JP2003326127A - Ｃｄａ製造方法およびそれに用いる装置 - Google Patents
Ｃｄａ製造方法およびそれに用いる装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】空気分離装置の排ガスの組成に影響されること
なく、これを有効利用することができ、かつ、ＣＤＡ製
造装置の再生ガスとして使用される自己生成ガスの使用
量を低減させもしくは無くすことができ、しかも、安価
で、管理等が簡単なＣＤＡ製造方法を提供する。 【解決手段】窒素ガス製造装置（空気分離装置）１から
排出される排ガスをＣＤＡ製造装置の吸着剤の再生ガス
として利用している。
なく、これを有効利用することができ、かつ、ＣＤＡ製
造装置の再生ガスとして使用される自己生成ガスの使用
量を低減させもしくは無くすことができ、しかも、安価
で、管理等が簡単なＣＤＡ製造方法を提供する。 【解決手段】窒素ガス製造装置（空気分離装置）１から
排出される排ガスをＣＤＡ製造装置の吸着剤の再生ガス
として利用している。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、空気分離装置の排
ガスを利用してＣＤＡ製造装置の省力化を図るようにし
たＣＤＡ製造方法およびそれに用いる装置に関するもの
である。
ガスを利用してＣＤＡ製造装置の省力化を図るようにし
たＣＤＡ製造方法およびそれに用いる装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】現在、液晶製造工場等に代表される半導
体製造工場では、その製造ラインに使用される窒素ガス
およびＣＤＡ（クリーンドライエアー：清浄乾燥空気）
は、欠かすことのできないガスとなっている。
体製造工場では、その製造ラインに使用される窒素ガス
およびＣＤＡ（クリーンドライエアー：清浄乾燥空気）
は、欠かすことのできないガスとなっている。
【０００３】ＣＤＡを製造するＣＤＡ製造装置の一例と
して、ＰＳＡ（圧力スイング吸着）装置を用いた２塔切
替方式のＣＤＡ製造装置を、図３に示す。図において，
２１はＣＤＡ用原料空気を供給する供給路であり、２
２，２３は内部に吸着剤（活性アルミナ，ゼオライト
等）を配設した２個一対の精製塔であり、供給路２１か
ら供給されるＣＤＡ用原料空気中の水分やＣＯ2 を吸着
する作用をする。このＣＤＡ製造装置では、上記両精製
塔２２，２３で精製工程と再生工程とを交互に切り替え
て行うようにしている。２４は上記両精製塔２２，２３
で精製されたＣＤＡを取り出す製品ＣＤＡ取出路であ
る。２５は上記製品ＣＤＡ取出路２４を通るＣＤＡの一
部を導入する開閉弁２５ａ付きＣＤＡ導入路であり、こ
のＣＤＡ導入路２５に導入したＣＤＡを再生ガスとして
精製工程完了済みの（すなわち、ＣＤＡ用原料空気中の
水分やＣＯ2 を充分に吸着した）精製塔２２（もしくは
２３）に供給しこれを再生する作用をする。
して、ＰＳＡ（圧力スイング吸着）装置を用いた２塔切
替方式のＣＤＡ製造装置を、図３に示す。図において，
２１はＣＤＡ用原料空気を供給する供給路であり、２
２，２３は内部に吸着剤（活性アルミナ，ゼオライト
等）を配設した２個一対の精製塔であり、供給路２１か
ら供給されるＣＤＡ用原料空気中の水分やＣＯ2 を吸着
する作用をする。このＣＤＡ製造装置では、上記両精製
塔２２，２３で精製工程と再生工程とを交互に切り替え
て行うようにしている。２４は上記両精製塔２２，２３
で精製されたＣＤＡを取り出す製品ＣＤＡ取出路であ
る。２５は上記製品ＣＤＡ取出路２４を通るＣＤＡの一
部を導入する開閉弁２５ａ付きＣＤＡ導入路であり、こ
のＣＤＡ導入路２５に導入したＣＤＡを再生ガスとして
精製工程完了済みの（すなわち、ＣＤＡ用原料空気中の
水分やＣＯ2 を充分に吸着した）精製塔２２（もしくは
２３）に供給しこれを再生する作用をする。
【０００４】このように、ＰＳＡ装置等を用いたＣＤＡ
製造装置は、従来から、自己ガス再生方式が主流となっ
ており、半導体製造工場に設置される場合には、２〜３
塔切替方式による連続供給方式が採用されている。この
連続供給方式では、精製塔の再生ガスとして、他の精製
塔で精製したＣＤＡの一部が使用されており、その使用
量は、ＣＤＡの要求純度によって変動するが、一般的に
は、ＣＤＡ用原料空気に対して約１５〜２０％程度とな
っている。
製造装置は、従来から、自己ガス再生方式が主流となっ
ており、半導体製造工場に設置される場合には、２〜３
塔切替方式による連続供給方式が採用されている。この
連続供給方式では、精製塔の再生ガスとして、他の精製
塔で精製したＣＤＡの一部が使用されており、その使用
量は、ＣＤＡの要求純度によって変動するが、一般的に
は、ＣＤＡ用原料空気に対して約１５〜２０％程度とな
っている。
【０００５】一方、空気分離装置では、発生した製品
（窒素ガス，酸素ガス等）とは別に、排ガスが生成され
ている。上記排ガスは、原料空気の前処理設備（ＴＳＡ
装置やＰＳＡ装置・リバーシング熱交換器等）の再生用
として利用されているが、全量が再生用として有効利用
されているものではなく、一部が大気に放出されてい
る。この排ガスの組成は、上記製品の発生割合によって
変動するが、水分およびＣＯ2 が１ｐｐｍ以下である良
質のドライ状態のものである。
（窒素ガス，酸素ガス等）とは別に、排ガスが生成され
ている。上記排ガスは、原料空気の前処理設備（ＴＳＡ
装置やＰＳＡ装置・リバーシング熱交換器等）の再生用
として利用されているが、全量が再生用として有効利用
されているものではなく、一部が大気に放出されてい
る。この排ガスの組成は、上記製品の発生割合によって
変動するが、水分およびＣＯ2 が１ｐｐｍ以下である良
質のドライ状態のものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記のＣＤＡ製造装置
では、再生ガスとして、ＣＤＡ取出路２４を通る精製さ
れたＣＤＡの一部を利用しているため、製品として得ら
れるＣＤＡ量が減少するという問題がある。一方、上記
の空気分離装置は、大気に放出される排ガスが有効利用
されていないという問題がある。この大きな理由は、空
気分離装置で生成した排ガスは、非常にドライな状態で
