JP2003300771A

JP2003300771A - 衛生陶器

Info

Publication number: JP2003300771A
Application number: JP2002099628A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Koseki; 剛小関; Shingo Kasahara; 慎吾笠原; Satoshi Horiuchi; 堀内　　智; Mitsuyoshi Machida; 町田　　光義; Katsuhiro Kawakami; 克博川上
Original assignee: Toto Ltd
Current assignee: Toto Ltd
Priority date: 2002-04-02
Filing date: 2002-04-02
Publication date: 2003-10-21

Abstract

(57)【要約】【課題】衛生陶器素地表面の表裏両面に第１釉薬層が
形成され、前記素地のおもて面には第１釉薬層の上にさ
らに第２釉薬層が形成されている部分において、外観の
良好な、長期にわたって表面の平滑性が維持され、汚れ
を容易に除去し得る衛生陶器を提供すること。【解決手段】陶器素地の第１の面に着色顔料を含む第
１釉薬層とさらに前記第１釉薬層の上に第１釉薬層を形
成し、前記陶器素地の肉厚方向で前記第１の面と反対側
の第２の面に第１釉薬層を形成した後、８００〜１３０
０℃で焼成して得られる衛生陶器であって、前記第１の
面と前記第１釉薬層との間に水溶性金属塩水溶液及び／
または水溶性金属イオン含有水溶液及び／または水溶性
ハロゲン化物水溶液を前記陶器素地に含浸させて水溶液
含浸層を形成し、さらにその上にエンゴーベ層を形成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は大便器、小便器、洗
面器、手洗い器、便器タンクなどの衛生陶器に係り、特
に陶器表面の釉薬層の上にさらに第２の釉薬層を施す部
位の欠点発生抑制に好適な製造方法、及び長期にわたっ
て汚れを容易に除去し得る機能を維持する釉薬表面を持
った衛生陶器及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、大便器、小便器、洗面器、手洗い
器などの衛生陶器では、一般的に成形素地表面に釉薬を
スプレー等により塗布して第１の釉薬層を形成し、さら
にその上に第２の釉薬層を設け、この第２の釉薬層には
予め熔融された非晶質釉薬を用いること及び微粒化によ
り焼成後の残留石英量を極力低減させる方法（ＷＯ９９
／６１３９２）により、焼成後の陶器釉薬表面を平滑化
していた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
従来の方法では、素地の厚みの方向に対して両面に施釉
する部位の釉面にピンホール状あるいは斑点状の欠点を
発生する恐れがあり、それに伴って、釉薬表面の平滑性
を維持するために改善をする余地があった。上記欠点発
生の原因としては、焼成過程における素地内部より発生
するガスが素地面の第１釉薬層を一気に突き抜け、第２
の釉薬層にも影響を与えるためであると考えられる。そ
こで、この問題を解決するために本出願人は、素地上の
第一の釉薬層と素地との間に、水溶性金属塩水溶液及び
／または水溶性金属イオン含有水溶液及び／または水溶
性ハロゲン化物水溶液を含浸させる方法（特願２０００
−３８０４４７）、または素地と前記第１の釉薬層の間
にエンゴーベを形成する方法（特願１１−１７２１２
３、特願２０００−３８７０４７）を提案し、第２の釉
薬層における斑点模様等の外観不良を低減し、表面の平
滑性を維持し得る衛生陶器を完成させるに至った。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本出願人は、上記発明を
さらに検討した結果、前記第２の釉薬層における斑点模
様などの外観不良をさらに効果的かつ確実に低減し、さ
らには表面の平滑性を維持し得る方法が存在することを
見出した。

【０００５】上述する釉面のピンホール状及び斑点状欠
点の発生原因は、より詳細に考察すると、焼成に伴って
発生する素地からのガスが焼成における最高温度域近く
の高温状態、すなわち、釉薬層の熔融粘性が下がってい
く状態にまでも発生が継続し、前記ガスが熔融粘性が低
く隙間のほとんどない状態となっている釉薬層へと廻
り、釉薬層を突き抜けるためと考えられる。釉薬層の熔
融粘性がまだ高い段階で前記釉薬層に廻った前記ガス
は、一気に前記釉薬層を突き抜けず、一旦釉薬層に止ま
った後、釉薬層の熔融粘性が低くなった後に徐々に外気
へと放出されると考えられる。しかし、釉薬層の熔融粘
性が低い段階で前記釉薬層に廻った前記ガスは、一気に
前記釉薬層を突き抜け前記欠点となると考えられる。

