JP2003327574A - ショウガオール類の製造方法および合成用中間体 - Google Patents
ショウガオール類の製造方法および合成用中間体Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】工業的利用価値が高いショウガオール類の製造
に際して有用な、新規合成用中間体および当該中間体か
ら得られるショウガオール類を提供しようとするもので
ある。 【解決手段】下記一般式（１）で示される化合物および
一般式（１）で示される化合物を原料とする一般式
（２）で示されるショウガオール類の製造方法である。 【化１】 （１）式（１）中のＲ1は、水素原子またはメチル基を
示し、Ｒ2は、炭素数１〜１８の分岐を有してよいアル
キル基を示し、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素
原子、低級アルキル基またはフェノール性水酸基の保護
基を示し、Ａは、炭素数１〜４のアルキレン基を示し、
Ｘは、ベンゼンスルホニル基またはトルエンスルホニル
基を示す。
に際して有用な、新規合成用中間体および当該中間体か
ら得られるショウガオール類を提供しようとするもので
ある。 【解決手段】下記一般式（１）で示される化合物および
一般式（１）で示される化合物を原料とする一般式
（２）で示されるショウガオール類の製造方法である。 【化１】 （１）式（１）中のＲ1は、水素原子またはメチル基を
示し、Ｒ2は、炭素数１〜１８の分岐を有してよいアル
キル基を示し、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水素
原子、低級アルキル基またはフェノール性水酸基の保護
基を示し、Ａは、炭素数１〜４のアルキレン基を示し、
Ｘは、ベンゼンスルホニル基またはトルエンスルホニル
基を示す。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、食品、医薬品、医
薬部外品、化粧品等の分野で有用なショウガオール類の
製造方法および新規な合成用中間体に関するものであ
る。
薬部外品、化粧品等の分野で有用なショウガオール類の
製造方法および新規な合成用中間体に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】生姜の辛味成分であるショウガオール類
は、食品香料としての使用に加え、解熱作用、鎮痛作
用、抗炎症作用、抗酸化作用、プロスタグランジンの生
合成阻害作用などが知られており、工業的に重要な化合
物類である（例えば、廣川書店、医薬品の開発、第２
巻、薬理活性物質II、平成元年版）。しかし、ショウガ
オール類は天然物中には微量しか存在しておらず、ま
た、天然素材から単離精製するには多大な労力を必要と
することから、工業的には化学合成によって製造する必
要がある。ショウガオール類の製造方法としては、ジン
ゲロンと脂肪族アルデヒドとを塩基の存在下で反応させ
てジンゲロール類を調製し、さらにこのジンゲロール類
を酸触媒の存在下で加熱するものが知られている（特開
平８−４０９７０号公報）。しかし、該公報記載の製造
方法においては、脂肪族アルデヒドを過剰量用いている
のにもかかわらずジンゲロールの収率が低く、ショウガ
オール類を良好な収率で得ることができなかった。
は、食品香料としての使用に加え、解熱作用、鎮痛作
用、抗炎症作用、抗酸化作用、プロスタグランジンの生
合成阻害作用などが知られており、工業的に重要な化合
物類である（例えば、廣川書店、医薬品の開発、第２
巻、薬理活性物質II、平成元年版）。しかし、ショウガ
オール類は天然物中には微量しか存在しておらず、ま
た、天然素材から単離精製するには多大な労力を必要と
することから、工業的には化学合成によって製造する必
要がある。ショウガオール類の製造方法としては、ジン
ゲロンと脂肪族アルデヒドとを塩基の存在下で反応させ
てジンゲロール類を調製し、さらにこのジンゲロール類
を酸触媒の存在下で加熱するものが知られている（特開
平８−４０９７０号公報）。しかし、該公報記載の製造
方法においては、脂肪族アルデヒドを過剰量用いている
のにもかかわらずジンゲロールの収率が低く、ショウガ
オール類を良好な収率で得ることができなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述のごと
く工業的利用価値が高いショウガオール類の製造に際し
て有用な、新規合成用中間体および当該中間体から得ら
れるショウガオール類を提供しようとするものである。
く工業的利用価値が高いショウガオール類の製造に際し
て有用な、新規合成用中間体および当該中間体から得ら
れるショウガオール類を提供しようとするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決するため鋭意検討を行った結果、ショウガオール類
を収率良く得ることができる合成用中間体を見い出し、
本発明を完成したのである。すなわち本発明は、下記一
般式（１）で示される化合物および一般式（１）で示さ
れる化合物を原料とする下記一般式（２）で示されるシ
ョウガオール類の製造方法である。
解決するため鋭意検討を行った結果、ショウガオール類
を収率良く得ることができる合成用中間体を見い出し、
本発明を完成したのである。すなわち本発明は、下記一
般式（１）で示される化合物および一般式（１）で示さ
れる化合物を原料とする下記一般式（２）で示されるシ
ョウガオール類の製造方法である。
【０００５】
【化３】
（１）
【０００６】式（１）中のＲ1は、水素原子またはメチ
ル基を示し、Ｒ2は、炭素数１〜１８の分岐を有してよ
いアルキル基を示し、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立
に、水素原子、低級アルキル基またはフェノール性水酸
基の保護基を示し、Ａは、炭素数１〜４のアルキレン基
を示し、Ｘは、ベンゼンスルホニル基またはトルエンス
ルホニル基を示す。
ル基を示し、Ｒ2は、炭素数１〜１８の分岐を有してよ
いアルキル基を示し、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立
に、水素原子、低級アルキル基またはフェノール性水酸
基の保護基を示し、Ａは、炭素数１〜４のアルキレン基
を示し、Ｘは、ベンゼンスルホニル基またはトルエンス
ルホニル基を示す。
【０００７】
【化４】
（２）
【０００８】式（２）中のＲ1は、水素原子またはメチ
ル基を示し、Ｒ2は、炭素数１〜１８の分岐を有してよ
