JP2003306563A - 防汚性フィルム及びその製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、基材の表面に親水性及び有機物分
解機能を付与したフィルムに関するもので、光触媒能を
有する防汚性フィルムに係るものである。 【解決手段】 防汚剤層を備えた防汚性フィルムであっ
て、フィルム基材の表面に親水処理を施し、水系の防汚
剤を塗工（第２塗膜層）することを特徴とする防汚性フ
ィルムであり、好ましくは、上記水系の防汚剤がアナタ
−ゼ型酸化チタンからなる光触媒体で、更に、親水処理
が施されたフィルム基材の表面と防汚剤（第２塗膜層）
との間に中間層（第１塗膜層）を設けたものである。か
かる中間層（第１塗膜層）は光触媒能を有さないアモル
ファス型過酸化チタン及び／又はアモルファス型酸化チ
タンとの混合物である。５０‥防汚性フィルム、５１‥
ＰＥＴフィルム、５２‥中間層、５３‥光触媒層、５４
‥粘着剤層、５５‥剥離紙、５６‥保護フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基材の表面に親水
性及び有機物分解機能を付与したフィルムに関するもの
で、更に言えば、光触媒能を有する防汚性フィルムで、
例えば、ガラス、構築物等に貼り付けて使用するフィル
ムに係るものである。

【０００２】

【従来の技術】高層ビル等における窓ガラスはその清掃
が難しく、清掃作業も危険を伴うことになる。又、建築
物の表面や屋外に設置される構築物例えば組立水槽等の
表面は、長時間外気に晒されることによりその表面に汚
れが付着し、特にＦＲＰ製のものにあっては太陽光によ
る劣化が発生する。即ち、大気汚染物質を含んだ雨だれ
等では、ぬぐい切れない汚れが付着する。又、永年の使
用により太陽光により劣化し、ミクロのクレージング
（白化）が発生すると、その汚れの付着はよりひどいも
のになる。このため、汚れを付きにくくするために表面
に塗料を塗る等の対応策が行われている。

【０００３】又、汚染が予想される箇所に使用される、
光触媒能を有する光触媒体を含有する防汚剤も知られて
おり、表面に塗布した光触媒体は、付着した有害物質や
基材に接触した有害ガスを分解する効果や親水機能の効
果を有している。しかし、かかる光触媒体は、その光触
媒機能により、有害物質等を分解・無害化するが、ＦＲ
Ｐ製等の基材の表面に光触媒を担持させてなる光触媒体
においては、基材自体が酸化還元反応等の光触媒作用に
より劣化されることから、用いられる基材に制限がある
という問題があり、更に、一旦構築した表面に光触媒層
を形成することは極めて困難な作業となり、構築物を形
成した後にその表面に光触媒層を形成することは殆ど行
われていない。

【０００４】このような現実に鑑みて防汚剤を塗布した
防汚性フィルムが提案されている。この防汚性フィルム
はガラスや構築物の表面に貼り合わせて簡便に防汚機能
をもたらすことができるが、フィルム基材の表面に形成
される光触媒機能を有する膜の強度を高めるには比較的
高温にて焼き付けなくてはならず、このため、この温度
に耐えられない軟化点の低い樹脂基材は使用することが
できず、基材が制限されるという問題がある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記課題を解決するた
めに、アモルファス型チタン酸化物を含有する防汚剤
が、極めて優れた光触媒分解能、親水性、耐候性等の特
性を付与し得るばかりではなく、シール性、成膜性及び
透明性に優れており、更に、基材としての樹脂材料が光
触媒能によって劣化しないことを見出し、本発明の防汚
性フィルムを完成させるに至ったものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】発明の第１は、防汚剤層
を備えた防汚性フィルムであって、フィルム基材の表面
に親水処理を施し、水系の防汚剤を塗工（第２塗膜層）
することを特徴とする防汚性フィルムであり、好ましく
は、上記水系の防汚剤がアナタ−ゼ型酸化チタンからな
る光触媒体で、アモルファス型過酸化チタンとの混合物
でもよく、更に、親水処理が施されたフィルム基材の表
面と防汚剤（第２塗膜層）との間に中間層（第１塗膜
層）を設けたものである。かかる中間層（第１塗膜層）
は光触媒能を有さないアモルファス型過酸化チタンから
なり、アモルファス型酸化チタンとの混合物でもよく、
更に、中間層（第１塗膜層）が界面活性剤及び／又は親
水剤を含有するものであってもよい。