あるものの、その組成が酸素過剰もしくは窒素過剰であ
り、したがって、直接圧縮等を行ってＣＤＡとして工場
に供給した場合には、使用後のＣＤＡは工場内に放出さ
れるため、窒息や過剰燃焼等の危険を生じるためであ
る。
では、再生ガスとして、ＣＤＡ取出路２４を通る精製さ
れたＣＤＡの一部を利用しているため、製品として得ら
れるＣＤＡ量が減少するという問題がある。一方、上記
の空気分離装置は、大気に放出される排ガスが有効利用
されていないという問題がある。この大きな理由は、空
気分離装置で生成した排ガスは、非常にドライな状態で
あるものの、その組成が酸素過剰もしくは窒素過剰であ
り、したがって、直接圧縮等を行ってＣＤＡとして工場
に供給した場合には、使用後のＣＤＡは工場内に放出さ
れるため、窒息や過剰燃焼等の危険を生じるためであ
る。
【０００７】また、最近では、窒素専用の深冷ガス分離
装置において、内部で生成した排ガスを再度蒸留し、空
気組成にして発生させる装置の設計が行われているが、
設備コストの上昇、および空気組成を維持するための管
理等が必要であり、実用性の低いものとなっている。
装置において、内部で生成した排ガスを再度蒸留し、空
気組成にして発生させる装置の設計が行われているが、
設備コストの上昇、および空気組成を維持するための管
理等が必要であり、実用性の低いものとなっている。
【０００８】本発明は、このような事情に鑑みなされた
もので、空気分離装置の排ガスの組成に影響されること
なく、これを有効利用することができ、かつ、ＣＤＡ製
造装置の再生ガスとして使用される自己生成ガスの使用
量を低減させもしくは無くすことができ、しかも、安価
で、管理等が簡単なＣＤＡ製造方法およびそれに用いる
装置の提供をその目的とする。
もので、空気分離装置の排ガスの組成に影響されること
なく、これを有効利用することができ、かつ、ＣＤＡ製
造装置の再生ガスとして使用される自己生成ガスの使用
量を低減させもしくは無くすことができ、しかも、安価
で、管理等が簡単なＣＤＡ製造方法およびそれに用いる
装置の提供をその目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、空気分離装置から排出される排ガスを、
ＣＤＡ製造装置の吸着剤の再生ガスとして利用するＣＤ
Ａ製造方法を第１の要旨とし、空気分離装置から排出さ
れる排ガスを、ＣＤＡ製造装置の吸着剤の再生ガスとし
て利用するＣＤＡ製造装置を第２の要旨とする。
め、本発明は、空気分離装置から排出される排ガスを、
ＣＤＡ製造装置の吸着剤の再生ガスとして利用するＣＤ
Ａ製造方法を第１の要旨とし、空気分離装置から排出さ
れる排ガスを、ＣＤＡ製造装置の吸着剤の再生ガスとし
て利用するＣＤＡ製造装置を第２の要旨とする。
【００１０】すなわち、本発明のＣＤＡ製造方法は、空
気分離装置から排出される排ガスを、ＣＤＡ製造装置の
吸着剤の再生ガスとして利用している。したがって、Ｃ
ＤＡ製造装置で生成されるＣＤＡを再生ガスとして使用
する使用量を低減させもしくは無くすことができ、その
分、製品として得られるＣＤＡ量を増加させることがで
きる。また、空気分離装置を有効利用することができ、
大幅な動力削減が可能になる。しかも、排ガスを再生ガ
スとして利用するものであり、排ガスの組成に影響され
ることなく、これを有効利用することができる。しか
も、窒素専用の深冷ガス分離装置において、内部で生成
した排ガスを再度蒸留し、空気組成にして発生させる装
置に比べて、安価で、管理等が簡単である。なお、空気
分離装置で発生する排ガスを利用しているため、ＣＤＡ
製造装置の吸着剤の再生時に、吸着剤が排ガス中の過剰
酸素もしくは過剰窒素を一部吸着するものの、精製され
るＣＤＡ組成を大きく変化させる要因にはならない。ま
た、本発明のＣＤＡ製造装置によれば、上記優れた効果
を奏するＣＤＡ製造方法を効率よく実現することができ
る。
気分離装置から排出される排ガスを、ＣＤＡ製造装置の
吸着剤の再生ガスとして利用している。したがって、Ｃ
ＤＡ製造装置で生成されるＣＤＡを再生ガスとして使用
する使用量を低減させもしくは無くすことができ、その
分、製品として得られるＣＤＡ量を増加させることがで
きる。また、空気分離装置を有効利用することができ、
大幅な動力削減が可能になる。しかも、排ガスを再生ガ
スとして利用するものであり、排ガスの組成に影響され
ることなく、これを有効利用することができる。しか
も、窒素専用の深冷ガス分離装置において、内部で生成
した排ガスを再度蒸留し、空気組成にして発生させる装
置に比べて、安価で、管理等が簡単である。なお、空気
分離装置で発生する排ガスを利用しているため、ＣＤＡ
製造装置の吸着剤の再生時に、吸着剤が排ガス中の過剰
酸素もしくは過剰窒素を一部吸着するものの、精製され
るＣＤＡ組成を大きく変化させる要因にはならない。ま
た、本発明のＣＤＡ製造装置によれば、上記優れた効果
を奏するＣＤＡ製造方法を効率よく実現することができ
る。
【００１１】本発明のＣＤＡ製造方法において、上記空
気分離装置から排出される排ガスを排ガス貯留タンクに
導入してここで溜め、この溜めた排ガスをＣＤＡ製造装
置の吸着剤の再生ガスとして利用し、上記空気分離装置
が停止して排ガス貯留タンクに排ガスを導入できなくな
った場合に、上記ＣＤＡ製造装置で製造される製品ＣＤ
Ａの一部を減圧して排ガス貯留タンクに導入する場合に
は、上記空気分離装置が停止して排ガス貯留タンクに排
ガスを導入できなくなると、製品ＣＤＡ取出路内のＣＤ
Ａの一部を減圧して排ガス貯留タンクに導入してここで
溜めることができる。このため、排ガス貯留タンク内に
常に排ガスおよびＣＤＡの少なくとも一方を溜めること
ができ、ＣＤＡ製造装置の運転に支障をきたすことがな
くなる。また、本発明のＣＤＡ製造装置において、上記
空気分離装置から排出される排ガスを導入して溜める排
ガス貯留タンクを設け、この排ガス貯留タンクで溜めた
排ガスをＣＤＡ製造装置の吸着剤の再生ガスとして利用
し、上記排ガス貯留タンクに、上記ＣＤＡ製造装置の製
品ＣＤＡ取出路から分岐する分岐路を連通し、この分岐
路に減圧装置を設け、上記空気分離装置が停止して排ガ
ス貯留タンクに排ガスを導入できなくなった場合に、製
品ＣＤＡ取出路内の製品ＣＤＡの一部を分岐路に通し減