【０００６】本発明では、上記課題を解決すべく、陶器
素地の第１の面に着色顔料を含む第１釉薬層とさらに前
記第１釉薬層の上に第２釉薬層を形成し、前記陶器素地
の肉厚方向で前記第１の表面と反対側の第２の面に前記
第１釉薬層を形成した後、８００〜１３００℃で焼成し
て得られる衛生陶器であって、前記第１の面と前記第１
釉薬層との間に水溶性金属塩水溶液及び／または水溶性
金属イオン含有水溶液及び／または水溶性ハロゲン化物
水溶液を前記陶器素地に含浸させて水溶液含浸層を形成
し、さらにその上にエンゴーベ層を形成する衛生陶器を
提供する。

【０００７】陶器素地の第１の面に水溶性金属塩水溶液
及び／または水溶性金属イオン含有水溶液及び／または
水溶性ハロゲン化物水溶液を含浸させて水溶液含浸層を
形成することにより、素地内部のガスを第１の面の表層
部に集めることができ、前記表層部における焼成に伴っ
て発生する素地からのガス発生温度域を、素地内部より
も低くかつ狭い領域にすることができる。これにより、
第１の面の釉薬層に廻る素地からのガスの発生は、絶対
的に少なくなり、かつ釉薬層が熔融粘性の高い状態にな
る前に終了することとなるため、前記ガスが一気に第１
の面の釉薬層を突き抜けることが無く、ピンホール及び
斑点模様などの外観不良が発生しにくくなるとともに、
表面の平滑性が前記ガスの影響で損なわれるのを防止す
ることができる。また、さらに前記水溶液含浸層の上に
エンゴーベ層を形成することにより、素地内部からのガ
スが、第１の面の第１及び第２釉薬層を通ってピンホー
ルとして成長することを防ぐ遮断機能をエンゴーベ層が
有するようになり第２釉薬層に斑点模様などの外観不良
が発生しにくくなるとともに、表面の平滑性が前記ガス
の影響で損なわれるのを防止することができる。

【０００８】本発明の好ましい態様においては、前記第
２の面と前記第１釉薬層との間に水溶性金属塩水溶液及
び／または水溶性金属イオン含有水溶液及び／または水
溶性ハロゲン化物水溶液を前記陶器素地に含浸させて水
溶液含浸層を形成、またはエンゴーベ層を形成する。陶
器素地の第２の面に水溶性金属塩水溶液及び／または水
溶性金属イオン含有水溶液及び／または水溶性ハロゲン
化物水溶液を含浸させて水溶液含浸層を形成した場合に
は、素地内部のガスを第２の面の表層部に集めることが
できるため、前記表層部における焼成に伴って発生する
素地からのガス発生温度域を、素地内部よりも低くかつ
狭い領域にすることができる。その結果、前記ガスが一
気に第１の釉薬層を突き抜けることが無く、ピンホール
及び斑点模様などの外観不良が発生しにくくなるととも
に、表面の平滑性が前記ガスの影響で損なわれるのを防
止することができる。陶器素地の第２の面にエンゴーベ
層を形成した場合には、素地内部からのガスが、第２の
面の第１釉薬層を通って抜けやすくするガス放出機能を
エンゴーベ層が有するようになり、第１の面の第２釉薬
層に斑点模様などの外観不良が発生しにくくなるととも
に、表面の平滑性が前記ガスの影響で損なわれるのを防
止することができる。

【０００９】本発明の好ましい態様においては、前記第
２の面と前記第１釉薬層との間に水溶性金属塩水溶液及
び／または水溶性金属イオン含有水溶液及び／または水
溶性ハロゲン化物水溶液を前記陶器素地に含浸させて水
溶液含浸層を形成し、さらにその上にエンゴーベ層を形
成する。陶器素地の第２の面に形成した水溶液含浸層に
より、素地内部のガスを第２の面の表層部に集めること
ができ、前記水溶液含浸層の上に形成したエンゴーベ層
により、素地内部及び表層部からのガスが、第２の面の
第１釉薬層を通って抜けやすくするガス放出機能を有す
るようになる。従って、前記水溶液含浸層とエンゴーベ
層の組み合わせにより、第１の面の釉薬層に廻る素地か
らのガス発生量を絶対的に少なくすることができ、その
結果として、第１の面の第２釉薬層に斑点模様などの外
観不良が発生しにくくなるとともに、表面の平滑性が前
記ガスの影響で損なわれるのを防止することができる。