【０００７】尚、上記フィルム基材が、ポリエチレンテ
レフタレート（ＰＥＴ）、ポリカ−ボネ−ト（ＰＣ）、
ポリメチルメタクリレ−ト（ＰＭＭＡ）、ポリアクリレ
−ト、ナイロン、ポリアミド、ポリアクリロニトリル、
ポリイミド、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリビニ
ルアルコ−ル等が採用可能である。通常、上記フィルム
基体の裏側に粘着剤層を形成し、この表面に剥離テ−プ
を貼り付けたもので、上記光触媒体の表面に剥離可能な
保護層を貼り付けた防汚性フィルムであってもよい。

【０００８】そして、フィルム基材の表面を親水化する
手段としては、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、紫
外線処理、オゾン処理が採用可能であり、親水化の程度
としては水の接触角が４０度以下のものが好ましい。

【０００９】発明の第２は、防汚性フィルムの製法に係
るものであり、フィルム基材の表面に親水処理を施し、
次いで親水処理面に水系の防汚剤を塗工し、好ましく
は、水系の防汚剤がアナタ−ゼ型酸化チタンである光触
媒体であり、アモルファス型過酸化チタンとの混合物で
もよく、更に好ましくは、親水処理が施されたフィルム
基材の表面と防汚剤（第２塗膜層）との間に中間層（第
１塗膜層）を設けたもので、かかる中間層は光触媒能を
有さないアモルファス型過酸化チタンからなり、アモル
ファス型酸化チタンとの混合物でもよく、更に、この中
間層が界面活性剤及び／又は親水剤を含有するものであ
ってもよい。

【００１０】そして、フィルム基材の表面を親水化する
手段としては、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、紫
外線処理、オゾン処理が採用可能であり、親水化の程度
としては水の接触角が４０度以下となるように処理する
ものである。

【００１１】尚、上記フィルム基材が、ポリエチレンテ
レフタレート、アクリル、塩化ビニル、ＥＴＦＥが採用
可能であり、通常、上記フィルム基材の裏側に粘着剤層
を形成し、この表面に剥離テ−プを貼り付けたもので、
上記光触媒体の表面に剥離可能な保護層を貼り付けた防
汚性フィルムの製法を提供するものである。

【００１２】

【発明の実施の形態】発明の第１について更に具体的形
態について述べれば、基材の表面に光触媒機能を有さな
いアモルファス型過酸化チタンからなり、場合によって
は、アモルファス型酸化チタンとの混合物を含有する中
間層（第１塗膜層）、及びこの表面に光触媒能を有する
光触媒体を含有する防汚剤（第２塗膜層）が形成された
ことを特徴とするものであり、好ましくは、基材の表面
に、コロナ放電処理、紫外線処理、プラズマ処理、オゾ
ン処理等を施して親水化したものである。

【００１３】以下、この発明に基づいて本発明の実施の
形態につき更に言及すると、基材の表面に光触媒層（第
２塗膜層）を形成したもので、光触媒能を有する酸化物
粒子が外気と接触し、有機物分解能と親水性をもたらす
表面層が形成されている。このため、フィルムの表面に
付着した汚れは分解され、簡単に水にて洗浄可能とな
り、更には、雨だれが残らないという特徴を合わせもつ
ものである。

【００１４】本発明におけるフィルム基材には、ポリエ
チレンテレフタレート、アクリル、塩化ビニル、ＥＴＦ
Ｅ等のフッ素系等のプラスチックが好適に利用できる。

【００１５】即ち、基材に親水性と防汚性とを付与する
ためには、基材の表面に形成する第１塗装層を光触媒機
能を有さないアモルファス型過酸化チタンからなり、場
合によってはアモルファス型酸化チタンとの混合物を含
有する層とし、更にこの表面に光触媒能を有する光触媒
体を含有する第２塗膜層が形成され、直接太陽の光に反
応してこれらの機能をもたらすものである。

【００１６】言い換えれば、基材と光触媒層の間に接着
性があり、かつ活性の強い光触媒に分解されない別の層
を設けることにより課題を解決したものである。即ち、
この別の層（第１塗膜層）としてＴｉＯ₃ 層を選択した
もので、その塗工性をよくするため、好ましくは基材表
面にコロナ放電処理等を行ってぬれ性を改良したもので
ある。即ち、基材の表面に第１塗膜層及び光触媒の層
（第２塗膜層）を形成するものである。従って、かかる
第２塗膜層が強固に接着し、この層によって付着した有
機物を分解すること、親水化により雨水による水洗い或
いは水洗いの掃除により汚れを除去することができるこ
ととなったものである。

