JP4594691B2 - ハイドレート生成装置 - Google Patents

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Description

本発明は、ハイドレート生成装置に関し、特に、安定な生成量および転化率でハイドレートを製造できるハイドレート生成装置に関する。
天然ガスは、環境負荷が低いことから、今後、需要が益々拡大することが予想される。
これまで、天然ガスを海上輸送したり、生産地や消費地で貯蔵したりするときは、液化天然ガス(LNG)の形で行なわれてきた。
しかしながら、世界には、東南アジアを中心としてLNG方式が適用できない中小規模のガス田が非常に多く存在している。
LNG方式が適用可能なガス田は、超大規模田には好適に適用できるが、このような中小規模のガス田には適用は困難であった。そこで、中小規模のガス田では、産出した天然ガスを周辺地域のみで利用するか、または大気中に放出することが多かった。
近年、LNG方式とは異なる天然ガスの貯蔵、輸送方式として、天然ガスをハイドレート化して貯蔵、輸送する方式が、中小規模のガス田にも容易に適用可能な点で注目されている。
ハイドレートを生成する装置としては、水と天然ガスのようなハイドレート生成ガスとを所定圧力、温度でタンク内で攪拌するものが知られている(特許文献1〜4)。
特開2004−010686号公報 特開2000−264852号公報 特開2000−302701号公報 特開2000−309785号公報
しかしながら、前記ハイドレート生成装置において、ただ単に水とハイドレート生成ガスとを所定の供給量で供給しただけでは、安定した生成量および転化率でハイドレートを製造することは困難であった。
本発明は、上記問題を解決すべく成されたものであり、安定な生成量および転化率でハイドレートを製造できるハイドレート生成装置の提供を目的とする。
請求項1に記載の発明は、水とハイドレート形成ガスとをタンク内に投入し、所定圧力下で接触させてハイドレートを生成するハイドレート生成装置であって、前記タンク内の水を冷却して循環させ、前記タンク内の水を所定温度に保持する循環水ラインと、前記タンク内の水を循環させる循環水ラインと、前記循環水ラインを循環する水を冷却する熱交換器と、前記タンク内の水位を検出する水位検出手段と、を備え、前記循環水ラインにおいては、タンク内の水面レベルが、予め定められた上限値に達したら循環水ラインを循環する水を前記熱交換器で冷却して前記タンクに戻る水の温度である循環水戻り温度を低下させ、水面レベルが予め定められた下限値に達したら、水面レベルが予め定められた下限値に達する前よりも前記熱交換器による冷却を弱めるか、または前記冷却を停止して循環水戻り温度を上昇させることにより、前記水位検出手段で検出されるタンク内水位が一定になるように循環水戻り温度を制御することを特徴とするハイドレート生成装置に関する。
ハイドレート生成装置におけるハイドレートの生成量およびハイドレート転化率は、供給ガス量、供給水量、攪拌機回転数、タンク内圧力、循環水戻り温度、循環ガス戻り温度、ハイドレート排出スクレーパ回転数などの多くのパラメータに依存する。
これらのパラメータは、設計段階において、実験データ等を基にほぼ最適化された値に設定されるが、実際の運転においては、外乱等の影響のため、必ずしも設定値どおりの状態で安定にハイドレートの生成が行なわれるわけではない。
この安定生成状態は、タンク内水位として最もよく現れる。即ち、ハイドレート生成量およびハイドレート転化率が多すぎると、水量が減って水位が低下し、少なすぎると水位が上昇する。前記パラメータのうち、このハイドレート生成作用に最も影響が大きく、また制御し易いのは、循環水戻り温度である。
前記ハイドレート生成装置では、前記水位検出手段タンク内水位を検出しつつ、前記タンク内水位が一定になるように循環水ラインで循環水戻り温度を制御することにより、安定な生成量および転化率でハイドレートを製造できる。
ハイドレート形成ガスとしては、たとえば天然ガスやメタンガスなどが挙げられるが、常温で気体であって所定の温度および圧力条件下で水とハイドレートを形成する物質であれば、天然ガスやメタンガスには限定されない。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のハイドレート生成装置において、前記水位検出手段が、前記タンク内の高さ方向の温度分布を検出し、予め定められた値以上の高さ方向温度変化を検出した高さを前記タンク内の水位とするハイドレート生成装置に関する。
