JP2003517411A5 - - Google Patents

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】 液化ガスが、噴霧によってクライオスタット容器内に運び込まれ、その際、固体の結晶が形成され、これらの結晶が、スラッシュになるようにクライオスタット容器内に存在する液化ガスと混合し又は混合される、液化ガスからスラッシュを製造する方法において、液体粒子が、その圧力を少なくとも回りを囲む空気圧力の値に設定しかつ液体粒子の凍結点の下の温度を有するガス雰囲気内に圧力をかけて釈放され、又は侵入するので、液体粒子が、直接固体結晶になるように凍結し又は結晶化することを特徴とする、液化ガスからスラッシュを製造する方法。
【請求項２】 噴霧が、とくにノズル（１５ａ）、渦又は混合室等を含む噴霧装置（２，１２）によって行なわれることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】 噴霧が、少なくとも部分的に圧力をかけてノズル（２）、渦又は混合室等に供給されるガスによって行なわれることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】 このガスが、供給される液化ガスのガス状の相に相当することを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】 噴霧装置（２，１２）に供給される液化ガスが、噴霧過程の前及び／又はその間に、ガス状の冷却媒体によって冷却されることを特徴とする、請求項１ないし４の１つに記載の方法。
【請求項６】 噴霧が、少なくとも部分的に冷たいガス雰囲気内に液化ガスが出る際に行なわれることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項７】 冷たいガス雰囲気内における圧力が、噴霧装置（２，１２）のノズル（１５ａ）の出口横断面に相当する臨界圧力より低く設定されていることを特徴とする、請求項１ないし６の１つに記載の方法。
【請求項８】 生じたスラッシュが、新しいスラッシュの製造の間に、少なくとも大体において連続的に取出されることを特徴とする、請求項１ないし７の１つに記載の方法。
【請求項９】 スラッシュの取出しが、その密度の定常的な測定を介して調整されることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】 液化ガスが液体水素であることを特徴とする、請求項１ないし９の１つに記載の方法。
【請求項１１】 噴霧装置に供給される液体水素が、ヘリウムガスの供給により冷却されることを特徴とする、請求項１ないし１０の１つに記載の方法。
【請求項１２】 冷たいガス雰囲気がヘリウムガス雰囲気であることを特徴とする、請求項１ないし１１の１つに記載の方法。
【請求項１３】 クライオスタット容器が、部分的に液化ガスによって満たされており、この液化ガスが、スラッシュになるように固体結晶と混合され、その際、クライオスタット容器内に、供給される液化ガスから液体粒子を形成する噴霧装置が配置されており、この噴霧装置が、容器内にある液化ガスの上において液体粒子をガス雰囲気内に釈放する、とくに請求項１ないし１２の１つに記載の方法を実施するクライオスタット容器によって液化ガスからスラッシュを製造する装置において、ガス雰囲気内の圧力が、少なくとも回りを囲む空気圧力に相当し、かつガス雰囲気が、液体粒子の凍結点の下の温度を有することを特徴とする、とくに請求項１ないし１２の１つに記載の方法を実施するクライオスタット容器によって液化ガスからスラッシュを製造する装置。
【請求項１４】 噴霧装置（２，１２）が、ノズル（１５ａ）、渦又は混合室等を含むことを特徴とする、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】 噴霧装置が、圧力をかけたガスを供給する供給導管（２ａ）を有することを特徴とする、請求項１３又は１４に記載の装置。
【請求項１６】 噴霧装置のノズル（２）の出口横断面の大きさによって、噴霧圧力が、冷たいガス雰囲気内における圧力を上回ることを特徴とする、請求項１３ないし１５の１つに記載の装置。
【請求項１７】 噴霧装置（２，１２）が、ガス状の冷却媒体を供給する少なくとも１つの供給導管（２ｂ，１７）を有することを特徴とする、請求項１３ないし１６の１つに記載の装置。
【請求項１８】 噴霧装置（１２）が、圧力をかけてガス状の冷却媒体を供給するガスノズル（１８）を有することを特徴とする、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】 噴霧装置（１２）が、ガス状の冷却媒体のためにガスガイド円錐体（１３ｂ）を有し、このガスガイド円錐体が、ノズル（１５ａ）の範囲に流出ギャップ（１６）等を形成することを特徴とする、請求項１３ないし１７の１つに記載の装置。
【請求項２０】 冷たいガス雰囲気を形成するガスの供給部が、とくにシャワー状に配置された複数の入口開口（３）を有することを特徴とする、請求項１３ないし１９の１つに記載の装置。
【請求項２１】 装置が、製造課程の間に形成されたスラッシュを取出しかつ液化ガスの量を補充する装置を有することを特徴とする、請求項１３ないし２０の１つに記載の装置。
【請求項２２】 装置が、スラッシュの密度を測定する装置を有し、この装置によってスラッシュの取出しが調整されることを特徴とする、請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】 液化ガスが液体水素であることを特徴とする、請求項１３ないし２２の１つに記載の装置。
【請求項２４】 噴霧装置に供給される圧力をかけられたガスが水素であることを特徴とする、請求項１５又は２３に記載の装置。
【請求項２５】 冷却媒体がヘリウムガスであることを特徴とする、請求項１５又は１７に記載の装置。
【請求項２６】 冷たいガス雰囲気が、ヘリウムガスによって形成されることを特徴とする、請求項１３ないし２５の１つに記載の装置。
【請求項２７】 装置が、複数の噴霧装置（１２）を有し、これらの噴霧装置が、なるべくリング状に配置されていることを特徴とする、請求項１３ないし２６の１つに記載の装置。

本発明によれば、設定された課題は、次のようにして解決される。すなわち液体粒子が、その圧力を少なくとも回りを囲む空気圧力の値に設定しかつ液体粒子の凍結点の下の温度を有するガス雰囲気内に圧力をかけて釈放され、又は侵入するので、液体粒子が、直接固体結晶になるように凍結し又は結晶化する。

対象となる発明は、クライオスタット容器が、部分的に液化ガスによって満たされており、この液化ガスが、スラッシュになるように固体結晶と混合され、その際、クライオスタット容器内に、供給される液化ガスから液体粒子を形成する噴霧装置が配置されており、この噴霧装置が、容器内にある液化ガスの上において液体粒子をガス雰囲気内に釈放する、クライオスタット容器によって液化ガスからスラッシュを製造する装置にも関する。
本発明による装置は、ガス雰囲気内の圧力が、少なくとも回りを囲む空気圧力に相当し、かつガス雰囲気が、液体粒子の凍結点の下の温度を有することを特徴とする。