圧装置で減圧して排ガス貯留タンクに導入する場合に
も、上記と同様の効果を奏する。
気分離装置から排出される排ガスを排ガス貯留タンクに
導入してここで溜め、この溜めた排ガスをＣＤＡ製造装
置の吸着剤の再生ガスとして利用し、上記空気分離装置
が停止して排ガス貯留タンクに排ガスを導入できなくな
った場合に、上記ＣＤＡ製造装置で製造される製品ＣＤ
Ａの一部を減圧して排ガス貯留タンクに導入する場合に
は、上記空気分離装置が停止して排ガス貯留タンクに排
ガスを導入できなくなると、製品ＣＤＡ取出路内のＣＤ
Ａの一部を減圧して排ガス貯留タンクに導入してここで
溜めることができる。このため、排ガス貯留タンク内に
常に排ガスおよびＣＤＡの少なくとも一方を溜めること
ができ、ＣＤＡ製造装置の運転に支障をきたすことがな
くなる。また、本発明のＣＤＡ製造装置において、上記
空気分離装置から排出される排ガスを導入して溜める排
ガス貯留タンクを設け、この排ガス貯留タンクで溜めた
排ガスをＣＤＡ製造装置の吸着剤の再生ガスとして利用
し、上記排ガス貯留タンクに、上記ＣＤＡ製造装置の製
品ＣＤＡ取出路から分岐する分岐路を連通し、この分岐
路に減圧装置を設け、上記空気分離装置が停止して排ガ
ス貯留タンクに排ガスを導入できなくなった場合に、製
品ＣＤＡ取出路内の製品ＣＤＡの一部を分岐路に通し減
圧装置で減圧して排ガス貯留タンクに導入する場合に
も、上記と同様の効果を奏する。
【００１２】
【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施の形態を図
面にもとづいて詳しく説明する。
面にもとづいて詳しく説明する。
【００１３】図１は本発明のＣＤＡ製造装置の一実施の
形態を示している。この実施の形態では、ＣＤＡ製造装
置は、窒素ガス製造装置１で発生する排ガスを溜める再
生ガスホルダー（排ガス貯留タンク）２を有している。
より詳しく説明すると、窒素ガス製造装置１で発生した
排ガスを排ガス取出路３で取り出し、その一部を第１分
岐路４を介して窒素ガス製造装置１の吸着塔，熱交換器
等の前処理設備（図示せず）の再生用として前処理設備
側に送給し、その残部を第２分岐路５を介して再生ガス
ホルダー２に導入している。すなわち、上記再生ガスホ
ルダー２では、第２分岐路５から導入された排ガス（す
なわち、窒素ガス製造装置１から取り出された排ガスの
うち、上記前処理設備の再生用として利用されなかった
排ガス）を、後述する吸着剤（図示せず）の再生用とし
て利用するために溜めている。図において、６は圧縮機
（図示せず）から取り入れた原料空気を窒素ガス製造装
置１に導入する原料空気導入路であり、原料空気中の水
分やＣＯ2 を吸着する２個一対の吸着塔，熱交換器等の
前処理設備を備えている。７は窒素ガス製造装置１で発
生した窒素ガスを取り出す製品窒素ガス取出路である。
形態を示している。この実施の形態では、ＣＤＡ製造装
置は、窒素ガス製造装置１で発生する排ガスを溜める再
生ガスホルダー（排ガス貯留タンク）２を有している。
より詳しく説明すると、窒素ガス製造装置１で発生した
排ガスを排ガス取出路３で取り出し、その一部を第１分
岐路４を介して窒素ガス製造装置１の吸着塔，熱交換器
等の前処理設備（図示せず）の再生用として前処理設備
側に送給し、その残部を第２分岐路５を介して再生ガス
ホルダー２に導入している。すなわち、上記再生ガスホ
ルダー２では、第２分岐路５から導入された排ガス（す
なわち、窒素ガス製造装置１から取り出された排ガスの
うち、上記前処理設備の再生用として利用されなかった
排ガス）を、後述する吸着剤（図示せず）の再生用とし
て利用するために溜めている。図において、６は圧縮機
（図示せず）から取り入れた原料空気を窒素ガス製造装
置１に導入する原料空気導入路であり、原料空気中の水
分やＣＯ2 を吸着する２個一対の吸着塔，熱交換器等の
前処理設備を備えている。７は窒素ガス製造装置１で発
生した窒素ガスを取り出す製品窒素ガス取出路である。
【００１４】８は再生ガスホルダー２に溜めた排ガスを
再生ガスとして取り出す再生ガス供給路であり、再生ガ
スホルダー２に溜めた排ガスを取り出す取出路９と、後
述する再生ガス導入路４３，４４に連結する開閉弁１０
ａ付き再生ガス導入路１０とからなっている。この再生
ガス導入路１０は、図３に示す従来のＣＤＡ製造装置に
おいて、ＣＤＡ導入路２５の一端部（製品ＣＤＡ取出路
２４側の端部）を製品ＣＤＡ取出路２４から切り離して
上記取出路９に連結したものである。なお、上記取出路
９と再生ガス導入路１０との連結部分は図示せず。
再生ガスとして取り出す再生ガス供給路であり、再生ガ
スホルダー２に溜めた排ガスを取り出す取出路９と、後
述する再生ガス導入路４３，４４に連結する開閉弁１０
ａ付き再生ガス導入路１０とからなっている。この再生
ガス導入路１０は、図３に示す従来のＣＤＡ製造装置に
おいて、ＣＤＡ導入路２５の一端部（製品ＣＤＡ取出路
２４側の端部）を製品ＣＤＡ取出路２４から切り離して
上記取出路９に連結したものである。なお、上記取出路
９と再生ガス導入路１０との連結部分は図示せず。
【００１５】１１はバックアップラインであり、製品Ｃ
ＤＡ取出路２４と再生ガスホルダー２とを接続するＣＤ
Ａ導入路１２に減圧弁等の減圧装置１３を取り付けたも
のからなっている。この減圧装置１３の設定圧力は、窒
素ガス製造装置１から取り出された排ガスが再生ガスホ
ルダー２に優先的に導入されるように、所定の（例え
ば、窒素ガス製造装置１の通常運転時における、排ガス
の導入圧力より低い）圧力に設定されている。このよう
なバックアップライン１１により、第２分岐路６から導
入される排ガスの圧力が上記設定圧力より低下した場合
（例えば、空気分離装置１が不具合等で停止して再生ガ
スホルダー２に排ガスを送給できなくなった場合）に、
製品ＣＤＡ取出路２４内のＣＤＡ（すなわち、自己生成
ガス）を再生ガスホルダー２に導入してここで溜め、Ｃ
ＤＡ製造装置の運転に支障をきたすことがないようにし
ている。また、上記バックアップライン１１を介して再
生ガスホルダー２内の排ガスが製品ＣＤＡ取出路２４に
流入することがないようにもしている。
ＤＡ取出路２４と再生ガスホルダー２とを接続するＣＤ
Ａ導入路１２に減圧弁等の減圧装置１３を取り付けたも
