JP2003327980A - ガスハイドレート連続製造方法及び装置 - Google Patents
ガスハイドレート連続製造方法及び装置Info
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- JP2003327980A JP2003327980A JP2002137267A JP2002137267A JP2003327980A JP 2003327980 A JP2003327980 A JP 2003327980A JP 2002137267 A JP2002137267 A JP 2002137267A JP 2002137267 A JP2002137267 A JP 2002137267A JP 2003327980 A JP2003327980 A JP 2003327980A
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- hydrate
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 反応容器内で水とハイドレート形成ガスとを
反応させて生成したガスハイドレートを連続的に安定し
て取り出せるようにして高効率なガスハイドレートの製
造を可能にする。 【解決手段】 反応容器１に所定レベルを保持するよう
水を供給すると共に反応容器１内が所定圧力範囲に保持
されるようハイドレート形成ガスを供給して所定の冷却
温度で接触させることによりガスハイドレートを生成す
るガスハイドレート連続製造方法であって、液面に生成
するガスハイドレートを回転する掻き寄せ羽根１５にて
反応容器１の中心側に移動させることにより集合し、集
合したガスハイドレートを鉛直方向に設けた取出管１７
により反応容器１の下部に取り出す。
反応させて生成したガスハイドレートを連続的に安定し
て取り出せるようにして高効率なガスハイドレートの製
造を可能にする。 【解決手段】 反応容器１に所定レベルを保持するよう
水を供給すると共に反応容器１内が所定圧力範囲に保持
されるようハイドレート形成ガスを供給して所定の冷却
温度で接触させることによりガスハイドレートを生成す
るガスハイドレート連続製造方法であって、液面に生成
するガスハイドレートを回転する掻き寄せ羽根１５にて
反応容器１の中心側に移動させることにより集合し、集
合したガスハイドレートを鉛直方向に設けた取出管１７
により反応容器１の下部に取り出す。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハイドレート形成
ガス（例えばメタン）と水とを反応させてガスハイドレ
ートを連続的に製造するようにしたガスハイドレート連
続製造方法及び装置に関するものである。
ガス（例えばメタン）と水とを反応させてガスハイドレ
ートを連続的に製造するようにしたガスハイドレート連
続製造方法及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、事業用及び工業用の燃料には、地
球温暖化対策としてＣＯ2排出量の少ないものが求めら
れており、このため単位燃焼量当たりのＣＯ2排出量が
少ない天然ガス等を使用することが進められている。
球温暖化対策としてＣＯ2排出量の少ないものが求めら
れており、このため単位燃焼量当たりのＣＯ2排出量が
少ない天然ガス等を使用することが進められている。
【０００３】天然ガスは、主成分のメタンにエタン、プ
ロパン、ブタンを数％含んだガスであり、天然ガスを輸
送もしくは貯蔵する場合には、天然ガスを−１６２℃以
下の極低温で液化天然ガス（ＬＮＧ）として輸送もしく
は貯蔵を行っている。天然ガスを燃料として使用する場
合には、天然ガスを液化する液化プラントや、天然ガス
を極低温で輸送及び貯槽し得るＬＮＧ船及び貯蔵設備が
必要となり、大規模な設備費、運搬コスト及び運転コス
トが掛かる問題があった。このために、従来では、一般
に大量の天然ガスが採取できる大規模採取地にしか利用
することができなかった。
ロパン、ブタンを数％含んだガスであり、天然ガスを輸
送もしくは貯蔵する場合には、天然ガスを−１６２℃以
下の極低温で液化天然ガス（ＬＮＧ）として輸送もしく
は貯蔵を行っている。天然ガスを燃料として使用する場
合には、天然ガスを液化する液化プラントや、天然ガス
を極低温で輸送及び貯槽し得るＬＮＧ船及び貯蔵設備が
必要となり、大規模な設備費、運搬コスト及び運転コス
トが掛かる問題があった。このために、従来では、一般
に大量の天然ガスが採取できる大規模採取地にしか利用
することができなかった。
【０００４】一方、上記したような大規模な天然ガス採
取地以外にも、中、小規模の天然ガス採取地は多数存在
しているが、前記したような大規模設備やコストの問題
から中、小規模の天然ガス採取地の天然ガスは利用され
ていないのが現状である。
取地以外にも、中、小規模の天然ガス採取地は多数存在
しているが、前記したような大規模設備やコストの問題
から中、小規模の天然ガス採取地の天然ガスは利用され
ていないのが現状である。
【０００５】そこで、天然ガスを取扱い易い状態で大量
に固体化することが考えられており、その１つとしてガ
スハイドレートがある。
に固体化することが考えられており、その１つとしてガ
スハイドレートがある。
【０００６】ガスハイドレートは、水分子が弱く結合し
て形成された籠状構造に、例えば天然ガスの成分である
メタン、エタン、プロパン、ブタン等の炭化水素（ハイ
ドレート形成ガス）が閉じ込められたシャーベット状の
固体化合物であり、ガスハイドレートを製造する場合に
は、０〜１０℃の水に１０〜７０ataのメタン等のガス
ハイドレート生成ガスを接触させ、この時ガスハイドレ
ート生成熱（９８ｋｃａｌ/ｋｇ）を除去するよう冷却
することによってガスハイドレートが生成される。ガス
ハイドレートは、生成熱によって温度が上昇すると生成
効率が大幅に低下し、一方、温度が上昇しても圧力が高
ければガスハイドレートの生成は確保できる。
て形成された籠状構造に、例えば天然ガスの成分である
メタン、エタン、プロパン、ブタン等の炭化水素（ハイ
ドレート形成ガス）が閉じ込められたシャーベット状の
固体化合物であり、ガスハイドレートを製造する場合に
は、０〜１０℃の水に１０〜７０ataのメタン等のガス
ハイドレート生成ガスを接触させ、この時ガスハイドレ
ート生成熱（９８ｋｃａｌ/ｋｇ）を除去するよう冷却
することによってガスハイドレートが生成される。ガス
ハイドレートは、生成熱によって温度が上昇すると生成
効率が大幅に低下し、一方、温度が上昇しても圧力が高
ければガスハイドレートの生成は確保できる。
【０００７】上記したようにガスハイドレートは、前記
液化天然ガス方式に比して、比較的高い温度と低い圧力
で製造できるので、製造設備を小型で安価なものとする
ことができ、しかもガスハイドレートは固体として安定
しているので、保管、運搬等の取扱いが容易であり、よ
って、前記したような中、小規模の天然ガス採取地にも
容易に適用して、従来利用されていない中、小規模の天
然ガス採取地の天然ガスを有効利用することができる。
液化天然ガス方式に比して、比較的高い温度と低い圧力
で製造できるので、製造設備を小型で安価なものとする
ことができ、しかもガスハイドレートは固体として安定
しているので、保管、運搬等の取扱いが容易であり、よ
って、前記したような中、小規模の天然ガス採取地にも
容易に適用して、従来利用されていない中、小規模の天
然ガス採取地の天然ガスを有効利用することができる。
【０００８】従来より、ガスハイドレートの製造には、
反応容器内に水を収容しておき、ハイドレート形成ガス
