JP2003512191A - ミクロプレート把持用装置 - Google Patents
ミクロプレート把持用装置Info
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Abstract
Description
のに一般的に利用されるものであり、例えば毒性や代謝等の、薬物やバクテリア
或いはウィルスが生きている細胞に与える効果が特徴付けされる。ミクロプレー
トはまた化学化合物を保存するためにも利用される。より詳細には、生物学的分
析は製薬物の構成の相互反応を決定するために利用される。
、評価の下にある膨大な量の製薬物候補のために、ミクロプレートはサンプル収
集ウェルの大きなマトリックスを含むことになろう。例えば、ミクロプレートは
、5x6、6x8、8x10、8x12等のマトリックスで配列させることがで
きる。サンプルがミクロプレートウエルに収集された後、蒸発や汚染を防ぐため
に一般にその上に蓋が置かれ、スクリーニングの準備ができるまでミクロプレー
トは低温に貯蔵される。
にコンピュータで制御された処理及びロボット工学が使用される。これまでは、
冷蔵保存から取り出した後に、及び/或いはサンプルの分析の前におけるミクロ
プレートのロボットによる蓋取り作業には幾つかの問題があった。蓋取り作業に
関連し、ロボット工学的な機構がミクロプレートをスクリーニングステーション
に搬送できるように、蓋を取り外してその後直ちにミクロプレートを解放する間
にミクロプレートを保持する自動装置を提供するという問題があった。
うなコンテナを安全に把持及び保持するためにロボット工学的な取り扱いシステ
ムを備えて利用するための自動化可能な装置を提供する。本発明は、蓋を取り外
し、サンプルを回転させ、振動させ、撹拌し、サンプルをそこから除去し、ある
いは当業者に明らかなその他の作業の間に、ミクロプレート、ジャー、ガラス瓶
、皿等の種々のコンテナを把持及び保持するのに適用できる。
ための装置であって、a)i)ベースの頂部を部分的に貫通して延びる垂直孔と
、ii)前記ベースの側部を貫通して延び、前記垂直孔と交差する水平孔と、i
ii)前記ベースの頂部に設けられた複数の間欠的な垂直の隆起縁部と、iv)
前記ベースを支持部に固定するための手段とを有する、水平に位置決めされて表
面を平坦に仕上げられたベースと、b)プレートガスケットが前記ベースの形状
と一致し、前記隆起縁部同士の間のベースの頂部に当接し、前記ベースの垂直孔
に整合し該プレートガスケットを貫通する垂直孔を有し、前記隆起縁部の頂部が
前記プレートガスケットの頂部を越えて上方に延びる、平坦な弾性プレートガス
ケットと、c)前記ベース側の水平孔に取り付けられた真空化手段とを有し、平
坦な底部のコンテナはその上に蓋を有すると共に前記ベースの形状と一致し、前
記コンテナは前記プレートガスケットの頂部に設けられ、前記ベースの隆起縁部
内に嵌合してこれと当接し、前記ベースが真空状態にされ、前記コンテナは蓋を
取り除くための手段をそこに適用する間、前記ベースに向けて吸引されて真空状
態を損なわずにそこに確実に保持される、コンテナを把持し保持するための装置
である。
させるためにミクロプレートの頂部から蓋を取り除く、自動或いはロボットによ
る工程の間、該ミクロプレートを把持し確実に保持する静的装置である。装置の
形状は概してミクロプレートの形状に一致しており、例えば正方形、楕円形或い
は長方形である。ミクロプレートの典型的な形状は、正方形或いは長方形である
。
を把持し確実に保持するための装置は以下のような特徴を有する。
保持するための装置であって、a)i)ベースの頂部を部分的に貫通して延びる
、中央に位置決めされた垂直孔12と、ii)前記ベースの側部を部分的に貫通
して延び、前記垂直孔と交差して導管を形成する水平孔14と、iii)前記ベ
ースの頂部の隅角部に沿った垂直な隆起縁部16と、iv)前記ベースを支持部
に固定するための手段18、例えば、化学的な付着、ボルトとナット、ねじ或い
は締め付けと、を備える、水平に位置決めされ、平坦な頂部を有する長方形のベ
ース10と、b)前記ベース10の垂直孔12に整合すると共に前記プレートガ
スケットを貫通した垂直孔22を有するベースの頂部に当接する平坦な長方形の
弾性プレートガスケット20であって、前記プレートガスケットの形状は前記ベ
ースの形状に一致し、前記プレートガスケットは前記ベースの形状内に嵌合し、
前記隆起縁部16の頂部は前記プレートガスケットの頂部を越えて上方に延び、
前記プレートガスケットの垂直縁部と前記ベースの垂直縁部との間のベースの側
部に沿って水平な外側脚部24が形成されてなる弾性プレートガスケットと、c
)前記ベースの側部の水平孔に取り付けられた真空化手段30とを有し、蓋付き
の平坦な底部のミクロプレートであって、該蓋50は該ミクロプレートの側部か