のからなっている。この減圧装置１３の設定圧力は、窒
素ガス製造装置１から取り出された排ガスが再生ガスホ
ルダー２に優先的に導入されるように、所定の（例え
ば、窒素ガス製造装置１の通常運転時における、排ガス
の導入圧力より低い）圧力に設定されている。このよう
なバックアップライン１１により、第２分岐路６から導
入される排ガスの圧力が上記設定圧力より低下した場合
（例えば、空気分離装置１が不具合等で停止して再生ガ
スホルダー２に排ガスを送給できなくなった場合）に、
製品ＣＤＡ取出路２４内のＣＤＡ（すなわち、自己生成
ガス）を再生ガスホルダー２に導入してここで溜め、Ｃ
ＤＡ製造装置の運転に支障をきたすことがないようにし
ている。また、上記バックアップライン１１を介して再
生ガスホルダー２内の排ガスが製品ＣＤＡ取出路２４に
流入することがないようにもしている。
【００１６】１４は一次圧制御ラインであり、再生ガス
ホルダー２から延びる排ガス放出管１５に安全弁等の一
次圧制御装置１６を設け、この一次圧制御装置１６の設
定圧力を所定圧力（例えば、上記排ガスの導入圧力）に
設定し、再生ガスホルダー２内の圧力が上記所定圧力以
上に昇圧した場合に、排ガス放出管１５から再生ガスホ
ルダー２内の再生ガスを放出し、窒素ガス製造装置１の
運転に影響を与えないようにしている。上記再生ガスホ
ルダー２内が昇圧する場合としては、ＰＳＡ装置の運転
サイクルは一般的には５〜１０分程度の周期であり、そ
のサイクル中の工程には、再生ガスを必要としない工程
が存在するが、窒素ガス製造装置１から排気される排ガ
スは連続であることから、一時的に再生ガスホルダー２
内の圧力が上昇し、窒素ガス製造装置１からの排ガスの
排気に支障をきたす可能性がある場合等が挙げられる。
ホルダー２から延びる排ガス放出管１５に安全弁等の一
次圧制御装置１６を設け、この一次圧制御装置１６の設
定圧力を所定圧力（例えば、上記排ガスの導入圧力）に
設定し、再生ガスホルダー２内の圧力が上記所定圧力以
上に昇圧した場合に、排ガス放出管１５から再生ガスホ
ルダー２内の再生ガスを放出し、窒素ガス製造装置１の
運転に影響を与えないようにしている。上記再生ガスホ
ルダー２内が昇圧する場合としては、ＰＳＡ装置の運転
サイクルは一般的には５〜１０分程度の周期であり、そ
のサイクル中の工程には、再生ガスを必要としない工程
が存在するが、窒素ガス製造装置１から排気される排ガ
スは連続であることから、一時的に再生ガスホルダー２
内の圧力が上昇し、窒素ガス製造装置１からの排ガスの
排気に支障をきたす可能性がある場合等が挙げられる。
【００１７】また、この実施の形態では、ＣＤＡ製造装
置は、図３に示す従来の、ＰＳＡ装置を用いた２塔切替
方式のＣＤＡ製造装置と同様構造の装置を有している。
図１において、図３に示すＣＤＡ製造装置と同様の部分
には同じ符号を付している。より詳しく説明すると、図
１において、３１，３２は（ＣＤＡ用原料空気を供給す
る）供給路２１から分岐した分岐路であり、それぞれ、
（活性アルミナ，ゼオライト等の吸着剤を内蔵した）各
精製塔２２，２３の入口路３３，３４に接続している。
３５は流路切換弁であり、３６〜３８は開閉弁３６ａ〜
３８ａ付き放出路である。３９，４０は上記各精製塔２
２，２３の出口路４１，４２に接続する逆止弁３９ａ，
４０ａ付きＣＤＡ取出路であり、上記各精製塔２２，２
３で精製したＣＤＡを製品ＣＤＡ取出路２４に送給して
いる。４３，４４は一端が上記再生ガス供給路８に接続
し他端が上記各精製塔２２，２３の出口路４１，４２に
接続する逆止弁４３ａ，４４ａ付き再生ガス導入路であ
る。
置は、図３に示す従来の、ＰＳＡ装置を用いた２塔切替
方式のＣＤＡ製造装置と同様構造の装置を有している。
図１において、図３に示すＣＤＡ製造装置と同様の部分
には同じ符号を付している。より詳しく説明すると、図
１において、３１，３２は（ＣＤＡ用原料空気を供給す
る）供給路２１から分岐した分岐路であり、それぞれ、
（活性アルミナ，ゼオライト等の吸着剤を内蔵した）各
精製塔２２，２３の入口路３３，３４に接続している。
３５は流路切換弁であり、３６〜３８は開閉弁３６ａ〜
３８ａ付き放出路である。３９，４０は上記各精製塔２
２，２３の出口路４１，４２に接続する逆止弁３９ａ，
４０ａ付きＣＤＡ取出路であり、上記各精製塔２２，２
３で精製したＣＤＡを製品ＣＤＡ取出路２４に送給して
いる。４３，４４は一端が上記再生ガス供給路８に接続
し他端が上記各精製塔２２，２３の出口路４１，４２に
接続する逆止弁４３ａ，４４ａ付き再生ガス導入路であ
る。
【００１８】上記構成において、例えば、つぎのように
してＣＤＡ製造装置を運転することができる。すなわ
ち、窒素ガス製造装置１から排気される排ガスの一部を
排ガス取出路３，第２分岐路５を通して再生ガスホルダ
ー２に導入し、ここで溜める。一方、両精製塔２２，２
３のうち、一方の精製塔２２にＣＤＡ用原料空気が流入
して精製工程にあるときに（すなわち、逆止弁３９ａが
開き、開閉弁３６ａ，３８ａ、逆止弁４０ａ，４３ａが
閉じている状態で）、他方の精製塔２３に再生ガスを供
給し（すなわち、開閉弁３７ａ，逆止弁４４ａが開いて
いる状態で）、この精製塔２３の吸着剤を再生する。ま
た、他方の精製塔２３にＣＤＡ用原料空気が流入して精
製工程にあるときに（すなわち、逆止弁４０ａが開き、
開閉弁３７ａ，３８ａ、逆止弁３９ａ，４４ａが閉じて
いる状態で）、一方の精製塔２２に再生ガスを供給し
（すなわち、開閉弁３６ａ，逆止弁４３ａが開いている
状態で）、この精製塔２２の吸着剤を再生する。
してＣＤＡ製造装置を運転することができる。すなわ
ち、窒素ガス製造装置１から排気される排ガスの一部を
排ガス取出路３，第２分岐路５を通して再生ガスホルダ
ー２に導入し、ここで溜める。一方、両精製塔２２，２
３のうち、一方の精製塔２２にＣＤＡ用原料空気が流入
して精製工程にあるときに（すなわち、逆止弁３９ａが
開き、開閉弁３６ａ，３８ａ、逆止弁４０ａ，４３ａが
閉じている状態で）、他方の精製塔２３に再生ガスを供
給し（すなわち、開閉弁３７ａ，逆止弁４４ａが開いて
いる状態で）、この精製塔２３の吸着剤を再生する。ま
た、他方の精製塔２３にＣＤＡ用原料空気が流入して精
製工程にあるときに（すなわち、逆止弁４０ａが開き、
