JP2003331724A - プラズマディスプレイパネル用ガラス基板の冷却方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネル用ガラス基板の冷却方法Info
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- JP2003331724A JP2003331724A JP2002135074A JP2002135074A JP2003331724A JP 2003331724 A JP2003331724 A JP 2003331724A JP 2002135074 A JP2002135074 A JP 2002135074A JP 2002135074 A JP2002135074 A JP 2002135074A JP 2003331724 A JP2003331724 A JP 2003331724A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板に反りを生じさせることなく、従来より
も短時間で急冷させることが可能なプラズマディスプレ
イパネル用ガラス基板の冷却方法を提供する。 【解決手段】 被焼成体の搬送方向に対して区画された
複数の加熱室及び冷却室と、隣接する加熱室又は冷却室
へ被焼成体を搬送するための搬送手段とを備えた連続式
焼成炉を使用し、セッター上に載置されたプラズマディ
スプレイパネル用ガラス基板を、連続する加熱室に順次
搬送しながら焼成して、続く冷却室にて所定温度まで徐
冷した後、更に隣接する冷却室に搬送して急冷を行う冷
却方法である。当該方法においては、急冷を行う冷却室
１３に搬送されたプラズマディスプレイパネル用ガラス
基板１が載置されたセッター３の下面中央部及びその近
傍部に対して、冷却空気を吹きつけることによりセッタ
ー３上に載置されたプラズマディスプレイパネル用ガラ
ス基板１の急冷を行う。
も短時間で急冷させることが可能なプラズマディスプレ
イパネル用ガラス基板の冷却方法を提供する。 【解決手段】 被焼成体の搬送方向に対して区画された
複数の加熱室及び冷却室と、隣接する加熱室又は冷却室
へ被焼成体を搬送するための搬送手段とを備えた連続式
焼成炉を使用し、セッター上に載置されたプラズマディ
スプレイパネル用ガラス基板を、連続する加熱室に順次
搬送しながら焼成して、続く冷却室にて所定温度まで徐
冷した後、更に隣接する冷却室に搬送して急冷を行う冷
却方法である。当該方法においては、急冷を行う冷却室
１３に搬送されたプラズマディスプレイパネル用ガラス
基板１が載置されたセッター３の下面中央部及びその近
傍部に対して、冷却空気を吹きつけることによりセッタ
ー３上に載置されたプラズマディスプレイパネル用ガラ
ス基板１の急冷を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は、プラズマディス
プレイパネル用ガラス基板を焼成し、所定温度まで徐冷
した後、更にそれを急冷する方法に関する。
プレイパネル用ガラス基板を焼成し、所定温度まで徐冷
した後、更にそれを急冷する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】 近年、壁掛けテレビやマルチメディア
用ディスプレイとして利用できる大画面フラットパネル
ディスプレイ（以下、「ＦＰＤ」という。）の実用化が
着々と進行しつつある。このような大画面ＦＰＤとして
は、自発光型で広い視野角を持ち、品質表示が良いとい
う品質面のメリットと、作製プロセスが簡単で大型化が
容易という製造面でのメリットを兼ね備えた、プラズマ
ディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という。）が最
有力候補として挙げられている。