いアルキル基を示し、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立
に、水素原子、低級アルキル基またはフェノール性水酸
基の保護基を示し、Ａは、炭素数１〜４のアルキレン基
を示す。
ル基を示し、Ｒ2は、炭素数１〜１８の分岐を有してよ
いアルキル基を示し、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立
に、水素原子、低級アルキル基またはフェノール性水酸
基の保護基を示し、Ａは、炭素数１〜４のアルキレン基
を示す。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の第一発明は、前記一般式
（１）で示される化合物である。本化合物は、例えば下
記一般式（３）で示される化合物と下記一般式（４）で
示される化合物とを強塩基性物質存在下で反応させるこ
とにより調製することができる。
（１）で示される化合物である。本化合物は、例えば下
記一般式（３）で示される化合物と下記一般式（４）で
示される化合物とを強塩基性物質存在下で反応させるこ
とにより調製することができる。
【００１０】
【化５】
（３）
【００１１】式（３）中のＲ1は、水素原子またはメチ
ル基、Ｒ2は、炭素数１〜１８の分岐を有してよいアル
キル基を示し、Ｘはベンゼンスルホニル基またはトルエ
ンスルホニル基を示す。
ル基、Ｒ2は、炭素数１〜１８の分岐を有してよいアル
キル基を示し、Ｘはベンゼンスルホニル基またはトルエ
ンスルホニル基を示す。
【００１２】
【化６】
（４）
【００１３】式（４）のＲ3およびＲ4は、それぞれ独立
に、水素原子、低級アルキル基またはフェノール性水酸
基の保護基を示し、Ａは、炭素数１〜４のアルキレン基
を示す。
に、水素原子、低級アルキル基またはフェノール性水酸
基の保護基を示し、Ａは、炭素数１〜４のアルキレン基
を示す。
【００１４】一般式（３）で示される化合物は、Ｋ．Ｉ
ｎｏｍａｔａ，ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，
９３１（１９８５）等の文献をもとにして得ることがで
きる。式（３）のＲ2は、炭素数１〜１８の分岐を有し
てよいアルキル基であり、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ぺプチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、
ノニル基、デシル基、ラウリル基、ステアリル基などが
例示できる。このアルキル基として好ましくは、直鎖の
炭素数１から１８のアルキル基であり、天然界に存在す
るショウガオール類の構造を考慮すると、Ｒ2の炭素数
は偶数であることが好適である。具体的には、エチル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基など
が例示できる。
ｎｏｍａｔａ，ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，
９３１（１９８５）等の文献をもとにして得ることがで
きる。式（３）のＲ2は、炭素数１〜１８の分岐を有し
てよいアルキル基であり、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ぺプチル基、オクチル基、２−エチルへキシル基、
ノニル基、デシル基、ラウリル基、ステアリル基などが
例示できる。このアルキル基として好ましくは、直鎖の
炭素数１から１８のアルキル基であり、天然界に存在す
るショウガオール類の構造を考慮すると、Ｒ2の炭素数
は偶数であることが好適である。具体的には、エチル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基など
が例示できる。
【００１５】一般式（４）で示される化合物は、Ｇ．Ｓ
ｏｌｌａｄｉｅ，ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，５８，２１８１（１９９３）等の文献をもとにし
て得ることができる。
ｏｌｌａｄｉｅ，ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ．，５８，２１８１（１９９３）等の文献をもとにし
て得ることができる。
【００１６】式（４）のＲ3およびＲ4は、それぞれ独立
に、水素原子、低級アルキル基またはフェノール性水酸
基の保護基を示す。そしてこれらは同じでも異なってい
ても良い。式（４）のＲ3およびＲ4の低級アルキル基と
しては、炭素数１〜３が好ましく、更に好ましくはメチ
ル基である。式（４）のフェノール性水酸基の保護基と
しては、アセチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、
イソブチロイル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トル
オイル基、ベンジル基、アリル基、トリメチルシリル
基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等が例示される。フェ
ノール性水酸基への保護基の導入および脱保護反応の簡
便性および原料コスト等を考慮すると、アセチル基、プ
ロピオニル基、ブチロイル基、イソブチロイル基、ピバ
ロイル基、ベンゾイル基、トルオイル基が好ましく、中
でも、イソブチロイル基、ベンゾイル基が好適である。
式（４）のＡは、炭素数１〜４のアルキレン基であり、
好ましくはエチレン基またはブチレン基であり、更に好
ましくはエチレン基である。式（１）および式（２）の
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＡは、式（３）および式（４）の
ものと同様なものである。
に、水素原子、低級アルキル基またはフェノール性水酸
基の保護基を示す。そしてこれらは同じでも異なってい
ても良い。式（４）のＲ3およびＲ4の低級アルキル基と
しては、炭素数１〜３が好ましく、更に好ましくはメチ
ル基である。式（４）のフェノール性水酸基の保護基と
しては、アセチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、
イソブチロイル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トル
オイル基、ベンジル基、アリル基、トリメチルシリル
基、ｔ−ブチルジメチルシリル基等が例示される。フェ
ノール性水酸基への保護基の導入および脱保護反応の簡