開閉弁３７ａ，３８ａ、逆止弁３９ａ，４４ａが閉じて
いる状態で）、一方の精製塔２２に再生ガスを供給し
（すなわち、開閉弁３６ａ，逆止弁４３ａが開いている
状態で）、この精製塔２２の吸着剤を再生する。
【００１９】上記のように、この実施の形態では、ＣＤ
Ａ製造装置の吸着剤の再生に用いる再生ガスとして、窒
素ガス製造装置１から排気される排ガスの一部を利用す
るようにしているため、ＣＤＡ製造装置で生成されるＣ
ＤＡを再生ガスとして使用する量を低減させもしくは無
くすことができ、その分、製品として得られるＣＤＡ量
を増加させることができる。しかも、大幅な動力削減も
可能となる。しかも、排ガスを再生ガスとして利用する
ものであり、排ガスの組成に影響されることなく、これ
を有効利用することができる。
Ａ製造装置の吸着剤の再生に用いる再生ガスとして、窒
素ガス製造装置１から排気される排ガスの一部を利用す
るようにしているため、ＣＤＡ製造装置で生成されるＣ
ＤＡを再生ガスとして使用する量を低減させもしくは無
くすことができ、その分、製品として得られるＣＤＡ量
を増加させることができる。しかも、大幅な動力削減も
可能となる。しかも、排ガスを再生ガスとして利用する
ものであり、排ガスの組成に影響されることなく、これ
を有効利用することができる。
【００２０】図２は上記窒素ガス製造装置１の一例を示
している。この例では、一般に空気を原料とし、これを
空気圧縮機５１で圧縮したのち、ドレン分離器５２，フ
ロン冷却器５３を通し、さらに（例えば、ＰＳＡ装置を
用いた２塔切替方式の）２個一対の吸着塔５４，５５に
入れて原料空気中の水分やＣＯ2 を吸着除去し、つい
で、上記吸着塔５４（５５）を経た原料空気を原料空気
導入路５６を介して熱交換器５７に導入し、ここで冷媒
と熱交換させて超低温に冷却している。つぎに、この超
低温に冷却した原料空気を原料空気導入路５６を介して
精留塔５８に導入し、ここで深冷液化分離して製品窒素
ガスを製造し、これをガス取出路５９を介して上記熱交
換器５７に導入し、ここで常温近傍に昇温させてメイン
パイプ（製品窒素ガス取出路）６０に送り込むという工
程を経て製造されている。
している。この例では、一般に空気を原料とし、これを
空気圧縮機５１で圧縮したのち、ドレン分離器５２，フ
ロン冷却器５３を通し、さらに（例えば、ＰＳＡ装置を
用いた２塔切替方式の）２個一対の吸着塔５４，５５に
入れて原料空気中の水分やＣＯ2 を吸着除去し、つい
で、上記吸着塔５４（５５）を経た原料空気を原料空気
導入路５６を介して熱交換器５７に導入し、ここで冷媒
と熱交換させて超低温に冷却している。つぎに、この超
低温に冷却した原料空気を原料空気導入路５６を介して
精留塔５８に導入し、ここで深冷液化分離して製品窒素
ガスを製造し、これをガス取出路５９を介して上記熱交
換器５７に導入し、ここで常温近傍に昇温させてメイン
パイプ（製品窒素ガス取出路）６０に送り込むという工
程を経て製造されている。
【００２１】上記精留塔５８についてより詳しく説明す
ると、この精留塔５８は、熱交換器５７により超低温に
冷却された原料空気をさらに冷却し、その一部を液化し
液体空気６１として底部に溜め、窒素のみを気体状態で
上部に溜めるようになっている。また、精留塔５８は、
塔頂に凝縮器６２ａ内蔵の分縮器６２を備えており、上
記凝縮器６２ａには、精留塔５８の上部に溜まる窒素ガ
スの一部が第１還流液パイプ６３ａを介して送入され
る。
ると、この精留塔５８は、熱交換器５７により超低温に
冷却された原料空気をさらに冷却し、その一部を液化し
液体空気６１として底部に溜め、窒素のみを気体状態で
上部に溜めるようになっている。また、精留塔５８は、
塔頂に凝縮器６２ａ内蔵の分縮器６２を備えており、上
記凝縮器６２ａには、精留塔５８の上部に溜まる窒素ガ
スの一部が第１還流液パイプ６３ａを介して送入され
る。
【００２２】上記分縮器６２内は精留塔５８よりも減圧
状態になっており、精留塔５８の底部に溜まる貯留液体
空気（Ｎ2 ：５０〜７０％，Ｏ2 ：３０〜５０％）６１
が膨張弁６４ａ付き送給パイプ６４を経て送り込まれ、
気化して内部温度を液体窒素の沸点以下の温度に冷却す
るようになっている。この冷却により、凝縮器６２ａ内
に送入された窒素ガスが液化し、この液体窒素が第２還
流液パイプ６３ｂを通って精留塔５８の上部に供給され
る。この精留塔５８の上部には、液体窒素貯槽（図示せ
ず）からも液体窒素が導入パイプ６５を経て供給されて
おり、これら液体窒素が精留塔５８の上部を経て精留塔
５８内を流下し、精留塔５８の底部から上昇する原料空
気と向流的に接触し冷却してその一部を液化するように
なっている。この過程で原料空気中の高沸点成分は液化
されて精留塔５８の底部に溜まり、低沸点成分の窒素ガ
スが精留塔５８の上部に溜まる。
状態になっており、精留塔５８の底部に溜まる貯留液体
空気（Ｎ2 ：５０〜７０％，Ｏ2 ：３０〜５０％）６１
が膨張弁６４ａ付き送給パイプ６４を経て送り込まれ、
気化して内部温度を液体窒素の沸点以下の温度に冷却す
るようになっている。この冷却により、凝縮器６２ａ内
に送入された窒素ガスが液化し、この液体窒素が第２還
流液パイプ６３ｂを通って精留塔５８の上部に供給され
る。この精留塔５８の上部には、液体窒素貯槽（図示せ
ず）からも液体窒素が導入パイプ６５を経て供給されて
おり、これら液体窒素が精留塔５８の上部を経て精留塔
５８内を流下し、精留塔５８の底部から上昇する原料空
気と向流的に接触し冷却してその一部を液化するように
なっている。この過程で原料空気中の高沸点成分は液化
されて精留塔５８の底部に溜まり、低沸点成分の窒素ガ
スが精留塔５８の上部に溜まる。
【００２３】図において、６６は分縮器６２内の気化液
体空気（排ガス）を熱交換器５７に送り込みここを通る
原料空気を降温させる排ガス取出路であり、上記両分岐
路４，５（図示せず）に分岐している。６７は窒素ガス
中のＨｅガス（窒素ガスより沸点が低い）を気体のまま
大気中に放出する放出パイプである。６８は熱交換器５
７，精留塔５８等を断熱保冷する真空保冷箱である。
体空気（排ガス）を熱交換器５７に送り込みここを通る
原料空気を降温させる排ガス取出路であり、上記両分岐
路４，５（図示せず）に分岐している。６７は窒素ガス