ら突出した底縁部を有し、該ミクロプレートはロボットの指60により両側から
保持され、該ミクロプレートが前記プレートガスケットの頂部に位置決めされる
間、前記指の底部は前記ベースの突起に近位しており、前記ミクロプレートは前
記隆起縁部内に嵌合すると共にこれら縁部に当接し、前記ベースは吸引され真空
状態にされ、前記ミクロプレートはベースに向けて吸引されて真空状態を損なわ
ずにそこに確実に保持され、前記ロボットの指がミクロプレートを解放し、突出
した蓋の底部縁部に指が上昇して接触し、指が上昇して蓋を取り除くことを特徴
とする、ミクロプレートを把持するための装置である。
形成される、真空化手段を適用するために利用される導管を示したミクロプレー
ト把持装置10の立面側面図が示されている。より詳細には、水平孔はベースの
側部を貫通して設けられ、垂直孔を部分的に貫通すると共に該垂直孔と交差して
延び、この垂直孔はベースの頂部を貫通して部分的にベースを貫通して延びてい
る。これら2つの孔が交差してベースの頂部の第1端部及びベースの側部の第2
端部を有する導管を形成する。側部の孔には、真空ポンプ或いはその他の真空化
装置の形態の真空化手段を連結することができる。プレートガスケットもこれを
完全に貫通した垂直孔22を有し、この孔はベースの水平孔に整合している。真
空化手段はロボットの指により順次作動するようプログラムされたソレノイド弁
により自動的に制御可能である。即ち、ソレノイド弁は、ミクロプレートを装置
に載せた後に真空を適用するタイミング、及び指がミクロプレートの蓋を取り除
いた後に真空を解除するタイミングを設定可能である。真空化手段が一旦装置に
適用されると、プレートガスケットの上への隆起縁部同士の間に位置決めされた
平坦な底部のミクロプレートは真空力により吸引されて適所に保持される。真空
力は実際にプレートをプレートガスケットに対して引く。プレートガスケットの
弾性材は圧縮されて真空が全く損なわれず、またミクロプレートを確実に把持し
保持するように構成されている。
示しており、該縁部の高さはベースよりも高い。一般に、隆起縁部16はその上
に設けられたミクロプレートの高さよりも少なくとも約2分の1高い。典型的に
は、ベースの隆起縁部は内側に角度を成した面取部を有し、面取部は約30から
60度の角度でベースの頂部に向けて下方に傾斜し、面取部の角度は好ましくは
約45度である。面取部の縁の下側部の頂部はミクロプレートの頂部の側部まで
部分的に延びているのが好ましい。ロボットの指は隆起縁部内でミクロプレート
を必ずしも正確に解放するとは限らないので、面取りされた隆起縁部は、ロボッ
トの指がプレートを解放した後にミクロプレートが装置上に落ちるよう案内する
ように構成されている。
図が示されている。ベースの垂直縁部とプレートガスケットの垂直縁部との間の
水平な空間として定義される脚部24はベースの外周に隣接するものとして示さ
れている。これらの脚部はロボットの指60に当接し、指がミクロプレートを搬
送して持ってくる際に整合から外れた場合にロボットの指60が損傷することを
防ぐ。一般に、(隆起縁部内での)ミクロプレートとベースの表面面積は、ミク
ロプレートが突出せずにプレートガスケットの頂部に嵌合するように、同じくら
いであるべきである。典型的には、ロボットの指はプレートガスケットの厚さと
略同じである。従って、ミクロプレートの搬送及び獲得作業中は、指の底部の先
端はプレートガスケットの外側の垂直縁部に整合する。
レンジエンモノマー、シリコン或いは熱可塑性エラストマーのような柔軟な弾力
のある材料で構成される。適切な熱可塑性エラストマーとしては、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン及びポリウレタンが挙げられる。一般に、装置のベースは金属
或いは非弾性熱可塑性材料等の、固体であって柔軟ではない材料で構成される。
構成物の金属材料は、銅、亜鉛、マグネシウム等の純粋な金属、或いはそれの合
金、例えばアルミニウム、真鍮、ステンレス鋼等の種々の鋼材である。熱可塑性
の材料としては、ポリ塩化ビニル、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリア
ミド、ポリイミド及びナイロンが挙げられる。
護されるべき発明は開示された特定の実施例に限定されるとは解釈されない。実
施例は限定ではなく、例として解釈すべきである。発明の範囲内であれば逸脱し
ても良く、明らかな変形例は当業者にとって可能であることを認識されたい。
ミクロプレート把持装置の立面投影図であり、ミクロプレートは装置に整合し、
装置の上方に位置決めされている。
するベースを貫通した水平孔と整合したミクロプレート把持装置の立面側面図で
ある。
。
レートに対して位置している。
Claims (20)
- 【請求項1】 蓋を外し、混合し、あるいは振動させる作業の間、コンテナ