【００１７】第１塗膜層は、通常光触媒能を有さないア
モルファス型過酸化チタンからなり、場合によっては、
アモルファス型酸化チタンとの混合物を含有する光触媒
機能を有さないアモルファス型過酸化チタン（ＴｉＯ
₃ ）から形成され、界面活性剤及び／又は親水剤とを含
有していてもよい。かかるアモルファス型過酸化チタン
ＴｉＯ₃ やアモルファス型酸化チタンＴｉＯ₂ は、紫外
線によって光励起して光触媒能を有するアナターゼ型酸
化チタンやルチル型酸化チタンとは異なり光触媒機能は
ない。これら光触媒機能を有さないアモルファス型チタ
ン酸化物の中でも、水を溶媒とするアモルファス型過酸
化チタンゾルが膜形成性等の点から好ましい。

【００１８】更に、第１塗膜層を構成する界面活性剤と
しては、ノニオン系界面活性（花王株式会社製「クリン
スル」、アニオン系界面活性剤（ライオン株式会社製
「サンノール」）等があり、親水剤としては、ｎーメチ
ルピロリドンやコロイダルシリカ等の二酸化珪素、シロ
キサン類化合物、水ガラス等のケイ素酸化物の含有剤が
挙げられる。

【００１９】このアモルファス型過酸化チタンゾルの製
造例としては、例えば、四塩化チタンＴｉＣｌ₄ 等のチ
タン塩水溶液に、例えば、水酸化ナトリウム等のアルカ
リを加えて生成された無定型の水酸化チタンＴｉ（Ｏ
Ｈ）₄ を洗浄・分離した後、これを過酸化水素水で処理
することにより、アモルファス形態の過酸化チタン液を
得る。上記アモルファス型過酸化チタンゾルは常温では
アモルファス状態で、未だアナターゼ型酸化チタンには
結晶化していないため、密着性に優れ、膜生成性が高
く、均一でフラットな薄膜を形成することができ、乾燥
皮膜は水に溶けないという性質の他に、親水機能性が付
与され、かつ、光触媒に対して安定であるという特性を
有する。

【００２０】更に、防汚機能を相乗させるため、その上
に第２塗膜層として光触媒層を設けるものである。この
光触媒能を有する光触媒体を含有する層は、紫外線照射
時には優れた親水機能と光触媒による防汚磯能とを有
し、紫外線非照射時には光触媒による防汚機能は発揮し
得ないが優れた親水機能を有するという特徴をもつ。

【００２１】この光触媒能を有する光触媒体を含有する
第２塗膜層を備えたフィルムは、紫外線照射時には優れ
た親水性と光触媒による防汚機能とを有し、紫外線の非
照射時に光触媒による防汚機能は発揮し得ないが優れた
親水機能を有するという特徴をもつ。そして、この光触
媒能を有する光触媒体を含有する第２塗膜層と基材の表
面との間には第１塗膜層があるので親水作用が劣化する
ことなく、優れた親水性能と防汚機能が長期にわたって
維持されることとなる。

【００２２】即ち、第２塗膜層を形成する酸化チタン層
は光触媒機能を有するアナターゼ型酸化チタン（ＴｉＯ
₂ ）やルチル型酸化チタン（ＴｉＯ₂ ）等の光触媒体か
ら形成されるが、光触媒機能を有さないアモルファス型
過酸化チタンゾル等と、上記光触媒機能を有する光触媒
体との混合物を含有したものであってもよい。

【００２３】ここで光触蝶とはその結晶の伝導帯と価電
子帯との間のエネルギーギャップよりも大きなエネルギ
ーの光を照射したときに価電子帯中の電子の励起が生じ
て伝導電子と正孔を生成しうる物質をいい、上記活性化
された光触媒体が空気中の水分や酸素から活性酸素を作
り出し、この活性酸素により空気中の有機物や無機ガス
と反応する。光触媒酸化物としてはアナターゼ型酸化チ
タン、ルチル型酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、三酸化
ニビスマス等の酸化物が用いられる。中でもゾル状のア
ナターゼ型酸化チタンＴｉＯ₂ が好ましい。ゾル状のも
のは接触する相手側が親水性であれば、極めて平滑な面
を構成することとなるからである。

【００２４】この第２塗膜層（光触媒層）を構成する材
料としては、光触媒機能を有するアナターゼ型酸化チタ
ンやルチル型酸化チタン等を含有する光触媒体が用いら
れるが、光触媒機能を有さないアモルファス型過酸化チ
タンゾル等と、上記光触媒機能を有する光触媒体との混
合物を含有したものであってもよい。