中のＨｅガス（窒素ガスより沸点が低い）を気体のまま
大気中に放出する放出パイプである。６８は熱交換器５
７，精留塔５８等を断熱保冷する真空保冷箱である。
【００２４】
【実施例】５，０００Ｎｍ3 ／ｈｒの窒素ガス製造装置
１および２０，０００Ｎｍ3 ／ｈｒのＣＤＡ製造装置を
例として、その効果を説明する。
１および２０，０００Ｎｍ3 ／ｈｒのＣＤＡ製造装置を
例として、その効果を説明する。
【００２５】上記窒素ガス製造装置１の仕様は、つぎの
通りである。すなわち、窒素発生圧力は０．７５ＭＰａ
で、原料空気量は１３，０００Ｎｍ3 ／ｈｒで、窒素ガ
ス発生量は５，０００Ｎｍ3 ／ｈｒで、排ガス量は８，
０００Ｎｍ3 ／ｈｒであり、この排ガス量のうち、窒素
ガス製造装置１の前処理設備の再生に用いる再生ガス量
は２，６００Ｎｍ3 ／ｈｒで、再生ガスホルダー２に導
入する排ガス量は５，４００Ｎｍ3 ／ｈｒである。
通りである。すなわち、窒素発生圧力は０．７５ＭＰａ
で、原料空気量は１３，０００Ｎｍ3 ／ｈｒで、窒素ガ
ス発生量は５，０００Ｎｍ3 ／ｈｒで、排ガス量は８，
０００Ｎｍ3 ／ｈｒであり、この排ガス量のうち、窒素
ガス製造装置１の前処理設備の再生に用いる再生ガス量
は２，６００Ｎｍ3 ／ｈｒで、再生ガスホルダー２に導
入する排ガス量は５，４００Ｎｍ3 ／ｈｒである。
【００２６】一方、ＣＤＡ製造装置の仕様は、つぎの通
りである。すなわち、ＣＤＡ発生圧力は０．７ＭＰａ
で、ＣＤＡ用原料空気量は２５，０００Ｎｍ3 ／ｈｒ
で、ＣＤＡ発生量は２０，０００Ｎｍ3 ／ｈｒで、自己
再生ガス量は５，０００Ｎｍ3 ／ｈｒである。この自己
再生ガス量のうち、塔切替時のＣＤＡ損失量は１，２５
０Ｎｍ3 ／ｈｒで、実質塔再生ガス量は３，７５０Ｎｍ
3 ／ｈｒである。
りである。すなわち、ＣＤＡ発生圧力は０．７ＭＰａ
で、ＣＤＡ用原料空気量は２５，０００Ｎｍ3 ／ｈｒ
で、ＣＤＡ発生量は２０，０００Ｎｍ3 ／ｈｒで、自己
再生ガス量は５，０００Ｎｍ3 ／ｈｒである。この自己
再生ガス量のうち、塔切替時のＣＤＡ損失量は１，２５
０Ｎｍ3 ／ｈｒで、実質塔再生ガス量は３，７５０Ｎｍ
3 ／ｈｒである。
【００２７】このように、塔切替時のＣＤＡ損失量につ
いては、窒素ガス製造装置１の排ガスを利用することは
できないが、ＣＤＡ製造装置の吸着剤の再生ガスとして
は、全量利用が可能となる。
いては、窒素ガス製造装置１の排ガスを利用することは
できないが、ＣＤＡ製造装置の吸着剤の再生ガスとして
は、全量利用が可能となる。
【００２８】再生ガスは瞬時Ｍａｘ値として、５，００
０Ｎｍ3 ／ｈｒが必要であり、平均値は３，７５０Ｎｍ
3 ／ｈｒである。このときのＣＤＡ製造装置の製造電力
原単位（冷却塔等の雑電力を含む）は、０．１４５ｋＷ
／Ｎｍ3 である。
０Ｎｍ3 ／ｈｒが必要であり、平均値は３，７５０Ｎｍ
3 ／ｈｒである。このときのＣＤＡ製造装置の製造電力
原単位（冷却塔等の雑電力を含む）は、０．１４５ｋＷ
／Ｎｍ3 である。
【００２９】したがって、上記窒素ガス製造装置１で発
生する排ガスを上記ＣＤＡ製造装置の再生ガスとして利
用した場合には、ＣＤＡ発生量は、（２０，０００＋
３，７５０＝）２３，７５０Ｎｍ3 ／ｈｒであり、製造
電力原単位は、（０．１４５×２０，０００÷２３，７
５０＝）０．１２２ｋＷ／Ｎｍ3 である。したがって、
製造電力原単位改善率は１５．８％となり、削減電力は
４５７．９ｋＷとなる。
生する排ガスを上記ＣＤＡ製造装置の再生ガスとして利
用した場合には、ＣＤＡ発生量は、（２０，０００＋
３，７５０＝）２３，７５０Ｎｍ3 ／ｈｒであり、製造
電力原単位は、（０．１４５×２０，０００÷２３，７
５０＝）０．１２２ｋＷ／Ｎｍ3 である。したがって、
製造電力原単位改善率は１５．８％となり、削減電力は
４５７．９ｋＷとなる。
【００３０】また、上記２０，０００Ｎｍ3 ／ｈｒのＣ
ＤＡ製造装置は通常、数分割され、製作される。これ
は、１系統によるトラブル発生時のＣＤＡ供給停止を防
ぐためである。例えば、この実施例において、１基あた
り５０００Ｎｍ3 ／ｈｒ単位の装置を組み合わせた場
合、最低４基，予備１基の５基の装置が一般的な設計と
なる。その５基の装置を連絡し、１基の２０，０００Ｎ
ｍ3 ／ｈｒのＣＤＡ製造装置を設置する。これに対し、
上記窒素ガス製造装置１で発生する排ガスを上記ＣＤＡ
製造装置の再生ガスとして利用した場合（本発明を採用
した場合）には、再生ガスを不要とするため、最低３
基，予備１基の４基の装置ですむ。すなわち、１基分の
設備が不要になる。この効果として、設備費の２０％を
削減することができる。ただし、別途、排ガス利用のた
めの設備が必要となるが、その設備費を差し引いても、
１０〜１５％の設備費の削減が可能となる。
ＤＡ製造装置は通常、数分割され、製作される。これ
は、１系統によるトラブル発生時のＣＤＡ供給停止を防
ぐためである。例えば、この実施例において、１基あた
り５０００Ｎｍ3 ／ｈｒ単位の装置を組み合わせた場
合、最低４基，予備１基の５基の装置が一般的な設計と
なる。その５基の装置を連絡し、１基の２０，０００Ｎ
ｍ3 ／ｈｒのＣＤＡ製造装置を設置する。これに対し、
上記窒素ガス製造装置１で発生する排ガスを上記ＣＤＡ
製造装置の再生ガスとして利用した場合（本発明を採用
した場合）には、再生ガスを不要とするため、最低３
基，予備１基の４基の装置ですむ。すなわち、１基分の
設備が不要になる。この効果として、設備費の２０％を
削減することができる。ただし、別途、排ガス利用のた
めの設備が必要となるが、その設備費を差し引いても、
１０〜１５％の設備費の削減が可能となる。
【００３１】この実施例では、窒素ガス製造装置１の排
ガス圧力を、ＣＤＡ製造装置のＰＳＡ装置の再生に必要
な最低圧力（０．０３ＭＰａ）にし、製造電力原単位改
善率を算出しているが、排ガス圧力が高い場合には、Ｐ
ＳＡ装置の吸着開始の復圧用として利用することができ
る。したがって、上記塔切替時の排ガス損失量を低減す
ることができ、製造電力原単位をさらに低減することが
可能になる。ただし、復圧時に排ガスを利用した場合
に、この利用量によっては、排ガスの酸素もしくは窒素
濃度が、ＣＤＡ組成に影響を及ぼす可能性があるため、