水とハイドレート生成ガスとからハイドレートが生成する反応は発熱反応であるから、タンク内においてハイドレートが生成すると水よりも温度が高くなる。また、ハイドレートの方が水よりも比重が小さいので、生成したハイドレートは水面に浮かぶ。
したがって、タンク内においては、水とハイドレートとの境界で温度変化が見られる。
前記ハイドレート生成装置においては、温度分布検出手段によってタンク内部の高さ方向の温度分布を測定し、高さ方向の温度変化が検出されたら、その高さを水面高さとすることにより、タンク内の水位を非接触で検出できる。
請求項3に記載の発明は、請求項1に記載のハイドレート生成装置において、前記水位検出手段は、タンク内の特定の高さにおいて管から気体を放出するときの圧力損失に基いてタンク内の水位を求めるハイドレート生成装置に関する。
前述のようにタンク内においては、生成されたハイドレートは水に比べて嵩密度が充分に低いので、ハイドレートの厚み(高さ)による圧力差(水頭)は、水の深さによる圧力差に比べて充分に低い。
したがって、ハイドレート生成中に、タンク内の特定の高さにおいて管から気体を放出すると、気体を放出した位置から水面までの高さの差に対応する水圧が前記気体に圧力損失として加わる。
故に、タンク内の特定の高さにおいて管から気体を放出したときの圧力損失を測定すれば。前記圧力損失から、気体を放出した位置から水面までの高さの差が求められ、前記差から水位が求められる。
以上説明したように、本発明によれば、安定な生成量および転化率でハイドレートを製造できるハイドレート生成装置が提供される。
1.実施形態1
以下、本発明のハイドレート生成装置の一例につき、説明する。
1−1 構成
図1に示すように、実施形態1に係るハイドレート生成装置100は、水と天然ガスとを接触させてハイドレートを生成させる第1生成装置2と、第1生成装置2の下方に位置し、第1生成装置2で生成したハイドレートに更に天然ガスを接触させる第2生成装置4とを備える。
第1生成装置2は、上面が開口し、所定温度および圧力下で水と天然ガスとを接触させるタンク6と、タンク6を内部に収容するとともに、第2生成装置4に連通する外部タンク8と、タンク6において水と天然ガスとを攪拌する攪拌機10と、攪拌機10と同軸に設けられ、タンク6内で生成したハイドレートを外部タンク8に導出するハイドレート排出スクレーパ12とを備える。
外部タンク8は、上面が開口し、タンク6を収容する本体8Bと、本体8Bの上面開口部を覆蓋する蓋部8Aとから構成されている。
攪拌機10は、蓋部8Aを垂直に貫通する回転軸10Cと、回転軸10Cの下端に設けられた攪拌羽根10Aと、回転軸10Cを回転させるモータ10Bとから構成される。一方、ハイドレート排出スクレーパ12は、攪拌機10の回転軸10Cと同軸に設けられた回転力伝達装置12Aを介してモータ12Bによって攪拌機10とは別個独立に回転する。
外部タンク8の蓋部8Aには、更に、タンク6に天然ガスを供給するガス供給ライン14と、外部タンク8内圧が所定値を越えたら放圧する放圧ライン16とが設けられている。
外部タンク8の本体8Bおよびタンク6には、夫々ジャケット8Cおよびジャケット6Aが設けられ、ジャケット8Cおよびジャケット6Aに所定温度の冷媒を流通させることにより、外部タンク8およびタンク6の内部は所定の温度に保持されている。
タンク6には、外部から水を供給する給水ライン18と、タンク6内の水を冷却して循環させる循環水ライン20、およびタンク6内のガスを循環させる循環ガスライン22が設けられている。
また、タンク6の底部近傍には、所定間隔でガス吹出し孔が穿設されたガス吹出し管24が水平に設けられている。
更に、タンク6の壁面には、温度計が高さ方向に一定間隔で設けられ、温度分布測定装置36を構成している。温度分布測定装置36は、タンク6内部の高さ方向の温度分布を測定する機能を有し、本発明における温度分布検出手段に相当する。温度分布測定装置36に使用できる温度計は、温度の変化を抵抗や出力電圧、出力電流の変化などの電気信号として出力できるものであればどのようなものであってもよく、具体的には抵抗温度計や熱電対温度計などが挙げられる。
循環水ライン20の一端は、タンク6の底部に設けられた循環水抜取ライン26に接続され、他端は、タンク内部に循環水を戻す循環水戻しライン28に接続されている。循環水戻しライン28の出口は、タンク6内において水面レベルよりも下方において開口している。