を液面上部の空間に供給することにより液面で接触させ
るようにした液面接触方式、反応容器内にハイドレート
形成ガスを供給しておき、反応容器内上部から水を散布
して接触させる水散布方式、反応容器内に水を収容して
おき、水中にハイドレート形成ガスを供給して気泡接触
させるようにしたバブリング方式等が考えられている
が、以下では、本発明が対象としている液面接触方式に
おけるメタンを用いた従来のガスハイドレート生成装置
について説明する。
反応容器内に水を収容しておき、ハイドレート形成ガス
を液面上部の空間に供給することにより液面で接触させ
るようにした液面接触方式、反応容器内にハイドレート
形成ガスを供給しておき、反応容器内上部から水を散布
して接触させる水散布方式、反応容器内に水を収容して
おき、水中にハイドレート形成ガスを供給して気泡接触
させるようにしたバブリング方式等が考えられている
が、以下では、本発明が対象としている液面接触方式に
おけるメタンを用いた従来のガスハイドレート生成装置
について説明する。
【０００９】図５は液面接触方式によるメタンを用いた
従来のガスハイドレート生成装置の一例を示したもので
ある。この装置は、耐圧の反応容器５０に給水管５１に
より水を供給して所定のレベルを保持するようにし、更
に、前記反応容器５０内の液面の上部空間に、ハイドレ
ート形成ガス導入管５２によりメタンを導入してメタン
と水とを液面で接触させることにより水和反応を行わせ
てガスハイドレートを生成するようにしている。この
時、前記反応容器５０内が１０〜７０ataの圧力になる
ようにメタンの供給を調節する。又、反応容器５０の外
部にはジャケット式の冷却装置５３を設けて前記水和反
応によるガスハイドレートの生成熱を除去するようにし
ている。冷却装置５３には、上記ジャケット式以外に、
反応容器５０の液中に熱交換器を挿入して液を直接冷却
するようにしたものもある。又、反応容器５０内の液中
には上部のモータ５４によって回転される攪拌羽根５５
を設けて液の攪拌を行うようにしている。
従来のガスハイドレート生成装置の一例を示したもので
ある。この装置は、耐圧の反応容器５０に給水管５１に
より水を供給して所定のレベルを保持するようにし、更
に、前記反応容器５０内の液面の上部空間に、ハイドレ
ート形成ガス導入管５２によりメタンを導入してメタン
と水とを液面で接触させることにより水和反応を行わせ
てガスハイドレートを生成するようにしている。この
時、前記反応容器５０内が１０〜７０ataの圧力になる
ようにメタンの供給を調節する。又、反応容器５０の外
部にはジャケット式の冷却装置５３を設けて前記水和反
応によるガスハイドレートの生成熱を除去するようにし
ている。冷却装置５３には、上記ジャケット式以外に、
反応容器５０の液中に熱交換器を挿入して液を直接冷却
するようにしたものもある。又、反応容器５０内の液中
には上部のモータ５４によって回転される攪拌羽根５５
を設けて液の攪拌を行うようにしている。
【００１０】又、反応容器５０の側面には、略液面高さ
の位置にガスハイドレート取出口５６を有する取出管５
７を接続して、液面に生成したガスハイドレートを取出
管５７を介して外部に取り出すようにしている。
の位置にガスハイドレート取出口５６を有する取出管５
７を接続して、液面に生成したガスハイドレートを取出
管５７を介して外部に取り出すようにしている。
【００１１】図５のガスハイドレート生成装置を用いて
ガスハイドレートを製造するには、先ず反応容器５０内
に給水管５１により所定の水位まで水を供給し、続いて
ハイドレート形成ガス導入管５２によりメタンを導入し
て反応容器５０内が１０〜７０ataの所定圧力になるよ
うに調節する。更にモータ５４にて攪拌羽根５５を回転
させることにより液を攪拌する。上記したように水を収
容した反応容器５０内にメタンを導入すると、水とメタ
ンの接触により水和反応が行われてガスハイドレートが
生成する。生成したガスハイドレートは水と比較して比
重が小さいので、液面に浮上してガスハイドレート層５
８を形成するようになる。前記水和反応によるガスハイ
ドレートの生成熱は冷却装置５３によって除去する。液
面に生成したガスハイドレートは、ガスハイドレート取
出口５６から取出管５７によって外部に取り出される。
ガスハイドレートを製造するには、先ず反応容器５０内
に給水管５１により所定の水位まで水を供給し、続いて
ハイドレート形成ガス導入管５２によりメタンを導入し
て反応容器５０内が１０〜７０ataの所定圧力になるよ
うに調節する。更にモータ５４にて攪拌羽根５５を回転
させることにより液を攪拌する。上記したように水を収
容した反応容器５０内にメタンを導入すると、水とメタ
ンの接触により水和反応が行われてガスハイドレートが
生成する。生成したガスハイドレートは水と比較して比
重が小さいので、液面に浮上してガスハイドレート層５
８を形成するようになる。前記水和反応によるガスハイ
ドレートの生成熱は冷却装置５３によって除去する。液
面に生成したガスハイドレートは、ガスハイドレート取
出口５６から取出管５７によって外部に取り出される。
【００１２】ガスハイドレートが生成すると、水とハイ
ドレート形成ガスが消費されるので、所定の水位が保持
されるように給水管５１により水を供給すると共に、所
定圧力が保持されるようにハイドレート形成ガス導入管
５２によりメタンを供給する。
ドレート形成ガスが消費されるので、所定の水位が保持
されるように給水管５１により水を供給すると共に、所
定圧力が保持されるようにハイドレート形成ガス導入管
５２によりメタンを供給する。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図５に示した
従来のガスハイドレート生成装置では、以下のような問
題を有していた。
従来のガスハイドレート生成装置では、以下のような問
題を有していた。
【００１４】即ち、水とメタンが液面で接触してガスハ
イドレートを生成する際、液面を覆うようにガスハイド
レート層５８が形成され、このために、ガスハイドレー
ト層５８がメタンと水の接触を妨害することになって、
ガスハイドレートの生成効率を著しく低下させてしま
う。
イドレートを生成する際、液面を覆うようにガスハイド
レート層５８が形成され、このために、ガスハイドレー
ト層５８がメタンと水の接触を妨害することになって、
ガスハイドレートの生成効率を著しく低下させてしま
う。
【００１５】更に、液面に形成したガスハイドレート層
５８は移動しないために成長して塊状を形成し易く、塊
となったガスハイドレートはガスハイドレート取出口５
６から取り出すことができない。又、液面上に生成した
ガスハイドレート層５８はガスハイドレート取出口５６
に向かう方向に移動し難い。一方、この問題を解決する
ために、図５の従来装置では、反応容器５０内における
前記ガスハイドレート取出口５６の近傍位置に、回転駆
動するようにした排出羽根５９を設けてガスハイドレー
トをガスハイドレート取出口５６に導くようにしてい
る。しかし、上記排出羽根５９は、ガスハイドレート取
出口５６の直近傍のガスハイドレートの塊を壊したりガ
スハイドレート取出口５６に移動させるだけであり、液
面全体に形成されたガスハイドレート層５８を壊して効
率良くガスハイドレート取出口５６に向かわせることは
できない。よって、安定したガスハイドレートの取り出
しができないという問題を有していた。
５８は移動しないために成長して塊状を形成し易く、塊
となったガスハイドレートはガスハイドレート取出口５
６から取り出すことができない。又、液面上に生成した
ガスハイドレート層５８はガスハイドレート取出口５６