用ディスプレイとして利用できる大画面フラットパネル
ディスプレイ（以下、「ＦＰＤ」という。）の実用化が
着々と進行しつつある。このような大画面ＦＰＤとして
は、自発光型で広い視野角を持ち、品質表示が良いとい
う品質面のメリットと、作製プロセスが簡単で大型化が
容易という製造面でのメリットを兼ね備えた、プラズマ
ディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という。）が最
有力候補として挙げられている。
【０００３】 ＰＤＰの製造は、前面ガラス、背面ガラ
スと称する大型ガラス基板の表面に、印刷、乾燥、焼成
の工程を複数回繰り返す厚膜法により、電極、誘導体、
蛍光体等の種々の部材を逐次形成して行き、最終的に前
面ガラスと背面ガラスとを封着することにより行われ
る。
スと称する大型ガラス基板の表面に、印刷、乾燥、焼成
の工程を複数回繰り返す厚膜法により、電極、誘導体、
蛍光体等の種々の部材を逐次形成して行き、最終的に前
面ガラスと背面ガラスとを封着することにより行われ
る。
【０００４】 この製造過程において、ガラス基板の焼
成は、被焼成体の搬送方向に対して区画された複数の加
熱室及び冷却室と、隣接する加熱室又は冷却室へ被焼成
体を搬送するための搬送手段とを備えた連続式焼成炉を
使用し、まず、セッター上に載置したガラス基板を、図
４の温度曲線に示すように、搬送方向に進むに従って次
第に内部温度が高くなるよう設定された連続する加熱室
に順次搬送しながら昇温し、約５００〜６００℃の最高
温度に所定時間保持して焼成した後、今度は搬送方向に
進むに従って次第に内部温度が低くなるよう設定された
連続する冷却室に順次搬送しながら４５０〜３５０℃付
近まで徐冷し、その後、更に内部の雰囲気温度を１５０
℃以下に設定した冷却室に搬送して取り出し可能な温度
まで急冷するという工程で行われる。
成は、被焼成体の搬送方向に対して区画された複数の加
熱室及び冷却室と、隣接する加熱室又は冷却室へ被焼成
体を搬送するための搬送手段とを備えた連続式焼成炉を
使用し、まず、セッター上に載置したガラス基板を、図
４の温度曲線に示すように、搬送方向に進むに従って次
第に内部温度が高くなるよう設定された連続する加熱室
に順次搬送しながら昇温し、約５００〜６００℃の最高
温度に所定時間保持して焼成した後、今度は搬送方向に
進むに従って次第に内部温度が低くなるよう設定された
連続する冷却室に順次搬送しながら４５０〜３５０℃付
近まで徐冷し、その後、更に内部の雰囲気温度を１５０
℃以下に設定した冷却室に搬送して取り出し可能な温度
まで急冷するという工程で行われる。
【０００５】 焼成工程において、約５００〜６００℃
で焼成したガラス基板を４５０〜３５０℃付近までは急
冷せず、時間をかけて徐冷するのは、この温度範囲で急
冷を行うと、ＰＤＰ用ガラス基板の面内温度分布が悪く
なり、製品特性に悪影響を及ぼす不要な永久歪みを発生
させるためである。これに対し、４５０〜３５０℃付近
以下の温度では、急冷しても永久歪みが発生しないの
で、炉の長さを短くするため、この温度以下では急冷を
行っていた。
で焼成したガラス基板を４５０〜３５０℃付近までは急
冷せず、時間をかけて徐冷するのは、この温度範囲で急
冷を行うと、ＰＤＰ用ガラス基板の面内温度分布が悪く
なり、製品特性に悪影響を及ぼす不要な永久歪みを発生
させるためである。これに対し、４５０〜３５０℃付近
以下の温度では、急冷しても永久歪みが発生しないの
で、炉の長さを短くするため、この温度以下では急冷を
行っていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】 ところで、この急冷
を行う急冷域の冷却室は、熱交換機構や冷却空気の吹き
込み機構により内部の雰囲気温度を１５０℃以下に保持
し、隣接する徐冷域の冷却室から所定間隔で搬送されて
