JP2003525261A - クロルカルボン酸クロリドの製法 - Google Patents
クロルカルボン酸クロリドの製法Info
- Publication number
- JP2003525261A JP2003525261A JP2001563459A JP2001563459A JP2003525261A JP 2003525261 A JP2003525261 A JP 2003525261A JP 2001563459 A JP2001563459 A JP 2001563459A JP 2001563459 A JP2001563459 A JP 2001563459A JP 2003525261 A JP2003525261 A JP 2003525261A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hydrogen chloride
- phosgene
- mol
- carbon
- chloride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 94
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 73
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 73
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 73
- -1 pyridine compound Chemical class 0.000 claims abstract description 62
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 39
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 claims abstract description 30
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N pyridine Substances C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 25
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 19
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 18
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims abstract description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 12
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims abstract description 8
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- SVNNWKWHLOJLOK-UHFFFAOYSA-N 5-chloropentanoyl chloride Chemical compound ClCCCCC(Cl)=O SVNNWKWHLOJLOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- AURDEEIHMPRBLI-UHFFFAOYSA-N 3-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CN=C1.CC1=CC=CN=C1 AURDEEIHMPRBLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 27
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical compound O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 3-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CN=C1 ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical group N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 16
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 14
- 239000000047 product Substances 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N dmpu Chemical compound CN1CCCN(C)C1=O GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 6
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 6
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000005918 1,2-dimethylbutyl group Chemical group 0.000 description 3
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 3
- 125000005916 2-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003542 3-methylbutan-2-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1 FKNQCJSGGFJEIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical group BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 239000011630 iodine Chemical group 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 3
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 3
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 3
- 125000005919 1,2,2-trimethylpropyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006218 1-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- BKCIQPUIDHPJSI-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,5-tetramethylpyridine Chemical compound CC1=CN=C(C)C(C)=C1C BKCIQPUIDHPJSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QBSVEFGWBSANTE-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6-tetramethylpyridine Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)C(C)=N1 QBSVEFGWBSANTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC(C)=C1C HOPRXXXSABQWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAAVUWIYUMVQJG-UHFFFAOYSA-N 2,3,5,6-tetramethylpyridine Chemical compound CC1=CC(C)=C(C)N=C1C ZAAVUWIYUMVQJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N 2,3,5-trimethylpyridine Chemical compound CC1=CN=C(C)C(C)=C1 GFYHSKONPJXCDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N 2,3,6-trimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=C(C)C(C)=N1 UTBIMNXEDGNJFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CN=C1C HPYNZHMRTTWQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWZVCCNYKMEVEX-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-Trimethylpyridine Chemical compound CC1=CC(C)=NC(C)=C1 BWZVCCNYKMEVEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYYNAJVZFGKDEQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC(C)=C1 JYYNAJVZFGKDEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=C(C)N=C1 XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ADSOSINJPNKUJK-UHFFFAOYSA-N 2-butylpyridine Chemical compound CCCCC1=CC=CC=N1 ADSOSINJPNKUJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- NMWDYLYNWRFEMR-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1.CC1=CC=CC=N1 NMWDYLYNWRFEMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VQGHOUODWALEFC-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpyridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 VQGHOUODWALEFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VCMUWBCBVPWJPS-UHFFFAOYSA-N 3,4,5-trimethylpyridine Chemical compound CC1=CN=CC(C)=C1C VCMUWBCBVPWJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NURQLCJSMXZBPC-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=NC=C1C NURQLCJSMXZBPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HWWYDZCSSYKIAD-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CN=CC(C)=C1 HWWYDZCSSYKIAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSNMFWFDOFQASV-UHFFFAOYSA-N 3-Butylpyridine Chemical compound CCCCC1=CC=CN=C1 QSNMFWFDOFQASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MFEIKQPHQINPRI-UHFFFAOYSA-N 3-Ethylpyridine Chemical compound CCC1=CC=CN=C1 MFEIKQPHQINPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HJKGBRPNSJADMB-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpyridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CN=C1 HJKGBRPNSJADMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVZRCNQLWOELDU-UHFFFAOYSA-N 4-Phenylpyridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=NC=C1 JVZRCNQLWOELDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWMDPZVQAMQFOC-UHFFFAOYSA-N 4-butylpyridine Chemical compound CCCCC1=CC=NC=C1 LWMDPZVQAMQFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDIIZULDSLKBKV-UHFFFAOYSA-N 4-chlorobutanoyl chloride Chemical compound ClCCCC(Cl)=O CDIIZULDSLKBKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1 ZPQOPVIELGIULI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFURNOQUNVHWHY-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,5,6-pentamethylpyridine Chemical compound CC1=NC(C)=C(C)C(C)=C1C LFURNOQUNVHWHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIALIKXMLIAOSN-UHFFFAOYSA-N 2-Propylpyridine Chemical compound CCCC1=CC=CC=N1 OIALIKXMLIAOSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRGGMCIBEHEAIL-UHFFFAOYSA-N 2-ethylpyridine Chemical compound CCC1=CC=CC=N1 NRGGMCIBEHEAIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005917 3-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 1
- MLAXEZHEGARMPE-UHFFFAOYSA-N 3-propylpyridine Chemical compound CCCC1=CC=CN=C1 MLAXEZHEGARMPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101710192523 30S ribosomal protein S9 Proteins 0.000 description 1
- WLYUMBPDHPMKHM-UHFFFAOYSA-N 3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-3h-2-benzofuran-1-one Chemical compound C1CCCC2C(=O)OCC21 WLYUMBPDHPMKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBIPMCDRANHGQI-UHFFFAOYSA-M 4,4-dimethylmorpholin-4-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+]1(C)CCOCC1 RBIPMCDRANHGQI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VJXRKZJMGVSXPX-UHFFFAOYSA-N 4-ethylpyridine Chemical compound CCC1=CC=NC=C1 VJXRKZJMGVSXPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAWZAONCXMJLFT-UHFFFAOYSA-N 4-propylpyridine Chemical compound CCCC1=CC=NC=C1 JAWZAONCXMJLFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100024522 Bladder cancer-associated protein Human genes 0.000 description 1
- 101150110835 Blcap gene Proteins 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100493740 Oryza sativa subsp. japonica BC10 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N alpha-methylpyridine Natural products CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001558 benzoic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- FDJUMMKAFUMWBI-UHFFFAOYSA-N chloro carbonochloridate Chemical compound ClOC(Cl)=O FDJUMMKAFUMWBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 150000005676 cyclic carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- VHOVSQVSAAQANU-UHFFFAOYSA-M mepiquat chloride Chemical compound [Cl-].C[N+]1(C)CCCCC1 VHOVSQVSAAQANU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002897 organic nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006187 pill Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000012048 reactive intermediate Substances 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/58—Preparation of carboxylic acid halides
- C07C51/60—Preparation of carboxylic acid halides by conversion of carboxylic acids or their anhydrides or esters, lactones, salts into halides with the same carboxylic acid part
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
触媒の存在下に、式(II)のラクトンと塩化水素及びホスゲンとの反応により式(I)[式中、R1及びR2は相互に独立して、水素原子、炭素含有有機基、ハロゲン、ニトロ-又はシアノ基を表し、Yは鎖中に炭素原子1〜10個を有し、非置換の又は炭素含有有機基、ハロゲン、ニトロ-及び/又はシアノ基により置換されたアルキレン鎖を表し、この際、このアルキレン鎖は1個のエーテル-、チオエーテル-、3級アミノ-又はケト基によって中断されていてよく、この際、Y及び/又はR1及び/又はR2の炭素含有有機基は、相互に結合して非芳香族系を形成していてよい]のクロルカルボン酸クロリドを製造する場合に、塩化水素を、ホスゲンの添加の前及び/又は間に導入し、その際、塩化水素の導入を、低くても60℃の温度に達した際にはじめて開始し、かつ触媒としてピリジン化合物を使用することを特徴とする、式(I)のクロルカルボン酸クロリドの製法。
【化1】
Description
【0001】
本発明は、式(I):
【0002】
【化3】
【0003】
[式中、R1及びR2は相互に独立して、水素原子、炭素含有有機基、ハロゲン
、ニトロ-又はシアノ基を表し、Yは鎖中に炭素原子1〜10個を有し、非置換
の又は炭素含有有機基、ハロゲン、ニトロ-及び/又はシアノ基により置換され
たアルキレン鎖を表し、この際、このアルキレン鎖は1個のエーテル、チオエー
テル、3級アミノ又はケト基によって中断されていてよく、この際、Y及び/又
はR1及び/又はR2の炭素含有有機基は、相互に結合して非芳香族系を形成し
ていてよい]のクロルカルボン酸クロリドの製造を、触媒の存在下における、式
(II):
、ニトロ-又はシアノ基を表し、Yは鎖中に炭素原子1〜10個を有し、非置換
の又は炭素含有有機基、ハロゲン、ニトロ-及び/又はシアノ基により置換され
たアルキレン鎖を表し、この際、このアルキレン鎖は1個のエーテル、チオエー
テル、3級アミノ又はケト基によって中断されていてよく、この際、Y及び/又
はR1及び/又はR2の炭素含有有機基は、相互に結合して非芳香族系を形成し
ていてよい]のクロルカルボン酸クロリドの製造を、触媒の存在下における、式
(II):
【0004】
【化4】
【0005】
[式中、R1、R2及びYは前記のものを表す]のラクトンと塩化水素及びホス
ゲンとの反応により行う方法に関する。
ゲンとの反応により行う方法に関する。
【0006】
クロルカルボン酸クロリドは、医薬及び農業化学的活性物質の製造のための重
要な反応性中間体である。
要な反応性中間体である。
【0007】
クロルカルボン酸クロリドは、例えば触媒の存在下で、相応するラクトンと塩
素化剤との反応により製造することができる。塩素化剤として、典型的な方法で
、ホスゲン又は塩化チオニルが使用される。それというのも、これらは付随生成
物として、もっぱらガス状物質(CO2又はSO2及びHCl)を形成するから
である。
素化剤との反応により製造することができる。塩素化剤として、典型的な方法で
、ホスゲン又は塩化チオニルが使用される。それというのも、これらは付随生成
物として、もっぱらガス状物質(CO2又はSO2及びHCl)を形成するから
である。
【0008】
塩素化剤としてホスゲンが使用される場合には、通常、種々の触媒系が使用さ
れる。米国特許第2778852号明細書は、γ-ブチロラクトン、γ-及びδ-
バレロラクトンのホスゲン化のために好適な触媒として、ピリジン、3級アミン
、重金属及び酸、例えば硫酸、燐酸、塩化燐、オキシ塩化燐、塩化アルミニウム
、塩化スルフリル及びクロルスルホン酸を記載している。
れる。米国特許第2778852号明細書は、γ-ブチロラクトン、γ-及びδ-
バレロラクトンのホスゲン化のために好適な触媒として、ピリジン、3級アミン
、重金属及び酸、例えば硫酸、燐酸、塩化燐、オキシ塩化燐、塩化アルミニウム
、塩化スルフリル及びクロルスルホン酸を記載している。
【0009】
DE-A19753773公報は、触媒としての尿素化合物の存在下に、塩化
水素の同時導入下で、脂肪族ラクトンのホスゲン化を記載している。
水素の同時導入下で、脂肪族ラクトンのホスゲン化を記載している。
【0010】
EP-A0413264及びEP-A0435714公報は、触媒としてのホス
フィンオキシドの存在下でのラクトンのホスゲン化を記載しており、この際、E
P-A0413264公報の教示によれば、塩化水素の同時導入が有利であると
記載されている。
フィンオキシドの存在下でのラクトンのホスゲン化を記載しており、この際、E
P-A0413264公報の教示によれば、塩化水素の同時導入が有利であると
記載されている。
【0011】
EP-A0583589公報は、触媒としての有機窒素化合物、例えば4級ア
ンモニウム塩、アミン、ヘテロ環式窒素化合物、尿素化合物、グアニジン化合物
又はホルムアミドの存在及び塩化水素の同時導入下での、ベンゾ融合されたラク
トンのホスゲン化を記載している。