【００２５】光触媒の光励起に用いる光源としては太陽
光がそのまま利用できる。そして、光励起に応じて基材
表面が親水化されるためには、励起光の照度は０．００
１ｍｗ／ｃｍ² 以上、好ましくは０．０１ｍｗ／ｃｍ²
以上、更に好ましくは０．１ｍｗ／ｃｍ² 以上とするの
がよい。

【００２６】ここで、光触媒性酸化物粒子が外気と接す
るように霧出した親水性を呈する第２塗装層について述
べると、基本的にはコーティング組成物を第１塗膜層の
表面に固着せしめることによるもので、上記コーティン
グ組成物の塗工方法としては、スプレー法、ディップ
法、フローコーティング法、ロール法、刷毛塗り等の公
知の方法が採用される。

【００２７】尚、基材の表面と第１塗膜層と第２塗膜層
との積層には、両者が完全に行われなくてはならない
が、基材の表面に、コロナ放電処理、紫外線処理、プラ
ズマ処理、オゾン処理等を施して、第１塗膜層に対して
ぬれ特性及び／又は反応性を向上させることが好まし
い。

【００２８】ここで基材の表面の親水化処理の第１例と
してコロナ放電処理について説明すると、基材の表面を
コロナ放電処理することにより電子の衝突や二次的に発
生するオゾンや紫外線の作用により、反応性の高い活性
基が発生するので、第１塗膜層とのぬれ特性や反応性を
向上させることができることとなり、この層上に形成さ
れる第２塗膜層との接着性が極めて向上することとな
る。

【００２９】ここでコロナ放電処理を説明する。図１に
示すように、被処理物である基材１０の処理面１０Ｓ
に、コロナ放電装置２０により上記処理面１０Ｓをコロ
ナ放電処理する。上記処理面１０Ｓは、上記コロナ放電
による電子の衝突や二次的に発生するオゾンや紫外線の
作用により、反応性の高い活性基が発生するので、上記
処理面１０Ｓのぬれ特性や反応性を向上させることがで
きる。

【００３０】尚、コロナ放電処理等による当該表面の親
水化は、水の接触角は１０〜４０度程度がよい。４０度
以上であると塗布される水溶液をはじいて均一な塗膜を
得ることが難しくなり、又、１０度以上であれば水溶液
を十分に塗膜することができるからである。

【００３１】上記コロナ放電処理装置２０は、図２に示
すように、上記処理面１０Ｓに近接して設置される第１
の電極２１と、上記第１の電極２１と被処理物１０に対
して同じ側に、上記第１の電極２１に近接して設置され
た第２の電極２２との間に、高周波発振器２３Ａと高圧
トランス２３Ｂとを備えた高電圧発生装置２３により、
高電圧の高周波電圧を印加して上記電極２１、２２間に
コロナ放電を発生させるもので、具体的には、上記第１
の電極２１は、上記処理面１０Ｓの表面を回転しながら
移動するロール状の被覆部材２４により被覆されたステ
ンレス製棒から構成される。又、第２の電極２２はステ
ンレス製の平板から構成され、上記被覆部材２４の回転
に伴って、上記第１の電極２１と所定の距離を保持しな
がら上記処理面１０Ｓ上を移動する。従って、上記第１
の電極２１と第２の電極間でコロナ放電を発生させなが
ら、上記第１の電極２１と第２の電極を処理面１０Ｓ上
に沿って移動させることにより、上記処理面１０Ｓを均
一にコロナ放電処理することができる。尚、被処理物を
互いに対向する放電電極と対向電極との間に設置するタ
イプのコロナ放電処理装置を用いてもよいことは勿論で
ある。

【００３２】次いで、上記コロナ放電処理した表面に水
とチタン酸化物とを含む水系の防汚剤を塗布して第１塗
膜層及び第２塗膜層を形成する。この例では、界面活性
剤及び／又は親水剤と、光触媒能を有さないアモルファ
ス型過酸化チタンを含有する第１塗膜層と、この第１塗
膜層上に形成された光触媒能を有する光触媒体を含有す
る第２塗膜層（光触媒層）を形成したものである。

【００３３】かかるコロナ放電処理した後に塗布して形
成した上記の第１及び第２塗膜層はぬれ性も高く、又、
接触角も小さいので、優れた防汚効果を得ることができ
る。また、第２塗膜層にあって、水とチタン酸化物とを
光触媒とすることにより、かかる汚染防止効果を更に向
上させることができたものである。