【００１０】また、本発明は、陶器素地の第１の面に着
色顔料を含む第１釉薬層とさらに前記第１釉薬層の上に
第２釉薬層を形成し、前記陶器素地の肉厚方向で前記第
１の表面と反対側の第２の面に前記第１釉薬層を形成し
た後、８００〜１３００℃で焼成して得られる衛生陶器
であって、前記第１の面と前記第１釉薬層との間にエン
ゴーベ層を形成すると共に、前記第２の面と前記第１釉
薬層との間に水溶性金属塩水溶液及び／または水溶性金
属イオン含有水溶液及び／または水溶性ハロゲン化物水
溶液を前記陶器素地に含浸させて水溶液含浸層を形成、
またはエンゴーベ層を形成することを特徴とする。陶器
素地の第１の面にエンゴーベ層を形成することにより、
素地内部からのガスが、第１の面の第１及び第２釉薬層
を通ってピンホールとして成長することを防ぐ遮断機能
をエンゴーベ層が有するようになり、第２釉薬層に斑点
模様などの外観不良が発生しにくくなるとともに、表面
の平滑性が前記ガスの影響で損なわれるのを防止するこ
とができる。さらに、陶器素地の第２の面に水溶性金属
塩水溶液及び／または水溶性金属イオン含有水溶液及び
／または水溶性ハロゲン化物水溶液を含浸させて水溶液
含浸層を形成した場合には、素地内部のガスを第２の面
の表層部に集めることができ、前記表層部おける焼成に
伴って発生する素地からのガス発生温度域を、素地内部
よりも低くかつ狭い領域にすることができる。また、陶
器素地の第２の面にエンゴーベ層を形成した場合には、
素地内部からのガスが、第２の面の第１釉薬層を通って
抜けやすくするガス放出機能をエンゴーベ層が有するよ
うになり、第１の面の第２釉薬層に斑点模様などの外観
不良が発生しにくくなるとともに、表面の平滑性が前記
ガスの影響で損なわれるのを防止することができる。

【００１１】また、本発明は、陶器素地の第１の面に着
色顔料を含む第１釉薬層とさらに前記第１釉薬層の上に
第２釉薬層を形成し、前記陶器素地の肉厚方向で前記第
１の表面と反対側の第２の面に前記第１釉薬層を形成し
た後、８００〜１３００℃で焼成して得られる衛生陶器
であって、前記第１の面と前記第１釉薬層との間にエン
ゴーベ層を形成すると共に、前記第２の面と前記第１釉
薬層との間に水溶性金属塩水溶液及び／または水溶性金
属イオン含有水溶液及び／または水溶性ハロゲン化物水
溶液を前記陶器素地に含浸させて水溶液含浸層を形成
し、さらにその上にエンゴーベ層を形成することを特徴
とする。陶器素地の第１の面にエンゴーベ層を形成する
ことにより、素地内部からのガスが、第１の面の第１及
び第２釉薬層を通ってピンホールとして成長することを
防ぐ遮断機能をエンゴーベ層が有するようになり、第２
釉薬層に斑点模様などの外観不良が発生しにくくなると
ともに、表面の平滑性が前記ガスの影響で損なわれるの
を防止することができる。さらに、陶器素地の第２の面
に形成した水溶液含浸層により、素地内部のガスを第２
の面の表層部に集めることができ、前記水溶液含浸層の
上に形成したエンゴーベ層により、素地内部及び表層部
からのガスが、第２の面の第１釉薬層を通って抜けやす
くするガス放出機能を有するようになる。従って、前記
水溶液含浸層とエンゴーベ層の組み合わせにより、第１
の面の釉薬層に廻る素地からのガス発生量を絶対的に少
なくすることができ、その結果として、第１の面の第２
釉薬層に斑点模様などの外観不良が発生しにくくなると
ともに、表面の平滑性が前記ガスの影響で損なわれるの
を防止することができる。

【００１２】また、本発明は、陶器素地の第１の面に着
色顔料を含む第１釉薬層とさらに前記第１釉薬層の上に
第２釉薬層を形成し、前記陶器素地の肉厚方向で前記第
１の表面と反対側の第２の面に前記第１釉薬層を形成し
た後、８００〜１３００℃で焼成して得られる衛生陶器
であって、前記第１の面と前記第１釉薬層との間に水溶
性金属塩水溶液及び／または水溶性金属イオン含有水溶
液及び／または水溶性ハロゲン化物水溶液を前記陶器素
地に含浸させて水溶液含浸層を形成すると共に、前記第
２の面と前記第１釉薬層との間にエンゴーベ層を形成す
ることを特徴とする。また、前記第２の面と前記エンゴ
ーベ層との間に水溶性金属塩水溶液及び／または水溶性
金属イオン含有水溶液及び／または水溶性ハロゲン化物
水溶液を前記陶器素地に含浸させて水溶液含浸層を形成
することを特徴とする。陶器素地の第１の面に水溶性金
属塩水溶液及び／または水溶性金属イオン含有水溶液及
び／または水溶性ハロゲン化物水溶液を含浸させて水溶
液含浸層を形成することにより、素地内部のガスを第１
の面の表層部に集めることができ、前記表層部における
焼成に伴って発生する素地からのガス発生温度域を、素
地内部よりも低くかつ狭い領域にすることができる。こ
れにより、第１の面の釉薬層に廻る素地からのガスの発
生は、絶対的に少なくなり、かつ釉薬層が熔融粘性の高
い状態になる前に終了することとなるため、前記ガスが
一気に第１の面の釉薬層を突き抜けることが無く、ピン
ホール及び斑点模様などの外観不良が発生しにくくなる
とともに、表面の平滑性が前記ガスの影響で損なわれる
のを防止することができる。陶器素地の第２の面にエン
ゴーベ層を形成した場合には、素地内部からのガスが、
第２の面の第１釉薬層を通って抜けやすくするガス放出
機能をエンゴーベ層が有するようになり、第１の面の第
２釉薬層に斑点模様などの外観不良が発生しにくくなる
とともに、表面の平滑性が前記ガスの影響で損なわれる
のを防止することができる。また、陶器素地の第２の面
に水溶性金属塩水溶液及び／または水溶性金属イオン含
有水溶液及び／または水溶性ハロゲン化物水溶液を含浸
させて水溶液含浸層を形成した場合には、素地内部のガ
スを第２の面の表層部に集めることができ、前記表層部
おける焼成に伴って発生する素地からのガス発生温度域
を、素地内部よりも低くかつ狭い領域にすることができ
る。