ンモニウム塩、アミン、ヘテロ環式窒素化合物、尿素化合物、グアニジン化合物
又はホルムアミドの存在及び塩化水素の同時導入下での、ベンゾ融合されたラク
トンのホスゲン化を記載している。
【0012】
EP-A0253214公報中には、触媒としての4級アンモニウム塩、具体
的にトリメチルベンジルアンモニウムクロリド、N,N-ジメチルピペリジンニウ
ムクロリド及びジメチルモルホリニウムクロリドの存在下での脂肪族ラクトンの
ホスゲン化を記述しており、この際、同時の塩化水素の導入が特に有利であると
記載されている。N,N-ジメチルピペリジニウムクロリドの存在下で、175〜
180℃でのδ-バレロラクトンとホスゲン及び塩化水素との反応の際に、5-ク
ロル吉草酸クロリドが98.1%の純度及び76.2%の収率で得られた。
的にトリメチルベンジルアンモニウムクロリド、N,N-ジメチルピペリジンニウ
ムクロリド及びジメチルモルホリニウムクロリドの存在下での脂肪族ラクトンの
ホスゲン化を記述しており、この際、同時の塩化水素の導入が特に有利であると
記載されている。N,N-ジメチルピペリジニウムクロリドの存在下で、175〜
180℃でのδ-バレロラクトンとホスゲン及び塩化水素との反応の際に、5-ク
ロル吉草酸クロリドが98.1%の純度及び76.2%の収率で得られた。
【0013】
本発明によれば、クロルカルボン酸クロリド、特に5-クロル吉草酸クロリド
の製造の際に、前記触媒の存在下に相応するラクトンのホスゲン化により、いく
つかの考慮すべき問題が生じることが認識された。出発物質として使用されるあ
る種のラクトン、特に6-員系は、慣用のホスゲン化条件下で部分的に非常に不
安定であるので、文献に記載の条件下では屡々高い割合のオリゴマーが形成され
、結果として粘度がかなり上昇して反応混合物は固化することすらありうる。従
って、装置及びパイプラインがこの合成及び通常の蒸留後処理の間に閉塞するこ
とによるかなりの安全性のリスクがある。オリゴマーの形成の増加により、有用
生成物の収率は著しく添加され、廃棄を必要とする残渣の割合がかなり増加され
る。
の製造の際に、前記触媒の存在下に相応するラクトンのホスゲン化により、いく
つかの考慮すべき問題が生じることが認識された。出発物質として使用されるあ
る種のラクトン、特に6-員系は、慣用のホスゲン化条件下で部分的に非常に不
安定であるので、文献に記載の条件下では屡々高い割合のオリゴマーが形成され
、結果として粘度がかなり上昇して反応混合物は固化することすらありうる。従
って、装置及びパイプラインがこの合成及び通常の蒸留後処理の間に閉塞するこ
とによるかなりの安全性のリスクがある。オリゴマーの形成の増加により、有用
生成物の収率は著しく添加され、廃棄を必要とする残渣の割合がかなり増加され
る。
【0014】
通常のホスゲン化条件の使用の際の更なる欠点は、反応混合物が多くの場合に
非常に強く発泡し、それにより、この反応はかなり減速又は停止すらすべきであ
ることにある。泡形成の増加は、明白な安全性のリスクでもある。
非常に強く発泡し、それにより、この反応はかなり減速又は停止すらすべきであ
ることにある。泡形成の増加は、明白な安全性のリスクでもある。
【0015】
従って、本発明の課題は、もはや公知の欠点を有せず、反応を安全に実施する
ことを可能にし、かつクロルカルボン酸クロリドを高収率及び高純度で入手させ
る、相応するラクトンと塩素化剤との反応によるクロルカルボン酸クロリドの製
法を開発することである。
ことを可能にし、かつクロルカルボン酸クロリドを高収率及び高純度で入手させ
る、相応するラクトンと塩素化剤との反応によるクロルカルボン酸クロリドの製
法を開発することである。
【0016】
この課題は、次のような方法により達成されることを発見した:
式(I):
【0017】
【化5】
【0018】
[式中、R1及びR2は相互に独立して、水素原子、炭素含有有機基、ハロゲン
、ニトロ-又はシアノ基を表し、Yは鎖中に炭素原子1〜10個を有し、非置換
の又は炭素含有有機基、ハロゲン、ニトロ-及び/又はシアノ基により置換され
たアルキレン鎖を表し、この際、このアルキレン鎖は1個のエーテル-、チオエ
ーテル-、3級アミノ-又はケト基によって中断されていてよく、この際、Y及び
/又はR1及び/又はR2の炭素含有有機基は、相互に結合して非芳香族系を形
成していてよい]のクロルカルボン酸クロリドの製造を、触媒の存在下における
、式(II):
、ニトロ-又はシアノ基を表し、Yは鎖中に炭素原子1〜10個を有し、非置換
の又は炭素含有有機基、ハロゲン、ニトロ-及び/又はシアノ基により置換され
たアルキレン鎖を表し、この際、このアルキレン鎖は1個のエーテル-、チオエ
ーテル-、3級アミノ-又はケト基によって中断されていてよく、この際、Y及び
/又はR1及び/又はR2の炭素含有有機基は、相互に結合して非芳香族系を形
成していてよい]のクロルカルボン酸クロリドの製造を、触媒の存在下における
、式(II):
【0019】
【化6】
【0020】
[式中、R1、R2及びYは前記のものを表す]のラクトンと塩化水素及びホス
ゲンとの反応により行う方法において、塩化水素を、ホスゲンの添加の前及び/
又は添加の間に導入し、この際、塩化水素の導入を低くても60℃の温度に達し
た際にはじめて開始し、かつ触媒としてピリジン化合物を使用することを特徴と
する。
ゲンとの反応により行う方法において、塩化水素を、ホスゲンの添加の前及び/
又は添加の間に導入し、この際、塩化水素の導入を低くても60℃の温度に達し
た際にはじめて開始し、かつ触媒としてピリジン化合物を使用することを特徴と
する。
【0021】
本発明の方法で使用される触媒は、式(III)
【0022】
【化7】
【0023】
[式中、R3〜R7は相互に独立して、水素、炭素含有有機基、ハロゲン、ニト
ロ-又はシアノ基を表す]のピリジン化合物である。
ロ-又はシアノ基を表す]のピリジン化合物である。
【0024】
炭素含有有機基とは、炭素原子1〜20個を有し、非置換の又は置換された、
脂肪族、芳香族又は芳香脂肪族基を意味する。この基は、1個以上のヘテロ原子
、例えば酸素、窒素又は硫黄、例えば-O-、-S-、-NR-、-CO-及び/又は-
N=を脂肪族又は芳香族系中に含有していてよく、かつ/又は1個以上の、例え
ば酸素、窒素、硫黄及び/又はハロゲンを含有する官能基で置換されていてよく
、例えば弗素、塩素、臭素、沃素及び/又はシアノにより置換されていてよい。
炭素含有有機基が1個以上のヘテロ原子を含有する場合には、これは1個のヘテ
ロ原子を介して結合していてもよい。従って、例えばエーテル-、チオエーテル-
及び3級アミノ基も包含される。挙げられる炭素含有有機基の有利な例は次のも
のである:C1〜C20-アルキル、特にC1〜C6-アルキル、C6〜C10-
アリール、C7〜C20-アラルキル、特にC7〜C10-アラルキル及びC7〜
C20-アルカリール、特にC7〜C10-アルカリール。
脂肪族、芳香族又は芳香脂肪族基を意味する。この基は、1個以上のヘテロ原子
、例えば酸素、窒素又は硫黄、例えば-O-、-S-、-NR-、-CO-及び/又は-
N=を脂肪族又は芳香族系中に含有していてよく、かつ/又は1個以上の、例え
ば酸素、窒素、硫黄及び/又はハロゲンを含有する官能基で置換されていてよく
、例えば弗素、塩素、臭素、沃素及び/又はシアノにより置換されていてよい。
炭素含有有機基が1個以上のヘテロ原子を含有する場合には、これは1個のヘテ
ロ原子を介して結合していてもよい。従って、例えばエーテル-、チオエーテル-
及び3級アミノ基も包含される。挙げられる炭素含有有機基の有利な例は次のも
のである:C1〜C20-アルキル、特にC1〜C6-アルキル、C6〜C10-
アリール、C7〜C20-アラルキル、特にC7〜C10-アラルキル及びC7〜
C20-アルカリール、特にC7〜C10-アルカリール。
【0025】
更に、2つの隣接基が相互に結合して非芳香族又は芳香族系を形成することも
可能である。
可能である。
【0026】
ハロゲンとしては、弗素、塩素、臭素及び沃素が挙げられる。
【0027】
式中のR3〜R7が相互に独立して、水素、C1〜C6-アルキル、C6〜C
10-アリール、C7〜C10-アラルキル又はC7〜C10-アルカリール、例
えばメチル、エチル、プロピル、1-メチルエチル、ブチル、1-メチルプロピル
、2-メチルプロピル、1,1-ジメチルエチル、ペンチル、1-メチルブチル、2
-メチルブチル、3-メチルブチル、2,2-ジメチルプロピル、1-エチルプロピ
ル、ヘキシル、1,1-ジメチルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、1-メチル
ペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペンチル、1,1
-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,2-ジメ
チルブチル、2,3-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、1-エチルブチル
、2-エチルブチル、1,1,2-トリメチルプロピル、1,2,2-トリメチルプロ
ピル、1-エチル-1-メチルプロピル、1-エチル-2-メチルプロピル、フェニル
、2-メチルフェニル(o−トリル)、3-メチルフェニル(m-トリル)、4-メ
チルフェニル(p-トリル)、ナフチル又はベンジルを表すピリジン化合物(I
II)が有利である。
10-アリール、C7〜C10-アラルキル又はC7〜C10-アルカリール、例
えばメチル、エチル、プロピル、1-メチルエチル、ブチル、1-メチルプロピル
、2-メチルプロピル、1,1-ジメチルエチル、ペンチル、1-メチルブチル、2
-メチルブチル、3-メチルブチル、2,2-ジメチルプロピル、1-エチルプロピ
ル、ヘキシル、1,1-ジメチルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、1-メチル
ペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペンチル、1,1
-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,2-ジメ
チルブチル、2,3-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、1-エチルブチル
、2-エチルブチル、1,1,2-トリメチルプロピル、1,2,2-トリメチルプロ
ピル、1-エチル-1-メチルプロピル、1-エチル-2-メチルプロピル、フェニル
、2-メチルフェニル(o−トリル)、3-メチルフェニル(m-トリル)、4-メ
チルフェニル(p-トリル)、ナフチル又はベンジルを表すピリジン化合物(I
II)が有利である。
【0028】
C1〜C4-アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、1-メチルエチル、
ブチル、1-メチルプロピル、2-メチルプロピル及び1,1-ジメチルエチル、殊
に水素及びメチルが特に好適である。
ブチル、1-メチルプロピル、2-メチルプロピル及び1,1-ジメチルエチル、殊
に水素及びメチルが特に好適である。
【0029】
本発明の方法で使用するために好適であるピリジン化合物は、例えば次のもの
である:ピリジン、2-メチルピリジン(α−ピコリン)、3-メチルピリジン(
β−ピコリン)、4-メチルピリジン(γ-ピコリン)、2,3-ジメチルピリジン
、2,4-ジメチルピリジン、2,5-ジメチルピリジン、2,6-ジメチルピリジン
、3,4-ジメチルピリジン、3,5-ジメチルピリジン、2,3,4-トリメチルピ
リジン、2,3,5-トリメチルピリジン、2,3,6-トリメチルピリジン、2,4,
6-トリメチルピリジン、3,4,5-トリメチルピリジン、2,3,4,5-テトラメ
チルピリジン、2,3,4,6-テトラメチルピリジン、2,3,5,6-テトラメチル
ピリジン、2,3,4,5,6-ペンタメチルピリジン、2-エチルピリジン、3-エ
チルピリジン、4-エチルピリジン、2-プロピルピリジン、3-プロピルピリジ
ン、4-プロピルピリジン、2-ブチルピリジン、3-ブチルピリジン、4-ブチル
ピリジン、2-ブチルピリジン、3-ブチルピリジン、4-ブチルピリジン、2-フ
ェニルピリジン、3-フェニルピリジン、4-フェニルピリジン、キノリン及びイ
ソキノリン。
である:ピリジン、2-メチルピリジン(α−ピコリン)、3-メチルピリジン(
β−ピコリン)、4-メチルピリジン(γ-ピコリン)、2,3-ジメチルピリジン
、2,4-ジメチルピリジン、2,5-ジメチルピリジン、2,6-ジメチルピリジン
、3,4-ジメチルピリジン、3,5-ジメチルピリジン、2,3,4-トリメチルピ
リジン、2,3,5-トリメチルピリジン、2,3,6-トリメチルピリジン、2,4,