便性および原料コスト等を考慮すると、アセチル基、プ
ロピオニル基、ブチロイル基、イソブチロイル基、ピバ
ロイル基、ベンゾイル基、トルオイル基が好ましく、中
でも、イソブチロイル基、ベンゾイル基が好適である。
式（４）のＡは、炭素数１〜４のアルキレン基であり、
好ましくはエチレン基またはブチレン基であり、更に好
ましくはエチレン基である。式（１）および式（２）の
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＡは、式（３）および式（４）の
ものと同様なものである。
【００１７】前記一般式（１）で示される化合物は、例
えば一般式（３）で示される化合物を強塩基性物質で処
理し、引き続いて一般式（４）で示される化合物を作用
させることにより調製することができる。
えば一般式（３）で示される化合物を強塩基性物質で処
理し、引き続いて一般式（４）で示される化合物を作用
させることにより調製することができる。
【００１８】当該強塩基性物質としては、ｎ−ブチルリ
チウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、フ
ェニルリチウム等のアルキルリチウム化合物、ｎ−ブチ
ルマグネシウムクロリド、ｓ−ブチルマグネシウムクロ
リド、ｔ−ブチルマグネシウムクロリド、ｎ−ブチルマ
グネシウムブロミド、ｓ−ブチルマグネシウムブロミ
ド、ｔ−ブチルマグネシウムブロミド等のグリニャール
化合物、金属リチウム、金属ナトリウムなどのアルカリ
金属類を例示することができ、ｎ−ブチルリチウム、ｎ
−ブチルマグネシウムクロリド、ｎ−ブチルマグネシウ
ムブロミドを好適に使用することができる。
チウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、フ
ェニルリチウム等のアルキルリチウム化合物、ｎ−ブチ
ルマグネシウムクロリド、ｓ−ブチルマグネシウムクロ
リド、ｔ−ブチルマグネシウムクロリド、ｎ−ブチルマ
グネシウムブロミド、ｓ−ブチルマグネシウムブロミ
ド、ｔ−ブチルマグネシウムブロミド等のグリニャール
化合物、金属リチウム、金属ナトリウムなどのアルカリ
金属類を例示することができ、ｎ−ブチルリチウム、ｎ
−ブチルマグネシウムクロリド、ｎ−ブチルマグネシウ
ムブロミドを好適に使用することができる。
【００１９】当該強塩基性物質の使用量は、基本的には
一般式（３）で示される化合物に対し、０．７から１．
３化学当量が好ましく、さらに好ましくは、０．９から
１．１化学当量である。
一般式（３）で示される化合物に対し、０．７から１．
３化学当量が好ましく、さらに好ましくは、０．９から
１．１化学当量である。
【００２０】一般式（３）で示される化合物と当該強塩
基性物質との反応は、非プロトン性の溶媒中で行うこと
が好ましく、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサ
ン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ヘ
キサメチルホスホリックトリアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
プロピレンウレアおよびこれらの混合溶媒等を好適に使
用することができる。
基性物質との反応は、非プロトン性の溶媒中で行うこと
が好ましく、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサ
ン、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ヘ
キサメチルホスホリックトリアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
プロピレンウレアおよびこれらの混合溶媒等を好適に使
用することができる。
【００２１】式（３）の化合物と当該強塩基性物質との
反応温度は、−１００℃から２５℃が好ましく、より好
ましくは−８０℃から０℃である。反応温度が低すぎる
場合は温度維持にコストがかかり、また、反応温度が高
すぎる場合は副反応が進行することがある。反応時間は
条件により異なるが、通常、数分から数１０分である。
反応温度は、−１００℃から２５℃が好ましく、より好
ましくは−８０℃から０℃である。反応温度が低すぎる
場合は温度維持にコストがかかり、また、反応温度が高
すぎる場合は副反応が進行することがある。反応時間は
条件により異なるが、通常、数分から数１０分である。
【００２２】上述のごとく一般式（３）で示される化合
物と強塩基性物質とを反応させたものに、引き続いて、
一般式（４）で示される化合物を作用させることによ
り、一般式（１）で示される化合物を調製することがで
きる。
物と強塩基性物質とを反応させたものに、引き続いて、
一般式（４）で示される化合物を作用させることによ
り、一般式（１）で示される化合物を調製することがで
きる。
【００２３】一般式（４）で示される化合物を前記反応
物に加える際の反応系の温度は、−１００℃から２５℃
が好ましく、−８０℃から０℃が好適である。反応温度
が低すぎる場合は温度維持にコストがかかり、また、反
応温度が高すぎる場合は副反応が進行することがある。
反応時間は条件により異なるが、通常、数分から数１０
分である。反応終了後は、溶媒抽出、カラムクロマトグ
ラフィーなどの公知の方法により、一般式（１）で示さ
れる化合物を単離精製することができる。
物に加える際の反応系の温度は、−１００℃から２５℃
が好ましく、−８０℃から０℃が好適である。反応温度
が低すぎる場合は温度維持にコストがかかり、また、反
応温度が高すぎる場合は副反応が進行することがある。
反応時間は条件により異なるが、通常、数分から数１０
分である。反応終了後は、溶媒抽出、カラムクロマトグ
ラフィーなどの公知の方法により、一般式（１）で示さ
れる化合物を単離精製することができる。
【００２４】つぎに、本発明の第二発明である、前記一
般式（１）で示される化合物を原料とする一般式（２）
で示されるショウガオール類の製造方法について説明す
る。
般式（１）で示される化合物を原料とする一般式（２）
で示されるショウガオール類の製造方法について説明す
る。
【００２５】一般式（２）で示されるショウガオール類
は、一般式（１）で示される化合物とπ−アリル錯体を
形成する金属触媒の存在下で、塩基性物質を作用させる
ことにより合成することができる。
は、一般式（１）で示される化合物とπ−アリル錯体を
形成する金属触媒の存在下で、塩基性物質を作用させる