【００１３】また、本発明は、陶器素地の第１の面に着
色顔料を含む第１釉薬層とさらに前記第１釉薬層の上に
第２釉薬層を形成し、前記陶器素地の肉厚方向で前記第
１の表面と反対側の第２の面に前記第１釉薬層を形成し
た後、８００〜１３００℃で焼成して得られる衛生陶器
であって、前記第２の面と第１釉薬層との間に水溶性金
属塩水溶液及び／または水溶性金属イオン含有水溶液及
び／または水溶性ハロゲン化物水溶液を前記陶器素地に
含浸させて水溶液含浸層を形成し、さらにその上にエン
ゴーベ層を形成することを特徴とする。陶器素地の第２
の面に形成した水溶液含浸層により、素地内部のガスを
第２の面の表層部に集めることができ、前記水溶液含浸
層の上に形成したエンゴーベ層により、素地内部及び表
層部からのガスが、第２の面の第１釉薬層を通って抜け
やすくするガス放出機能を有するようになる。従って、
前記水溶液含浸層とエンゴーベ層の組み合わせにより、
第１の面の釉薬層に廻る素地からのガス発生量を絶対的
に少なくすることができ、その結果として、第１の面の
第２釉薬層に斑点模様などの外観不良が発生しにくくな
るとともに、表面の平滑性が前記ガスの影響で損なわれ
るのを防止することができる。

【００１４】本発明の好ましい態様においては、前記第
１の面側に形成するエンゴーベ層の気孔率が前記陶器素
地の気孔率より小さい層とする。エンゴーベ層を前記陶
器素地より気孔率の小さな層とすることにより、陶器素
地内部からのガスが前記第１の面の第１釉薬層あるいは
第１及び第２釉薬層を通ってピンホールとして成長する
ことを防ぐ遮断機能をエンゴーベ層が有するようにな
り、前記第１の面の第２釉薬層において斑点模様などの
外観不良が発生しにくくなるとともに、平滑性が損なわ
れるのを防止することができる。

【００１５】本発明の好ましい態様においては、前記第
１の面側に形成するエンゴーベ層の組成は前記陶器素地
の組成より焼結開始温度が低くなるようにする。第１の
面側に形成するエンゴーベ層の組成を、素地の組成より
焼結開始温度が低くなるようにすることにより、前記エ
ンゴーベ層が前記陶器素地よりも焼結が早まり、前記素
地の焼結に伴って前記素地内部から発生するガスを遮断
する機能を持たせやすくすることができる。

【００１６】本発明の好ましい態様においては、前記第
１の面側に形成するエンゴーベ層は前記陶器素地より焼
結終了温度が低い層とする。陶器素地より焼結終了温度
が低い層とすることにより、焼成過程の最高温度付近に
おける非平衡状態に伴って発生する素地内部からのガス
が、前記第１の面の第１釉薬層あるいは第１及び第２釉
薬層を通ってピンホールとして成長することを防ぐ遮断
機能を持たせやすくなり、前記第１の面の第２釉薬層に
おいて斑点模様などの外観不良が発生しにくくなるとと
もに、平滑性が損なわれるのを防止することができる。

【００１７】本発明の好ましい態様においては、前記第
１の面側に形成するエンゴーベ層は前記陶器素地より焼
成収縮率が大きい層とする。陶器素地より焼成収縮率が
大きい層とすることで、陶器素地とエンゴーベ層との界
面の反応層の焼成収縮率も大きくなり、陶器素地内部に
焼成収縮率勾配が生じることとなる。その勾配に伴って
陶器素地の焼成収縮率も増加することとなり、陶器素地
内部より発生するガスが陶器素地表面においても遮断さ
れることとなり、前記第１の面の第１釉薬層において斑
点模様などの外観不良が発生しにくくなるとともに、平
滑性が損なわれるのを防止することができる。