くるＰＤＰ用ガラス基板を、主に雰囲気との対流伝熱に
よって冷却するが、図５（ａ）のように、ＰＤＰ用ガラ
ス基板１はセッター３上に載置されているため、ＰＤＰ
用ガラス基板１とセッター３の接触する部位、特に点線
で囲んだ基板１の中央部とその近傍部の温度が低下しに
くく、冷却が他の部位より遅れる。
を行う急冷域の冷却室は、熱交換機構や冷却空気の吹き
込み機構により内部の雰囲気温度を１５０℃以下に保持
し、隣接する徐冷域の冷却室から所定間隔で搬送されて
くるＰＤＰ用ガラス基板を、主に雰囲気との対流伝熱に
よって冷却するが、図５（ａ）のように、ＰＤＰ用ガラ
ス基板１はセッター３上に載置されているため、ＰＤＰ
用ガラス基板１とセッター３の接触する部位、特に点線
で囲んだ基板１の中央部とその近傍部の温度が低下しに
くく、冷却が他の部位より遅れる。
【０００７】 そのため、ほとんど熱膨張しないセッタ
ー３とは異なり、ある程度の熱膨脹率を持つＰＤＰ用ガ
ラス基板１は、図５（ｂ）のように急冷時に凹状に反る
ことが避けられなかった。この急冷域での反りは永久歪
みとはならないが、近年のＰＤＰ用ガラス基板の精細構
造化に伴ない、この反りで基板の表面構造が破壊される
ことがある。
ー３とは異なり、ある程度の熱膨脹率を持つＰＤＰ用ガ
ラス基板１は、図５（ｂ）のように急冷時に凹状に反る
ことが避けられなかった。この急冷域での反りは永久歪
みとはならないが、近年のＰＤＰ用ガラス基板の精細構
造化に伴ない、この反りで基板の表面構造が破壊される
ことがある。
【０００８】 また、反りが生じることで、ＰＤＰ用ガ
ラス基板１とセッター３との接触面積が激減し、ＰＤＰ
用ガラス基板１がセッター３上で空気浮上しているのに
近い状態となり、僅かの衝撃でセッター３上を移動した
り、あるいはセッター３上から脱落したりすることがあ
る。
ラス基板１とセッター３との接触面積が激減し、ＰＤＰ
用ガラス基板１がセッター３上で空気浮上しているのに
近い状態となり、僅かの衝撃でセッター３上を移動した
り、あるいはセッター３上から脱落したりすることがあ
る。
【０００９】 そして、従来は、このようなＰＤＰ用ガ
ラス基板の反りに起因する現象を回避するため、ＰＤＰ
用ガラス基板の急冷には、１０分間以上の時間をかけな
ければならなかった。
ラス基板の反りに起因する現象を回避するため、ＰＤＰ
用ガラス基板の急冷には、１０分間以上の時間をかけな
ければならなかった。
【００１０】 本発明は、このような従来の事情に鑑み
てなされたものであり、その目的とするところは、ＰＤ
Ｐ用ガラス基板に反りを生じさせることなく、従来より
も短時間で急冷させることが可能なＰＤＰ用ガラス基板
の冷却方法を提供することにある。
てなされたものであり、その目的とするところは、ＰＤ
Ｐ用ガラス基板に反りを生じさせることなく、従来より
も短時間で急冷させることが可能なＰＤＰ用ガラス基板
の冷却方法を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】 本発明によれば、被焼
成体の搬送方向に対して区画された複数の加熱室及び冷
却室と、隣接する加熱室又は冷却室へ被焼成体を搬送す
るための搬送手段とを備えた連続式焼成炉を使用し、セ
ッター上に載置されたプラズマディスプレイパネル用ガ
ラス基板を、連続する加熱室に順次搬送しながら焼成し
て、続く冷却室にて所定温度まで徐冷した後、更に隣接
する冷却室に搬送して急冷を行う冷却方法であって、急
冷を行う冷却室に搬送されたプラズマディスプレイパネ
ル用ガラス基板が載置されたセッターの下面中央部及び
その近傍部に対して、冷却空気を吹きつけることにより
前記セッター上に載置されたプラズマディスプレイパネ
ル用ガラス基板の急冷を行うことを特徴とするプラズマ
ディスプレイパネル用ガラス基板の冷却方法、が提供さ
れる。
成体の搬送方向に対して区画された複数の加熱室及び冷