6-トリメチルピリジン、3,4,5-トリメチルピリジン、2,3,4,5-テトラメ
チルピリジン、2,3,4,6-テトラメチルピリジン、2,3,5,6-テトラメチル
ピリジン、2,3,4,5,6-ペンタメチルピリジン、2-エチルピリジン、3-エ
チルピリジン、4-エチルピリジン、2-プロピルピリジン、3-プロピルピリジ
ン、4-プロピルピリジン、2-ブチルピリジン、3-ブチルピリジン、4-ブチル
ピリジン、2-ブチルピリジン、3-ブチルピリジン、4-ブチルピリジン、2-フ
ェニルピリジン、3-フェニルピリジン、4-フェニルピリジン、キノリン及びイ
ソキノリン。
【0030】
ピリジン及びモノ-C1〜C4 -アルキルピリジンが有利であり、かつモノメチ
ルピリジン、2-メチルピリジン(α−ピコリン)、3−メチルピリジン(β−
ピコリン)及び4-メチルピリジン(γ-ピコリン)、特に3−メチルピリジン(
β−ピコリン)がより特別に好ましい。
ルピリジン、2-メチルピリジン(α−ピコリン)、3−メチルピリジン(β−
ピコリン)及び4-メチルピリジン(γ-ピコリン)、特に3−メチルピリジン(
β−ピコリン)がより特別に好ましい。
【0031】
本発明の方法では、ピリジン化合物(III)が、ラクトン(II)に対して
一般に0.1〜20モル%、好ましくは0.1〜10モル%、特に好ましくは0.
5〜10モル%、殊に1〜6モル%の濃度で使用される。
一般に0.1〜20モル%、好ましくは0.1〜10モル%、特に好ましくは0.
5〜10モル%、殊に1〜6モル%の濃度で使用される。
【0032】
更に、本発明の方法においては、ホスゲン添加の前及び/又は間の塩化水素の
導入が重要である。塩化水素の有効な添加のためには導入を開始する温度が決定
的である。本発明の方法では、反応混合物の温度が低くても60℃に達した際に
はじめて塩化水素の導入を行う。低くても80℃、特に好ましくは100℃、か
つ非常に特別に好ましくは低くても110℃、特に低くても120℃の温度に達
した際にはじめて塩化水素の導入を行うのが有利である。
導入が重要である。塩化水素の有効な添加のためには導入を開始する温度が決定
的である。本発明の方法では、反応混合物の温度が低くても60℃に達した際に
はじめて塩化水素の導入を行う。低くても80℃、特に好ましくは100℃、か
つ非常に特別に好ましくは低くても110℃、特に低くても120℃の温度に達
した際にはじめて塩化水素の導入を行うのが有利である。
【0033】
塩化水素の導入を開始するこの温度の上昇に伴い、通常、オリゴマー又はポリ
マー副産物の割合が減少する。従って、得られる製品収率が増加され、廃棄すべ
き残渣の量は減少される。
マー副産物の割合が減少する。従って、得られる製品収率が増加され、廃棄すべ
き残渣の量は減少される。
【0034】
60℃より低い温度、即ち本発明による範囲に入らない温度では、反応混合物
は、通常、粘性になるか又はむしろ固化して、所望の塩素化反応は停止する。
は、通常、粘性になるか又はむしろ固化して、所望の塩素化反応は停止する。
【0035】
塩化水素は、通常、ガス状で添加され、(i)ホスゲンの添加の前、(ii)
ホスゲンの添加の前又はその間又は(iii)ホスゲンの添加の間に行うことが
できる。変法(ii)ホスゲンの添加の”前及びその間”及び(iii)”間”
が有利である。
ホスゲンの添加の前又はその間又は(iii)ホスゲンの添加の間に行うことが
できる。変法(ii)ホスゲンの添加の”前及びその間”及び(iii)”間”
が有利である。
【0036】
ホスゲンとの反応の前又はその間に塩化水素が添加されないか、又はホスゲン
の添加が開始された後にはじめて塩化水素が添加される場合には、得ることので
きる収率はかなり低下し、この際反応器内容物が粘性になるか又はむしろ固化す
る危険が著しく増加する。より多くのホスゲンが既に添加されているほど、一般
にこの負の作用は大きくなる。
の添加が開始された後にはじめて塩化水素が添加される場合には、得ることので
きる収率はかなり低下し、この際反応器内容物が粘性になるか又はむしろ固化す
る危険が著しく増加する。より多くのホスゲンが既に添加されているほど、一般
にこの負の作用は大きくなる。
【0037】
勿論、ホスゲン-添加が終了した後になお塩化水素の導入を継続することも可
能である。このことは、場合によっては、この反応を完結させために、いわゆる
後反応として有利ですらある。更に、未反応の過剰のホスゲンをこの溶液から除
去する。
能である。このことは、場合によっては、この反応を完結させために、いわゆる
後反応として有利ですらある。更に、未反応の過剰のホスゲンをこの溶液から除
去する。
【0038】
添加される塩化水素の合計量は、通常は重要性が低い。典型的には、ラクトン
(II)1モル当たり塩化水素合計0.5〜2モル、好ましくは0.5〜1.5モ
ルが添加される。
(II)1モル当たり塩化水素合計0.5〜2モル、好ましくは0.5〜1.5モ
ルが添加される。
【0039】
本発明の方法では、ホスゲンとの反応を、60〜200℃、好ましくは100
〜200℃、特に好ましくは110〜150℃で実施することができる。これは
、通常、0.01〜5Mpa、好ましくは0.05〜0.2Mpaの絶対圧で、特
に好ましくは大気圧で実施される。この際、ホスゲンはガス状又は液状で配量添
加されうる。ガス状ホスゲンの添加が有利である。
〜200℃、特に好ましくは110〜150℃で実施することができる。これは
、通常、0.01〜5Mpa、好ましくは0.05〜0.2Mpaの絶対圧で、特
に好ましくは大気圧で実施される。この際、ホスゲンはガス状又は液状で配量添
加されうる。ガス状ホスゲンの添加が有利である。
【0040】
本発明の方法で導入されるホスゲンの合計量は、ラクトン(II)1モル当た
り、通常0.8〜1.5モル、好ましくは0.9〜1.2モルである。
り、通常0.8〜1.5モル、好ましくは0.9〜1.2モルである。
【0041】
本発明の方法で製造できるクロルカルボン酸クロリドは、式(I):
【0042】
【化8】
【0043】
[式中、R1及びR2は相互に独立して、水素、炭素含有有機基、ハロゲン、ニ
トロ-又はシアノ基を表す]を有する。
トロ-又はシアノ基を表す]を有する。
【0044】
炭素含有有機基は、ピリジン化合物(III)の記載におけるように定義され
る。挙げることのできる炭素含有有機基の有利な例は、C1〜C20-アルキル
、特にC1〜C6-アルキル、C6〜C10-アリール、C7〜C20-アラルキ
ル、特にC7〜C10-アラルキル及びC7〜C20-アルカリール、特にC7〜
C10-アルカリールである。
る。挙げることのできる炭素含有有機基の有利な例は、C1〜C20-アルキル
、特にC1〜C6-アルキル、C6〜C10-アリール、C7〜C20-アラルキ
ル、特にC7〜C10-アラルキル及びC7〜C20-アルカリール、特にC7〜
C10-アルカリールである。
【0045】
挙げることのできるハロゲンは、弗素、塩素、臭素及び沃素である。
【0046】
式中のR1及びR2が相互に独立して、水素、C1〜C6-アルキル、C6〜
C10-アリール、C7〜C10-アラルキル又はC7〜C10-アルカリール、
例えばメチル、エチル、プロピル、1-メチルエチル、ブチル、1-メチルプロピ
ル、2-メチルプロピル、1,1-ジメチルエチル、ペンチル、1-メチルブチル、
2-メチルブチル、3-メチルブチル、2,2-ジメチルプロピル、1-エチルプロ
ピル、ヘキシル、1,1-ジメチルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、1-メチ
ルペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペンチル、1,
1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,2-ジ
メチルブチル、2,3-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、1-エチルブチ
ル、2-エチルブチル、1,1,2-トリメチルプロピル、1,2,2-トリメチルプ
ロピル、1-エチル-1-メチルプロピル、1-エチル-2-メチルプロピル、フェニ
ル、2-メチルフェニル(o−トリル)、3-メチルフェニル(m-トリル)、4-
メチルフェニル(p-トリル)、ナフチル又はベンジルを表すクロルカルボン酸
クロリド(I)が有利である。水素及びC1〜C4-アルキル、殊に水素が特に
有利である。
C10-アリール、C7〜C10-アラルキル又はC7〜C10-アルカリール、
例えばメチル、エチル、プロピル、1-メチルエチル、ブチル、1-メチルプロピ
ル、2-メチルプロピル、1,1-ジメチルエチル、ペンチル、1-メチルブチル、
2-メチルブチル、3-メチルブチル、2,2-ジメチルプロピル、1-エチルプロ
ピル、ヘキシル、1,1-ジメチルプロピル、1,2-ジメチルプロピル、1-メチ
ルペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチル、4-メチルペンチル、1,
1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3-ジメチルブチル、2,2-ジ
メチルブチル、2,3-ジメチルブチル、3,3-ジメチルブチル、1-エチルブチ
ル、2-エチルブチル、1,1,2-トリメチルプロピル、1,2,2-トリメチルプ
ロピル、1-エチル-1-メチルプロピル、1-エチル-2-メチルプロピル、フェニ
ル、2-メチルフェニル(o−トリル)、3-メチルフェニル(m-トリル)、4-
メチルフェニル(p-トリル)、ナフチル又はベンジルを表すクロルカルボン酸
クロリド(I)が有利である。水素及びC1〜C4-アルキル、殊に水素が特に
有利である。
【0047】
Yは鎖中に炭素原子1〜10個を有し、非置換の又は炭素含有有機基、ハロゲ
ン、ニトロ-及び/又はシアノ基により置換されたアルキレン鎖を表し、この際
、このアルキレン鎖は1個のエーテル(-O-)、チオエーテル(-S-)、3級ア
ミノ(-NR-)又はケト基(-CO-)によって中断されていてもよい。炭素含有
有機基及びハロゲンは前記のように定義されている。
ン、ニトロ-及び/又はシアノ基により置換されたアルキレン鎖を表し、この際
、このアルキレン鎖は1個のエーテル(-O-)、チオエーテル(-S-)、3級ア
ミノ(-NR-)又はケト基(-CO-)によって中断されていてもよい。炭素含有
有機基及びハロゲンは前記のように定義されている。
【0048】
挙げることのできる基Yの例は、アルキレン(CH2)nであり、ここで、n
は1〜10であり、ここで、一個以上の、場合によっては全ての水素原子が、C 1 〜C6-アルキル、C6〜C10-アリール、C7〜C10-アラルキル又はC
7〜C10-アルカリール、例えばメチル、エチル、プロピル、1-メチルエチル
、ブチル、1-メチルプロピル、2-メチルプロピル、1,1-ジメチルエチル、ペ
ンチル、1-メチルブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、2,2-ジメチ
ルプロピル、1-エチルプロピル、ヘキシル、1,1-ジメチルプロピル、1,2-
ジメチルプロピル、1-メチルペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチ
ル、4-メチルペンチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3
-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、3,3-ジメ
チルブチル、1-エチルブチル、2-エチルブチル、1,1,2-トリメチルプロピ
ル、1,2,2-トリメチルプロピル、1-エチル-1-メチルプロピル、1-エチル-
2-メチルプロピル、フェニル、2-メチルフェニル(o−トリル)、3-メチル
フェニル(m-トリル)、4-メチルフェニル(p-トリル)、ナフチル又はベン
ジルで代えられていてもよい。
は1〜10であり、ここで、一個以上の、場合によっては全ての水素原子が、C 1 〜C6-アルキル、C6〜C10-アリール、C7〜C10-アラルキル又はC
7〜C10-アルカリール、例えばメチル、エチル、プロピル、1-メチルエチル
、ブチル、1-メチルプロピル、2-メチルプロピル、1,1-ジメチルエチル、ペ
ンチル、1-メチルブチル、2-メチルブチル、3-メチルブチル、2,2-ジメチ
ルプロピル、1-エチルプロピル、ヘキシル、1,1-ジメチルプロピル、1,2-
ジメチルプロピル、1-メチルペンチル、2-メチルペンチル、3-メチルペンチ
ル、4-メチルペンチル、1,1-ジメチルブチル、1,2-ジメチルブチル、1,3
-ジメチルブチル、2,2-ジメチルブチル、2,3-ジメチルブチル、3,3-ジメ
チルブチル、1-エチルブチル、2-エチルブチル、1,1,2-トリメチルプロピ
