JP2003321212A - 硫化水素の製造方法 - Google Patents
硫化水素の製造方法Info
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Abstract
る方法を提供すること。 【解決手段】 触媒を含む反応器に気体状の水素および
硫黄を通して硫化水素を製造する方法において、予め、
水素ガスを含む硫黄蒸気を調製した後、該水素ガスを含
む硫黄蒸気にさらに水素ガスを添加して、水素分子に対
する硫黄原子のモル比を１〜１．５となるように調整し
た原料ガスを用いることを特徴とする硫化水素の製造方
法。このように、水素ガスを含む硫黄蒸気にさらに水素
ガスを添加する方法を採用することにより、水素分子と
硫黄原子のモル比を容易に調整できるだけでなく、反応
温度の制御が容易となる。
Description
法に関する。さらに詳しくは、触媒の存在下に水素と硫
黄とを気相で反応させて硫化水素を製造する方法に関す
る。 【０００２】 【従来の技術】従来、硫化水素の製造方法の一つとし
て、水素ガスと硫黄蒸気とを、触媒を含む反応器に通し
て反応させる方法が知られている（米国特許第２８６３
７２５号、特公昭４４−１６８６号公報）。これらの製
造方法では、触媒の劣化を防ぐ観点から、水素分子に対
する硫黄原子のモル比が１未満の水素分子過剰の条件で
反応させている。しかしながら、水素分子過剰の条件で
は、得られる硫化水素に未反応の水素が含まれ、硫化水
素と水素を分離するために圧縮、液化、蒸留等の煩雑な
精製工程が必要であるという問題がある。 【０００３】そこで、触媒の劣化を防ぎ、かつ煩雑な精
製工程を含まない硫化水素の製造方法が望まれている。 【０００４】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、水素ガスの
含有量が少ない硫化水素を製造する方法を提供すること
を目的とする。 【０００５】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討を重ねた結果、触媒を含む反
応器に気体状の水素および硫黄を通して硫化水素を製造
する方法において、予め、水素ガスを含む硫黄蒸気を調
製した後、該水素ガスを含む硫黄蒸気にさらに水素ガス
を添加して、水素分子に対する硫黄原子のモル比を１〜
１．５となるように調整した原料ガスを用いることによ
り水素ガスの含有量が少ない硫化水素を製造できること
を見出した。 【０００６】 【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態について、図面を参照しつつ具体的に説明する。 【０００７】図１は、本発明を実施するための製造装置
の概念構成図である。製造装置は、気化ユニット１、反
応器２を備える。 【０００８】気化ユニット１は、原料の一つである硫黄
を気化させて反応器２に導くためのものであり、導管３
を介して反応器２に連結されている。具体的には、気化
ユニット１では、３４０〜４００℃に加熱した溶融硫黄
の気相部に水素ガスを流して硫黄蒸気を同伴させても良
いし、硫黄浴中に水素ガスをバブリングさせて硫黄蒸気
を発生させても良い。そしてこの水素ガスを含む硫黄蒸
気は、導管３を介して反応器２に供給されるが、導管３
の途中においてさらに水素ガスを添加し、水素分子に対
する硫黄原子のモル比が所定の値になるように調整した
後、反応器２へ供給される。このように、水素ガスを含
む硫黄蒸気にさらに水素ガスを添加する方法を採用する
ことにより、水素分子と硫黄原子のモル比を容易に調整
できるだけでなく、反応温度の制御が容易となる。 【０００９】前記水素ガスとしては、例えば、水素ガス
として予めボンベに封入されているものや、水素ＰＳＡ
装置によって発生させたものを使用できる。 【００１０】ここで、気化ユニット１で得られる水素ガ
スを含む硫黄蒸気中の水素分子に対する硫黄原子のモル
比は、気化ユニット１に流す水素ガスの量と気化ユニッ
ト１の溶融硫黄の温度によって決定される。決定された
モル比を元に、必要量の水素ガスを添加し、反応器２に
供給する原料ガス中の水素分子に対する硫黄原子のモル
比を１〜１．５、好ましくは１〜１．３となるように調
整する。水素分子に対する硫黄原子のモル比が１未満の
場合、水素過剰となり、得られる硫化水素に水素が多量
に含まれる。水素分子に対する硫黄原子のモル比が１．
５を超える場合、硫黄が大過剰となり、触媒が劣化しや
すくなるだけでなく、大過剰の硫黄が凝縮して配管や弁
等を閉塞させる。 【００１１】前記のようにして水素分子に対する硫黄原
子のモル比が調整された原料ガスは、反応器２中の触媒
層で反応し、硫化水素となる。 【００１２】前記触媒としては、例えば、モリブデン、
コバルト、ニッケル、鉄またはバナジウムを、アルミ
ナ、シリカアルミナ、アルミナゲルまたはシリカゲル等
の多孔質物質に担持させたもの等が挙げられる。 【００１３】反応器２の設定温度は、３４０〜４５０℃
であることが望ましい。反応器２の設定温度が３４０℃
未満の場合、反応速度が遅くなり、経済的でないおそれ
がある。また、反応器２の設定温度が４５０℃を超える
場合、反応速度が速くなりすぎて、反応が制御できなく