【００３４】本発明における表面処理の第２は、紫外線
処理を行うことで被処理表面（通常は樹脂表面）を親水
化するものであり、その紫外線の波長が１５０〜３６５
ｎｍであることが好ましい。波長が３６５ｎｍ以上の紫
外線では、樹脂表面の親水化を十分に行うことができ
ず、一方、広範囲で使用されている紫外線ランプから１
５０ｎｍ以下の波長を得ることは困難だからである。更
に、上記紫外線処理をする際に、空気、水蒸気、オゾン
雰囲気下で行うことが好ましく、空気中の酸素やオゾ
ン、水を反応させることで、表面にカルボニル基、カル
ボキシル基、水酸基等を生成させ、表面を親水化させる
ことによって水系塗料を均一かつ強固に塗工しやすくす
るからである。特に、基材表面に水を付着させ、紫外線
処理を行うと表面の親水化効率を上げることができる。

【００３５】紫外線処理は被処理表面を洗浄した後に処
理を行うのが好ましく、被処理表面は紫外線処理による
電子の衝突等により反応性の高い活性基が発生するの
で、ぬれ性や反応性を向上させることができることにな
る。このため、接着性が極めて向上することとなる。

【００３６】紫外線処理装置に用いられる紫外線光源と
しては、低圧紫外線ランプが好ましい。低圧紫外線ラン
プは、２５４ｎｍと１８４．９ｎｍの光を主成分とし
た、短波長がピークとなっており、照射されるエネルギ
ーは非常に大きく、基材の親水化に適しているからであ
る。即ち、処理する表面に所定の距離を保ちつつ紫外線
を照射していくことにより、表面を均一に処理すること
ができる。

【００３７】上記処理面１０Ｓは、前記コロナ放電処理
と同じくぬれ特性や反応性が向上する。水の接触角につ
いても同様である。

【００３８】本発明の第３の表面処理手段として、プラ
ズマ放電処理が採用されるが、この場合、活性ガス種中
で行うのがよく、ガス種がＡｒ、０₂ 、ＣＯ、ＣＯ₂ 、
Ｎ₂、ＮＯ、ＮＯ₂ 、ＮＨ₃ 、空気（Ｏ₂ ＋ＣＯ₂ ＋Ｎ₂
等）が用いられ、極性基を表面に導入できるものであ
れば特に限定はない。望ましくは、Ａｒ、Ｏ₂ 、Ｎ₂が
よい。プラズマ処理する際のチャンバー内の真空度は１
０〜０．１ｔｏｒｒ、好ましくは１〜０．１ｔｏｒｒで
ある。これにより、表面を均一に処理することができ
る。処理時間は１〜６０分である。

【００３９】アーク放電の発生の際に生じる電離したガ
スの電子による自由電子とそれによる陽イオン及び未だ
電離されていない中性ガスからなり、正電荷と負電荷の
夫々の密度が等しく電気的中性状態に有るガスをプラズ
マというが、被処理表面はこのプラズマ放電処理による
電子の衝突や、処理雰囲気中に含まれる気体の作用によ
り、反応性の高い活性基が発生するので、ぬれ性や反応
性を向上させることができるものである。それにより、
前例の処理と同じくこの層上に形成される表面層との接
着性が極めて向上することとなる。

【００４０】ここでプラズマ放電処理装置の概要を述べ
ると、図３に示すように、プラズマ放電装置４０により
上記基材１０の処理面１０Ｓをプラズマ放電処理する。
上記処理面１０Ｓは、上記プラズマ放電による電子の衝
突や二次的に発生するオゾンや紫外線の作用により、反
応性の高い活性基が発生するので、上記処理面１０Ｓの
ぬれ特性や反応性を向上させることができる。水の接触
角の関係も前記例と同様である。

【００４１】図３はプラズマ放電処理装置４０の概要も
示すが、チャンバー４１内に処理面１０Ｓに近接して設
置される第１の電極４２と、上記第１の電極４２と上記
処理面１０Ｓに対して反対側に設置された第２の電極４
３と、高圧トランス４４を備えた電源装置４５を備えた
ものである。チャンバー４１は真空ポンプ４６と気体ボ
ンベ４７を備え、チャンバー４１内の雰囲気ガスを入れ
替えるものであり、電極４２と４３との間に高電圧を印
加して上記電極４２、４３間にプラズマ放電を発生させ
て、気体を活性化させて処理面１０Ｓを均一に処理する
ものである。

【００４２】尚、オゾン処理についても特に言及はしな
いが、適当なオゾナイザ−を用いて被処理表面を処理
し、水の接触角を上記のような関係とする処理を行うこ
ととなる。