循環水ライン20には、循環水抜取ライン26から抜き取った循環水を矢印aの方向に循環させるポンプPと、循環水の循環方向aに対してポンプPの下流側に位置する熱交換器30と、熱交換器30の下流側、即ち循環水戻しライン28の近傍に位置する温度センサ32とが介装されている。熱交換器30は、CPU34によって制御される。
一方、循環ガスライン22の一端は、外部タンク8の蓋部8Aに設けられた循環ガス抜取ライン38に接続され、他端は、ガス吹出し管24に接続されている。
循環ガスライン22には、循環ガス抜取ライン38から抜き取った循環ガスを圧縮して矢印bの方向に圧送する圧縮機40と、圧縮機40で圧縮された循環ガスを所定の温度に加熱または冷却する熱交換器42とが介装されている。
タンク6内部でハイドレートが定常的に生成しているときの温度分布測定装置36で求められたタンク6内部の高さ方向の温度分布を図2に示す。
ハイドレートの生成反応は発熱反応であるから、水相よりもハイドレート相の方が温度が高くなる。したがって、たとえば図2に示すように、水相の温度が1〜2℃のとき、ハイドレート相の温度は3〜5℃と高くなるから、タンク6において、前記温度上昇が生じる高さが水面レベルであると考えられる。したがって、温度分布測定装置36でタンク6内部の高さ方向の温度分布を求めることにより、タンク6内部の水面レベルを求めることができる。
ハイドレート生成装置100においては、前述のように、ハイドレートの生成量およびハイドレート転化率は、ガス供給ライン14からの供給ガス量、給水ライン18からの供給水量、攪拌機10の回転数、タンク6内の圧力、循環水戻り温度T1、循環ガス戻り温度、ハイドレート排出スクレーパ12の回転数などの多くのパラメータに依存する。しかし、ハイドレートの安定生成状態は、タンク6内の水位として最もよく現れる。即ち、ハイドレート生成量およびハイドレート転化率が多すぎると、水量が減って水位が低下し、少なすぎると水位が上昇する。
前述のように、ハイドレートの生成反応は発熱反応であるが故に、タンク6内の水温が上昇すれば、ハイドレートの生成量および転化率は減少し、したがって水位が上昇する。反対にタンク6内の水温が低下すれば、ハイドレートの生成量および転化率は増大し、したがって水位が低下する。
ここで、タンク6内の水温は、循環水戻り温度T1を増減させることにより、最も効率的に制御できる。
そこで、タンク6内の水位が一定になるように循環水戻り温度T1を制御すれば、ハイドレートの生成量および転化率を一定に保持できる。
そこで、CPU34においては、温度分布測定装置36および温度センサ32からの入力に基き、以下に示す手順で熱交換器30を制御している。
循環水戻り温度T1制御の具体的な方法の一例として次のようなものがある。即ち、温度分布測定装置36で検出されたタンク6内の水面レベルhが、予め定められた上限値h1に達したら、CPU34は、熱交換器30に対して循環水を冷却すべき旨の指令を出力し、温度センサ32で検出される循環水戻り温度T1が低下するように熱交換器30を制御する。そして、水面レベルhが予め定められた下限値h2に達したら、熱交換器30における冷却を弱めるか、または停止する。循環水戻り温度T1の制御方法としては、この他にPID制御などの様々な手法を用いることができる。
また、循環水戻り温度T1が正常値(1〜2℃)を下回った場合においても、熱交換器30を停止し、循環水ライン20内部で循環水が凍結しないようにする。
1−2 作用、効果
第1生成装置2においては、ジャケット6Aおよびジャケット8Cに温度の冷媒を流通させてタンク6および外部タンク8の内部を所定温度に保持しつつ、給水ライン18からタンク6内に所定量の水を供給し、循環水ライン20に水を循環させつつ、熱交換器30で循環水戻り温度T1を所定の温度に保持する。
そして、攪拌機10を回転させつつ、ガス供給ライン14を通して外部タンク8に天然ガスを供給すると、供給された天然ガスは、タンク6内で水と搬送してハイドレートを生成する。生じたハイドレートは、ハイドレート排出スクレーパ12によって外部タンク8内に排出され、外部タンク8から第2生成装置4に導出される。
一方、第1生成装置2においては、温度分布測定装置36によってタンク6内の水面レベルhを求め、前記水面レベルhが上限値h1および下限値h2の間にあるようにCPU34において熱交換器30を制御することにより、循環水戻り温度T1を制御する。