なるおそれがある。 【００１４】こうして生成した硫化水素は、反応器２か
ら排出される。排出された硫化水素には、余剰の硫黄が
含まれている場合があるが、この場合には、冷却分離、
洗浄、乾燥等の操作により容易に硫黄を除去することが
できる。 【００１５】 【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。 【００１６】製造例（反応器の作製） アルミナゲル（商品名：ＫＨＤ−４６、住友化学工業社
製）にモリブデンとコバルト（コバルト／モリブデン＝
０．８（モル比））を担持させた触媒と、希釈材として
の前記アルミナゲルとを、体積比で５０：５０となるよ
うにカラム（内径２８ｍｍ、長さ１０００ｍｍ）に充填
することによって、反応器を作製した。 【００１７】実施例１ 気化ユニット中の３８０℃に加熱した溶融硫黄の気相部
に、０．２４Ｎｍ３／Ｈｒの水素ガスを流して、水素ガ
スを含む硫黄蒸気を発生させた。このときの水素分子に
対する硫黄原子のモル比は、２．８９であった。 【００１８】次に、発生した水素ガスを含む硫黄蒸気
に、０．４２Ｎｍ３／Ｈｒの水素ガスを添加して、水素
分子に対する硫黄原子のモル比を１．０５となるように
原料ガスを調製した。 【００１９】引き続き、原料ガスを圧力２０ｋＰａ（ゲ
ージ圧）の条件で、３８０℃に設定した反応器へ供給し
た。反応器から排出される余剰硫黄を凝縮分離させるこ
とにより、９９体積％の硫化水素を得た。また、硫化水
素中に含まれる水素は１体積％であった。 【００２０】実施例２ 気化ユニット中の３８０℃に加熱した溶融硫黄中に、
０．２７Ｎｍ３／Ｈｒの水素ガスをバブリングさせて、
水素ガスを含む硫黄蒸気を発生させた。このときの水素
分子に対する硫黄原子のモル比は、２．８９であった。 【００２１】次に、発生した水素ガスを含む硫黄蒸気
に、０．３９Ｎｍ３／Ｈｒの水素ガスを添加して、水素
分子に対する硫黄原子のモル比を１．２となるように原
料ガスを調製した。 【００２２】引き続き、原料ガスを圧力２０ｋＰａ（ゲ
ージ圧）の条件で、３８０℃に設定した反応器へ供給し
た。反応器から排出される余剰硫黄を凝縮分離させるこ
とにより、９９．２体積％の硫化水素を得た。また、硫
化水素中に含まれる水素は０．８体積％であった。 【００２３】 【発明の効果】本発明によると、水素ガスの含有量が少
ない硫化水素を製造する方法を提供することができる。
めに用いられる装置の概念構成図である。 【符号の説明】 １ 気化ユニット ２ 反応器 ３ 導管
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】触媒を含む反応器に気体状の水素および硫
黄を通して硫化水素を製造する方法において、予め、水
素ガスを含む硫黄蒸気を調製した後、該水素ガスを含む
硫黄蒸気にさらに水素ガスを添加して、水素分子に対す
る硫黄原子のモル比を１〜１．５となるように調整した
原料ガスを用いることを特徴とする硫化水素の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002125341A JP4041339B2 (ja) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | 硫化水素の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002125341A JP4041339B2 (ja) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | 硫化水素の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003321212A true JP2003321212A (ja) | 2003-11-11 |
| JP4041339B2 JP4041339B2 (ja) | 2008-01-30 |
Family
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002125341A Expired - Fee Related JP4041339B2 (ja) | 2002-04-26 | 2002-04-26 | 硫化水素の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4041339B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004002179A (ja) * | 2002-04-26 | 2004-01-08 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | 硫化水素の製造方法 |
-
2002
- 2002-04-26 JP JP2002125341A patent/JP4041339B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP4041339B2 (ja) | 2008-01-30 |
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