を把持し保持するための装置であって、 d)i)ベースの頂部を部分的に貫通して延びる垂直孔と、ii)前記ベース
の側部を貫通して延び、前記垂直孔と交差する水平孔と、iii)前記ベースの
頂部に設けられた複数の間欠的な垂直の隆起縁部と、iv)前記ベースを支持部
に固定するための手段とを有する、水平に位置決めされて表面を平坦に仕上げら
れたベースと、 e)プレートガスケットが前記ベースの形状と一致し、前記隆起縁部同士の間
のベースの頂部に当接し、前記ベースの垂直孔に整合し該プレートガスケットを
貫通する垂直孔を有し、前記隆起縁部の頂部が前記プレートガスケットの頂部を
越えて上方に延びる、平坦な弾性プレートガスケットと、 f)前記ベース側の水平孔に取り付けられた真空化手段とを有し、 平坦な底部のコンテナはその上に蓋を有すると共に前記ベースの形状と一致し
、前記コンテナは前記プレートガスケットの頂部に位置決めされ、前記ベースの
隆起縁部内に嵌合してこれと当接し、前記ベースが真空状態にされ、前記コンテ
ナは蓋を取り除くための手段をそこに適用する間、前記ベースに向けて吸引され
て真空状態を損なわずにそこに確実に保持される、コンテナを把持し保持するた
めの装置。 - 【請求項2】 前記ベースの形状は前記コンテナに一致し、該ベースは長方
形、正方形及び楕円形から選択される、請求項1に記載の装置。 - 【請求項3】 前記ベースの形状は長方形である、請求項2に記載の装置。
- 【請求項4】 前記ベースの隆起縁部の頂部は前記ベースに向けて内方且つ
下方に角度を成した面取部を有する、請求項3に記載の装置。 - 【請求項5】 複数の前記隆起縁部が前記ベースの隅角部に沿って配置され
る、請求項4に記載の装置。 - 【請求項6】 前記プレートガスケットはゴム、シリコン及び熱可塑性エラ
ストマーから選択された弾性材料で構成される、請求項5に記載の装置。 - 【請求項7】 前記プレートガスケットはシリコンで構成される、請求項6
に記載の装置。 - 【請求項8】 前記隆起縁部の面取部は約45度の角度を成す、請求項7に
記載の装置。 - 【請求項9】 前記真空化手段は真空化手段である、請求項8に記載の装置
。 - 【請求項10】 前記コンテナはミクロプレート、ジャー、ガラス瓶及び皿
からなるグループから選択される、請求項9に記載の装置。 - 【請求項11】 ロボットによる蓋の除去作業の間、長方形のミクロプレー
トを把持するための装置であって、 a)i)ベースの頂部を部分的に貫通して延びる、中央に位置決めされた垂直
孔と、ii)前記ベースの側部を部分的に貫通して延び、前記垂直孔と交差して
導管を形成する水平孔と、iii)前記ベースの頂部の隅角部に沿った垂直な隆
起縁部と、iv)前記ベースを支持部に固定するための手段と、を備える、水平
に位置決めされ、平坦な頂部を有する長方形のベースと、 b)前記ベースの垂直孔に整合すると共に前記プレートガスケットを貫通した
垂直孔を有するベースの頂部に当接する平坦な長方形の弾性プレートガスケット
であって、前記プレートガスケットの形状は前記ベースの頂部の形状に一致し、
前記プレートガスケットは前記頂部の形状内に嵌合し、前記隆起縁部の頂部は前
記プレートガスケットの頂部を越えて上方に延び、前記プレートガスケットの垂
直縁部と前記ベースの垂直縁部との間のベースの側部に沿って水平な外側脚部が
形成されてなる弾性プレートガスケットと、 c)前記ベースの側部の水平孔に取り付けられた真空化手段とを有し、 蓋付きの平坦な底部のミクロプレートであって、該ミクロプレートの側部から
突出した底縁部を有し、該ミクロプレートはロボットの指により両側から保持さ
れ、該ミクロプレートが前記プレートガスケットの頂部に位置決めされる間、前
記指は前記ベースの突起及び前記プレートガスケットの縁部に近位しており、前
記ミクロプレートは前記隆起縁部内に嵌合すると共にこれら縁部に当接し、前記
ベースは吸引され真空状態にされ、前記ミクロプレートはベースに向けて吸引さ
れて真空状態を損なわずにそこに確実に保持され、前記ロボットの指がミクロプ
レートを解放し、突出した蓋の底部縁部に指が上昇して接触し、指が上昇して蓋
を取り除く、ミクロプレートを把持するための装置。 - 【請求項12】 前記ベースの隆起縁部の頂部はベースに向けて内方且つ下
方に角度を成した面取部を有する、請求項10に記載の装置。 - 【請求項13】 前記隆起縁部の面取部は約45度の角度を成す、請求項1
1に記載の装置。 - 【請求項14】 前記プレートガスケットはゴム、シリコン及び熱可塑性エ
ラストマーよりなるグループから選択された弾性材料で構成される、請求項12
に記載の装置。 - 【請求項15】 前記プレートガスケットはシリコンで構成される、請求項
13に記載の装置。 - 【請求項16】 前記ベースは金属及び熱可塑性ポリマーよりなるグループ