ル、1,2,2-トリメチルプロピル、1-エチル-1-メチルプロピル、1-エチル-
2-メチルプロピル、フェニル、2-メチルフェニル(o−トリル)、3-メチル
フェニル(m-トリル)、4-メチルフェニル(p-トリル)、ナフチル又はベン
ジルで代えられていてもよい。
【0049】
R1及び/又はR2及び/又はYの有機基が相互に結合して、非-芳香族系を
形成することも可能である。挙げることのできる例は、ヘキサヒドロフタリドで
ある。
形成することも可能である。挙げることのできる例は、ヘキサヒドロフタリドで
ある。
【0050】
式中のYが鎖中に炭素原子2〜8、好ましくは2〜4個を有し、非置換の又は
炭素含有有機基、ハロゲン、ニトロ-及び/又はシアノ基で置換されているアル
キレン鎖であるクロルカルボン酸クロリド(I)が有利である。
炭素含有有機基、ハロゲン、ニトロ-及び/又はシアノ基で置換されているアル
キレン鎖であるクロルカルボン酸クロリド(I)が有利である。
【0051】
式中の非置換又は置換されたアルキレン鎖が鎖中に炭素原子3個を有するクロ
ルカルボン酸クロリド(I)が全く特別に有利である。それというのも、特に6
-員のラクトンは、その低級又は高級同族体に比べて明らかにより反応性であり
、ホスゲン化条件下にオリゴマー又はポリマー副産物を著しく形成する傾向を有
するからである。従って、本発明の方法で特に有利なクロルカルボン酸クロリド
(I)は、5-クロル吉草酸クロリド(5-クロルペンタン酸クロリド)及びその
誘導体、殊に5-クロル吉草酸クロリドである。
ルカルボン酸クロリド(I)が全く特別に有利である。それというのも、特に6
-員のラクトンは、その低級又は高級同族体に比べて明らかにより反応性であり
、ホスゲン化条件下にオリゴマー又はポリマー副産物を著しく形成する傾向を有
するからである。従って、本発明の方法で特に有利なクロルカルボン酸クロリド
(I)は、5-クロル吉草酸クロリド(5-クロルペンタン酸クロリド)及びその
誘導体、殊に5-クロル吉草酸クロリドである。
【0052】
出発物質として使用されるべきラクトンは、式(II):
【0053】
【化9】
【0054】
[式中、R1、R2及びYは前記のものを表す]を有する。勿論、種々のラクト
ンの混合物を使用することも可能である。δ-バレロラクトン及びその誘導体、
特にδ-バレロラクトンが全く特別に有利である。
ンの混合物を使用することも可能である。δ-バレロラクトン及びその誘導体、
特にδ-バレロラクトンが全く特別に有利である。
【0055】
ホスゲン化のために使用される好適な反応器は、原則的に気-液又は液-液反応
に関する、関連技術文献中に記載の装置であってよい。高い空時収率を達成する
ために、ラクトン(II)及びピリジン化合物(III)を含有する溶液及び添
加されるべきホスゲンとの間の強力な混合が重要である。挙げることのできる非
限定的な例は、撹拌タンク、撹拌タンクカスケード、向流法で操作される反応塔
、流動管(好ましくはバッフルを備えている)、気泡塔およびループ反応器であ
る。
に関する、関連技術文献中に記載の装置であってよい。高い空時収率を達成する
ために、ラクトン(II)及びピリジン化合物(III)を含有する溶液及び添
加されるべきホスゲンとの間の強力な混合が重要である。挙げることのできる非
限定的な例は、撹拌タンク、撹拌タンクカスケード、向流法で操作される反応塔
、流動管(好ましくはバッフルを備えている)、気泡塔およびループ反応器であ
る。
【0056】
この方法は、溶剤の不存在下に実施するのが有利である。しかしながら、使用
されるホスゲンに対して不活性である溶媒を添加することが可能である。不活性
溶媒は、例えば芳香族炭化水素、例えばトルエン、クロルベンゼン、o-、m-又
はp-ジクロルベンゼン、o-、m-又はp-キシレン、環状カーボネート、例えば
エチレンカーボネート又はプロピレンカーボネート、目的生成物に相当するクロ
ルカルボン酸クロリド又はそれらの混合物である。溶媒が使用される場合には、
目的生成物に相当するクロルカルボン酸クロリドを使用するのが有利である。例
えば高分子量で、粘性の、または反応の条件下に固体であるラクトン(II)の
使用の場合には、溶媒の添加が有利でありうる。
されるホスゲンに対して不活性である溶媒を添加することが可能である。不活性
溶媒は、例えば芳香族炭化水素、例えばトルエン、クロルベンゼン、o-、m-又
はp-ジクロルベンゼン、o-、m-又はp-キシレン、環状カーボネート、例えば
エチレンカーボネート又はプロピレンカーボネート、目的生成物に相当するクロ
ルカルボン酸クロリド又はそれらの混合物である。溶媒が使用される場合には、
目的生成物に相当するクロルカルボン酸クロリドを使用するのが有利である。例
えば高分子量で、粘性の、または反応の条件下に固体であるラクトン(II)の
使用の場合には、溶媒の添加が有利でありうる。
【0057】
本発明の方法は、非連続的に又は連続的に実施することができる。
【0058】
a) 非連続的
非連続的製造では、ラクトン(II)、ピリジン化合物(III)及び場合に
より溶媒を含有する反応混合物を、反応装置、例えば撹拌タンク中に予め装入し
、かつ激しく撹拌する。次いで、この反応混合物を加熱し、この際、低くても6
0℃の温度で塩化水素の導入を開始することができる。場合によっては、先ず、
反応混合物を塩化水素ガスを導入せずに、低くても100℃又はそれより高い温
度まで加熱し、次いで、塩化水素及びホスゲンを、例えば一緒に添加する。ホス
ゲンの添加が終了した後に、この反応溶液を更に数分間〜数時間反応させ、その
間任意に更なる塩化水素を導入することができる。後反応は、この反応器中で又
は下流の容器中で行うこともできる。
より溶媒を含有する反応混合物を、反応装置、例えば撹拌タンク中に予め装入し
、かつ激しく撹拌する。次いで、この反応混合物を加熱し、この際、低くても6
0℃の温度で塩化水素の導入を開始することができる。場合によっては、先ず、
反応混合物を塩化水素ガスを導入せずに、低くても100℃又はそれより高い温
度まで加熱し、次いで、塩化水素及びホスゲンを、例えば一緒に添加する。ホス
ゲンの添加が終了した後に、この反応溶液を更に数分間〜数時間反応させ、その
間任意に更なる塩化水素を導入することができる。後反応は、この反応器中で又
は下流の容器中で行うこともできる。
【0059】
b) 連続的
連続的方法のために好適な反応装置は、例えば撹拌タンク、撹拌タンクカスケ
ード、向流法で操作される反応塔である。この連続的方法の初めに、一般に溶媒
(例えば目的生成物相当するクロルカルボン酸クロリド)及びピリジン化合物(
III)を予め装入し、この系を所望の温度とし、これに塩化水素ガスを添加す
る。
ード、向流法で操作される反応塔である。この連続的方法の初めに、一般に溶媒
(例えば目的生成物相当するクロルカルボン酸クロリド)及びピリジン化合物(
III)を予め装入し、この系を所望の温度とし、これに塩化水素ガスを添加す
る。
【0060】
引き続き、低くても100℃の温度で、一般に更にピリジン化合物(III)
を含有し、かつ場合によっては溶媒中に溶解されていてよいラクトン(II)の
連続的導入及び液状又はガス状ホスゲンの連続的添加を開始する。一般に、これ
に並行して更なる塩化水素が導入される。反応器内容物がクロルカルボン酸クロ
リドに変換した後に、ラクトン(II)及びホスゲンの量を、双方が実質的に当
モル量で導入されるように調節する。添加される量に相当する反応物量がこの反
応装置から、例えば水準保持装置又は溢流管を介して排出される。
を含有し、かつ場合によっては溶媒中に溶解されていてよいラクトン(II)の
連続的導入及び液状又はガス状ホスゲンの連続的添加を開始する。一般に、これ
に並行して更なる塩化水素が導入される。反応器内容物がクロルカルボン酸クロ
リドに変換した後に、ラクトン(II)及びホスゲンの量を、双方が実質的に当
モル量で導入されるように調節する。添加される量に相当する反応物量がこの反
応装置から、例えば水準保持装置又は溢流管を介して排出される。
【0061】
この反応溶液を後反応のためのもう一つの容器中に導入するのが有利である。
【0062】
選択的に、ホスゲン化反応器の上流の反応装置中のラクトン(II)に、場合
により、より低い温度であるが低くても60℃で、別に、塩化水素を添加するこ
とも可能である。
により、より低い温度であるが低くても60℃で、別に、塩化水素を添加するこ
とも可能である。
【0063】
一般に、例えば反応溶液に対して化学的に不活性であるガス、例えば窒素の導
通により、反応溶液から未反応のホスゲン又は塩化水素を駆出する(ストリップ
する)のが有利である。
通により、反応溶液から未反応のホスゲン又は塩化水素を駆出する(ストリップ
する)のが有利である。
【0064】
例えば合成工程の間に反応器から逃出する及び/又は引き続くストリッピング
により駆出される未反応のホスゲンを集め、改めて使用することが有利に可能で
ある。好適な収集装置は、例えばその中でホスゲンが凝縮する冷却トラップであ
る。
により駆出される未反応のホスゲンを集め、改めて使用することが有利に可能で
ある。好適な収集装置は、例えばその中でホスゲンが凝縮する冷却トラップであ
る。
【0065】
ラクトン(II)とホスゲンとの間の反応から生じる反応溶液を慣用法で後処
理することができる。蒸留後処理が有利であり、その際、場合によりストリッピ
ングを蒸留塔の上流で又はその中で行うことができる。
理することができる。蒸留後処理が有利であり、その際、場合によりストリッピ
ングを蒸留塔の上流で又はその中で行うことができる。
【0066】
蒸留後処理の間に得られるピリジン化合物(III)を含有するフラクシヨン
の一部分又は全てをリサイクルすることが可能であり、かつ場合によっては有利
である。クロルカルボン酸クロリド(I)及びピリジン化合物(III)の沸点
に依存して、ピリジン化合物(III)は、例えば有用な生成物の前又は後に塔
頂から分離することができる。この方法をピリジン化合物(III)のリサイク
ルを伴って実施する場合には、可能な副産物の除去のためにこのフラクシヨンの
一部分のみをリサイクルして、他の部分を新しいピリジン化合物(III)の添
加により交換するのが有利である。
の一部分又は全てをリサイクルすることが可能であり、かつ場合によっては有利
である。クロルカルボン酸クロリド(I)及びピリジン化合物(III)の沸点
に依存して、ピリジン化合物(III)は、例えば有用な生成物の前又は後に塔
頂から分離することができる。この方法をピリジン化合物(III)のリサイク
ルを伴って実施する場合には、可能な副産物の除去のためにこのフラクシヨンの
一部分のみをリサイクルして、他の部分を新しいピリジン化合物(III)の添
加により交換するのが有利である。
【0067】
クロルカルボン酸クロリド(I)の非連続的製造の有利な1実施態様では、相
応するラクトン(II)、ピリジン化合物(III)及び場合により溶媒(例え
ば目的生成物に相当するジクロルカルボン酸クロリド)の全量を最初に撹拌タン
ク中に装入する。次いで、この反応系を低くても100℃又はそれより高い温度
まで加熱し、かつ同時に大気圧で塩化水素及びホスゲンの導入を開始する。選択
的に、先ず塩化水素の導入を開始し、かつ引き続きホスゲンをこれに添加するこ
とも可能である。形成される付随生成物である二酸化炭素及び塩化水素を除去す
る。所望量のホスゲン及びこれに並行して塩化水素が供給された後に反応溶液を
しばらく自己温度で後反応させる。この後反応の際に、所望の場合には更なる塩
化水素を導入することができる。過剰のホスゲン及びその付随である生成物二酸
化炭素及び塩化水素を反応溶液からを除去するため又はその濃度を低下するため
に、引き続きこの溶液に不活性ガスを導通することが可能である(ストリッピン
グ)。最後に、生じる反応溶液を後処理する。一般にこの後処理は、場合によっ
ては減圧下での蒸留により実施される。高分子量のクロルカルボン酸クロリドの
場合には、他の精製法、例えば結晶化も可能である。
応するラクトン(II)、ピリジン化合物(III)及び場合により溶媒(例え
ば目的生成物に相当するジクロルカルボン酸クロリド)の全量を最初に撹拌タン
ク中に装入する。次いで、この反応系を低くても100℃又はそれより高い温度
まで加熱し、かつ同時に大気圧で塩化水素及びホスゲンの導入を開始する。選択
的に、先ず塩化水素の導入を開始し、かつ引き続きホスゲンをこれに添加するこ
とも可能である。形成される付随生成物である二酸化炭素及び塩化水素を除去す
る。所望量のホスゲン及びこれに並行して塩化水素が供給された後に反応溶液を
しばらく自己温度で後反応させる。この後反応の際に、所望の場合には更なる塩
化水素を導入することができる。過剰のホスゲン及びその付随である生成物二酸
化炭素及び塩化水素を反応溶液からを除去するため又はその濃度を低下するため