ことにより合成することができる。
【００２６】一般式（１）で示される化合物と反応して
π−アリル錯体を形成する金属触媒としては、パラジウ
ム錯体を好適に使用することができ、具体的には、テト
ラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）、トリ
ス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０） ク
ロロホルム付加物、塩化パラジウム（II）／トリフェニ
ルホスフィン混合物、酢酸パラジウム（II）／トリフェ
ニルホスフィン混合物、酢酸パラジウム（II）／トリブ
チルホスフィン混合物などが例示される。当該金属触媒
の使用量は、一般式（１）で示される化合物１ｍｏｌに
対して０．０００１〜１ｍｏｌが好ましく、さらに好ま
しくは０．０００１〜０．１ｍｏｌ、さらに好ましく
は、０．０００５〜０．０５ｍｏｌである。当該金属触
媒の使用量が少なすぎる場合は反応の進行が遅く、使用
量が多すぎる場合は触媒の除去に労力を要することとな
る。
π−アリル錯体を形成する金属触媒としては、パラジウ
ム錯体を好適に使用することができ、具体的には、テト
ラキストリフェニルホスフィンパラジウム（０）、トリ
ス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０） ク
ロロホルム付加物、塩化パラジウム（II）／トリフェニ
ルホスフィン混合物、酢酸パラジウム（II）／トリフェ
ニルホスフィン混合物、酢酸パラジウム（II）／トリブ
チルホスフィン混合物などが例示される。当該金属触媒
の使用量は、一般式（１）で示される化合物１ｍｏｌに
対して０．０００１〜１ｍｏｌが好ましく、さらに好ま
しくは０．０００１〜０．１ｍｏｌ、さらに好ましく
は、０．０００５〜０．０５ｍｏｌである。当該金属触
媒の使用量が少なすぎる場合は反応の進行が遅く、使用
量が多すぎる場合は触媒の除去に労力を要することとな
る。
【００２７】本反応で使用する塩基性物質としては、ト
リエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メ
チルイミダゾール、ピリジンなどの第三級アミン類が好
適であり、使用量は、一般式（１）で示される化合物１
ｍｏｌに対して０．９ｍｏｌ以上であり、１．０ｍｏｌ
から１０ｍｏｌの範囲が好適であるが、これを溶媒とし
て使用しても良い。
リエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メ
チルイミダゾール、ピリジンなどの第三級アミン類が好
適であり、使用量は、一般式（１）で示される化合物１
ｍｏｌに対して０．９ｍｏｌ以上であり、１．０ｍｏｌ
から１０ｍｏｌの範囲が好適であるが、これを溶媒とし
て使用しても良い。
【００２８】本反応は溶媒の存在下で実施することが好
ましく、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジ
エチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、アセトニ
トリル、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジク
ロロエタン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピレンウレア、メタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコー
ル、グリセリンおよびこれらの混合溶媒等を使用するこ
とができ、中でも、１，２−ジクロロエタン、イソプロ
ピルアルコールおよびグリセリンの三溶媒の混合物が好
適である。
ましく、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジ
エチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、アセトニ
トリル、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジク
ロロエタン、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、
Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピレンウレア、メタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコー
ル、グリセリンおよびこれらの混合溶媒等を使用するこ
とができ、中でも、１，２−ジクロロエタン、イソプロ
ピルアルコールおよびグリセリンの三溶媒の混合物が好
適である。
【００２９】反応温度は室温から１５０℃、好ましく
は、５０℃から１２０℃の範囲が好適である。反応時間
は条件により異なるが、通常、数時間から数１０時間で
ある。反応終了後は、溶媒抽出、カラムクロマトグラフ
ィーなどの公知の方法により、一般式（２）で示される
ショウガオール類を得ることができる。また、一般式
（２）におけるＲ3およびＲ4がフェノール性水酸基の保
護基である場合は、常法により脱保護することができ
る。
は、５０℃から１２０℃の範囲が好適である。反応時間
は条件により異なるが、通常、数時間から数１０時間で
ある。反応終了後は、溶媒抽出、カラムクロマトグラフ
ィーなどの公知の方法により、一般式（２）で示される
ショウガオール類を得ることができる。また、一般式
（２）におけるＲ3およびＲ4がフェノール性水酸基の保
護基である場合は、常法により脱保護することができ
る。
【００３０】式（２）のＲ1とＲ3が水素原子、Ｒ2がブ
チル基、Ｒ4がメチル基、Ａがエチレン基である［６］
−ショウガオールを本発明の方法を用いて収率良く合成
し、これがチロシナーゼ活性を阻害することを見出し
た。このことから、メラニン合成を阻害する可能性があ
り、これにより美白作用があると考えられる。
チル基、Ｒ4がメチル基、Ａがエチレン基である［６］
−ショウガオールを本発明の方法を用いて収率良く合成
し、これがチロシナーゼ活性を阻害することを見出し
た。このことから、メラニン合成を阻害する可能性があ
り、これにより美白作用があると考えられる。
【００３１】このようにして得たショウガオール類は、
食品用の香料としての使用だけでなく、化粧品、トイレ
タリー製品に添加する香料組成物として有用である。さ
らに、賦形剤などを加えて皮膚外用剤、解熱剤、鎮痛
剤、抗炎症剤、鎮咳剤、抗酸化剤など種々の薬剤に使用
することができる。