から選択された材料で構成される、請求項14に記載の装置。 - 【請求項17】 前記ベースは金属より構成される、請求項15に記載の装
置。 - 【請求項18】 前記真空化手段は真空化手段である、請求項16に記載の
装置。 - 【請求項19】 前記真空化手段はコンピュータ制御されたソレノイド弁に
より作動する、請求項17に記載の装置。 - 【請求項20】 前記突起は、ミクロプレートを装置上に下降及び解放させ
る間、該突起の近位に来るミクロプレートを保持するロボットの指の底部に適切
に適合する、請求項18に記載の装置。
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Families Citing this family (19)
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US6843962B2 (en) * | 2001-09-06 | 2005-01-18 | Genetix Limited | Apparatus for and methods of handling biological sample containers |
US6998094B2 (en) * | 2001-09-06 | 2006-02-14 | Genetix Limited | Apparatus for and methods of handling biological sample containers |
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US8221697B2 (en) * | 2007-01-12 | 2012-07-17 | Nichols Michael J | Apparatus for lidding or delidding microplate |
US8703492B2 (en) * | 2007-04-06 | 2014-04-22 | Qiagen Gaithersburg, Inc. | Open platform hybrid manual-automated sample processing system |
EP2263802A1 (en) * | 2009-05-25 | 2010-12-22 | F. Hoffmann-La Roche AG | System and method for dispensing fluids |
WO2011063139A1 (en) | 2009-11-18 | 2011-05-26 | Qiagen | Laboratory central control unit method and system |
CN103183201B (zh) * | 2011-12-29 | 2016-01-13 | 富泰华工业(深圳)有限公司 | 吸附装置 |
CH706811A1 (de) | 2012-08-09 | 2014-02-14 | Tecan Trading Ag | Mikroplatten-Reader mit Deckelabheber für Mikroplatten. |
US9993824B2 (en) | 2012-08-09 | 2018-06-12 | Tecan Trading Ag | Microplate reader with lid lifter for microplates |
US9568414B2 (en) | 2012-08-09 | 2017-02-14 | Tecan Trading Ag | Microplate reader with lid lifter for microplates |
CA2791003C (en) * | 2012-09-27 | 2013-08-06 | Cinrg Systems Inc. | Liquid sample testing apparatus |
CN103264362A (zh) * | 2013-05-06 | 2013-08-28 | 苏州金牛精密机械有限公司 | 一种真空吸盘定位治具 |
EP3330697A1 (de) * | 2016-11-30 | 2018-06-06 | Bayer Aktiengesellschaft | Vorrichtung zur ermittlung der wirkung von wirkstoffen an nematoden und anderen organismen in wässrigen tests |
US11534765B2 (en) | 2017-09-29 | 2022-12-27 | Siemens Healthcare Diagnostics Inc. | Test tube vacuum retainer |
JP7002326B2 (ja) * | 2017-12-26 | 2022-01-20 | 川崎重工業株式会社 | 蓋閉じ装置及び蓋閉じ方法 |