【００１８】本発明の好ましい態様においては、前記第
１の面側に形成するエンゴーベ層の原料は、５０％粒径
（Ｄ５０）が６μｍ以下の粉体原料であるようにする。
そうすることにより、エンゴーベ層をその下の陶器素地
（原料の５０％粒径は、一般に７〜９μｍである。）層
より気孔率の小さな緻密層とすることができ、陶器素地
内部から発生するガスへの遮断機能を持たせやすくなる
ため、前記第１の面の第２釉薬層において斑点模様など
の外観不良が発生しやすくなるとともに、平滑性が損な
われるのを防止することができる。

【００１９】本発明の好ましい態様においては、前記第
１の面側に形成するエンゴーベ層の原料は、陶石３０〜
５０重量％、粘土３０〜５０重量％、熔剤１０〜３０重
量％からなるようにする。陶石３０〜５０重量％、粘土
３０〜５０重量％、熔剤１０〜３０重量％とすること
で、陶器素地の第１の面に形成するエンゴーベ層は陶器
素地よりも焼結開始温度が低く、焼成終了温度が低く、
焼成収縮率が大きくなり、安定して陶器素地内部から発
生するガスの遮断機能を有するようになるため、前記第
１の面の第２釉薬層において斑点模様などの外観不良が
発生しにくくなるとともに、平滑性が損なわれるのを防
止することができる。

【００２０】本発明の好ましい態様においては、前記第
２の面側に形成するエンゴーベ層の気孔率が前記陶器素
地の気孔率より大きい層とする。気孔率の大きな層とす
ることで、陶器素地内部から発生するガスが素地裏面よ
り第１釉薬層を貫通して大気中へ放出されやすくなり、
前記第１の面の第２釉薬層において斑点模様などの外観
不良が発生しにくくなるとともに、平滑性が損なわれる
のを防止することができる。

【００２１】本発明の好ましい態様においては、前記第
２の面側に形成するエンゴーベ層の組成は前記陶器素地
の組成より焼結開始温度が高くなる組成であるようにす
る。第２の面側に形成するエンゴーベ層の組成を、前記
陶器素地の組成より焼成開始温度が高くなるようにする
ことにより、前記エンゴーベ層が前記陶器素地よりも焼
結が遅くなり、焼結に伴って前記陶器素地内部から発生
するガスを第２の面より大気中に放出する機能を持たせ
やすくなる。

【００２２】本発明の好ましい態様においては、前記第
２の面側に形成するエンゴーベ層は前記陶器素地より焼
成収縮率が小さい層とする。陶器素地より焼成収縮率が
小さい層とすることで、陶器素地とエンゴーベ層との界
面の反応層の焼成収縮率も小さくなり、陶器素地内部に
焼成収縮率勾配が生じることとなる。その勾配に伴って
陶器素地の焼成収縮率も減少することとなり、陶器素地
内部より発生するガスが減少するため、前記第１の面の
第１釉薬層において斑点模様などの外観不良が発生しに
くくなるとともに、平滑性が損なわれるのを防止するこ
とができる。

【００２３】本発明の好ましい態様においては、前記第
２の面側に形成するエンゴーベ層の原料は、５０％粒径
（Ｄ５０）が８μｍ〜１２μｍの粉体原料であるように
する。粉体原料の５０％粒径（Ｄ５０）が８μｍから１
２μｍの範囲とすることにより、エンゴーベ層をその下
の陶器素地（原料の５０％粒径は、一般に７〜９μｍで
ある。）層より気孔率の大きな層としやすくなり、陶器
素地内部から発生するガスを陶器素地の第２の面より大
気中に放出しやすくし、陶器素地の第１の面の第１釉薬
層、第２釉薬層への前記ガスによる影響を少なくでき、
前記第１の面の第２釉薬層において斑点模様などの外観
不良が発生しにくくなるとともに、平滑性が損なわれる
のを防止することができる。

【００２４】本発明の好ましい態様においては、前記第
２の面側に形成するエンゴーベ層の原料は、陶石４０〜
６０重量％、粘土４０〜６０重量％、熔剤０．１〜１０
重量％からなるようにする。陶石４０〜６０重量％、粘
土４０〜６０重量％、熔剤０．１〜１０重量％とするこ
とで、素地の裏面に形成するエンゴーベ層は素地よりも
焼結開始温度が高く、焼結終了温度が高く、焼成収縮率
が小さくなり、安定して素地内部から発生するガスが前
記第２の面の第１釉薬層を貫通して大気中へ開放される
のが容易となるため、前記第１の面の第２釉薬層におい
て斑点模様などの外観不良が発生しにくくなるととも
に、平滑性が損なわれるのを防止することができる。