に、引き続きこの溶液に不活性ガスを導通することが可能である(ストリッピン
グ)。最後に、生じる反応溶液を後処理する。一般にこの後処理は、場合によっ
ては減圧下での蒸留により実施される。高分子量のクロルカルボン酸クロリドの
場合には、他の精製法、例えば結晶化も可能である。
【0068】
クロルカルボン酸クロリド(I)の連続的製造のための一般的な1態様では、
溶媒(例えば目的生成物に相当するクロルカルボン酸クロリド)及びピリジン化
合物(III)を反応器、例えば撹拌タンク中に予め装入し、かつ、この系を低
くても60℃の所望の温度まで加熱し、これにガス状塩化水素を添加する。引き
続き、低くても100℃の温度で、一般に更なるピリジン化合物(III)を含
有し、場合によっては溶媒中に溶解されているラクトン(II)の連続的導入及
び液状又はガス状のホスゲンの連続的添加を開始する。通常、これに並行して、
更に塩化水素を導入する。反応器内容物がクロルカルボン酸クロリドに変換した
後に、ラクトン(II)及びホスゲンの量を、これら成分の双方が実質的に当モ
ル量で添加されるように調節する。添加される量に相当する反応物量をこの反応
器から、例えば水準保持装置又は溢量管を介して取り出す。
溶媒(例えば目的生成物に相当するクロルカルボン酸クロリド)及びピリジン化
合物(III)を反応器、例えば撹拌タンク中に予め装入し、かつ、この系を低
くても60℃の所望の温度まで加熱し、これにガス状塩化水素を添加する。引き
続き、低くても100℃の温度で、一般に更なるピリジン化合物(III)を含
有し、場合によっては溶媒中に溶解されているラクトン(II)の連続的導入及
び液状又はガス状のホスゲンの連続的添加を開始する。通常、これに並行して、
更に塩化水素を導入する。反応器内容物がクロルカルボン酸クロリドに変換した
後に、ラクトン(II)及びホスゲンの量を、これら成分の双方が実質的に当モ
ル量で添加されるように調節する。添加される量に相当する反応物量をこの反応
器から、例えば水準保持装置又は溢量管を介して取り出す。
【0069】
取り出された反応溶液を下流の容器、例えば後処理用の撹拌タンク中に集める
。所望の場合には、後処理の際に更なる塩化水素を導入することができる。下流
の容器も反応流出物で充填された後に、溢流分から、所望の場合には、付随生成
物二酸化炭素及び塩化水素を前記のように除去し、かつ後処理する。後処理は例
えば蒸留により実施することができる。
。所望の場合には、後処理の際に更なる塩化水素を導入することができる。下流
の容器も反応流出物で充填された後に、溢流分から、所望の場合には、付随生成
物二酸化炭素及び塩化水素を前記のように除去し、かつ後処理する。後処理は例
えば蒸留により実施することができる。
【0070】
本発明の方法を用いると、クロルカルボン酸クロリド、殊に5-クロル吉草酸
クロリド及びその誘導体が相応するラクトンのホスゲン化により高収率で、かつ
98%より高い高純度で製造することができる。オリゴマー及びポリマー副産物
の形成は著しく減少され、このことは、記載の高収率に加えて、廃棄すべき残渣
の量が著しく減少する更なる利点をもたらす。反応混合物の粘度が増加する傾向
がもはや存在しないか又は著しく減少されているので、この合成及び後処理の間
の装置及びパイプラインの閉塞による安全性のリスクも同様に著しく減少される
。従って、この反応の安全な操作が確保される。更に、この合成の間の泡の形成
の傾向も著しく減少される。
クロリド及びその誘導体が相応するラクトンのホスゲン化により高収率で、かつ
98%より高い高純度で製造することができる。オリゴマー及びポリマー副産物
の形成は著しく減少され、このことは、記載の高収率に加えて、廃棄すべき残渣
の量が著しく減少する更なる利点をもたらす。反応混合物の粘度が増加する傾向
がもはや存在しないか又は著しく減少されているので、この合成及び後処理の間
の装置及びパイプラインの閉塞による安全性のリスクも同様に著しく減少される
。従って、この反応の安全な操作が確保される。更に、この合成の間の泡の形成
の傾向も著しく減少される。
【0071】
実施例
例1(本発明による)
δ-バレロラクトン350kg(3.5キロモル)及びβ−ピコリン16kg(
3-メチルピリジン、0.2キロモル)を630リットル鋼-琺瑯-タンク中に予め
装入し、120℃まで加熱した。120℃で塩化水素ガスの導入を1m3/hで
開始し、更に温度を高めた。140℃に達した後に、ホスゲンガスの付加的導入
を開始し、この際、ホスゲンガス合計380kg(3.84キロモル)を24時
間かかって導入した。この際、温度は145℃まで上昇した。ホスゲン添加が終
了した後に、後反応のために塩化水素を更に3時間供給した。引き続き、混合物
を80℃まで冷却し、窒素2.5m3/hを用いて過剰のホスゲンを12時間スト
リッピングした。粗製排出物から、先ず、1kPa(絶対)(10ミリバール、
絶対)及び塔頂温度85℃で、約20リットルの初留分を留去し、次いで残分を
分別蒸留させた。>98GC-面積%の純度の5-クロル吉草酸クロリド440k
g(2.84キロモル)が得られた。これは81%の収率に相当する。
3-メチルピリジン、0.2キロモル)を630リットル鋼-琺瑯-タンク中に予め
装入し、120℃まで加熱した。120℃で塩化水素ガスの導入を1m3/hで
開始し、更に温度を高めた。140℃に達した後に、ホスゲンガスの付加的導入
を開始し、この際、ホスゲンガス合計380kg(3.84キロモル)を24時
間かかって導入した。この際、温度は145℃まで上昇した。ホスゲン添加が終
了した後に、後反応のために塩化水素を更に3時間供給した。引き続き、混合物
を80℃まで冷却し、窒素2.5m3/hを用いて過剰のホスゲンを12時間スト
リッピングした。粗製排出物から、先ず、1kPa(絶対)(10ミリバール、
絶対)及び塔頂温度85℃で、約20リットルの初留分を留去し、次いで残分を
分別蒸留させた。>98GC-面積%の純度の5-クロル吉草酸クロリド440k
g(2.84キロモル)が得られた。これは81%の収率に相当する。
【0072】
例2〜8の実験装置
この実験装置は、撹拌機、温度調節装置、ガス状塩化水素及びホスゲン用の導
入管及び2-ピース冷却器カスケードを有する1リットルの二重ジャケットガラ
ス容器より成る。この2ピース冷却器カスケードは、-10℃の温度に保持され
た高効率冷却器及び-78℃に保持されたドライアイス冷却器から成る。実験を
大気圧で実施した。
入管及び2-ピース冷却器カスケードを有する1リットルの二重ジャケットガラ
ス容器より成る。この2ピース冷却器カスケードは、-10℃の温度に保持され
た高効率冷却器及び-78℃に保持されたドライアイス冷却器から成る。実験を
大気圧で実施した。
【0073】
例2(比較例)
δ-バレロラクトン200g(2モル)及び3-メチルピリジン8.1g(β−
ピコリン、0.1モル)を、撹拌しながらゆっくり加熱した。50℃の温度で、
塩化水素10Nl/hの導入を開始し、更に温度を高めた。145℃に達した後
に、ホスゲンの付加的導入を開始した。145〜150℃で、塩化水素ガス合計
46g(1.26モル)及びホスゲンガス102g(1.03モル)を、2時間か
かって導入した。この際、著しい粘度増加が観察された。ガラス撹拌機の破壊を
防止するために、この実験を停止しなければならなかった。
ピコリン、0.1モル)を、撹拌しながらゆっくり加熱した。50℃の温度で、
塩化水素10Nl/hの導入を開始し、更に温度を高めた。145℃に達した後
に、ホスゲンの付加的導入を開始した。145〜150℃で、塩化水素ガス合計
46g(1.26モル)及びホスゲンガス102g(1.03モル)を、2時間か
かって導入した。この際、著しい粘度増加が観察された。ガラス撹拌機の破壊を
防止するために、この実験を停止しなければならなかった。
【0074】
例3(本発明による)
δ-バレロラクトン200g(2モル)及びβ−ピコリン8.1g(3-メチル
ピリジン、0.1モル)を撹拌しながらゆっくり加熱した。80℃の温度で、塩
化水素10Nl/hの導入を開始し、更に温度を高めた。140℃に達した後に
、ホスゲンの付加的導入を開始した。140〜150℃で、塩化水素ガス合計6
0g(1.64モル)及びホスゲンガス193g(1.95モル)を、4時間45
分かかって導入した。ガスの導入が終了した後に、反応混合物を更なる撹拌下に
145℃で1時間後反応させた。窒素の導通により過剰のホスゲンをストリッピ
ングし、反応混合物を分別蒸留させた。>98GC-面積%の純度の5-クロル吉
草酸クロリド205g(1.32モル)が得られた。これは66%の収率に相当
する。
ピリジン、0.1モル)を撹拌しながらゆっくり加熱した。80℃の温度で、塩
化水素10Nl/hの導入を開始し、更に温度を高めた。140℃に達した後に
、ホスゲンの付加的導入を開始した。140〜150℃で、塩化水素ガス合計6
0g(1.64モル)及びホスゲンガス193g(1.95モル)を、4時間45
分かかって導入した。ガスの導入が終了した後に、反応混合物を更なる撹拌下に
145℃で1時間後反応させた。窒素の導通により過剰のホスゲンをストリッピ
ングし、反応混合物を分別蒸留させた。>98GC-面積%の純度の5-クロル吉
草酸クロリド205g(1.32モル)が得られた。これは66%の収率に相当
する。
【0075】
例4(本発明による)
δ-バレロラクトン200g(2モル)及びβ−ピコリン8.1g(3-メチル
ピリジン、0.1モル)を撹拌しながらゆっくり加熱した。110℃の温度で、
塩化水素10Nl/hの導入を開始し、更に温度を高めた。142℃に達した後
に、ホスゲンの付加的導入を開始した。142〜150℃で、塩化水素ガス合計
70g(1.92モル)及びホスゲンガス202g(2.04モル)を、4時間1
5分かかって導入した。ガスの導入が終了した後に、反応混合物を更なる撹拌下
に145℃で1時間後反応させた。引き続き、窒素の導通により過剰のホスゲン
をストリッピングし、反応混合物を分別蒸留させた。>98GC-面積%の純度
の5-クロル吉草酸クロリド250g(1.61モル)が得られた。これは81%
の収率に相当する。
ピリジン、0.1モル)を撹拌しながらゆっくり加熱した。110℃の温度で、
塩化水素10Nl/hの導入を開始し、更に温度を高めた。142℃に達した後
に、ホスゲンの付加的導入を開始した。142〜150℃で、塩化水素ガス合計
70g(1.92モル)及びホスゲンガス202g(2.04モル)を、4時間1
5分かかって導入した。ガスの導入が終了した後に、反応混合物を更なる撹拌下
に145℃で1時間後反応させた。引き続き、窒素の導通により過剰のホスゲン
をストリッピングし、反応混合物を分別蒸留させた。>98GC-面積%の純度
の5-クロル吉草酸クロリド250g(1.61モル)が得られた。これは81%
の収率に相当する。
【0076】
例5(本発明による)
δ-バレロラクトン200g(2モル)及びβ−ピコリン8.1g(3-メチル
ピリジン、0.1モル)を撹拌しながらゆっくり加熱した。138℃の温度で、
塩化水素及びホスゲンの同時導入を開始した。138〜150℃で、塩化水素ガ
ス合計61g(1.67モル)及びホスゲンガス207g(2.09モル)を、3
時間15分かかって導入した。ガスの導入が終了した後に、反応混合物を更なる
撹拌下に145℃で1時間後反応させた。次いで、窒素の導通により過剰のホス
ゲンをストリッピングし、反応混合物を分別蒸留させた。>98GC-面積%の
純度の5-クロル吉草酸クロリド270g(1.74モル)が得られた。これは8
7%の収率に相当する。
ピリジン、0.1モル)を撹拌しながらゆっくり加熱した。138℃の温度で、
塩化水素及びホスゲンの同時導入を開始した。138〜150℃で、塩化水素ガ
ス合計61g(1.67モル)及びホスゲンガス207g(2.09モル)を、3
時間15分かかって導入した。ガスの導入が終了した後に、反応混合物を更なる
撹拌下に145℃で1時間後反応させた。次いで、窒素の導通により過剰のホス
ゲンをストリッピングし、反応混合物を分別蒸留させた。>98GC-面積%の
純度の5-クロル吉草酸クロリド270g(1.74モル)が得られた。これは8
7%の収率に相当する。
【0077】
例6(比較例)
δ-バレロラクトン200g(2モル)及びCyanex(R)923(Cytec Indus
tries 社の商品、平均分子量348g/モルを有する種々のトリアルキルホスフ
ィンオキシドの混合物)34.8g(0.1モル)を撹拌下にゆっくり加熱した。
120℃の温度で塩化水素10Nl/hの導入を開始し、かつ温度を更に高めた
。146℃に達した後に、ホスゲンの付加的導入を開始した。146〜150℃
で塩化水素ガス44g(1.21モル)及びホスゲンガス90g(0.91モル)
の総量を3時間かかって導入した。この際に、粘度の著しい増加が観察された。
ガラス撹拌機の破壊を防止するためにこの実験を停止しなければならなかった。