要求純度仕様に合わせた設計が必要となる。
ガス圧力を、ＣＤＡ製造装置のＰＳＡ装置の再生に必要
な最低圧力（０．０３ＭＰａ）にし、製造電力原単位改
善率を算出しているが、排ガス圧力が高い場合には、Ｐ
ＳＡ装置の吸着開始の復圧用として利用することができ
る。したがって、上記塔切替時の排ガス損失量を低減す
ることができ、製造電力原単位をさらに低減することが
可能になる。ただし、復圧時に排ガスを利用した場合
に、この利用量によっては、排ガスの酸素もしくは窒素
濃度が、ＣＤＡ組成に影響を及ぼす可能性があるため、
要求純度仕様に合わせた設計が必要となる。
【００３２】なお、上記実施の形態において、精製塔２
２，２３等のＰＳＡ装置が複数台ある場合には、再生ガ
スホルダー２を共用し、ＰＳＡ装置の運転サイクルを再
生ガスの瞬断がないように組み合わせることにより、窒
素ガス製造装置１側の排ガスの放出に影響を及ぼすこと
が防止されるとともに、全排ガスが有効利用され、製造
コストの低減が図られる。
２，２３等のＰＳＡ装置が複数台ある場合には、再生ガ
スホルダー２を共用し、ＰＳＡ装置の運転サイクルを再
生ガスの瞬断がないように組み合わせることにより、窒
素ガス製造装置１側の排ガスの放出に影響を及ぼすこと
が防止されるとともに、全排ガスが有効利用され、製造
コストの低減が図られる。
【００３３】また、上記実施の形態では、再生ガスホル
ダー２を用いているが、これに限定するものではなく、
再生ガスホルダー２を用いなくてもよい。この場合に
は、第２分岐路５を再生ガス供給路８に直接接続するこ
と等が行われる。また、ＣＤＡの組成変動がある程度許
される場合には、切替工程の圧力充填時（復圧時）に排
ガスを使用することができる。ただし、排ガスの圧力に
よっては、昇圧設備等が必要となる。その場合には、Ｃ
ＤＡ用原料空気の圧縮に必要とする圧縮動力に対して、
排ガスの圧縮に必要とする圧縮動力は、水分を含まない
排ガスを圧縮する方が有利であること、および排ガス自
身、ある程度の圧力を保持していることから、排ガス圧
縮の方が有利となる。
ダー２を用いているが、これに限定するものではなく、
再生ガスホルダー２を用いなくてもよい。この場合に
は、第２分岐路５を再生ガス供給路８に直接接続するこ
と等が行われる。また、ＣＤＡの組成変動がある程度許
される場合には、切替工程の圧力充填時（復圧時）に排
ガスを使用することができる。ただし、排ガスの圧力に
よっては、昇圧設備等が必要となる。その場合には、Ｃ
ＤＡ用原料空気の圧縮に必要とする圧縮動力に対して、
排ガスの圧縮に必要とする圧縮動力は、水分を含まない
排ガスを圧縮する方が有利であること、および排ガス自
身、ある程度の圧力を保持していることから、排ガス圧
縮の方が有利となる。
【００３４】また、上記実施の形態では、ＰＳＡ装置を
用いているが、これに代えて、ＴＳＡ（温度スイング吸
着）装置もしくは他の水分除去装置において、ＣＤＡを
再生ガスとして使用する方式のもの等を用いることがで
きる。
用いているが、これに代えて、ＴＳＡ（温度スイング吸
着）装置もしくは他の水分除去装置において、ＣＤＡを
再生ガスとして使用する方式のもの等を用いることがで
きる。
【００３５】
【発明の効果】以上のように、本発明のＣＤＡ製造方法
によれば、空気分離装置から排出される排ガスを、ＣＤ
Ａ製造装置の吸着剤の再生ガスとして利用しているた
め、ＣＤＡ製造装置で生成されるＣＤＡを再生ガスとし
て使用する使用量を低減させもしくは無くすことがで
き、その分、製品として得られるＣＤＡ量を増加させる
ことができる。また、空気分離装置を有効利用すること
ができ、大幅な動力削減が可能になる。しかも、排ガス
を再生ガスとして利用するものであり、排ガスの組成に
影響されることなく、これを有効利用することができ
る。しかも、窒素専用の深冷ガス分離装置において、内
部で生成した排ガスを再度蒸留し、空気組成にして発生
させる装置に比べて、安価で、管理等が簡単である。ま
た、本発明のＣＤＡ製造装置によれば、上記優れた効果
を奏するＣＤＡ製造方法を効率よく実現することができ
る。
によれば、空気分離装置から排出される排ガスを、ＣＤ
Ａ製造装置の吸着剤の再生ガスとして利用しているた
め、ＣＤＡ製造装置で生成されるＣＤＡを再生ガスとし
て使用する使用量を低減させもしくは無くすことがで
き、その分、製品として得られるＣＤＡ量を増加させる
ことができる。また、空気分離装置を有効利用すること
ができ、大幅な動力削減が可能になる。しかも、排ガス
を再生ガスとして利用するものであり、排ガスの組成に
影響されることなく、これを有効利用することができ
る。しかも、窒素専用の深冷ガス分離装置において、内
部で生成した排ガスを再度蒸留し、空気組成にして発生
させる装置に比べて、安価で、管理等が簡単である。ま
た、本発明のＣＤＡ製造装置によれば、上記優れた効果
を奏するＣＤＡ製造方法を効率よく実現することができ
る。
【００３６】本発明のＣＤＡ製造方法において、上記空
気分離装置から排出される排ガスを排ガス貯留タンクに
導入してここで溜め、この溜めた排ガスをＣＤＡ製造装
置の吸着剤の再生ガスとして利用し、上記空気分離装置
が停止して排ガス貯留タンクに排ガスを導入できなくな
った場合に、上記ＣＤＡ製造装置で製造される製品ＣＤ
Ａの一部を減圧して排ガス貯留タンクに導入する場合に
は、上記空気分離装置が停止して排ガス貯留タンクに排
ガスを導入できなくなると、製品ＣＤＡ取出路内のＣＤ
Ａの一部を減圧して排ガス貯留タンクに導入してここで
溜めることができる。このため、排ガス貯留タンク内に
常に排ガスおよびＣＤＡの少なくとも一方を溜めること
ができ、ＣＤＡ製造装置の運転に支障をきたすことがな
くなる。また、本発明のＣＤＡ製造装置において、上記
空気分離装置から排出される排ガスを導入して溜める排
ガス貯留タンクを設け、この排ガス貯留タンクで溜めた
排ガスをＣＤＡ製造装置の吸着剤の再生ガスとして利用
し、上記排ガス貯留タンクに、上記ＣＤＡ製造装置の製
品ＣＤＡ取出路から分岐する分岐路を連通し、この分岐
路に減圧装置を設け、上記空気分離装置が停止して排ガ
ス貯留タンクに排ガスを導入できなくなった場合に、製
品ＣＤＡ取出路内の製品ＣＤＡの一部を分岐路に通し減
圧装置で減圧して排ガス貯留タンクに導入する場合に