に向かう方向に移動し難い。一方、この問題を解決する
ために、図５の従来装置では、反応容器５０内における
前記ガスハイドレート取出口５６の近傍位置に、回転駆
動するようにした排出羽根５９を設けてガスハイドレー
トをガスハイドレート取出口５６に導くようにしてい
る。しかし、上記排出羽根５９は、ガスハイドレート取
出口５６の直近傍のガスハイドレートの塊を壊したりガ
スハイドレート取出口５６に移動させるだけであり、液
面全体に形成されたガスハイドレート層５８を壊して効
率良くガスハイドレート取出口５６に向かわせることは
できない。よって、安定したガスハイドレートの取り出
しができないという問題を有していた。
【００１６】一方、前記攪拌羽根５５を液面に近い位置
に設けて高速回転させることにより液面を巻き込むよう
に運転し、これによってガスハイドレート層５８を壊す
ことも考えられているが、この方式では気泡の巻き込み
によって液面に泡状の密度が低いガスハイドレートが生
成し、この泡状のガスハイドレートは流動性が悪いため
にガスハイドレート取出口５６からの取り出しが更に困
難になるという問題がある。
に設けて高速回転させることにより液面を巻き込むよう
に運転し、これによってガスハイドレート層５８を壊す
ことも考えられているが、この方式では気泡の巻き込み
によって液面に泡状の密度が低いガスハイドレートが生
成し、この泡状のガスハイドレートは流動性が悪いため
にガスハイドレート取出口５６からの取り出しが更に困
難になるという問題がある。
【００１７】又、前記取出管５７によるガスハイドレー
トの取り出しには、反応容器５０内を１０〜７０ataの
所定圧力に保持したままガスハイドレートを取り出すこ
とが要求されるが、このように圧力を保持したままでガ
スハイドレートを安定して取り出す有効な方法も提案さ
れていない。
トの取り出しには、反応容器５０内を１０〜７０ataの
所定圧力に保持したままガスハイドレートを取り出すこ
とが要求されるが、このように圧力を保持したままでガ
スハイドレートを安定して取り出す有効な方法も提案さ
れていない。
【００１８】従って、液面接触方式における従来のガス
ハイドレート生成装置においては、ガスハイドレートを
連続して高効率にしかも安定して製造することはできな
かった。
ハイドレート生成装置においては、ガスハイドレートを
連続して高効率にしかも安定して製造することはできな
かった。
【００１９】本発明は、上記従来技術の有する問題点に
鑑みてなしたものであり、反応容器内で水とハイドレー
ト形成ガスとを反応させて生成したガスハイドレートを
連続的に安定して取り出せるようにして高効率なガスハ
イドレートの製造を可能にしたガスハイドレート連続製
造方法及び装置を提供することを目的としている。
鑑みてなしたものであり、反応容器内で水とハイドレー
ト形成ガスとを反応させて生成したガスハイドレートを
連続的に安定して取り出せるようにして高効率なガスハ
イドレートの製造を可能にしたガスハイドレート連続製
造方法及び装置を提供することを目的としている。
【００２０】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、反応容器に所定レベルを保持するよう水を供給する
と共に反応容器内が所定圧力範囲に保持されるようハイ
ドレート形成ガスを供給して所定の冷却温度で接触させ
ることによりガスハイドレートを生成するガスハイドレ
ート連続製造方法であって、液面に生成するガスハイド
レートを回転する掻き寄せ羽根にて反応容器の中心側に
移動させることにより集合し、集合したガスハイドレー
トを鉛直方向に設けた取出管により反応容器の下部に取
り出すことを特徴とするガスハイドレート連続製造方
法、に係るものである。
は、反応容器に所定レベルを保持するよう水を供給する
と共に反応容器内が所定圧力範囲に保持されるようハイ
ドレート形成ガスを供給して所定の冷却温度で接触させ
ることによりガスハイドレートを生成するガスハイドレ
ート連続製造方法であって、液面に生成するガスハイド
レートを回転する掻き寄せ羽根にて反応容器の中心側に
移動させることにより集合し、集合したガスハイドレー
トを鉛直方向に設けた取出管により反応容器の下部に取
り出すことを特徴とするガスハイドレート連続製造方
法、に係るものである。
【００２１】請求項２記載の発明は、反応容器の液面
が、取出管の上端開口と同等或いはそれより僅かに低い
高さを保持するよう水の供給を制御することを特徴とす
る請求項１記載のガスハイドレート連続製造方法、に係
るものである。
が、取出管の上端開口と同等或いはそれより僅かに低い
高さを保持するよう水の供給を制御することを特徴とす
る請求項１記載のガスハイドレート連続製造方法、に係
るものである。
【００２２】請求項３記載の発明は、反応容器に所定レ
ベルを保持するよう水を供給すると共に反応容器内が所
定圧力範囲に保持されるようハイドレート形成ガスを供
給して所定の冷却温度で接触させることによりガスハイ
ドレートを生成するようにしたガスハイドレート連続製
造装置であって、反応容器内に鉛直に設けた回転駆動軸
と、該回転駆動軸に取付けて下端が液面に没入し回転に
より液面上のハイドレートを回転駆動軸側に移動させる
方向に傾斜した掻き寄せ羽根と、液面近傍に開口して集
合したハイドレートを下部に導く取出管と、該取出管に
備えた圧力保持装置と、を備えたことを特徴とするガス
ハイドレート連続製造装置、に係るものである。
ベルを保持するよう水を供給すると共に反応容器内が所
定圧力範囲に保持されるようハイドレート形成ガスを供
給して所定の冷却温度で接触させることによりガスハイ
ドレートを生成するようにしたガスハイドレート連続製
造装置であって、反応容器内に鉛直に設けた回転駆動軸
と、該回転駆動軸に取付けて下端が液面に没入し回転に
より液面上のハイドレートを回転駆動軸側に移動させる
方向に傾斜した掻き寄せ羽根と、液面近傍に開口して集
合したハイドレートを下部に導く取出管と、該取出管に
備えた圧力保持装置と、を備えたことを特徴とするガス
ハイドレート連続製造装置、に係るものである。
【００２３】請求項４記載の発明は、前記回転駆動軸に
取付ける掻き寄せ羽根を、回転駆動軸に対する間隔を変
えて複数備えたことを特徴とする請求項３記載のガスハ
イドレート連続製造装置、に係るものである。
取付ける掻き寄せ羽根を、回転駆動軸に対する間隔を変
えて複数備えたことを特徴とする請求項３記載のガスハ
イドレート連続製造装置、に係るものである。
【００２４】請求項５記載の発明は、前記圧力保持装置
がロータリーフィーダであることを特徴とする請求項３
記載のガスハイドレート連続製造装置、に係るものであ
る。
がロータリーフィーダであることを特徴とする請求項３
記載のガスハイドレート連続製造装置、に係るものであ
る。
【００２５】請求項６記載の発明は、反応容器に所定レ
ベルを保持するよう水を供給すると共に反応容器内が所
定圧力範囲に保持されるようハイドレート形成ガスを供
給して所定の冷却温度で接触させることによりガスハイ
ドレートを生成するようにしたガスハイドレート連続製
造装置であって、反応容器内に鉛直に設けた回転駆動軸
と、該回転駆動軸に取付けて下端が液面に没入し回転に
より液面上のハイドレートを回転駆動軸側に移動させる
方向に傾斜した掻き寄せ羽根と、液面近傍に開口して集
合したハイドレートを下部に導く取出管と、該取出管内
で回転して前記集合したハイドレートを下部に強制排出
する排出スクリューと、を備えたことを特徴とするガス
ハイドレート連続製造装置、に係るものである。
ベルを保持するよう水を供給すると共に反応容器内が所
定圧力範囲に保持されるようハイドレート形成ガスを供