却室と、隣接する加熱室又は冷却室へ被焼成体を搬送す
るための搬送手段とを備えた連続式焼成炉を使用し、セ
ッター上に載置されたプラズマディスプレイパネル用ガ
ラス基板を、連続する加熱室に順次搬送しながら焼成し
て、続く冷却室にて所定温度まで徐冷した後、更に隣接
する冷却室に搬送して急冷を行う冷却方法であって、急
冷を行う冷却室に搬送されたプラズマディスプレイパネ
ル用ガラス基板が載置されたセッターの下面中央部及び
その近傍部に対して、冷却空気を吹きつけることにより
前記セッター上に載置されたプラズマディスプレイパネ
ル用ガラス基板の急冷を行うことを特徴とするプラズマ
ディスプレイパネル用ガラス基板の冷却方法、が提供さ
れる。
【００１２】
【発明の実施の形態】 前記のとおり、本発明は、被焼
成体の搬送方向に対して区画された複数の加熱室及び冷
却室と、隣接する加熱室又は冷却室へ被焼成体を搬送す
るための搬送手段とを備えた連続式焼成炉を使用し、セ
ッター上に載置されたＰＤＰ用ガラス基板を、連続する
加熱室に順次搬送しながら焼成して、続く冷却室にて所
定温度まで徐冷した後、更に隣接する冷却室に搬送して
急冷を行う冷却方法である。
成体の搬送方向に対して区画された複数の加熱室及び冷
却室と、隣接する加熱室又は冷却室へ被焼成体を搬送す
るための搬送手段とを備えた連続式焼成炉を使用し、セ
ッター上に載置されたＰＤＰ用ガラス基板を、連続する
加熱室に順次搬送しながら焼成して、続く冷却室にて所
定温度まで徐冷した後、更に隣接する冷却室に搬送して
急冷を行う冷却方法である。
【００１３】 そして、本発明は、その特徴的な構成と
して、急冷を行う急冷域の冷却室に搬送されたＰＤＰ用
ガラス基板が載置されたセッターの下面中央部及びその
近傍部に対して、冷却空気を吹きつけ、それによりセッ
ター上に載置されたＰＤＰ用ガラス基板の急冷を行うも
のである。
して、急冷を行う急冷域の冷却室に搬送されたＰＤＰ用
ガラス基板が載置されたセッターの下面中央部及びその
近傍部に対して、冷却空気を吹きつけ、それによりセッ
ター上に載置されたＰＤＰ用ガラス基板の急冷を行うも
のである。
【００１４】 前述のように、ＰＤＰ用ガラス基板の急
冷においては、基板の中央部及びその近傍部の温度が低
下しにくく、冷却が他の部位より遅れる傾向にある。本
発明では、この温度低下しにくい部位に対し、セッター
の下面側から冷却空気を吹きつけて、選択的に冷却を行
うことにより、他のより温度が低下しやすい部位との温
度の均一化を図り、急冷時におけるＰＤＰ用ガラス基板
の反りと、それに伴う基板表面構造の破壊やセッターか
らの脱落等の問題を防ぐ。そして、このようにＰＤＰ用
ガラス基板の反りを防止できるようにしたことにより、
従来に比して、急冷に要する時間を短縮することが可能
となる。
冷においては、基板の中央部及びその近傍部の温度が低
下しにくく、冷却が他の部位より遅れる傾向にある。本
発明では、この温度低下しにくい部位に対し、セッター
の下面側から冷却空気を吹きつけて、選択的に冷却を行
うことにより、他のより温度が低下しやすい部位との温
度の均一化を図り、急冷時におけるＰＤＰ用ガラス基板
の反りと、それに伴う基板表面構造の破壊やセッターか
らの脱落等の問題を防ぐ。そして、このようにＰＤＰ用
ガラス基板の反りを防止できるようにしたことにより、
従来に比して、急冷に要する時間を短縮することが可能
となる。
【００１５】 図３（ａ）〜（ｃ）は、ＰＤＰ用ガラス
基板の急冷が行われる急冷域の冷却室とその前後におけ
るＰＤＰ用ガラス基板の搬送の様子を示す説明図であ
る。急冷域の冷却室の前方（入口側）には、ＰＤＰ用ガ
ラス基板１の徐冷を行う徐冷域の最終の冷却室が隣接
し、後方（出口側）には急冷後のＰＤＰ用ガラス基板１
を、通常焼成炉の下部に設置される回送ラインであるリ