CN109434703A (zh) * | 2018-10-12 | 2019-03-08 | 中航华东光电有限公司 | 柔性可调式吸附平台 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS507257A (ja) * | 1973-05-28 | 1975-01-24 | ||
JPS52134081A (en) * | 1976-04-30 | 1977-11-09 | Olympus Optical Co | Apparatus for opening and closing schalle cover in automatic cultivating apparatus |
JPS56158200U (ja) * | 1980-04-28 | 1981-11-25 | ||
JPS5894383A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-04 | Terumo Corp | 培養器具 |
JPS6052281A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-25 | 株式会社東芝 | 搬送箱操作方法 |
JPS6067100U (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-13 | テルモ株式会社 | 多穴容器 |
JPS61108372A (ja) * | 1984-11-01 | 1986-05-27 | ベクトン・デイツキンソン・アンド・カンパニ− | 多房型組織培養装置 |
JPS63207377A (ja) * | 1987-02-23 | 1988-08-26 | Erumetsukusu:Kk | 自動培地分画分注装置 |
JPH02113828A (ja) * | 1988-10-24 | 1990-04-26 | Ishida Scales Mfg Co Ltd | 種菌充填装置 |
JPH04115198U (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-12 | 株式会社カントー技研 | 容器の充填装置 |
JPH0775551A (ja) * | 1993-09-10 | 1995-03-20 | Mitsui Toatsu Chem Inc | シャーレ蓋自動開閉方法及びそれに用いる装置 |
JPH07287019A (ja) * | 1994-04-09 | 1995-10-31 | Boehringer Mannheim Gmbh | 反応連鎖の無汚染処理装置および方法 |
JPH08114596A (ja) * | 1994-10-14 | 1996-05-07 | Mitsubishi Materials Corp | マイクロプレート |
US6133020A (en) * | 1996-05-07 | 2000-10-17 | Pitzurra; Ovidio | Apparatus for determining the number of microorganisms in the air and a method of operating said apparatus |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3584859A (en) * | 1969-01-03 | 1971-06-15 | Robert E Siron | Vacuum-operated specimen-holding device |
US3617045A (en) * | 1970-01-14 | 1971-11-02 | Motorola Inc | Vacuum-actuated chuck |
US4403567A (en) * | 1980-08-21 | 1983-09-13 | Commonwealth Scientific Corporation | Workpiece holder |
DE3208864A1 (de) * | 1982-03-11 | 1983-09-22 | Herbert 8000 München Gulden | An einer werkzeugmaschine fuer spanende bearbeitung angeordnete werkstueckspannvorrichtung |
JPH068085A (ja) * | 1992-04-02 | 1994-01-18 | Kenji Matsuda | 吸引式固定装置 |
US5201696A (en) * | 1992-05-05 | 1993-04-13 | Universal Instruments Corp. | Apparatus for replacement of vacuum nozzles |