【００２５】本発明の好ましい態様においては、前記水
溶液含浸層を形成する前に、前記陶器素地を加温するよ
うにする。陶器素地が加温されたまま前記水溶液を含浸
させると、水分が瞬時に蒸発し、前記水溶液の溶質成分
又はイオン成分を前記成形体表層部に集中させることが
できる。前記陶器素地の加温温度は、前記表面処理を行
う前の前記素地表面温度が４０℃以上になるようにする
ことが好ましく、７０℃以上になるようにすることがよ
り好ましい。

【００２６】本発明の好ましい態様においては、前記水
溶液含浸層を形成後、前記陶器素地を乾燥するようにす
る。陶器素地に前記水溶液を含浸させた後に、前記陶器
素地を乾燥させることにより水分とともに溶質成分又は
イオン成分が陶器素地内部から前記陶器素地表面へ移動
するので、上記成分を前記陶器素地表層部に集中させる
ことができる。

【００２７】本発明の好ましい態様においては、前記第
１の面側及び／または第２の面側に形成するエンゴーベ
の焼成後の厚みは０．０２ｍｍ以上０．０４ｍｍ未満と
する。前記エンゴーベの焼成後の厚みが０．０２ｍｍ未
満であると、第１の面側のエンゴーベは陶器素地内部か
ら発生するガスを遮断する機能が十分でなくなり、第２
の面側のエンゴーベは陶器素地内部から発生するガスを
大気中に放出する機能が十分に発揮されなくなる。ま
た、前記エンゴーベ層の焼成後の厚みが０.０４ｍｍ以
上であると、エンゴーベ層が形成されていない部分との
凹凸を生じ、外観不良となってしまう。したがって、エ
ンゴーベ層の焼成後の厚みを上記範囲にすることによ
り、エンゴーベ層の機能を十分果たすようになり、かつ
エンゴーベ層による衛生陶器表面の外観不良を生じな
い。

【００２８】

【発明の実施形態】本発明は、例えば、大便器、小便
器、洗面器、手洗い器等の衛生陶器に利用できる。また
大便器においては、ボール面、トラップ部、リム裏な
ど、小便器においては、ボール面、トラップ部、サナ
等、洗面器、手洗い器においては、ボール面などの汚れ
の付着しやすい一部分への適用も有効である。

【００２９】前記第１釉薬層の原料には、珪石、長石、
石灰石などの天然鉱物粒子の混合物、非晶質釉薬、また
はそれらの混合物を含む原料に顔料及び／または乳濁剤
が添加されたものを用いる。前記第２釉薬層の原料に
は、非晶質原料、非晶質原料と天然鉱物粒子との混合
物、天然鉱物粒子を微細化したもののいずれかが好適に
利用できる。非晶質原料とは上記の天然鉱物粒子などの
混合物からなる原料を予め高温で熔融しガラス化させた
原料のことをいい、例えばフリットが最も好適に利用で
きる。

【００３０】「水溶性金属塩水溶液及び／または水溶性
金属イオン含有水溶液及び／または水溶性ハロゲン化物
水溶液」としては、例えば、塩化リチウム、塩化ナトリ
ウム、塩化カリウム、塩化ルビジウム、塩化セシウム、
塩化マグネシウム、塩化カルシウム、塩化ストロンチウ
ム、塩化バリウム、塩化アルミニウム、塩化亜鉛などの
金属塩化物水溶液；硝酸リチウム、硝酸ナトリウム、硝
酸カリウム、硝酸ルビジウム、硝酸セシウム、硝酸マグ
ネシウム、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸
バリウム、硝酸亜鉛などの金属硝酸塩水溶液；炭酸リチ
ウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウ
ム、炭酸セシウムなどの炭酸塩水溶液；炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ルビジウム、炭酸水
素セシウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウ
ムなどの金属炭酸水素塩水溶液；硫酸リチウム、硫酸ナ
トリウム、硫酸カリウム、硫酸ルビジウム、硫酸セシウ
ム、硫酸亜鉛などの金属硫酸塩水溶液；水酸化リチウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジ
ウム、水酸化セシウムなどの金属水酸化物水溶液；燐酸
ナトリウム、燐酸カリウムなどの金属燐酸塩水溶液、燐
酸水素リチウム、燐酸水素ナトリウム、燐酸水素カリウ
ムなどの金属燐酸水素塩水溶液；酢酸リチウム、酢酸ナ
トリウム、酢酸カリウム、酢酸ルビジウム、酢酸セシウ
ム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロン
チウム、酢酸バリウムなどの金属酢酸塩水溶液；重硫酸
カリウム水溶液、過塩素酸カリウム水溶液、カリウムミ
ョウバン水溶液、ホウ砂水溶液；珪酸リチウム、珪酸ナ
トリウム、珪酸カリウムなどの水ガラス水溶液；リチウ
ム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、マ
グネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、
亜鉛のイオンを含有する水溶液、塩化アンモニウム、塩
化水素、臭化カリウム、ヨウ化カリウムなどのハロゲン
化物水溶液を好適に利用できる。