ターンコンベアに送る出口搬送リフターが設けられてい
る。各々は通常セッターを１枚を内包できる大きさを持
ち、各冷却室間及び冷却室と出口搬送リフターとの間に
は自動扉９が設置されている。
基板の急冷が行われる急冷域の冷却室とその前後におけ
るＰＤＰ用ガラス基板の搬送の様子を示す説明図であ
る。急冷域の冷却室の前方（入口側）には、ＰＤＰ用ガ
ラス基板１の徐冷を行う徐冷域の最終の冷却室が隣接
し、後方（出口側）には急冷後のＰＤＰ用ガラス基板１
を、通常焼成炉の下部に設置される回送ラインであるリ
ターンコンベアに送る出口搬送リフターが設けられてい
る。各々は通常セッターを１枚を内包できる大きさを持
ち、各冷却室間及び冷却室と出口搬送リフターとの間に
は自動扉９が設置されている。
【００１６】 まず、図３（ａ）のように、各冷却室で
所定時間処理が行われ、それが終了すると図３（ｂ）の
ように自動扉９が開状態になり、続いて各区域に搬送手
段として設けられた搬送ローラー７が同時に回転し、セ
ッター３とその上に載置されたＰＤＰ用ガラス基板１を
隣接する次の冷却室又は出口搬送リフターへと搬送して
行く。セッター３とＰＤＰ用ガラス基板１が所定の停止
場所に達したら、図３（ｃ）のように自動扉９を閉状態
にする。出口搬送リフターはセッター３とＰＤＰ用ガラ
ス基板１をリターンコンベアに回送後、急冷域の冷却室
の出口側に戻る。
所定時間処理が行われ、それが終了すると図３（ｂ）の
ように自動扉９が開状態になり、続いて各区域に搬送手
段として設けられた搬送ローラー７が同時に回転し、セ
ッター３とその上に載置されたＰＤＰ用ガラス基板１を
隣接する次の冷却室又は出口搬送リフターへと搬送して
行く。セッター３とＰＤＰ用ガラス基板１が所定の停止
場所に達したら、図３（ｃ）のように自動扉９を閉状態
にする。出口搬送リフターはセッター３とＰＤＰ用ガラ
ス基板１をリターンコンベアに回送後、急冷域の冷却室
の出口側に戻る。
【００１７】 図１は、本発明の実施形態の一例を示す
説明図で、（ａ）は炉内を上面側から見た図であり、
（ｂ）は炉内を側面側から見た図である。本例において
は、徐冷域の最終の冷却室１１から隣接する急冷域の冷
却室１３に搬送されたセッター３とＰＤＰ用ガラス基板
１に対し、急冷用の冷却空気は、炉の下部に設けられた
吹き込み管１５の吹き出し口１７よりセッター３下面中
央部及びその近傍部に向けて吹き付けら、セッター３を
介してセッター３上に載置されたＰＤＰ用ガラス基板１
の中央部とその近傍部とが選択的に冷却される。
説明図で、（ａ）は炉内を上面側から見た図であり、
（ｂ）は炉内を側面側から見た図である。本例において
は、徐冷域の最終の冷却室１１から隣接する急冷域の冷
却室１３に搬送されたセッター３とＰＤＰ用ガラス基板
１に対し、急冷用の冷却空気は、炉の下部に設けられた
吹き込み管１５の吹き出し口１７よりセッター３下面中
央部及びその近傍部に向けて吹き付けら、セッター３を
介してセッター３上に載置されたＰＤＰ用ガラス基板１
の中央部とその近傍部とが選択的に冷却される。
【００１８】 セッター３及びＰＤＰ用ガラス基板１と
熱交換されて加熱された冷却空気は、セッター３より下
部にある排気口１９から炉外に排気される。排気された
空気は水冷式熱交換器２１で冷却された後、送風機２３
で圧送され、ＨＥＰＡフィルター２５でパーティクルを
除去された後、再び冷却空気として利用される。炉内空
気の排気をセッターより下部にある排気口１９から行う
のは、ＰＤＰ用ガラス基板１上面の空気の流れを妨げな
いためである。通常、ＰＤＰ用ガラス基板１の上面は急
冷を行う冷却室内の自然対流で充分に冷えるのでこのよ
うにしている。
熱交換されて加熱された冷却空気は、セッター３より下
部にある排気口１９から炉外に排気される。排気された
空気は水冷式熱交換器２１で冷却された後、送風機２３
で圧送され、ＨＥＰＡフィルター２５でパーティクルを