給して所定の冷却温度で接触させることによりガスハイ
ドレートを生成するようにしたガスハイドレート連続製
造装置であって、反応容器内に鉛直に設けた回転駆動軸
と、該回転駆動軸に取付けて下端が液面に没入し回転に
より液面上のハイドレートを回転駆動軸側に移動させる
方向に傾斜した掻き寄せ羽根と、液面近傍に開口して集
合したハイドレートを下部に導く取出管と、該取出管内
で回転して前記集合したハイドレートを下部に強制排出
する排出スクリューと、を備えたことを特徴とするガス
ハイドレート連続製造装置、に係るものである。
【００２６】請求項７記載の発明は、前記回転駆動軸に
取付ける掻き寄せ羽根を、回転駆動軸に対する間隔を変
えて複数備えたことを特徴とする請求項６記載のガスハ
イドレート連続製造装置、に係るものである。
取付ける掻き寄せ羽根を、回転駆動軸に対する間隔を変
えて複数備えたことを特徴とする請求項６記載のガスハ
イドレート連続製造装置、に係るものである。
【００２７】上記手段によれば、以下のように作用す
る。
る。
【００２８】請求項１〜７に記載の発明によれば、下端
が液面に没入して回転する掻き寄せ羽根の作用により、
液面にはガスハイドレートによって覆われない部分が常
に現出し、これによりハイドレート形成ガスは常に水と
接触することができるのでガスハイドレートの生成が高
効率で行われるようになる。
が液面に没入して回転する掻き寄せ羽根の作用により、
液面にはガスハイドレートによって覆われない部分が常
に現出し、これによりハイドレート形成ガスは常に水と
接触することができるのでガスハイドレートの生成が高
効率で行われるようになる。
【００２９】又、液面部分は回転している掻き寄せ羽根
によって常に乱されているので、液面に生成したガスハ
イドレートは成長することなく直ちに細かく砕かれて細
粒の流動性を有したものとなり、更に、流動性を有した
ガスハイドレートは掻き寄せ羽根の傾斜角により反応容
器の中心側に移動して効果的に集合させられる。
によって常に乱されているので、液面に生成したガスハ
イドレートは成長することなく直ちに細かく砕かれて細
粒の流動性を有したものとなり、更に、流動性を有した
ガスハイドレートは掻き寄せ羽根の傾斜角により反応容
器の中心側に移動して効果的に集合させられる。
【００３０】更に、請求項３に記載の発明では、反応容
器の中心側に移動して集合したガスハイドレートは液面
近傍に開口した取出管に流入し、且つ取出管に備えた圧
力保持装置により反応容器内の圧力を保持して排出でき
るようにしたので、反応容器内に生成したガスハイドレ
ートを連続的に安定して取り出すことができる。
器の中心側に移動して集合したガスハイドレートは液面
近傍に開口した取出管に流入し、且つ取出管に備えた圧
力保持装置により反応容器内の圧力を保持して排出でき
るようにしたので、反応容器内に生成したガスハイドレ
ートを連続的に安定して取り出すことができる。
【００３１】更に、請求項６に記載の発明では、取出管
内に排出スクリューを備えたことにより、中心側に集合
したガスハイドレートを強制的に取出管を通して確実に
取り出すことができる。更に、取出管内部にガスハイド
レートが充満された状態を保持するように排出スクリュ
ーの回転速度を調節することにより、排出スクリューが
圧力保持機能を備えることができ、よって圧力保持装置
の設置を省略することができる。
内に排出スクリューを備えたことにより、中心側に集合
したガスハイドレートを強制的に取出管を通して確実に
取り出すことができる。更に、取出管内部にガスハイド
レートが充満された状態を保持するように排出スクリュ
ーの回転速度を調節することにより、排出スクリューが
圧力保持機能を備えることができ、よって圧力保持装置
の設置を省略することができる。
【００３２】請求項４及び７に記載の発明では、回転駆
動軸に対して近い間隔で取付けた掻き寄せ羽根と、回転
駆動軸に対して遠い間隔で取付けた掻き寄せ羽根を備え
たことにより、液面の略全体を掻き寄せ羽根によりカバ
ーして、反応容器の液面に生成するガスハイドレートの
殆んどを回転中心側に集合させることができる。
動軸に対して近い間隔で取付けた掻き寄せ羽根と、回転
駆動軸に対して遠い間隔で取付けた掻き寄せ羽根を備え
たことにより、液面の略全体を掻き寄せ羽根によりカバ
ーして、反応容器の液面に生成するガスハイドレートの
殆んどを回転中心側に集合させることができる。
【００３３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
示例と共に説明する。以下に示す形態例では、ハイドレ
ート形成ガスとしてメタンを用いた場合について説明す
るが、ハイドレート形成ガスとしてはメタンに限らず、
エタン、プロパン、ブタン、クリプトン、キセノン及び
二酸化炭素を用いてもガスハイドレートを製造すること
ができる。
示例と共に説明する。以下に示す形態例では、ハイドレ
ート形成ガスとしてメタンを用いた場合について説明す
るが、ハイドレート形成ガスとしてはメタンに限らず、
エタン、プロパン、ブタン、クリプトン、キセノン及び
二酸化炭素を用いてもガスハイドレートを製造すること
ができる。
【００３４】図１は本発明を実施するガスハイドレート
連続製造装置の形態の一例を示すもので、図中１は反応
容器である。反応容器１には、水を供給する給水管２が
接続されており、この給水管２には水を冷却する冷却器
３及び流量調節弁４が設けられている。前記反応容器１
の内部には液面のレベルを検出する液面検出器５が設け
られており、該液面検出器５の検出値に基づいて前記流
量調節弁４の開度を調節して反応容器１内部の液面レベ
ルを一定に制御するようにした液面制御器６が備えられ
ている。
連続製造装置の形態の一例を示すもので、図中１は反応
容器である。反応容器１には、水を供給する給水管２が
接続されており、この給水管２には水を冷却する冷却器
３及び流量調節弁４が設けられている。前記反応容器１
の内部には液面のレベルを検出する液面検出器５が設け
られており、該液面検出器５の検出値に基づいて前記流
量調節弁４の開度を調節して反応容器１内部の液面レベ
ルを一定に制御するようにした液面制御器６が備えられ
ている。
【００３５】一方、反応容器１の上部には、メタンを供
給するハイドレート形成ガス導入管７が接続されてお
り、このハイドレート形成ガス導入管７には流量調節弁
８が設けられている。前記反応容器１の上部には液面上
部の反応容器１内空間の圧力を検出する圧力検出器９が
設けられており、該圧力検出器９の検出値に基づいて前
記流量調節弁８の開度を調節して反応容器１内部の圧力
を一定に制御する圧力制御器１０を備えている。
給するハイドレート形成ガス導入管７が接続されてお
り、このハイドレート形成ガス導入管７には流量調節弁
８が設けられている。前記反応容器１の上部には液面上
部の反応容器１内空間の圧力を検出する圧力検出器９が
設けられており、該圧力検出器９の検出値に基づいて前
記流量調節弁８の開度を調節して反応容器１内部の圧力
を一定に制御する圧力制御器１０を備えている。
【００３６】反応容器１の中心上部には鉛直な回転駆動
軸１１が貫通して配置されており、反応容器１の上部に
は回転駆動軸１１を回転する羽根駆動装置１２が設けら
れている。１３は、回転駆動軸１１が反応容器１を貫通
する部分に設けたシール装置である。
軸１１が貫通して配置されており、反応容器１の上部に
は回転駆動軸１１を回転する羽根駆動装置１２が設けら
れている。１３は、回転駆動軸１１が反応容器１を貫通
する部分に設けたシール装置である。
【００３７】前記回転駆動軸１１の下端には、半径方向
に延びる連結材１４を介して鉛直な板状の掻き寄せ羽根