【００４３】従来の光触媒層は、シリコン等の中にアナ
ターゼ型ＴｉＯ₂ 粒子を分散させた塗膜層を直接有機物
表面に塗るものであったが、ＴｉＯ₂ が基材を分解して
しまうため触媒効果が弱く、光触媒能の持続は比較的短
かった。しかるに、本発明の場合には、例えばコロナ放
電処理をすることによって基材との間で接着性が極めて
良好となり、しかも第１塗膜層は基材を分解する機能は
ほとんどなく、第２塗膜層の光分解能は基材を分解する
おそれもなく、これらの塗膜層が劣化することもないの
で親水能や光分解能が長い間持続することとなる。

【００４４】防汚効果を発現するための基材の表面の水
の接触角は、４０度以下、好ましくは２５度以下、更に
好ましくは１０度以下である。４０度より大きい場合に
は、親水性が悪く十分な防汚効果が得られない。

【００４５】第１塗膜層及び第２塗膜層（防汚剤層・光
触媒層）の厚さについて言えば、第１塗膜層としての
（ＴｉＯ₃ 保護層）は、０．０２〜４．０μｍ、好まし
くは０．１〜２．０μｍ、更に好ましくは０．２〜０．
５μｍの厚さ、第２塗膜層である光触媒としてのアナタ
ーゼ型ＴｉＯ₂ 層は、０．０２〜４．０μｍ、好ましく
は０．１〜２．０μｍ、更に好ましくは０．３〜１．０
μｍの厚さである。いずれも余り薄過ぎるとピンホール
等の塗膜の欠陥等の不具合が出やすくなり、厚過ぎても
光の干渉による外観の不具合が生じてしまう。

【００４６】基材の、光触媒層が形成されたのと反対側
の面には、ゴム系、アクリル系、シリコン系等の粘着層
を形成しても良い。またその粘着層上にはＰＥやＰＰ等
の剥離フィルムを形成しても良い。

【００４７】又、光触媒層表面の保護層としては、光触
媒層との適度の密着性をもち、又、擦れに耐え、かつ滑
りがよいという特性を有するのがよく、例えば、ＰＥや
ＰＰ、ゴム等と、ポリエステル、ＰＥ、塩化ビニル、Ｐ
Ｐ、ＥＶＡ等と、アクリル系、シリコーン系、ゴム系の
粘着剤等、又はＰＥ、ＥＶＡ等からなる粘着フィルムや
共押出しフィルムである。

【００４８】

【実施例】（実施例１：コロナ放電処理） （１）厚み１００μｍのＰＥＴフィルムの表面に出力９
ＫＷのコロナ放電処理を施した。処理条件は放電電極か
らの距離を３０ｍｍに保ち、３０ｍｍ／秒のスピ−ドで
均一にコロナ放電処理を施した。水の接触角は２０度で
あった。そして、中間層としてアモルファス型過酸化チ
タンゾル（ＴＫ−１００、０．８５重量％の過酸化チタ
ンを含む水溶液、（ＴＡＯ社製））を均一にスプレ−塗
布し、室温にて乾燥し、これを３回繰り返した。更に表
面層としてアモルファス型過酸化チタンと光触媒能をも
つアナタ−ゼ型酸化チタンの混合水溶液（ＴＡＫ−７
０、１．７０重量％の酸化チタンと過酸化チタンを含む
水溶液、酸化チタン：過酸化チタン＝７：３、（ＴＡＯ
社製））をコロナ処理後、１時間以内にスプレーで０．
１５ｇ／１００ｃｍ² となるように塗布する。これを３
回繰り返し、室温で乾燥させた後、１４０℃で３０〜６
０分焼成した。

【００４９】尚、ＰＥＴフィルムの裏面にはアクリル樹
脂による粘着剤層が備えられ、その表面に剥離紙が添え
られる。尚、上記焼成した光触媒層上には、例えば、ポ
リエチレンやエチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレ
フィンからなる共押出保護フィルムが貼着されて保管さ
れるのがよい。

【００５０】図４は得られた防汚性フィルム５０の断面
図であり、５１は基材であるＰＥＴフィルム、５２は中
間層、５３は光触媒層、５４は粘着剤層、５５は剥離
紙、５６は保護フィルムである。

【００５１】（実施例２：紫外線処理）コロナ放電処理
の代わりに、紫外線処理装置（センジニアリング製ＳＵ
Ｖ１１０ＧＳ３６）を用い、処理面と低圧紫外線ランプ
との距離を１．５ｃｍに保って、常圧にて５分間、紫外
線処理を行った。水の接触角は２５であった。次いで、
実施例１と同様な処理を行って光触媒層を形成した。

【００５２】（実施例３：プラズマ放電処理）チャンバ
ー内を真空引き後、酸素を充填し、圧力１ｔｏｒｒと
し、１００Ｗの電圧を５分かけ放電処理した。水の接触
角は２０度であった。次いで、実施例１と同様な処理を
行って光触媒層を形成した。