除去された後、再び冷却空気として利用される。炉内空
気の排気をセッターより下部にある排気口１９から行う
のは、ＰＤＰ用ガラス基板１上面の空気の流れを妨げな
いためである。通常、ＰＤＰ用ガラス基板１の上面は急
冷を行う冷却室内の自然対流で充分に冷えるのでこのよ
うにしている。
【００１９】 図２は、冷却空気の吹き出し口をスリッ
ト状とした実施形態を示す説明図で、（ａ）は吹き出し
口を側面側から見た図であり、（ｂ）は吹き出し口の一
部を上面側から見た図である。この例では、外部から冷
却空気が送られるチャンバー２９の上面を、複数の長板
３０を並設することにより構成し、隣接する長板３０間
のスリット２７を冷却空気の吹き出し孔としている。各
長板３０は、ねじ３１により固定されているが、ねじ穴
３３をスリット２７の長さ方向と直角方向の長軸を有す
る長円状とすることで、固定位置の微調整を可能とし、
これによりスリット間隔を任意に変更できるようにして
いる。
ト状とした実施形態を示す説明図で、（ａ）は吹き出し
口を側面側から見た図であり、（ｂ）は吹き出し口の一
部を上面側から見た図である。この例では、外部から冷
却空気が送られるチャンバー２９の上面を、複数の長板
３０を並設することにより構成し、隣接する長板３０間
のスリット２７を冷却空気の吹き出し孔としている。各
長板３０は、ねじ３１により固定されているが、ねじ穴
３３をスリット２７の長さ方向と直角方向の長軸を有す
る長円状とすることで、固定位置の微調整を可能とし、
これによりスリット間隔を任意に変更できるようにして
いる。
【００２０】 このように吹き出し口であるスリットの
間隔を任意に変更できるようにすることによって、冷却
空気のバランスを微調整することが可能となる。なお、
前記図１の実施形態において、冷却空気の吹き込み管１
５をセッターの下部に多数設置すれば、より冷却空気の
バランスを微調整できると考えられるが、セッター３下
部は搬送手段である搬送ローラー７により仕切られてお
り、吹き出し口１７を多数設置すると、セッター３と熱
交換された後の空気が円滑に流れなくなり、かえってＰ
ＤＰ用ガラス基板１に不用意な温度ムラを与えることに
なるので、そのような手法は採用しない方がよい。ま
た、スリット２７を冷却空気の吹き出し口とする場合に
おいても、空気の円滑な流れを妨げないように、スリッ
ト２７の長さ方向を搬送ローラー７の軸方向と略平行に
なるようにすることが好ましい。
間隔を任意に変更できるようにすることによって、冷却
空気のバランスを微調整することが可能となる。なお、
前記図１の実施形態において、冷却空気の吹き込み管１
５をセッターの下部に多数設置すれば、より冷却空気の
バランスを微調整できると考えられるが、セッター３下
部は搬送手段である搬送ローラー７により仕切られてお
り、吹き出し口１７を多数設置すると、セッター３と熱
交換された後の空気が円滑に流れなくなり、かえってＰ
ＤＰ用ガラス基板１に不用意な温度ムラを与えることに
なるので、そのような手法は採用しない方がよい。ま
た、スリット２７を冷却空気の吹き出し口とする場合に
おいても、空気の円滑な流れを妨げないように、スリッ
ト２７の長さ方向を搬送ローラー７の軸方向と略平行に
なるようにすることが好ましい。
【００２１】 本発明においては、図３（ｂ）のような
搬送動作中のセッター３に対しては冷却空気の吹きつけ
を行わず、図３（ｃ）のようにセッター３が冷却室内の
所定位置に停止しているているときのみ冷却空気の吹き
つけを行うことが好ましい。搬送動作中に冷却空気を吹
きつけると、セッター上のＰＤＰ用ガラス基板１に不用
意な冷却を行うことになる。また、特に自動扉９が閉鎖
していない状態で冷却空気の吹き付けを行うと、隣接す
る徐冷域の冷却室に冷却空気が流入し、徐冷中のＰＤＰ
用ガラス基板に温度ムラを生じさせる。
搬送動作中のセッター３に対しては冷却空気の吹きつけ