実施形態1に係るハイドレート生成装置100においては、循環水ライン20で循環水戻り温度T1を制御することにより、前記タンク内の水面レベルh即ち水位を一定に制御しているから、水位の制御が容易である。
また、温度分布測定装置36によってタンク6内部の高さ方向の温度分布を測定し、高さ方向の温度変化を検出した高さを水面レベルhとすることにより、タンク6内の水面レベルhを非接触で検出できる。
2.実施形態2
本発明のハイドレート生成装置の別の例につき、以下に説明する。
実施形態2に係るハイドレート生成装置102の構成を図3に示す。図3において、図1と同一の符号は、前記符号が図1において示す要素と同一の要素を示す。
図3から明らかなように、ハイドレート生成装置102は、ハイドレート生成装置100において、タンク6内の水面レベルを検出する手段として温度分布測定装置36に代えて圧力損失測定装置46を用いた構成を有している。
圧力損失測定装置46は、タンク6内部においてガス吹出し管24の直上に設けられ、ガスを上方に放出するガス放出管48と、ガス放出管48にガスを供給する放出ガス供給ライン50と、放出ガス供給ライン50におけるガス放出管48の入口近傍に設けられた圧力センサ52とから構成される。ガス放出管48から放出できるガスとしては窒素ガスなどの不活性ガスが好ましい。
タンク6内において生成したハイドレートは水に比べて嵩密度が充分に低いので、ハイドレートの厚みによる圧力差は、水の深さによる圧力差に比べて充分に低い。
したがって、ガス放出管48からガスを放出すると、ガスを放出した位置から水面レベルhまでの高さの差に対応する水圧がガスに圧力損失として加わり、この圧力損失は圧力センサ52で検出される。
圧力センサ52は、検出した圧力損失をCPU34に入力し、CPU34においては、入力された圧力損失から水面レベルhを求める。
求めた水面レベルhに基いて循環水戻り温度T1を制御する手順は、実施形態1のところで述べたとおりである。
図1は、実施形態1に係るハイドレート生成装置の構成を示す該略図である。 図2は、実施形態1に係るハイドレート生成装置の備えるタンク内の高さ方向の温度分布の一例を示すグラフである。 図3は、実施形態2に係るハイドレート生成装置の構成を示す該略図である。
符号の説明
2 第1生成装置
4 第2生成装置
6 タンク
6A ジャケット
8 外部タンク
8A 蓋部
8B 本体
8C ジャケット
10 攪拌機
12 ハイドレート排出スクレーパ
14 ガス供給ライン
16 放圧ライン
18 給水ライン
20 循環水ライン
22 循環ガスライン
24 ガス吹出し管
26 循環水抜取ライン
28 循環水戻しライン
30 熱交換器
32 温度センサ
36 温度分布測定装置
38 循環ガス抜取ライン
40 圧縮機
42 熱交換器
46 圧力損失測定装置
48 ガス放出管
50 放出ガス供給ライン
52 圧力センサ
100 ハイドレート生成装置
102 ハイドレート生成装置

Claims (3)

  1. 水とハイドレート形成ガスとをタンク内に投入し、所定圧力下で接触させてハイドレートを生成するハイドレート生成装置であって、
    前記タンク内の水を循環させる循環水ラインと、
    前記循環水ラインを循環する水を冷却する熱交換器と、
    前記タンク内の水位を検出する水位検出手段と、
    を備え、
    前記循環水ラインにおいては、タンク内の水面レベルが、予め定められた上限値に達したら循環水ラインを循環する水を前記熱交換器で冷却して前記タンクに戻る水の温度である循環水戻り温度を低下させ、水面レベルが予め定められた下限値に達したら、水面レベルが予め定められた下限値に達する前よりも前記熱交換器による冷却を弱めるか、または前記冷却を停止して循環水戻り温度を上昇させることにより、前記水位検出手段で検出されるタンク内水位が一定になるように循環水戻り温度を制御することを特徴とするハイドレート生成装置。
  2. 前記水位検出手段は、前記タンク内の高さ方向の温度分布を検出し、予め定められた値以上の高さ方向温度変化を検出した高さを前記タンク内の水位とする請求項1に記載のハイドレート生成装置。
  3. 前記水位検出手段は、タンク内の特定の高さにおいて管から気体を放出するときの圧力損失に基いてタンク内の水位を求める請求項1に記載のハイドレート生成装置。
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