【００３１】エンゴーベの原料としては、具体的には以
下に限定されないが、例えば、陶石、粘土、長石、ドロ
マイト、石灰、ＢａＣＯ３、ＳｒＣＯ３、シャモット、
亜鉛華、珪石、スピネル化合物、アルミナ、ムライト、
水酸化アルミニウムの内の少なくとも２種類以上を配合
した混合を用いる。前記陶器素地の第１の面に形成する
焼結開始温度を低くするエンゴーベ層については、焼結
開始温度を変化させるように作用する成分のアルミナ、
ムライト、水酸化アルミニウムなどの配合比率を、素地
原料よりも少なくする。前記陶器素地の第２の面に形成
する焼結開始温度を高くするエンゴーベ層については、
焼結開始温度を変化させるように作用する成分のアルミ
ナ、ムライト、水酸化アルミニウムなどの配合比率を、
素地原料よりも多くする。

【００３２】本発明においては、まず水溶性金属塩水溶
液及び／または水溶性金属イオン含有水溶液及び／また
は水溶性ハロゲン化物水溶液を用意する。前記水溶液の
適正な濃度は各物質の溶解度に依存するが、１〜５０％
が好適に利用できる。また、前記水溶液を含浸させる方
法としてはスプレー、刷毛塗り、ディッピング等の一般
的な方法が好適に利用できる。前記水溶液を含浸させる
工程の前に、陶器素地が加温されているようにしてもよ
いし、前記水溶液を含浸させる工程の後に、前記陶器素
地を乾燥させるようにしてもよい。

【００３３】次にエンゴーベ層を形成するための原料粉
体を用意する。これは上記原料をボールミルなどで混合
し、必要に応じて粉砕することによって、目的物を得
る。

【００３４】次に、着色性釉薬を用意する。これには、
上記釉薬原料と顔料及び／又は乳濁剤をボール見るなど
で混合し、必要に応じて粉砕することによってもよい
し、顔料及び／又は乳濁剤が添加されている市販品の着
色性釉薬を購入してもよい。

【００３５】次に、顔料及び乳濁剤を含まない透明性釉
薬を用意するため、上記天然鉱物粒子と非晶質釉薬と
を、両者の合計和に対する非晶質釉薬の割合が望ましく
は５０〜９９重量％、より望ましくは６０〜９５重量％
になるように混合し、透明性釉薬原料を準備する。これ
をボールミルなどで混合し、必要に応じて粉砕し、目的
物を得る。

【００３６】次いで、一般的な衛生陶器の製造工程によ
り準備された衛生陶器成形体の表面に、上記水溶液及び
／または上記エンゴーベを少なくとも一部分に適用す
る。ここで少なくとも一部分とは、例えば、大便器にお
けるボール面、トラップ部、リム裏等の汚れやすい一部
分への適用、及び大便器などの全体への適用の双方をさ
す。また適用方法は、スプレーコート、フローコート、
印刷などの周知の方法が利用できる。

【００３７】次いで、前記水溶液及び／または前記エン
ゴーベを少なくとも一部分に施した衛星陶器成形体表面
の必要部分に、着色性釉薬を施し、さらにその上から透
明性釉薬を少なくとも一部分に施釉することにより、表
面平滑機能層を形成する。ここで透明性釉薬被覆層の少
なくとも一部分とは、例えば、大便器におけるボール
面、トラップ部、リム裏等の汚れやすい一部分への適
用、及び大便器などの全体への適用の双方をさす。また
適用方法は、スプレーコート、フローコート、印刷など
の周知の方法が利用できる。

【００３８】その後、８００〜１３００℃の温度で焼成
することにより、成形素地及びエンゴーベが焼結すると
ともに、２つの釉薬層が固着し、優れた表面平滑性を有
する衛生陶器となる。

【００３９】

【実施例】（比較例１）

【００４０】

【表１】

【００４１】表１の組成からなる釉薬原料２Ｋｇと水１
Ｋｇ及び球石４Ｋｇを、容積６リットルの陶器製ポット
に入れ、レーザー回折式粒度分布計を用いた粉砕後の着
色性釉薬スラリーの粒度測定結果が、１０μｍ以下が６
５％、５０％平均粒径（Ｄ５０）が６．５μｍ程度にな
るように、ボールミルにより粉砕を行った。ここで得ら
れた釉薬スラリーを、第一の釉薬Ａとする。