も、上記と同様の効果を奏する。
気分離装置から排出される排ガスを排ガス貯留タンクに
導入してここで溜め、この溜めた排ガスをＣＤＡ製造装
置の吸着剤の再生ガスとして利用し、上記空気分離装置
が停止して排ガス貯留タンクに排ガスを導入できなくな
った場合に、上記ＣＤＡ製造装置で製造される製品ＣＤ
Ａの一部を減圧して排ガス貯留タンクに導入する場合に
は、上記空気分離装置が停止して排ガス貯留タンクに排
ガスを導入できなくなると、製品ＣＤＡ取出路内のＣＤ
Ａの一部を減圧して排ガス貯留タンクに導入してここで
溜めることができる。このため、排ガス貯留タンク内に
常に排ガスおよびＣＤＡの少なくとも一方を溜めること
ができ、ＣＤＡ製造装置の運転に支障をきたすことがな
くなる。また、本発明のＣＤＡ製造装置において、上記
空気分離装置から排出される排ガスを導入して溜める排
ガス貯留タンクを設け、この排ガス貯留タンクで溜めた
排ガスをＣＤＡ製造装置の吸着剤の再生ガスとして利用
し、上記排ガス貯留タンクに、上記ＣＤＡ製造装置の製
品ＣＤＡ取出路から分岐する分岐路を連通し、この分岐
路に減圧装置を設け、上記空気分離装置が停止して排ガ
ス貯留タンクに排ガスを導入できなくなった場合に、製
品ＣＤＡ取出路内の製品ＣＤＡの一部を分岐路に通し減
圧装置で減圧して排ガス貯留タンクに導入する場合に
も、上記と同様の効果を奏する。
【図１】本発明のＣＤＡ製造装置の一実施の形態を示す
構成図である。
構成図である。
【図２】窒素ガス製造装置の一例を示す構成図である。
【図３】従来例を示す構成図である。
１ 窒素ガス製造装置
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 裏久保 嘉昭
大阪府堺市築港新町２丁６番地40 エア・
ウォーター株式会社堺事業所内
Ｆターム(参考） 4D052 AA01 CD00 DA02 DA03 DB01
GA01 GB04 GB08 HA02 HA03
Claims (4)
- 【請求項１】 空気分離装置から排出される排ガスを、
ＣＤＡ製造装置の吸着剤の再生ガスとして利用すること
を特徴とするＣＤＡ製造方法。 - 【請求項２】 上記空気分離装置から排出される排ガス
を排ガス貯留タンクに導入してここで溜め、この溜めた
排ガスをＣＤＡ製造装置の吸着剤の再生ガスとして利用
し、上記空気分離装置が停止して排ガス貯留タンクに排
ガスを導入できなくなった場合に、上記ＣＤＡ製造装置
で製造される製品ＣＤＡの一部を減圧して排ガス貯留タ
ンクに導入する請求項１記載のＣＤＡ製造方法。 - 【請求項３】 空気分離装置から排出される排ガスを、
ＣＤＡ製造装置の吸着剤の再生ガスとして利用すること
を特徴とするＣＤＡ製造装置。 - 【請求項４】 上記空気分離装置から排出される排ガス
を導入して溜める排ガス貯留タンクを設け、この排ガス
貯留タンクで溜めた排ガスをＣＤＡ製造装置の吸着剤の
再生ガスとして利用し、上記排ガス貯留タンクに、上記
ＣＤＡ製造装置の製品ＣＤＡ取出路から分岐する分岐路
を連通し、この分岐路に減圧装置を設け、上記空気分離
装置が停止して排ガス貯留タンクに排ガスを導入できな
くなった場合に、製品ＣＤＡ取出路内の製品ＣＤＡの一
部を分岐路に通し減圧装置で減圧して排ガス貯留タンク
に導入する請求項３記載のＣＤＡ製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002134484A JP3798338B2 (ja) | 2002-05-09 | 2002-05-09 | クリーンドライエアー製造方法およびそれに用いる装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002134484A JP3798338B2 (ja) | 2002-05-09 | 2002-05-09 | クリーンドライエアー製造方法およびそれに用いる装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003326127A true JP2003326127A (ja) | 2003-11-18 |
| JP3798338B2 JP3798338B2 (ja) | 2006-07-19 |
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ID=29697115
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|---|---|---|---|
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|---|---|
| JP (1) | JP3798338B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006112534A1 (ja) * | 2005-04-19 | 2006-10-26 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | ４ポート自動切替えバルブ |
| JP2007261228A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Toyobo Co Ltd | ポリエステルチップの製造装置およびその運転方法 |
-
2002
- 2002-05-09 JP JP2002134484A patent/JP3798338B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006112534A1 (ja) * | 2005-04-19 | 2006-10-26 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | ４ポート自動切替えバルブ |
| JP2006300394A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Nippon Shokubai Co Ltd | ４ポート自動切換えバルブ |
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