１５が取付けられており、該掻き寄せ羽根１５は回転駆
動軸１１と共に円を描いて水平回転するようになってい
る。図２の場合、掻き寄せ羽根１５は周方向に等間隔を
有して３個備えており、各掻き寄せ羽根１５の下端は液
面に所要の深さで没入しており、且つ回転により液面に
生成したハイドレートを回転駆動軸１１の軸心側に移動
させる方向に傾斜している。即ち、各掻き寄せ羽根１５
は、半径方向に延びて回転する連結材１４と直角な線
（接線）に対して所要の同一の傾斜角αで傾斜してお
り、従って、掻き寄せ羽根をＡ方向に回転すると、掻き
寄せ羽根の傾斜角αの作用によって液面上に生成したガ
スハイドレートがＢ方向に移動されて回転中心側に集合
されるようになっている。
に延びる連結材１４を介して鉛直な板状の掻き寄せ羽根
１５が取付けられており、該掻き寄せ羽根１５は回転駆
動軸１１と共に円を描いて水平回転するようになってい
る。図２の場合、掻き寄せ羽根１５は周方向に等間隔を
有して３個備えており、各掻き寄せ羽根１５の下端は液
面に所要の深さで没入しており、且つ回転により液面に
生成したハイドレートを回転駆動軸１１の軸心側に移動
させる方向に傾斜している。即ち、各掻き寄せ羽根１５
は、半径方向に延びて回転する連結材１４と直角な線
（接線）に対して所要の同一の傾斜角αで傾斜してお
り、従って、掻き寄せ羽根をＡ方向に回転すると、掻き
寄せ羽根の傾斜角αの作用によって液面上に生成したガ
スハイドレートがＢ方向に移動されて回転中心側に集合
されるようになっている。
【００３８】更に、反応容器１内における前記回転駆動
軸１１の軸線上の下方には、上端の開口１６が液面近傍
に位置し、前記液面の中心側に集合したハイドレートを
反応容器１の下部に導くようにした取出管１７を設けて
いる。更に、この取出管１７には、ロータリーフィーダ
１８ａ等からなる圧力保持装置１８を設けている。１９
は取出管１７から取り出されるガスハイドレートを受け
る容器である。尚、反応容器１内の液を所定の冷却温度
に保持するために、給水を冷却する冷却器３を備えるこ
とに加えて、二点鎖線で示すように、反応容器１の外部
に備えるようにしたジャケット式の冷却器２０、或いは
液中に備えるようにした熱交換器による冷却器２１等を
組み合わせて設けてもよい。
軸１１の軸線上の下方には、上端の開口１６が液面近傍
に位置し、前記液面の中心側に集合したハイドレートを
反応容器１の下部に導くようにした取出管１７を設けて
いる。更に、この取出管１７には、ロータリーフィーダ
１８ａ等からなる圧力保持装置１８を設けている。１９
は取出管１７から取り出されるガスハイドレートを受け
る容器である。尚、反応容器１内の液を所定の冷却温度
に保持するために、給水を冷却する冷却器３を備えるこ
とに加えて、二点鎖線で示すように、反応容器１の外部
に備えるようにしたジャケット式の冷却器２０、或いは
液中に備えるようにした熱交換器による冷却器２１等を
組み合わせて設けてもよい。
【００３９】又、図１に示したガスハイドレート連続製
造装置における液面接触方式に加えて、給水管２から破
線で示すように分岐した給水の一部をノズル２ａにより
反応容器１内上部空間に散布して接触させるようにした
水散布方式、或いは、ハイドレート形成ガス導入管７か
ら破線で示すように分岐したハイドレート形成ガスをノ
ズル７ａにより液中に供給して気泡接触させるようにし
たバブリング方式等を組合わせて実施することもでき
る。
造装置における液面接触方式に加えて、給水管２から破
線で示すように分岐した給水の一部をノズル２ａにより
反応容器１内上部空間に散布して接触させるようにした
水散布方式、或いは、ハイドレート形成ガス導入管７か
ら破線で示すように分岐したハイドレート形成ガスをノ
ズル７ａにより液中に供給して気泡接触させるようにし
たバブリング方式等を組合わせて実施することもでき
る。
【００４０】図３は、前記掻き寄せ羽根の他の例を示し
たものである。図３では４個の掻き寄せ羽根を互いに直
交する方向に設けており、直径方向に対向する２個の掻
き寄せ羽根１５ａ，１５ａは回転駆動軸１１に対して近
い間隔で取付け、他方の直径方向に対向する２個の掻き
寄せ羽根１５ｂ，１５ｂは回転駆動軸１１に対して遠い
間隔で取付けている。
たものである。図３では４個の掻き寄せ羽根を互いに直
交する方向に設けており、直径方向に対向する２個の掻
き寄せ羽根１５ａ，１５ａは回転駆動軸１１に対して近
い間隔で取付け、他方の直径方向に対向する２個の掻き
寄せ羽根１５ｂ，１５ｂは回転駆動軸１１に対して遠い
間隔で取付けている。
【００４１】以下、上記形態例の作用を説明する。
【００４２】図１に示す給水管２により反応容器１に所
定の水位まで水を供給し、続いて羽根駆動装置１２によ
り回転駆動軸１１を介して掻き寄せ羽根１５を図２に示
す矢印方向に所定の回転速度で回転させ、この状態で、
ハイドレート形成ガス導入管７により反応容器１にメタ
ンを供給する。この時、液面制御器６により反応容器１
内部の液レベルが取出管１７の上端開口１６と同等或い
はそれより僅かに低い所定高さになるように制御し、更
に、圧力制御器１０により反応容器１内部の圧力を例え
ば１０〜７０ataの所定値に制御する。又、冷却器３に
より、更にはジャケット式の冷却器２０、又は液中に挿
入した熱交換器による冷却器２１によって、反応容器１
内の液の温度が例えば０℃〜１０℃程度の所定の冷却温
度になるように冷却する。上記により、メタンは液面に
おいて水と接することによりガスハイドレートを生成す
る。
定の水位まで水を供給し、続いて羽根駆動装置１２によ
り回転駆動軸１１を介して掻き寄せ羽根１５を図２に示
す矢印方向に所定の回転速度で回転させ、この状態で、
ハイドレート形成ガス導入管７により反応容器１にメタ
ンを供給する。この時、液面制御器６により反応容器１
内部の液レベルが取出管１７の上端開口１６と同等或い
はそれより僅かに低い所定高さになるように制御し、更
に、圧力制御器１０により反応容器１内部の圧力を例え
ば１０〜７０ataの所定値に制御する。又、冷却器３に
より、更にはジャケット式の冷却器２０、又は液中に挿
入した熱交換器による冷却器２１によって、反応容器１
内の液の温度が例えば０℃〜１０℃程度の所定の冷却温
度になるように冷却する。上記により、メタンは液面に
おいて水と接することによりガスハイドレートを生成す
る。
【００４３】この時、掻き寄せ羽根１５の下端が液面に
没入して回転しているため、液面にはガスハイドレート
によって覆われない部分が常に現出することになり、よ
ってメタンは常に水と接触することができ、これにより
ガスハイドレートの生成が高効率で行われるようにな
る。
没入して回転しているため、液面にはガスハイドレート
によって覆われない部分が常に現出することになり、よ
ってメタンは常に水と接触することができ、これにより
ガスハイドレートの生成が高効率で行われるようにな
る。
【００４４】更に、液面部分は回転している掻き寄せ羽
根１５によって常に乱されることになるため、液面に生
成したガスハイドレートは成長することなく直ちに細か
く砕かれて細粒の流動性を有したものとなり、更に流動
性を有するガスハイドレートは掻き寄せ羽根１５の傾斜
角αにより図２のＢ方向に移動されて回転中心側に集合
されるようになる。この時、掻き寄せ羽根１５は液面に
生成したガスハイドレートを中心側に集合できればよい
ので、低い回転速度で回転される。
根１５によって常に乱されることになるため、液面に生
成したガスハイドレートは成長することなく直ちに細か
く砕かれて細粒の流動性を有したものとなり、更に流動
性を有するガスハイドレートは掻き寄せ羽根１５の傾斜
角αにより図２のＢ方向に移動されて回転中心側に集合