KR0176434B1 (ko) * | 1995-10-27 | 1999-04-15 | 이대원 | 진공 척 장치 |
US6164633A (en) * | 1999-05-18 | 2000-12-26 | International Business Machines Corporation | Multiple size wafer vacuum chuck |
-
2000
- 2000-10-10 US US09/686,645 patent/US6449827B1/en not_active Expired - Fee Related
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Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS507257A (ja) * | 1973-05-28 | 1975-01-24 | ||
JPS52134081A (en) * | 1976-04-30 | 1977-11-09 | Olympus Optical Co | Apparatus for opening and closing schalle cover in automatic cultivating apparatus |
JPS56158200U (ja) * | 1980-04-28 | 1981-11-25 | ||
JPS5894383A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-04 | Terumo Corp | 培養器具 |
JPS6052281A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-25 | 株式会社東芝 | 搬送箱操作方法 |
JPS6067100U (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-13 | テルモ株式会社 | 多穴容器 |
JPS61108372A (ja) * | 1984-11-01 | 1986-05-27 | ベクトン・デイツキンソン・アンド・カンパニ− | 多房型組織培養装置 |
JPS63207377A (ja) * | 1987-02-23 | 1988-08-26 | Erumetsukusu:Kk | 自動培地分画分注装置 |
JPH02113828A (ja) * | 1988-10-24 | 1990-04-26 | Ishida Scales Mfg Co Ltd | 種菌充填装置 |
JPH04115198U (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-12 | 株式会社カントー技研 | 容器の充填装置 |
JPH0775551A (ja) * | 1993-09-10 | 1995-03-20 | Mitsui Toatsu Chem Inc | シャーレ蓋自動開閉方法及びそれに用いる装置 |
JPH07287019A (ja) * | 1994-04-09 | 1995-10-31 | Boehringer Mannheim Gmbh | 反応連鎖の無汚染処理装置および方法 |
JPH08114596A (ja) * | 1994-10-14 | 1996-05-07 | Mitsubishi Materials Corp | マイクロプレート |
US6133020A (en) * | 1996-05-07 | 2000-10-17 | Pitzurra; Ovidio | Apparatus for determining the number of microorganisms in the air and a method of operating said apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1226004A1 (en) | 2002-07-31 |
JP4565791B2 (ja) | 2010-10-20 |
EP1226004A4 (en) | 2009-03-25 |
WO2001030541A1 (en) | 2001-05-03 |
AU774002B2 (en) | 2004-06-10 |
US6449827B1 (en) | 2002-09-17 |
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AU1212101A (en) | 2001-05-08 |
CA2386760A1 (en) | 2001-05-03 |
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