食品用の香料としての使用だけでなく、化粧品、トイレ
タリー製品に添加する香料組成物として有用である。さ
らに、賦形剤などを加えて皮膚外用剤、解熱剤、鎮痛
剤、抗炎症剤、鎮咳剤、抗酸化剤など種々の薬剤に使用
することができる。
【００３２】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。なお、式中のＴｓは、ｐ−トルエンスルホニル基を
示す。
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。なお、式中のＴｓは、ｐ−トルエンスルホニル基を
示す。
【００３３】［実施例１］化合物１（下記式（５））お
よび化合物２（下記式（６））を用いて、本発明の化合
物３（下記式（７））を合成した。
よび化合物２（下記式（６））を用いて、本発明の化合
物３（下記式（７））を合成した。
【００３４】
【化７】
（５）
【００３５】
【化８】
（６）
【００３６】
【化９】
（７）
【００３７】３０ｍｌのテトラヒドロフランに化合物１
（上記式（５））を１．８１ｇ（７．１７ｍｍｏｌ）溶
かし、ドライアイス／アセトンで−７８℃に冷却した。
この溶液に、１．５９Ｍのｎ−ブチルリチウム／ｎ−ヘ
キサン溶液４．５０ｍｌ（７．１６ｍｍｏｌ）を滴下し
た。そして同温度で２０分間攪拌後、２０ｍｌのテトラ
ヒドロフランに化合物２を１．７１ｇ（６．７１ｍｍｏ
ｌ）溶かした溶液を滴下した。滴下後、同温度で１０分
間攪拌後、徐々に昇温した。反応溶液の温度が−２０℃
になったところで、２ｍｌのメタノールを加えて反応を
停止させた。この反応混合物に３０ｍｌの飽和食塩水を
加えた後、３０ｍｌの酢酸エチルエステル（以下酢酸エ
チルと称する）で抽出した。抽出した水層をさらに３０
ｍｌの酢酸エチルで抽出し、これらの酢酸エチル層を合
せ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを留
去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる
精製を行い、淡黄色の高粘度液状化合物 ２．５６ｇ
（収率７５％）を得た。本品の重クロロホルム中で測定
した1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのケミカルシフト値は、
０．７３−０．８９（３Ｈ，ｍ）、０．９７−１．３７
（１０Ｈ，ｍ）、１．５０−２．０６（４Ｈ，ｍ）、
２．４４（３Ｈ，ｓ）、２．５４−３．００（３Ｈ，
ｍ）、３．１５−３．６２（１Ｈ，ｍ）、３．７７（３
Ｈ，ｓ）、３．９４−４．６３（２Ｈ，ｍ）、５．００
−５．８５（２Ｈ，ｍ）、６．６６−６．８０（２Ｈ，
ｍ）、６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ）、７．２７−
７．３７（２Ｈ，ｍ）、７．６４−７．７７（２Ｈ，
ｍ）であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒペ
レット法）で吸収があった波数（ｃｍ -1）は、３５１
０，２９６０，２９３０，２８７０，１７６０，１６０
０，１５１０，１４７０，１２８０，１１８０，１１２
０，１０９０，１０３０であった。さらに、元素分析の
結果は、炭素６７．１６％、水素７．３８％であった。
以上の分析により、得られた化合物が化合物３（上記式
（７））であることを確認した。
（上記式（５））を１．８１ｇ（７．１７ｍｍｏｌ）溶
かし、ドライアイス／アセトンで−７８℃に冷却した。
この溶液に、１．５９Ｍのｎ−ブチルリチウム／ｎ−ヘ
キサン溶液４．５０ｍｌ（７．１６ｍｍｏｌ）を滴下し
た。そして同温度で２０分間攪拌後、２０ｍｌのテトラ
ヒドロフランに化合物２を１．７１ｇ（６．７１ｍｍｏ
ｌ）溶かした溶液を滴下した。滴下後、同温度で１０分
間攪拌後、徐々に昇温した。反応溶液の温度が−２０℃
になったところで、２ｍｌのメタノールを加えて反応を
停止させた。この反応混合物に３０ｍｌの飽和食塩水を
加えた後、３０ｍｌの酢酸エチルエステル（以下酢酸エ
チルと称する）で抽出した。抽出した水層をさらに３０
ｍｌの酢酸エチルで抽出し、これらの酢酸エチル層を合
せ、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。酢酸エチルを留
去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる
精製を行い、淡黄色の高粘度液状化合物 ２．５６ｇ
（収率７５％）を得た。本品の重クロロホルム中で測定
した1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのケミカルシフト値は、
０．７３−０．８９（３Ｈ，ｍ）、０．９７−１．３７
（１０Ｈ，ｍ）、１．５０−２．０６（４Ｈ，ｍ）、
２．４４（３Ｈ，ｓ）、２．５４−３．００（３Ｈ，
ｍ）、３．１５−３．６２（１Ｈ，ｍ）、３．７７（３
Ｈ，ｓ）、３．９４−４．６３（２Ｈ，ｍ）、５．００
−５．８５（２Ｈ，ｍ）、６．６６−６．８０（２Ｈ，
ｍ）、６．８５−６．９５（１Ｈ，ｍ）、７．２７−
７．３７（２Ｈ，ｍ）、７．６４−７．７７（２Ｈ，
ｍ）であった。また、赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒペ
レット法）で吸収があった波数（ｃｍ -1）は、３５１
０，２９６０，２９３０，２８７０，１７６０，１６０
０，１５１０，１４７０，１２８０，１１８０，１１２
０，１０９０，１０３０であった。さらに、元素分析の
結果は、炭素６７．１６％、水素７．３８％であった。
以上の分析により、得られた化合物が化合物３（上記式
（７））であることを確認した。
【００３８】［実施例２］化合物１（上記式（５））お
よび化合物４（下記式（８））を用いて、本発明の化合
物５（下記式（９））を合成した。
よび化合物４（下記式（８））を用いて、本発明の化合
物５（下記式（９））を合成した。
【００３９】
【化１０】
（８）
【００４０】
【化１１】
（９）
【００４１】５０ｍｌのテトラヒドロフランに３．４６
ｇ（１３．７ｍｍｏｌ）の化合物１（上記式（５））を
溶かし、ドライアイス／アセトンで−７８℃に冷却し
た。この溶液に、１．５０Ｍのｎ−ブチルリチウム／ｎ
−ヘキサン溶液９．１０ｍｌ（１３．７ｍｍｏｌ）を滴
下した。そして同温度で２０分間攪拌後、５０ｍｌのテ
トラヒドロフランに３．４９ｇ（１３．０ｍｍｏｌ）の
化合物４（上記式（８））を溶かした溶液を滴下した。
滴下後、同温度で１０分間攪拌後、徐々に昇温した。反