されるようになる。この時、掻き寄せ羽根１５は液面に
生成したガスハイドレートを中心側に集合できればよい
ので、低い回転速度で回転される。
【００４５】上記のように、回転中心側に集合したガス
ハイドレートは、液面近傍に位置する開口１６から取出
管１７に流入して取出管１７内を流下し、圧力保持装置
１８を介して容器１９に取り出される。この時、ガスハ
イドレートは細粒化されて流動性を有しているので、取
出管１７に良好に流入して排出され、更に取出管１７に
備えたロータリーフィーダ１８ａ等による圧力保持装置
１８によって反応容器１内の圧力を保持できるので、反
応容器１内に生成したガスハイドレートを連続的に安定
して取り出すことができる。
ハイドレートは、液面近傍に位置する開口１６から取出
管１７に流入して取出管１７内を流下し、圧力保持装置
１８を介して容器１９に取り出される。この時、ガスハ
イドレートは細粒化されて流動性を有しているので、取
出管１７に良好に流入して排出され、更に取出管１７に
備えたロータリーフィーダ１８ａ等による圧力保持装置
１８によって反応容器１内の圧力を保持できるので、反
応容器１内に生成したガスハイドレートを連続的に安定
して取り出すことができる。
【００４６】取出管１７によって反応容器１外に取り出
されたガスハイドレートは、図示しない冷凍装置等にて
直ちに冷凍すると、ガスハイドレートの分解を押えるこ
とができるので、以後の運搬等の取扱いに好都合であ
る。
されたガスハイドレートは、図示しない冷凍装置等にて
直ちに冷凍すると、ガスハイドレートの分解を押えるこ
とができるので、以後の運搬等の取扱いに好都合であ
る。
【００４７】又、図３に示すように、回転駆動軸１１に
対して近い間隔で取付けた掻き寄せ羽根１５ａ，１５ａ
と、回転駆動軸１１に対して遠い間隔で取付けた掻き寄
せ羽根１５ｂ，１５ｂを備えた構成とすると、液面の略
全体を掻き寄せ羽根１５ａ，１５ｂによりカバーして、
反応容器１の液面に生成するガスハイドレートの殆んど
を回転中心側に集合させることができる。
対して近い間隔で取付けた掻き寄せ羽根１５ａ，１５ａ
と、回転駆動軸１１に対して遠い間隔で取付けた掻き寄
せ羽根１５ｂ，１５ｂを備えた構成とすると、液面の略
全体を掻き寄せ羽根１５ａ，１５ｂによりカバーして、
反応容器１の液面に生成するガスハイドレートの殆んど
を回転中心側に集合させることができる。
【００４８】図４は本発明を実施するガスハイドレート
連続製造装置の形態の他の例を示す。尚、図１と同等の
構成部分については説明を省略し、図１と異なる構成部
分についてのみ説明する。
連続製造装置の形態の他の例を示す。尚、図１と同等の
構成部分については説明を省略し、図１と異なる構成部
分についてのみ説明する。
【００４９】図４の形態では、反応容器１内下部に備え
た取出管１７内に、該取出管１７内で回転する排出スク
リュー２２を備えている。そして、該排出スクリュー２
２のスクリュー軸２３を前記回転駆動軸１１の中心に通
した二重軸構造としており、前記スクリュー軸２３の上
端をスクリュー駆動装置２４に連結している。又、図４
の場合では、外軸となっている前記回転駆動軸１１の反
応容器１外に延出した上端には歯車２５を取付け、該歯
車２５に前記羽根駆動装置１２を接続している。尚、前
記排出スクリュー２２は、その上端が取出管１７の開口
１６から上部に突出するように設けている。又、図４の
場合においても図２に示した掻き寄せ羽根１５或いは図
３に示した掻き寄せ羽根１５ａ，１５ｂを備えることが
できる。
た取出管１７内に、該取出管１７内で回転する排出スク
リュー２２を備えている。そして、該排出スクリュー２
２のスクリュー軸２３を前記回転駆動軸１１の中心に通
した二重軸構造としており、前記スクリュー軸２３の上
端をスクリュー駆動装置２４に連結している。又、図４
の場合では、外軸となっている前記回転駆動軸１１の反
応容器１外に延出した上端には歯車２５を取付け、該歯
車２５に前記羽根駆動装置１２を接続している。尚、前
記排出スクリュー２２は、その上端が取出管１７の開口
１６から上部に突出するように設けている。又、図４の
場合においても図２に示した掻き寄せ羽根１５或いは図
３に示した掻き寄せ羽根１５ａ，１５ｂを備えることが
できる。
【００５０】図４の構成によれば、スクリュー駆動装置
２４により排出スクリュー２２を回転すると、掻き寄せ
羽根１５によって中心側に集合したガスハイドレートを
排出スクリュー２２の作用により取出管１７を通して強
制的に下部に排出することができる。このとき、取出管
１７の内部にガスハイドレートが充満された状態になる
ように排出スクリュー２２の回転速度を調節すると、排
出スクリュー２２は圧力保持機能を備えることができ、
よって図１に示したような圧力保持装置１８の設置を省
略することができる。
２４により排出スクリュー２２を回転すると、掻き寄せ
羽根１５によって中心側に集合したガスハイドレートを
排出スクリュー２２の作用により取出管１７を通して強
制的に下部に排出することができる。このとき、取出管
１７の内部にガスハイドレートが充満された状態になる
ように排出スクリュー２２の回転速度を調節すると、排
出スクリュー２２は圧力保持機能を備えることができ、
よって図１に示したような圧力保持装置１８の設置を省
略することができる。
【００５１】又、図４の形態では掻き寄せ羽根１５と排
出スクリュー２２とを別個の駆動装置１２，２４で駆動
する場合について示したが、前記排出スクリュー２２の
ピッチを選定することにより排出スクリュー２２によっ
て取出管１７内にガスハイドレートが充満された状態を
保持して排出できれば、掻き寄せ羽根１５と排出スクリ
ュー２２とを一体に回転するように構成してもよく、こ
のようにすると駆動装置を１台省略することができる。
出スクリュー２２とを別個の駆動装置１２，２４で駆動
する場合について示したが、前記排出スクリュー２２の
ピッチを選定することにより排出スクリュー２２によっ
て取出管１７内にガスハイドレートが充満された状態を
保持して排出できれば、掻き寄せ羽根１５と排出スクリ
ュー２２とを一体に回転するように構成してもよく、こ
のようにすると駆動装置を１台省略することができる。
【００５２】尚、本発明は上記形態例にのみ限定される
ものではなく、掻き寄せ羽根の形状、設置数は任意に選
定し得ること、その他本発明の要旨を逸脱しない範囲内
において種々変更を加え得ること、等は勿論である。
ものではなく、掻き寄せ羽根の形状、設置数は任意に選
定し得ること、その他本発明の要旨を逸脱しない範囲内
において種々変更を加え得ること、等は勿論である。
【００５３】
【発明の効果】請求項１〜７に記載の発明によれば、下
端が液面に没入して回転する掻き寄せ羽根の作用によ
り、液面にはガスハイドレートによって覆われない部分
が常に現出し、これによりハイドレート形成ガスは常に
水と接触することができるのでガスハイドレートの生成
が高効率で行われるようになる効果がある。
端が液面に没入して回転する掻き寄せ羽根の作用によ
り、液面にはガスハイドレートによって覆われない部分
が常に現出し、これによりハイドレート形成ガスは常に
水と接触することができるのでガスハイドレートの生成
が高効率で行われるようになる効果がある。
【００５４】又、液面部分は回転している掻き寄せ羽根
によって常に乱されているので、液面に生成したガスハ
イドレートは成長することなく直ちに細かく砕かれて細
粒の流動性を有したものとなり、更に、流動性を有した
ガスハイドレートは掻き寄せ羽根の傾斜角により反応容
器の中心側に移動して効果的に集合させられる効果があ
る。
によって常に乱されているので、液面に生成したガスハ