を行わず、図３（ｃ）のようにセッター３が冷却室内の
所定位置に停止しているているときのみ冷却空気の吹き
つけを行うことが好ましい。搬送動作中に冷却空気を吹
きつけると、セッター上のＰＤＰ用ガラス基板１に不用
意な冷却を行うことになる。また、特に自動扉９が閉鎖
していない状態で冷却空気の吹き付けを行うと、隣接す
る徐冷域の冷却室に冷却空気が流入し、徐冷中のＰＤＰ
用ガラス基板に温度ムラを生じさせる。
【００２２】
【発明の効果】 以上説明したように、本発明の冷却方
法によれば、ＰＤＰ用ガラス基板に反りを生じさせるこ
となく、従来よりも短時間で急冷させることが可能とな
る。
法によれば、ＰＤＰ用ガラス基板に反りを生じさせるこ
となく、従来よりも短時間で急冷させることが可能とな
る。
【図１】 本発明の実施形態の一例を示す説明図で、
（ａ）は炉内を上面側から見た図であり、（ｂ）は炉内
を側面側から見た図である。
（ａ）は炉内を上面側から見た図であり、（ｂ）は炉内
を側面側から見た図である。
【図２】 冷却空気の吹き出し口をスリット状とした実
施形態を示す説明図で、（ａ）は吹き出し口を側面側か
ら見た図であり、（ｂ）は吹き出し口の一部を上面側か
ら見た図である。
施形態を示す説明図で、（ａ）は吹き出し口を側面側か
ら見た図であり、（ｂ）は吹き出し口の一部を上面側か
ら見た図である。
【図３】 ＰＤＰ用ガラス基板の急冷が行われる急冷域
の冷却室とその前後におけるＰＤＰ用ガラス基板の搬送
の様子を示す説明図で、（ａ）は搬送前の停止状態、
（ｂ）は搬送動作中の状態、（ｃ）は搬送後の停止状態
である。
の冷却室とその前後におけるＰＤＰ用ガラス基板の搬送
の様子を示す説明図で、（ａ）は搬送前の停止状態、
（ｂ）は搬送動作中の状態、（ｃ）は搬送後の停止状態
である。
【図４】 ＰＤＰ用ガラス基板の焼成工程における温度
曲線を示す説明図である。
曲線を示す説明図である。
【図５】 従来における急冷時のＰＤＰ用ガラス基板の
状態を示す説明図で、（ａ）は上面図であり、（ｂ）は
側面図である。
状態を示す説明図で、（ａ）は上面図であり、（ｂ）は
側面図である。
１…ＰＤＰ用ガラス基板、３…セッター、７…搬送ロー
ラー、９…自動扉、１１…徐冷域の冷却室、１３…急冷
域の冷却室、１５…吹き込み管、１７…吹き出し口、１
９…排気口、２１…水冷式熱交換器、２３…送風機、２
５…ＨＥＰＡフィルター、２７…スリット、２９…チャ
ンバー、３１…ねじ、３３…ねじ穴。
ラー、９…自動扉、１１…徐冷域の冷却室、１３…急冷
域の冷却室、１５…吹き込み管、１７…吹き出し口、１
９…排気口、２１…水冷式熱交換器、２３…送風機、２
５…ＨＥＰＡフィルター、２７…スリット、２９…チャ
ンバー、３１…ねじ、３３…ねじ穴。
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(72)発明者 竹田 孝広
愛知県名古屋市瑞穂区須田町２番56号 日
本碍子株式会社内
Ｆターム(参考） 5C012 AA09 BB01
5C040 JA21 MA23
Claims (3)
- 【請求項１】 被焼成体の搬送方向に対して区画された
複数の加熱室及び冷却室と、隣接する加熱室又は冷却室
へ被焼成体を搬送するための搬送手段とを備えた連続式
焼成炉を使用し、セッター上に載置されたプラズマディ
スプレイパネル用ガラス基板を、連続する加熱室に順次
搬送しながら焼成して、続く冷却室にて所定温度まで徐
冷した後、更に隣接する冷却室に搬送して急冷を行う冷
却方法であって、 急冷を行う冷却室に搬送されたプラズマディスプレイパ
ネル用ガラス基板が載置されたセッターの下面中央部及
びその近傍部に対して、冷却空気を吹きつけることによ
り前記セッター上に載置されたプラズマディスプレイパ
ネル用ガラス基板の急冷を行うことを特徴とするプラズ