応溶液の温度が−１０℃になったところで、メタノール
２ｍｌを加えて反応を停止させた。この反応混合物に
飽和食塩水 ３０ｍｌを加えて攪拌後、有機層を分取し
た。水層を酢酸エチル ３０ｍｌで抽出し、合せた有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行
い、淡黄色の高粘度液状の化合物 ５．７９ｇ（収率７
９％）を得た。本品の重クロロホルム中で測定した1Ｈ
−ＮＭＲスペクトルのケミカルシフト値は、０．７２−
０．８９（３Ｈ，ｍ）、０．９８−１．２４（４Ｈ，
ｍ）、１．５２−２．０４（４Ｈ，ｍ）、２．４５（３
Ｈ，ｓ）、２．８２−２．９４（２Ｈ，ｍ）、３．１６
−３．６４（１Ｈ，ｍ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、４．
０４−４．６５（２Ｈ，ｍ）、５．０３−５．８５（２
Ｈ，ｍ）、６．７０−６．８４（２Ｈ，ｍ）、６．９６
−７．０５（１Ｈ，ｍ）、７．３２（２Ｈ，ｄ）、７．
４５−７．７５（５Ｈ，ｍ）、８．２０（２Ｈ，ｄ）で
あった。また、赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒペレット
法）で吸収があった波数（ｃｍ -1）は、３５２０，２９
５０，２９３０，２８７０，１７４０，１６００，１５
１０，１４５０，１２８０，１２６０，１２００，１１
４０，１１２０，１０８０，１０６０，１０２０，７１
０であった。さらに、元素分析の結果は、炭素６９．２
２％、水素６．５５％であった。以上の分析により、得
られた化合物が化合物５（上記式（９））であることを
確認した。
ｇ（１３．７ｍｍｏｌ）の化合物１（上記式（５））を
溶かし、ドライアイス／アセトンで−７８℃に冷却し
た。この溶液に、１．５０Ｍのｎ−ブチルリチウム／ｎ
−ヘキサン溶液９．１０ｍｌ（１３．７ｍｍｏｌ）を滴
下した。そして同温度で２０分間攪拌後、５０ｍｌのテ
トラヒドロフランに３．４９ｇ（１３．０ｍｍｏｌ）の
化合物４（上記式（８））を溶かした溶液を滴下した。
滴下後、同温度で１０分間攪拌後、徐々に昇温した。反
応溶液の温度が−１０℃になったところで、メタノール
２ｍｌを加えて反応を停止させた。この反応混合物に
飽和食塩水 ３０ｍｌを加えて攪拌後、有機層を分取し
た。水層を酢酸エチル ３０ｍｌで抽出し、合せた有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行
い、淡黄色の高粘度液状の化合物 ５．７９ｇ（収率７
９％）を得た。本品の重クロロホルム中で測定した1Ｈ
−ＮＭＲスペクトルのケミカルシフト値は、０．７２−
０．８９（３Ｈ，ｍ）、０．９８−１．２４（４Ｈ，
ｍ）、１．５２−２．０４（４Ｈ，ｍ）、２．４５（３
Ｈ，ｓ）、２．８２−２．９４（２Ｈ，ｍ）、３．１６
−３．６４（１Ｈ，ｍ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、４．
０４−４．６５（２Ｈ，ｍ）、５．０３−５．８５（２
Ｈ，ｍ）、６．７０−６．８４（２Ｈ，ｍ）、６．９６
−７．０５（１Ｈ，ｍ）、７．３２（２Ｈ，ｄ）、７．
４５−７．７５（５Ｈ，ｍ）、８．２０（２Ｈ，ｄ）で
あった。また、赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒペレット
法）で吸収があった波数（ｃｍ -1）は、３５２０，２９
５０，２９３０，２８７０，１７４０，１６００，１５
１０，１４５０，１２８０，１２６０，１２００，１１
４０，１１２０，１０８０，１０６０，１０２０，７１
０であった。さらに、元素分析の結果は、炭素６９．２
２％、水素６．５５％であった。以上の分析により、得
られた化合物が化合物５（上記式（９））であることを
確認した。
【００４２】［実施例３］化合物６（下記式（１０））
および化合物４（上記式（８））を用いて、本発明の化
合物７（下記式（１１））を合成した。
および化合物４（上記式（８））を用いて、本発明の化
合物７（下記式（１１））を合成した。
【００４３】
【化１２】
（１０）
【００４４】
【化１３】
化合物７
【００４５】５０ｍｌのテトラヒドロフランに化合物６
（上記式（１０））を３．６５ｇ（１３．７ｍｍｏｌ）
溶かし、ドライアイス／アセトンで−７８℃に冷却し
た。この溶液に、１．５０Ｍのｎ−ブチルリチウム／ｎ
−ヘキサン溶液９．１０ｍｌ（１３．７ｍｍｏｌ）を滴
下した。そして同温度で２０分間攪拌後、５０ｍｌのテ
トラヒドロフランに３．４９ｇ（１３．０ｍｍｏｌ）の
化合物４（上記式（８））を溶かした溶液を滴下した。
滴下後、同温度で１０分間攪拌後、徐々に昇温した。反
応溶媒の温度が−１０℃になったところで、メタノール
２ｍｌを加えて反応を停止させた。この反応混合物に
飽和食塩水 ３０ｍｌを加えて攪拌後、有機層を分取し
た。水層を酢酸エチル ３０ｍｌで抽出し、合せた有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行
い、淡黄色の高粘度液状の化合物 ６．１３ｇ（収率８
１％）を得た。本品の重クロロホルム中で測定した1Ｈ
−ＮＭＲスペクトルのケミカルシフト値は、０．７１−
０．８８（３Ｈ，ｍ）、０．９３−１．２１（４Ｈ，
ｍ）、１．５４−２．００（７Ｈ，ｍ）、２．４４（３
Ｈ，ｓ）、２．６０−３．０３（２Ｈ，ｍ）、３．２２
−３．６４（１Ｈ，ｍ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、３．
９２−４．６９（２Ｈ，ｍ）、４．９５−５．５４（１
Ｈ，ｍ）、６．７０−６．８４（２Ｈ，ｍ）、６．９６
−７．０５（１Ｈ，ｍ）、７．３２（２Ｈ，ｄ）、７．
４５−７．７５（５Ｈ，ｍ）、８．２０（２Ｈ，ｄ）で
あった。また、赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒペレット
法）で吸収があった波数（ｃｍ -1）は、３５１０，２９
５０，２９３０，２８７０，１７４０，１６００，１５
１０，１４５０，１２８０，１２６０，１２００，１１
４０，１１２０，１０６０，１０２０，７１０であっ
た。さらに、元素分析の結果は、炭素６９．９７％、水
素７．２０％であった。以上の分析により、得られた化
合物が化合物７（上記式（１１））であることを確認し
た。
（上記式（１０））を３．６５ｇ（１３．７ｍｍｏｌ）
溶かし、ドライアイス／アセトンで−７８℃に冷却し
た。この溶液に、１．５０Ｍのｎ−ブチルリチウム／ｎ