【００５３】（実施例・４）オゾナイザ−装置を用いて
表面処理を行った。水の接触角は２０度であった。次い
で、実施例１と同様な処理を行って光触媒層を形成し
た。

【００５４】

【発明の効果】本発明にあっては、過酸化チタン／酸化
チタン混合物水溶液を塗布したものを比較的低温にて加
熱することで、過酸化チタンがバインダーとなりＰＥＴ
フィルム上に酸化チタン層を焼成でき、簡単に光触媒層
を形成できることとなった。勿論、本発明の防汚性フィ
ルムは曲面への装着も容易でありその特徴は大きい。

【００５５】即ち、低温で光触媒層を焼成できるためエ
ネルギ−ロスが少なく、かつ作業性も向上し、環境に対
する負荷も少なく製造できることとなる。このため、自
然エネルギーを十分に利用できるようになり、環境保全
に寄与し、次世代エネルギーとして期待できる。そし
て、曲面への装着もできるため、その利用分野が極めて
広くなった。又、ガラス基材に比べ軽量化が可能となっ
たものでその用途は大きい。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明のコロナ放電処理による処理法を
示す図である。

【図２】図２は本発明のコロナ放電処理装置の構成を示
す図である。

【図３】図３は本発明のプラズマ放電処理装置の構成を
示す図である。

【図４】図４は本発明の防汚性フィルムの断面図であ
る。

【符号の説明】

１０‥基材、 １０Ｓ‥処理面、 １２‥塗膜層、 ２０‥コロナ放電処理装置、 ２１‥第１の電極、 ２２‥第２の電極、 ２３‥高電圧発生装置、 ２４‥ロール状の被覆部材、 ４０‥プラズマ放電処理装置、 ４１‥チャンバー、 ４２‥第１の電極、 ４３‥第２の電極、 ４４‥高圧トランス、 ４５‥電源装置、 ４６‥真空ポンプ、 ４７‥気体ボンベ、 ５０‥防汚性フィルム、 ５１‥ＰＥＴフィルム、 ５２‥中間層、 ５３‥光触媒層、 ５４‥粘着剤層、 ５５‥剥離紙、 ５６‥保護フィルム。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｄ 1/00 Ｃ０９Ｄ 1/00 5/00 5/00 Ｚ 5/16 5/16 201/00 201/00 Ｃ０９Ｊ 7/02 Ｃ０９Ｊ 7/02 Ｚ 201/00 201/00 // Ｃ０８Ｌ 101:00 Ｃ０８Ｌ 101:00 Ｆターム(参考） 4F006 AA17 AA18 AA22 AA35 AB74 BA11 EA01 EA03 EA05 4F100 AA21B AA21C AK04 AK15A AK17A AK25A AK42 AK42A AK68 AR00B AS00E AT00A BA02 BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10B BA10D BA10E CA18 CA30 DG10 EH20 EH201 EH46 EH462 EJ13A EJ48 EJ482 EJ54A EJ55 EJ55A EJ552 EJ61A GB08 GB33 JA12C JB05 JB05A JL08B JL11 JL13D JL14E JN01 YY00B YY00C 4J004 AA05 AA10 AA11 AB01 CA04 CA05 CA06 CB03 CC02 FA04 4J038 CR071 EA011 HA216 KA08 NA01 NA05 PA07 PB02 PB05 PC08 4J040 CA001 DF001 EK03 JA09 JB09 PA23