tries 社の商品、平均分子量348g/モルを有する種々のトリアルキルホスフ
ィンオキシドの混合物)34.8g(0.1モル)を撹拌下にゆっくり加熱した。
120℃の温度で塩化水素10Nl/hの導入を開始し、かつ温度を更に高めた
。146℃に達した後に、ホスゲンの付加的導入を開始した。146〜150℃
で塩化水素ガス44g(1.21モル)及びホスゲンガス90g(0.91モル)
の総量を3時間かかって導入した。この際に、粘度の著しい増加が観察された。
ガラス撹拌機の破壊を防止するためにこの実験を停止しなければならなかった。
【0078】
例7(比較例)
δ-バレロラクトン200g(2モル)及びジメチルプロピレン尿素(1,3-
ジメチルテトラヒドロ-2(1H)-ピリミジノン)12.8g(0.1モル)を撹
拌下にゆっくり加熱した。100℃の温度で塩化水素10Nl/hの導入を開始
し、温度を更に高めた。145℃に達した後に、ホスゲンの付加的導入を開始し
た。145〜150℃で、塩化水素ガス6g(0.16モル)及びホスゲンガス
7g(0.07モル)を25分かかって導入した。この際に、粘度の著しい増加
が観察された。ガラス撹拌機の破壊を防止するために、この実験を停止しなけれ
ばならなかった。
ジメチルテトラヒドロ-2(1H)-ピリミジノン)12.8g(0.1モル)を撹
拌下にゆっくり加熱した。100℃の温度で塩化水素10Nl/hの導入を開始
し、温度を更に高めた。145℃に達した後に、ホスゲンの付加的導入を開始し
た。145〜150℃で、塩化水素ガス6g(0.16モル)及びホスゲンガス
7g(0.07モル)を25分かかって導入した。この際に、粘度の著しい増加
が観察された。ガラス撹拌機の破壊を防止するために、この実験を停止しなけれ
ばならなかった。
【0079】
例8(比較例)
δ-バレロラクトン200g(2モル)及びジメチルプロピレン尿素(1,3-
ジメチルテトラヒドロ-2(1H)-ピリミジノン)12.8g(0.1モル)を撹
拌下にゆっくり加熱した。138℃の温度で、塩化水素及びホスゲンの同時導入
を開始した。145〜150℃で、塩化水素ガス67g(1.84モル)及びホ
スゲンガス210g(2.12モル)の合計を3時間かかって導入した。ガスの
導入が終了した後に、反応混合物を、攪拌しながら145℃で1時間後反応させ
た。次いで窒素の導通により過剰のホスゲンを駆出し、反応混合物を分別蒸留さ
せた。>98GC-面積%の純度の5-クロル吉草酸クロリド248g(1.60
モル)が得られた。これは80%の収率に相当する。
ジメチルテトラヒドロ-2(1H)-ピリミジノン)12.8g(0.1モル)を撹
拌下にゆっくり加熱した。138℃の温度で、塩化水素及びホスゲンの同時導入
を開始した。145〜150℃で、塩化水素ガス67g(1.84モル)及びホ
スゲンガス210g(2.12モル)の合計を3時間かかって導入した。ガスの
導入が終了した後に、反応混合物を、攪拌しながら145℃で1時間後反応させ
た。次いで窒素の導通により過剰のホスゲンを駆出し、反応混合物を分別蒸留さ
せた。>98GC-面積%の純度の5-クロル吉草酸クロリド248g(1.60
モル)が得られた。これは80%の収率に相当する。
【0080】
例9(比較例)
γ-ブチルラクトン192g(2.23モル)及びピリジン2g(0.925モ
ル)を二重ジャケットガラス容器に予め装入し、120℃まで加熱した。激しい
撹拌下に、120〜124℃で、ホスゲンガス合計60g(0.61モル)を8
時間かかって導入した。残留する未反応のホスゲンを窒素を用いて駆出した後に
、粗製流出物を分別蒸留させた。76gの第1フラクシヨンは4-クロル酪酸ク
ロリド21.6GC-面積%を含有し、かつ110gの第2フラクシヨンは4-ク
ロル酪酸クロリド2.6GC-面積%を含有した。これは6%の総収率に相当する
。
ル)を二重ジャケットガラス容器に予め装入し、120℃まで加熱した。激しい
撹拌下に、120〜124℃で、ホスゲンガス合計60g(0.61モル)を8
時間かかって導入した。残留する未反応のホスゲンを窒素を用いて駆出した後に
、粗製流出物を分別蒸留させた。76gの第1フラクシヨンは4-クロル酪酸ク
ロリド21.6GC-面積%を含有し、かつ110gの第2フラクシヨンは4-ク
ロル酪酸クロリド2.6GC-面積%を含有した。これは6%の総収率に相当する
。
【0081】
実験データを第1表中にまとめる。例2は、塩化水素の導入を本発明による限
定を下回る温度で開始する場合に、粘度の著しい増加により反応を停止しなけれ
ばならなかったことを示している。本発明による例3〜5では、塩化水素の導入
の開始温度の上昇に伴い5-クロル吉草酸クロリドの収率が著しく増加すること
を示している。塩化水素の導入を138℃で開始する際に、87%の収率を実現
することができた。
定を下回る温度で開始する場合に、粘度の著しい増加により反応を停止しなけれ
ばならなかったことを示している。本発明による例3〜5では、塩化水素の導入
の開始温度の上昇に伴い5-クロル吉草酸クロリドの収率が著しく増加すること
を示している。塩化水素の導入を138℃で開始する際に、87%の収率を実現
することができた。
【0082】
本発明による例4で、触媒としてβ−ピコリンを用い、塩化水素-導入を11
0℃で開始すると、81%の5-クロル吉草酸クロリドの収率を得ることができ
たのに、触媒としてトリアルキルホスフィンオキシド及びジメチルプロピレン尿
素の使用(比較例6及び7参照)の場合には、反応溶液の粘度を著しく増加した
。双方の場合に、反応を停止しなければならなかった。
0℃で開始すると、81%の5-クロル吉草酸クロリドの収率を得ることができ
たのに、触媒としてトリアルキルホスフィンオキシド及びジメチルプロピレン尿
素の使用(比較例6及び7参照)の場合には、反応溶液の粘度を著しく増加した
。双方の場合に、反応を停止しなければならなかった。
【0083】
本発明による例3は、β−ピコリンの使用の場合には100℃をかなり下回る
塩化水素ガスの導入温度でも液状反応器流出物が得られることを示しているのに
、触媒としてのトリアルキルホスフィンオキシドの使用(比較例6及び7参照)
の場合には、それぞれ120℃及び100℃で既に、粘性反応器内容物に基づき
反応を停止しなければならなかった。
塩化水素ガスの導入温度でも液状反応器流出物が得られることを示しているのに
、触媒としてのトリアルキルホスフィンオキシドの使用(比較例6及び7参照)
の場合には、それぞれ120℃及び100℃で既に、粘性反応器内容物に基づき
反応を停止しなければならなかった。
【0084】
本発明による例5と比較例8との間の比較が示しているように、本発明による
触媒を用いない場合でも、例えばジメチルプロピレン尿素は、塩化水素の導入の
開始温度を高めることにより、一定の改良を得ることが可能ではあるが、この場
合には、本発明による方法の優れた結果には達しない。本発明による例5では、
その他は比較可能な条件下で、約9相対%も高い収率を生じた。
触媒を用いない場合でも、例えばジメチルプロピレン尿素は、塩化水素の導入の
開始温度を高めることにより、一定の改良を得ることが可能ではあるが、この場
合には、本発明による方法の優れた結果には達しない。本発明による例5では、
その他は比較可能な条件下で、約9相対%も高い収率を生じた。
【0085】
比較例8に示されているように、本発明によらない触媒、例えばジメチルプロ
ピレン尿素の使用の際に、塩化水素の導入の138℃の高い開始温度で液体反応
器流出物が得られるにしても、反応器加熱の場合には、泡形成の危険及び反応器
内容物が固化するまでの粘度の上昇の危険がある。本発明によるピリジン化合物
(III)の使用は、本発明によらない触媒、例えば尿素化合物又はホスフィン
オキシドの使用よりも優れている。
ピレン尿素の使用の際に、塩化水素の導入の138℃の高い開始温度で液体反応
器流出物が得られるにしても、反応器加熱の場合には、泡形成の危険及び反応器
内容物が固化するまでの粘度の上昇の危険がある。本発明によるピリジン化合物
(III)の使用は、本発明によらない触媒、例えば尿素化合物又はホスフィン
オキシドの使用よりも優れている。
【0086】
比較例9は、ピリジン化合物(III)の使用の際にも、塩化水素の導入なし
では不満足な収率が得られるにすぎないことを示している。
では不満足な収率が得られるにすぎないことを示している。
【0087】
【表1】
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成14年1月24日(2002.1.24)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項1
【補正方法】変更
【補正の内容】
【化1】
[式中、R1及びR2は相互に独立して、水素原子、炭素原子1〜20を有する
非置換の又は置換された脂肪族、芳香族又は芳香脂肪族基、ハロゲン、ニトロ-
又はシアノ基を表し、Yは鎖中に炭素原子1〜10個を有し、非置換の又は炭素
原子1〜20を有する非置換の又は置換された脂肪族、芳香族又は芳香脂肪族基
、ハロゲン、ニトロ-及び/又はシアノ基により置換されたアルキレン鎖を表し
、この際、このアルキレン鎖は1個のエーテル-、チオエーテル-、3級アミノ-
又はケト基によって中断されていてよく、この際、Y及び/又はR1及び/又は
R2の前記の炭素原子1〜20を有する非置換の又は置換された脂肪族、芳香族
又は芳香脂肪族基は、相互に結合して非芳香族系を形成していてよい]のクロル
カルボン酸クロリドの製造を、触媒の存在下における、式(II):
非置換の又は置換された脂肪族、芳香族又は芳香脂肪族基、ハロゲン、ニトロ-
又はシアノ基を表し、Yは鎖中に炭素原子1〜10個を有し、非置換の又は炭素
原子1〜20を有する非置換の又は置換された脂肪族、芳香族又は芳香脂肪族基
、ハロゲン、ニトロ-及び/又はシアノ基により置換されたアルキレン鎖を表し
、この際、このアルキレン鎖は1個のエーテル-、チオエーテル-、3級アミノ-
又はケト基によって中断されていてよく、この際、Y及び/又はR1及び/又は
R2の前記の炭素原子1〜20を有する非置換の又は置換された脂肪族、芳香族
又は芳香脂肪族基は、相互に結合して非芳香族系を形成していてよい]のクロル
カルボン酸クロリドの製造を、触媒の存在下における、式(II):
【化2】
[式中、R1、R2及びYは前記のものを表す]のラクトンと塩化水素及びホス
ゲンとの反応により行う場合に、塩化水素を、ホスゲンの添加の前及び/又は添
加の間に導入し、この際、塩化水素の導入を、低くても60℃の温度の際にはじ
めて開始し、かつ触媒としてピリジン化合物を使用することを特徴とする、クロ
ルカルボン酸クロリドの製造法。
ゲンとの反応により行う場合に、塩化水素を、ホスゲンの添加の前及び/又は添
加の間に導入し、この際、塩化水素の導入を、低くても60℃の温度の際にはじ
めて開始し、かつ触媒としてピリジン化合物を使用することを特徴とする、クロ
ルカルボン酸クロリドの製造法。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY,
DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I
T,LU,MC,NL,PT,SE,TR),OA(BF
,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,
ML,MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,G
M,KE,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ
,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,
MD,RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,
AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,B
Z,CA,CH,CN,CR,CU,CZ,DE,DK
,DM,DZ,EE,ES,FI,GB,GD,GE,
GH,GM,HR,HU,ID,IL,IN,IS,J
P,KE,KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR
,LS,LT,LU,LV,MA,MD,MG,MK,
MN,MW,MX,MZ,NO,NZ,PL,PT,R
O,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ
,TM,TR,TT,TZ,UA,UG,US,UZ,
VN,YU,ZA,ZW
(72)発明者 ヨヘム ヘンケルマン
ドイツ連邦共和国 マンハイム バッサー
マンシュトラーセ 25
(72)発明者 テオドーア ヴェーバー