−ヘキサン溶液９．１０ｍｌ（１３．７ｍｍｏｌ）を滴
下した。そして同温度で２０分間攪拌後、５０ｍｌのテ
トラヒドロフランに３．４９ｇ（１３．０ｍｍｏｌ）の
化合物４（上記式（８））を溶かした溶液を滴下した。
滴下後、同温度で１０分間攪拌後、徐々に昇温した。反
応溶媒の温度が−１０℃になったところで、メタノール
２ｍｌを加えて反応を停止させた。この反応混合物に
飽和食塩水 ３０ｍｌを加えて攪拌後、有機層を分取し
た。水層を酢酸エチル ３０ｍｌで抽出し、合せた有機
層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行
い、淡黄色の高粘度液状の化合物 ６．１３ｇ（収率８
１％）を得た。本品の重クロロホルム中で測定した1Ｈ
−ＮＭＲスペクトルのケミカルシフト値は、０．７１−
０．８８（３Ｈ，ｍ）、０．９３−１．２１（４Ｈ，
ｍ）、１．５４−２．００（７Ｈ，ｍ）、２．４４（３
Ｈ，ｓ）、２．６０−３．０３（２Ｈ，ｍ）、３．２２
−３．６４（１Ｈ，ｍ）、３．７７（３Ｈ，ｓ）、３．
９２−４．６９（２Ｈ，ｍ）、４．９５−５．５４（１
Ｈ，ｍ）、６．７０−６．８４（２Ｈ，ｍ）、６．９６
−７．０５（１Ｈ，ｍ）、７．３２（２Ｈ，ｄ）、７．
４５−７．７５（５Ｈ，ｍ）、８．２０（２Ｈ，ｄ）で
あった。また、赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒペレット
法）で吸収があった波数（ｃｍ -1）は、３５１０，２９
５０，２９３０，２８７０，１７４０，１６００，１５
１０，１４５０，１２８０，１２６０，１２００，１１
４０，１１２０，１０６０，１０２０，７１０であっ
た。さらに、元素分析の結果は、炭素６９．９７％、水
素７．２０％であった。以上の分析により、得られた化
合物が化合物７（上記式（１１））であることを確認し
た。
【００４６】［実施例４］実施例２で得られた化合物５
（上記式（９））を原料として、化合物８（下記式（１
２））を合成した。
（上記式（９））を原料として、化合物８（下記式（１
２））を合成した。
【００４７】
【化１４】
（１２）
【００４８】１，２−ジクロロエタン３９ｇ、イソプロ
ピルアルコール１３ｇおよびグリセリン１３ｇの混合溶
媒に１．３１ｇ（２．５１ｍｍｏｌ）の化合物５（上記
式（９））を溶かし、これにトリエチルアミン １．０
５ｍｌ（７．５３ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン
３９．５ｍｇ（０．１５１ｍｍｏｌ）、およびテトラ
キストリフェニルホスフィンパラジウム（０） ８７．
０ｍｇ（０．０７５３ｍｍｏｌ）を加えてバス温１００
℃で１８時間攪拌した。つぎに、溶媒などを留去した
後、蒸留水 ５０ｍｌ、飽和食塩水２０ｍｌおよび酢酸
エチル ５０ｍｌを加えて分配し、有機層を分取した。
この抽出後の水層を酢酸エチル ２０ｍｌで再抽出し
た。合せた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃
縮した。得られた反応混合物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製した後、酢酸エチルとｎ−ヘキ
サン混合溶媒による再結晶を行い、無色結晶性の化合物
６０３ｍｇ（収率６３％）を得た。本品の重クロロホル
ム中で測定した1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのケミカルシフ
ト値は、０．９１（３Ｈ，ｔ）、１．２５−１．６０
（６Ｈ，ｍ）、２．２１（２Ｈ，ｑ）、２．８５−３．
００（４Ｈ，ｍ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、６．１６
（１Ｈ，ｄ）、６．７９−６．９４（３Ｈ，ｍ）、７．
０５（１Ｈ，ｄ）、７．４５−７．６８（３Ｈ，ｍ）、
８．２０（２Ｈ，ｄ）であった。また、赤外線吸収スペ
クトル（ＫＢｒペレット法）で吸収があった波数（ｃｍ
-1）は、２９５０，２９３０，２８７０，１７３０，１
６６０，１６００，１５１０，１４７０，１４５０，１
４２０，１２７０，１２００，１１５０，１０６０，７
１０であった。さらに、ＣＨＮ元素分析の結果は、炭素
７５．５６％、水素７．７０％であった。以上の分析に
より、得られた化合物が化合物８（上記式（１２））で
あることを確認した。
ピルアルコール１３ｇおよびグリセリン１３ｇの混合溶
媒に１．３１ｇ（２．５１ｍｍｏｌ）の化合物５（上記
式（９））を溶かし、これにトリエチルアミン １．０
５ｍｌ（７．５３ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン
３９．５ｍｇ（０．１５１ｍｍｏｌ）、およびテトラ
キストリフェニルホスフィンパラジウム（０） ８７．
０ｍｇ（０．０７５３ｍｍｏｌ）を加えてバス温１００
℃で１８時間攪拌した。つぎに、溶媒などを留去した
後、蒸留水 ５０ｍｌ、飽和食塩水２０ｍｌおよび酢酸
エチル ５０ｍｌを加えて分配し、有機層を分取した。
この抽出後の水層を酢酸エチル ２０ｍｌで再抽出し
た。合せた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃
縮した。得られた反応混合物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにより精製した後、酢酸エチルとｎ−ヘキ
サン混合溶媒による再結晶を行い、無色結晶性の化合物
６０３ｍｇ（収率６３％）を得た。本品の重クロロホル
ム中で測定した1Ｈ−ＮＭＲスペクトルのケミカルシフ
ト値は、０．９１（３Ｈ，ｔ）、１．２５−１．６０
（６Ｈ，ｍ）、２．２１（２Ｈ，ｑ）、２．８５−３．
００（４Ｈ，ｍ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、６．１６
（１Ｈ，ｄ）、６．７９−６．９４（３Ｈ，ｍ）、７．
０５（１Ｈ，ｄ）、７．４５−７．６８（３Ｈ，ｍ）、
８．２０（２Ｈ，ｄ）であった。また、赤外線吸収スペ
クトル（ＫＢｒペレット法）で吸収があった波数（ｃｍ
-1）は、２９５０，２９３０，２８７０，１７３０，１
６６０，１６００，１５１０，１４７０，１４５０，１
４２０，１２７０，１２００，１１５０，１０６０，７
１０であった。さらに、ＣＨＮ元素分析の結果は、炭素
７５．５６％、水素７．７０％であった。以上の分析に
より、得られた化合物が化合物８（上記式（１２））で
あることを確認した。
【００４９】［実施例５］実施例４で得られた化合物８
（上記式（１２））を原料として、［６］−ショウガオ