イドレートは成長することなく直ちに細かく砕かれて細
粒の流動性を有したものとなり、更に、流動性を有した
ガスハイドレートは掻き寄せ羽根の傾斜角により反応容
器の中心側に移動して効果的に集合させられる効果があ
る。
【００５５】更に、請求項３に記載の発明では、反応容
器の中心側に移動して集合したガスハイドレートは液面
近傍に開口した取出管に流入し、且つ取出管に備えた圧
力保持装置により反応容器内の圧力を保持して排出する
ようにしたので、反応容器内に生成したガスハイドレー
トを連続的に安定して取り出せる効果がある。
器の中心側に移動して集合したガスハイドレートは液面
近傍に開口した取出管に流入し、且つ取出管に備えた圧
力保持装置により反応容器内の圧力を保持して排出する
ようにしたので、反応容器内に生成したガスハイドレー
トを連続的に安定して取り出せる効果がある。
【００５６】更に、請求項６に記載の発明では、取出管
内に排出スクリューを備えたことにより、中心側に集合
したガスハイドレートを強制的に取出管を通して確実に
取り出せる効果がある。更に、取出管内部にガスハイド
レートが充満された状態を保持するように排出スクリュ
ーの回転速度を調節することにより、排出スクリューが
圧力保持機能を備えることができ、よって圧力保持装置
の設置を省略できる効果がある。
内に排出スクリューを備えたことにより、中心側に集合
したガスハイドレートを強制的に取出管を通して確実に
取り出せる効果がある。更に、取出管内部にガスハイド
レートが充満された状態を保持するように排出スクリュ
ーの回転速度を調節することにより、排出スクリューが
圧力保持機能を備えることができ、よって圧力保持装置
の設置を省略できる効果がある。
【００５７】請求項４及び７に記載の発明では、回転駆
動軸に対して近い間隔で取付けた掻き寄せ羽根と、回転
駆動軸に対して遠い間隔で取付けた掻き寄せ羽根を備え
たことにより、液面の略全体を掻き寄せ羽根によりカバ
ーして、反応容器の液面に生成するガスハイドレートの
殆んどを回転中心側に集合させられる効果がある。
動軸に対して近い間隔で取付けた掻き寄せ羽根と、回転
駆動軸に対して遠い間隔で取付けた掻き寄せ羽根を備え
たことにより、液面の略全体を掻き寄せ羽根によりカバ
ーして、反応容器の液面に生成するガスハイドレートの
殆んどを回転中心側に集合させられる効果がある。
【図１】本発明を実施するガスハイドレート連続製造装
置の形態の一例を示す切断側面図である。
置の形態の一例を示す切断側面図である。
【図２】図１をＩＩ−ＩＩ方向から見た掻き寄せ羽根の
形状例を示す平面図である。
形状例を示す平面図である。
【図３】図２と同方向から見た掻き寄せ羽根の他の形状
例を示す平面図である。
例を示す平面図である。
【図４】本発明を実施するガスハイドレート連続製造装
置の形態の他の例を示す切断側面図である。
置の形態の他の例を示す切断側面図である。
【図５】従来のガスハイドレート生成装置の一例を示す
概略切断側面図である。
概略切断側面図である。
１ 反応容器
１１ 回転駆動軸
１５ 掻き寄せ羽根
１５ａ，１５ｂ 掻き寄せ羽根
１６ 開口
１７ 取出管
１８ 圧力保持装置
１８ａ ロータリーフィーダ
２２ 排出スクリュー
２３ スクリュー軸
α 傾斜角
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０７Ｃ 9/04 Ｃ１０Ｌ 3/00 Ａ
(72)発明者 平岡 龍三
神奈川県横浜市磯子区新中原町１番地 石
川島播磨重工業株式会社機械・プラント開
発センター内
(72)発明者 布上 喜一
神奈川県横浜市磯子区新中原町１番地 石
川島播磨重工業株式会社機械・プラント開
発センター内
Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AA04 AC93 BD81 BE60
Claims (7)
- 【請求項１】 反応容器に所定レベルを保持するよう水
を供給すると共に反応容器内が所定圧力範囲に保持され
るようハイドレート形成ガスを供給して所定の冷却温度
で接触させることによりガスハイドレートを生成するガ
スハイドレート連続製造方法であって、液面に生成する
ガスハイドレートを回転する掻き寄せ羽根にて反応容器
の中心側に移動させることにより集合し、集合したガス
ハイドレートを鉛直方向に設けた取出管により反応容器
の下部に取り出すことを特徴とするガスハイドレート連
続製造方法。 - 【請求項２】 反応容器の液面が、取出管の上端開口と
同等或いはそれより僅かに低い高さを保持するよう水の
供給を制御することを特徴とする請求項１記載のガスハ
イドレート連続製造方法。 - 【請求項３】 反応容器に所定レベルを保持するよう水
を供給すると共に反応容器内が所定圧力範囲に保持され
るようハイドレート形成ガスを供給して所定の冷却温度
で接触させることによりガスハイドレートを生成するよ
うにしたガスハイドレート連続製造装置であって、反応
容器内に鉛直に設けた回転駆動軸と、該回転駆動軸に取
付けて下端が液面に没入し回転により液面上のハイドレ
ートを回転駆動軸側に移動させる方向に傾斜した掻き寄
せ羽根と、液面近傍に開口して集合したハイドレートを
下部に導く取出管と、該取出管に備えた圧力保持装置
と、を備えたことを特徴とするガスハイドレート連続製
造装置。 - 【請求項４】 前記回転駆動軸に取付ける掻き寄せ羽根
を、回転駆動軸に対する間隔を変えて複数備えたことを
特徴とする請求項３記載のガスハイドレート連続製造装
置。 - 【請求項５】 前記圧力保持装置がロータリーフィーダ
であることを特徴とする請求項３記載のガスハイドレー
ト連続製造装置。 - 【請求項６】 反応容器に所定レベルを保持するよう水
を供給すると共に反応容器内が所定圧力範囲に保持され
るようハイドレート形成ガスを供給して所定の冷却温度
で接触させることによりガスハイドレートを生成するよ
うにしたガスハイドレート連続製造装置であって、反応
容器内に鉛直に設けた回転駆動軸と、該回転駆動軸に取
付けて下端が液面に没入し回転により液面上のハイドレ
ートを回転駆動軸側に移動させる方向に傾斜した掻き寄
せ羽根と、液面近傍に開口して集合したハイドレートを
下部に導く取出管と、該取出管内で回転して前記集合し
たハイドレートを下部に強制排出する排出スクリュー
と、を備えたことを特徴とするガスハイドレート連続製
造装置。 - 【請求項７】 前記回転駆動軸に取付ける掻き寄せ羽根
を、回転駆動軸に対する間隔を変えて複数備えたことを
特徴とする請求項６記載のガスハイドレート連続製造装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002137267A JP3891033B2 (ja) | 2002-05-13 | 2002-05-13 | ガスハイドレート連続製造装置及び該装置を用いたガスハイドレート連続製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002137267A JP3891033B2 (ja) | 2002-05-13 | 2002-05-13 | ガスハイドレート連続製造装置及び該装置を用いたガスハイドレート連続製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003327980A true JP2003327980A (ja) | 2003-11-19 |
| JP3891033B2 JP3891033B2 (ja) | 2007-03-07 |
Family