Claims (32)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 フィルム基材の片面に親水処理を施し、
   水系の防汚剤を塗工（第２塗膜層）することを特徴とす
   る防汚性フィルム。
2. 【請求項２】 上記水系の防汚剤が光触媒能を有する光
   触媒体である請求項１記載の防汚性フィルム。
3. 【請求項３】 上記光触媒能を有する光触媒体がアナタ
   −ゼ型酸化チタンである請求項２記載の防汚性フィル
   ム。
4. 【請求項４】 上記光触媒体がアモルファス型過酸化チ
   タンを含有する請求項３記載の防汚性フィルム。
5. 【請求項５】 上記親水処理が施されたフィルム基体の
   表面と防汚剤（第２塗膜層）との間に中間層（第１塗膜
   層）を設けた請求項１乃至４いずれか１項記載の防汚性
   フィルム。
6. 【請求項６】 上記中間層（第１塗膜層）が光触媒能を
   有さないアモルファス型過酸化チタンである請求項５記
   載の防汚性フィルム。
7. 【請求項７】 上記中間層（第１塗膜層）が界面活性剤
   及び／又は親水剤を含有する請求項５又は６記載の防汚
   性フィルム。
8. 【請求項８】 上記防汚剤の層（第２塗膜層）の厚さが
   ０．０２〜４．０μｍである請求項１乃至７いずれか１
   項記載の防汚性フィルム。
9. 【請求項９】 上記中間層（第１塗膜層）の厚さが０．
   ０２〜４．０μｍである請求項１乃至８いずれか１項記
   載の防汚性フィルム。
10. 【請求項１０】 上記親水処理がコロナ放電処理である
    請求項１乃至９いずれか１項記載の防汚性フィルム。
11. 【請求項１１】 上記親水処理がプラズマ放電処理であ
    る請求項１乃至９いずれか１項記載の防汚性フィルム。
12. 【請求項１２】 上記親水処理が紫外線処理である請求
    項１乃至９いずれか１項記載の防汚性フィルム。
13. 【請求項１３】 上記親水処理がオゾン処理である請求
    項１乃至９いずれか１項記載の防汚性フィルム。
14. 【請求項１４】 上記フィルム基材が、ポリエチレンテ
    レフタレート、アクリル、塩化ビニル、ＥＴＦＥである
    請求項１乃至１３いずれか１項記載の防汚性フィルム。
15. 【請求項１５】 上記フィルム基材の裏側に粘着剤層及
    びこの表面に剥離テ−プが備えられた請求項１乃至１４
    いずれか１項記載の防汚性フィルム。
16. 【請求項１６】 上記光触媒体の表面に剥離可能な保護
    層を備えた請求項１乃至１５いずれか１項記載の防汚性
    フィルム。
17. 【請求項１７】 フィルム基材の片面に親水処理を施
    し、かかる親水処理を施した面に水系の防汚剤を塗工
    （第２塗膜層）したことを特徴とする防汚性フィルムの
    製法。
18. 【請求項１８】 上記水系の防汚剤が光触媒能を有する
    光触媒体である請求項１７記載の防汚性フィルムの製
    法。
19. 【請求項１９】 上記光触媒能を有する光触媒体がアナ
    タ−ゼ型酸化チタンである請求項１８記載の防汚性フィ
    ルムの製法。
20. 【請求項２０】 上記光触媒体がアモルファス型過酸化
    チタンである請求項１９記載の防汚性フィルムの製法。
21. 【請求項２１】 上記親水処理が施されたフィルム基材
    の表面と防汚剤（第２塗膜層）との間に中間層（第１塗
    膜層）を設けた請求項１７乃至２０いずれか１項記載の
    防汚性フィルムの製法。
22. 【請求項２２】 上記中間層（第１塗膜層）が光触媒能
    を有さないアモルファス型過酸化チタンである請求項２
    １項記載の防汚性フィルムの製法。
23. 【請求項２３】 上記中間層（第１塗膜層）が界面活性
    剤及び／又は親水剤を含有する請求項２１又は２２記載
    の防汚性フィルムの製法。
24. 【請求項２４】 上記防汚剤の層（第２塗膜層）の厚さ
    が０．０２〜４．０μｍである請求項１７乃至２３いず
    れか１項記載の防汚性フィルムの製法。
25. 【請求項２５】 上記中間層（第１塗膜層）の厚さが
    ０．０２〜４．０μｍである請求項１７乃至２３いずれ
    か１項記載の防汚性フィルムの製法。
26. 【請求項２６】 上記親水処理がコロナ放電処理である
    請求項１７乃至２５いずれか１項記載の防汚性フィルム
    の製法。
27. 【請求項２７】 上記親水処理がプラズマ放電処理であ
    る請求項１７乃至２５いずれか１項記載の防汚性フィル
    ムの製法。
28. 【請求項２８】 上記親水処理が紫外線処理である請求
    項１７乃至２５いずれか１項記載の防汚性フィルムの製
    法。
29. 【請求項２９】 上記親水処理がオゾン処理である請求
    項１７乃至２５いずれか１項記載の防汚性フィルムの製
    法。
30. 【請求項３０】 上記フィルム基材が、ポリエチレンテ
    レフタレート、アクリル、塩化ビニル、ＥＴＦＥである
    請求項１７乃至２９いずれか１項記載の防汚性フィルム
    の製法。
31. 【請求項３１】 上記フィルム基材の裏側に粘着剤層を
    塗工し、更にこの表面に剥離テ−プを貼り付けた請求項
    １７乃至３０いずれか１項記載の防汚性フィルムの製
    法。
32. 【請求項３２】 上記光触媒体の表面に剥離可能な保護
    層を貼り付けた請求項１７乃至３１いずれか１項記載の
    防汚性フィルムの製法。