ール（化合物９、下記式（１３））を合成した。
（上記式（１２））を原料として、［６］−ショウガオ
ール（化合物９、下記式（１３））を合成した。
【００５０】
【化１５】
（１３）
【００５１】化合物８ ３３０ｍｇ（０．８６７ｍｍｏ
ｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ６ｍｌに溶解
し、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液 ０．９ｍｌを加えて
室温で２時間攪拌した。つぎに、０．５Ｎ塩酸２ｍｌを
加えた後、蒸留水 ５０ｍｌおよびｎ−ヘキサンと酢酸
エチルの混合物（体積比２：１）３０ｍｌおよび２０ｍ
ｌで抽出した。合わせた有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、濃縮した。残留物をシリカゲル薄層クロマト
グラフィーにより精製し、無色液状の化合物 １９８ｍ
ｇ（収率８３％）を得た。本品の1Ｈ−ＮＭＲを重メタ
ノール中で測定したところ、ケミカルシフト値が文献
［Ｃ．Ｃ．Ｃｈｅｎ．，ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｃｈｒｏｍ
ａｔｏｇｒ．３６０（１９８６）１７５］記載の値と一
致し、［６］−ショウガオール（化合物９、上記式（１
３））であることを確認した。
ｌ）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ６ｍｌに溶解
し、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液 ０．９ｍｌを加えて
室温で２時間攪拌した。つぎに、０．５Ｎ塩酸２ｍｌを
加えた後、蒸留水 ５０ｍｌおよびｎ−ヘキサンと酢酸
エチルの混合物（体積比２：１）３０ｍｌおよび２０ｍ
ｌで抽出した。合わせた有機層を無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、濃縮した。残留物をシリカゲル薄層クロマト
グラフィーにより精製し、無色液状の化合物 １９８ｍ
ｇ（収率８３％）を得た。本品の1Ｈ−ＮＭＲを重メタ
ノール中で測定したところ、ケミカルシフト値が文献
［Ｃ．Ｃ．Ｃｈｅｎ．，ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｃｈｒｏｍ
ａｔｏｇｒ．３６０（１９８６）１７５］記載の値と一
致し、［６］−ショウガオール（化合物９、上記式（１
３））であることを確認した。
【００５２】［実施例６］実施例５で得た［６］−ショ
ウガオールについて、Ｌ−ドーパを基質として用いてマ
ッシュルーム由来のチロシナーゼに対する活性阻害試験
を実施した。この結果、［６］−ショウガオールは、ア
ルブチン（東京化成工業製）と同等の阻害活性を有して
いることが判明した。
ウガオールについて、Ｌ−ドーパを基質として用いてマ
ッシュルーム由来のチロシナーゼに対する活性阻害試験
を実施した。この結果、［６］−ショウガオールは、ア
ルブチン（東京化成工業製）と同等の阻害活性を有して
いることが判明した。
【００５３】
【発明の効果】本発明は、食品香料、医薬品、医薬部外
品、化粧品などの分野で利用価値が高いショウガオール
類を化学合成するための新規な中間体、および、該中間
体を用いたショウガオール類の製造方法を提供するもの
であり、その利用価値は高い。
品、化粧品などの分野で利用価値が高いショウガオール
類を化学合成するための新規な中間体、および、該中間
体を用いたショウガオール類の製造方法を提供するもの
であり、その利用価値は高い。
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
// Ａ６１Ｋ 31/121 Ａ６１Ｋ 31/121
Ａ６１Ｐ 11/14 Ａ６１Ｐ 11/14
17/00 17/00
29/00 29/00
39/06 39/06
43/00 １１１ 43/00 １１１
Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Ｆターム(参考） 4C206 AA02 AA04 CB14 KA18 NA14
ZA07 ZA08 ZA62 ZA89 ZB11
ZC20
4H006 AA01 AA02 AA03 AB22 AC41
AC43 AC80 BA25 BA37 BA44
BA48 BB12 BB14 BB20 BE10
GP03 TA02 TB04 TB05
4H039 CA10 CA62 CC20 CG90
Claims (2)
- 【請求項１】下記一般式（１）で示される化合物。 【化１】 （１）（式（１）中のＲ1は、水素原子またはメチル基
を示し、Ｒ2は、炭素数１〜１８の分岐を有してよいア
ルキル基を示し、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水
素原子、低級アルキル基またはフェノール性水酸基の保
護基を示し、Ａは、炭素数１〜４のアルキレン基を示
し、Ｘは、ベンゼンスルホニル基またはトルエンスルホ
ニル基を示す。） - 【請求項２】前記一般式（１）で示される化合物を原料
とする、下記一般式（２）で示されるショウガオール類
の製造方法。 【化２】 （２）（式（２）中のＲ1は、水素原子またはメチル基
を示し、Ｒ2は、炭素数１〜１８の分岐を有してよいア
ルキル基を示し、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ独立に、水
素原子、低級アルキル基またはフェノール性水酸基の保
護基を示し、Ａは、炭素数１〜４のアルキレン基を示
す。）
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|---|---|---|---|
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| DE60319367T DE60319367D1 (de) | 2002-05-13 | 2003-04-25 | Verfahren zur herstellung von shogaol und zwischenprodukte für dessen synthese |
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|---|---|---|---|---|
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