マディスプレイパネル用ガラス基板の冷却方法。 - 【請求項２】 前記搬送手段として搬送ローラーを使用
するとともに、前記冷却空気の吹き出し口をスリット状
とし、当該スリットの長さ方向を前記搬送ローラーの軸
方向と略平行になるようにした請求項１記載の冷却方
法。 - 【請求項３】 搬送動作中のセッターに対しては冷却空
気の吹きつけを行わず、セッターが冷却室内の所定位置
に停止しているときのみ冷却空気の吹きつけを行う請求
項１記載の冷却方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002135074A JP2003331724A (ja) | 2002-05-10 | 2002-05-10 | プラズマディスプレイパネル用ガラス基板の冷却方法 |
| CN 03131260 CN1266446C (zh) | 2002-05-10 | 2003-05-09 | 等离子显示板用玻璃基板的冷却方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002135074A JP2003331724A (ja) | 2002-05-10 | 2002-05-10 | プラズマディスプレイパネル用ガラス基板の冷却方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003331724A true JP2003331724A (ja) | 2003-11-21 |
Family
ID=29416732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002135074A Pending JP2003331724A (ja) | 2002-05-10 | 2002-05-10 | プラズマディスプレイパネル用ガラス基板の冷却方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003331724A (ja) |
| CN (1) | CN1266446C (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007212029A (ja) * | 2006-02-08 | 2007-08-23 | Koyo Thermo System Kk | 熱処理装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107010821B (zh) * | 2017-04-11 | 2019-12-03 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种玻璃板快速加热退火装置 |
-
2002
- 2002-05-10 JP JP2002135074A patent/JP2003331724A/ja active Pending
-
2003
- 2003-05-09 CN CN 03131260 patent/CN1266446C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007212029A (ja) * | 2006-02-08 | 2007-08-23 | Koyo Thermo System Kk | 熱処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1266446C (zh) | 2006-07-26 |
| CN1457033A (zh) | 2003-11-19 |
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Legal Events
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