触媒
を接触させる、前記方法。 - 【請求項2】 450℃〜580℃の温度で実施される請求項1に記載の方
法。 - 【請求項3】 触媒の表面積が100〜600平方メートル/グラムである
請求項1または2に記載の方法。 - 【請求項4】 アルカンと硫黄含有化合物が、アルカン1モルに対して硫黄
0.1〜10モルのモル比で存在する請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法
。 - 【請求項5】 アルカンと硫黄含有化合物が、アルカン1モルに対して硫黄
0.25〜0.5モルのモル比で存在する請求項4に記載の方法。 - 【請求項6】 アルカンがプロパンである請求項1〜5のいずれか一項に記
載の方法。 - 【請求項7】 硫黄含有化合物が、硫黄元素である請求項1〜6のいずれか
一項に記載の方法。 - 【請求項8】 触媒が金属硫化物であり、金属が周期表のVB、VIB、V
IIB、VIIIB族、およびIB族から選択される請求項1〜7のいずれか一
項に記載の方法。 - 【請求項9】 触媒が、硫化タングステン、硫化銅、硫化ニッケル、硫化モ
リブデン、硫化コバルト、硫化タングステン/硫化ニッケル、硫化モリブデン/
硫化ニッケル、および硫化モリブデン/硫化コバルト、またはそれらの混合物か
ら選択される金属硫化物である請求項7に記載の方法。 - 【請求項10】 触媒が硫化タングステン/硫化ニッケルである請求項9に
記載の方法。 - 【請求項11】 触媒が、周期表のVIB族から選択される金属の金属酸化
物またはアルミナである請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項12】 触媒が酸化クロムまたはアルミナである請求項11に記載
の方法。 - 【請求項13】 触媒が、アルミナ、チタニア、ジルコニア、シリカ、アル
ミノケイ酸塩、またはそれらの混合物から選択される支持体を含む請求項1〜1
2のいずれか一項に記載の方法。 - 【請求項14】 0.05〜50バールの圧力、および50〜5000h− 1 の空間速度で実施される請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
- 【請求項15】 いずれの未反応のアルカンも、反応器に再循環される請求
項1〜14のいずれか一項に記載の方法。
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