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002137267A Expired - Fee Related JP3891033B2 (ja) | 2002-05-13 | 2002-05-13 | ガスハイドレート連続製造装置及び該装置を用いたガスハイドレート連続製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3891033B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006096868A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ハイドレート生成装置 |
| JP2006160835A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレート生成装置および生成方法 |
| JP2006160833A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレート生成装置および生成方法 |
| JP2007107663A (ja) * | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 天然ガス水和物の移送方法とその装置 |
| JP2007238674A (ja) * | 2006-03-06 | 2007-09-20 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレート生成装置 |
| WO2008120770A1 (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. | 天然ガスハイドレートの製造方法及びその装置 |
| JP2008248032A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 天然ガスハイドレートの製造方法及びその装置 |
| JP2008248031A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 天然ガスハイドレートの製造方法及びその装置 |
| JP2011231302A (ja) * | 2010-04-26 | 2011-11-17 | Korea Inst Of Industrial Technology | 遠心分離原理によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置及び方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8486340B2 (en) * | 2009-09-15 | 2013-07-16 | Korea Institute Of Industrial Technology | Apparatus and method for continuously producing and pelletizing gas hydrates using dual cylinder |
-
2002
- 2002-05-13 JP JP2002137267A patent/JP3891033B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006096868A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ハイドレート生成装置 |
| JP4594691B2 (ja) * | 2004-09-29 | 2010-12-08 | 三井造船株式会社 | ハイドレート生成装置 |
| JP2006160835A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレート生成装置および生成方法 |
| JP2006160833A (ja) * | 2004-12-03 | 2006-06-22 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレート生成装置および生成方法 |
| JP4620439B2 (ja) * | 2004-12-03 | 2011-01-26 | 三井造船株式会社 | ガスハイドレート生成装置および生成方法 |
| JP4620440B2 (ja) * | 2004-12-03 | 2011-01-26 | 三井造船株式会社 | ガスハイドレート生成装置および生成方法 |
| JP2007107663A (ja) * | 2005-10-14 | 2007-04-26 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 天然ガス水和物の移送方法とその装置 |
| JP2007238674A (ja) * | 2006-03-06 | 2007-09-20 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | ガスハイドレート生成装置 |
| WO2008120770A1 (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. | 天然ガスハイドレートの製造方法及びその装置 |
| JP2008248032A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 天然ガスハイドレートの製造方法及びその装置 |
| JP2008248031A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 天然ガスハイドレートの製造方法及びその装置 |
| JP2011231302A (ja) * | 2010-04-26 | 2011-11-17 | Korea Inst Of Industrial Technology | 遠心分離原理によるガスハイドレートの連続製造及び脱水装置及び方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3891033B2 (ja) | 2007-03-07 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20050112 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
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| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20061114 |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Effective date: 20061127 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091215 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091215 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101215 Year of fee payment: 4 |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111215 Year of fee payment: 5 |
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