ドイツ連邦共和国 ルートヴィッヒスハー
フェン フィルヒョフシュトラーセ 20
(72)発明者 ラルフ ブッシュ
ドイツ連邦共和国 ヴォルムス メルシュ
シュトラーセ 11
Fターム(参考) 4H006 AA02 AC47 BA51 BC10 BC11
BC34 BD21 BE01 BE52 BM10
BM72 BS10 BS90
4H039 CA65 CH70
Claims (8)
- 【請求項1】 式(I): 【化1】 [式中、R1及びR2は相互に独立して、水素原子、炭素含有有機基、ハロゲン
、ニトロ-又はシアノ基を表し、Yは鎖中に炭素原子1〜10個を有し、非置換
の又は炭素含有有機基、ハロゲン、ニトロ-及び/又はシアノ基により置換され
たアルキレン鎖を表し、この際、このアルキレン鎖は1個のエーテル-、チオエ
ーテル-、3級アミノ-又はケト基によって中断されていてよく、この際、Y及び
/又はR1及び/又はR2の炭素含有有機基は、相互に結合して非芳香族系を形
成していてよい]のクロルカルボン酸クロリドの製造を、触媒の存在下における
、式(II): 【化2】 [式中、R1、R2及びYは前記のものを表す]のラクトンと塩化水素及びホス
ゲンとの反応により行う場合に、塩化水素を、ホスゲンの添加の前及び/又は添
加の間に導入し、この塩化水素の導入を、低くても60℃の温度の際にはじめて
開始し、かつ触媒としてピリジン化合物を使用することを特徴とする、クロルカ
ルボン酸クロリドの製造法。 - 【請求項2】 触媒を、ラクトン(II)に対して0.1〜20モル%の濃
度で使用する、請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 触媒として、3-メチルピリジン(β−ピコリン)を使用す
る、請求項1又は2に記載の方法。 - 【請求項4】 ラクトン(II)1モル当り合計0.5〜2モルの塩化水素
を使用する、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項5】 塩化水素の導入を、低くても100℃の温度の際にはじめて
開始する、請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項6】 ホスゲンとの反応を、100〜200℃の温度及び0.01
〜5Mpa(絶対)の圧力で実施する、請求項1から5までのいずれか1項に記
載の方法。 - 【請求項7】 5-クロル吉草酸クロリド又はその誘導体を製造する、請求
項1から6までのいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項8】 5-クロル吉草酸クロリドを製造する、請求項1から7まで
のいずれか1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10010595.5 | 2000-03-03 | ||
DE10010595A DE10010595A1 (de) | 2000-03-03 | 2000-03-03 | Verfahren zur Herstellung von Chlorcarbonsäurechloriden |
PCT/EP2001/002239 WO2001064614A1 (de) | 2000-03-03 | 2001-02-28 | Verfahren zur herstellung von chlorcarbonsäurechloriden |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003525261A true JP2003525261A (ja) | 2003-08-26 |
Family
ID=7633506
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001563459A Withdrawn JP2003525261A (ja) | 2000-03-03 | 2001-02-28 | クロルカルボン酸クロリドの製法 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1259473B1 (ja) |
JP (1) | JP2003525261A (ja) |
KR (1) | KR100745236B1 (ja) |
CN (1) | CN1171843C (ja) |
AT (1) | ATE307794T1 (ja) |
AU (1) | AU2001246485A1 (ja) |
DE (2) | DE10010595A1 (ja) |
ES (1) | ES2250371T3 (ja) |
HU (1) | HUP0301077A2 (ja) |
WO (1) | WO2001064614A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101665427B (zh) * | 2009-06-09 | 2019-12-13 | 大连九信精细化工有限公司 | 5-溴正戊酰溴的制法 |
CN107628943B (zh) * | 2017-07-13 | 2021-02-26 | 宁波科诺华化工有限公司 | 一种5-氯戊酰氯的制备方法 |
CN112595797B (zh) * | 2021-01-05 | 2022-11-18 | 江苏嘉逸医药有限公司 | 一种气相色谱法测定阿哌沙班中间体的方法 |
CN113773182B (zh) * | 2021-09-10 | 2024-02-06 | 风火轮(上海)生物科技有限公司 | 一种合成6,8-二氯辛酸酯的方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2778852A (en) | 1952-07-12 | 1957-01-22 | Basf Ag | Production of chlorocarboxylic acid chlorides |
DE3624258A1 (de) | 1986-07-18 | 1988-01-21 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von chlorcarbonsaeurechloriden |
DE4223382A1 (de) * | 1992-07-16 | 1994-01-20 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von aromatischen o-Chlormethylcarbonsäurechloriden |
-
2000
- 2000-03-03 DE DE10010595A patent/DE10010595A1/de not_active Withdrawn
-
2001
- 2001-02-28 DE DE50107832T patent/DE50107832D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-02-28 KR KR1020027011484A patent/KR100745236B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-02-28 EP EP01919355A patent/EP1259473B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-02-28 AU AU2001246485A patent/AU2001246485A1/en not_active Abandoned
- 2001-02-28 AT AT01919355T patent/ATE307794T1/de not_active IP Right Cessation
- 2001-02-28 HU HU0301077A patent/HUP0301077A2/hu unknown
- 2001-02-28 CN CNB018059570A patent/CN1171843C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-02-28 WO PCT/EP2001/002239 patent/WO2001064614A1/de active IP Right Grant
- 2001-02-28 JP JP2001563459A patent/JP2003525261A/ja not_active Withdrawn
- 2001-02-28 ES ES01919355T patent/ES2250371T3/es not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE307794T1 (de) | 2005-11-15 |
EP1259473A1 (de) | 2002-11-27 |
WO2001064614A1 (de) | 2001-09-07 |
DE50107832D1 (de) | 2005-12-01 |
KR20020077933A (ko) | 2002-10-14 |
EP1259473B1 (de) | 2005-10-26 |
AU2001246485A1 (en) | 2001-09-12 |
DE10010595A1 (de) | 2001-09-06 |
ES2250371T3 (es) | 2006-04-16 |
HUP0301077A2 (en) | 2003-08-28 |
CN1407965A (zh) | 2003-04-02 |
KR100745236B1 (ko) | 2007-08-01 |
CN1171843C (zh) | 2004-10-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7399850B2 (ja) | 芳香族ニトリル化合物の製造方法 | |
JP2003525261A (ja) | クロルカルボン酸クロリドの製法 | |
JPH10279545A (ja) | N,n−ジメチルアクリルアミドの製造法 | |
JP2002030055A (ja) | アセトアミノフェノンの製造方法 | |
US4287347A (en) | Process for producing 2,3,5-trichloropyridine | |
US4504665A (en) | Process for producing chloronicotinic acid compounds | |
JP3615582B2 (ja) | シクロプロピルニトリル製造のための改良法 | |
US20030028045A1 (en) | Method for producing chlorocarboxylic acid chlorides | |
JPH09253501A (ja) | ハロゲン化触媒 | |
JP2894415B2 (ja) | 2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメチルの製造方法 | |
JP4038657B2 (ja) | アダマンタノンの製造方法 | |
JP5312031B2 (ja) | ピリジルカルボン酸アミドおよびエステルを製造する方法 | |
DE69934034T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Derivaten der Cyanobenzoesäure | |
JPH11240852A (ja) | ヘテロポリ酸触媒の分離回収方法 | |
JPH08231462A (ja) | パーフルオロアルキルカルボン酸フルオライド及びその誘導体の製造方法 | |
US4379938A (en) | Process for producing 2,3,5-trichloropyridine | |
JP4251508B2 (ja) | 酸塩化物化合物の製造方法 | |
KR20020067558A (ko) | 디페닐 에테르 화합물의 제조 방법 | |
JP3164284B2 (ja) | 2−クロロ−4−トリフルオロメチルベンザルクロライドの製造方法 | |
JPS6251252B2 (ja) | ||
JP3192975B2 (ja) | ハロゲン化ベンゼンの製造方法 | |
JP4058142B2 (ja) | 弗化沃化エタンの製造方法 | |
JPS63425B2 (ja) | ||
JP2003525260A (ja) | クロルカルボン酸クロリドの製造法 | |
EP0627421A1 (en) | Method of preparing 2-chloro-pyridinemethanol |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071204 |
|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20100212 |