【００４２】次に、珪砂、長石、粘土等を原料として調
製した衛生陶器素地泥漿を用いて、ボール面の裏側は施
釉する必要の無いアンダーカウンター式の洗面器を成形
し、脱型後、乾燥し、衛生陶器洗面器成形体を得た。次
に、第一の釉薬Ａをスプレーコーティング法により塗布
し、８００〜１３００℃で焼成することにより衛生陶器
洗面器を得た。

【００４３】得られた衛生陶器洗面器について、釉薬表
面の外観欠点を目視により確認を行った。また、釉薬表
面の平滑性においては、陶器表面に鉛筆にて痕跡をつ
け、そのあと、タオルにて乾き拭きを行った後の残痕を
目視にて観察した。その結果、釉薬層には部分的にピン
ホール状の外観欠点が確認でき、斑点状の外観欠点は認
められなかった。また、平滑性においては、鉛筆の残痕
が確認でき、満足する平滑性を得ることができなかっ
た。（比較例２）

【００４４】

【表２】

【００４５】表２の組成からなる釉薬原料と、非晶質釉
薬とを、両者の合計和に対する非晶質釉薬の割合が５０
〜９９重量％になるように調整した透明性釉薬原料２Ｋ
ｇと水１Ｋｇ及び球石４Ｋｇを、容積６リットルの陶器
製ポットに入れ、レーザー回折式粒度分布計を用いた粉
砕後の透明性釉薬スラリーの粒度測定結果が、１０μｍ
以下が６７％、５０％平均粒径（Ｄ５０）が６．０μｍ
になるように、ボールミルにより粉砕を行った。ここで
得られた釉薬スラリーを、第二の釉薬Ｂとする。

【００４６】次に、珪砂、長石、粘土等を原料として調
製した衛生陶器素地泥漿を用いて、ボール面の裏側も施
釉する必要のある壁掛け式の洗面器を成形し、脱型後、
乾燥し、衛生陶器洗面器成形体を得た。次に、下層とし
て第一の釉薬Ａをスプレーコーティング法により塗布
し、更にその上に上層として第二の釉薬Ｂをスプレーコ
ーティング法により塗布を行った。その後、８００〜１
３００℃で焼成することにより衛生陶器洗面器を得た。

【００４７】得られた衛生陶器洗面器について、比較例
１と同様の評価を行った。その結果、釉薬層には部分的
にピンホール状かつ斑点状の外観欠点が認められた。ま
た、平滑性においては、前記欠点部分において、鉛筆の
残痕が確認でき、満足する平滑性を得ることができなか
った。

【００４８】（実施例１）塩化マグネシウム六水和物３
０００ｇに水７０００ｇを加えた後、卓上撹拌機で１０
分間撹拌して得られた水溶液を用意し、これを水溶液Ｃ
とする。次に、素地のおもて面（第１の面）に形成する
ためのエンゴーベ原料として、陶石３０〜５０重量％、
粘土３０〜５０重量％、長石１０〜３０重量％となるよ
うに調整した原料２Ｋｇと水２Ｋｇ及び球石４Ｋｇを、
容積６リットルの陶器製ポットに入れ、レーザー回折式
粒度分布計を用いた粉砕後のエンゴーベ原料スラリーの
粒度測定結果が、１０μｍ以下が７１％、５０％平均粒
径（Ｄ５０）が５．０μｍ程度になるように、ボールミ
ルにより粉砕を行った。ここで得られた素地おもて面に
形成するためのエンゴーベ原料スラリーを、泥漿Ｄとす
る。次に、素地の裏面（第２の面）に形成するためのエ
ンゴーベ原料として、陶石４０〜６０重量％、粘土４０
〜６０重量％、長石０．１〜１０重量％となるように調
整した原料２Ｋｇと水２Ｋｇ及び球石４Ｋｇを、容積６
リットルの陶器製ポットに入れ、レーザー回折式粒度分
布計を用いた粉砕後のエンゴーベ原料スラリーの粒度測
定結果が、１０μｍ以下が５５％、５０％平均粒径（Ｄ
５０）が８．５μｍ程度になるように、ボールミルによ
り粉砕を行った。ここで得られた素地裏面に形成するた
めのエンゴーベ原料スラリーを、泥漿Ｅとする。次に比
較例２で準備したものと同一の壁掛け洗面器を用意し、
図１に示すように、洗面器の成形体素地１のボール面の
おもて面（第１の面）７に水溶液Ｃをスプレーコーティ
ング法で塗布し水溶液含侵層２を形成した。次に、成形
体を５０℃で３時間乾燥した。次に、ボール面のおもて
面（第１の面）７にエンゴーベとして、泥漿Ｄをスプレ
ーコーティング法で塗布しエンゴーベ層３を形成した。

【００４９】さらに、ボール面の表裏両面を含む必要な
部分に下層として第一の釉薬Ａをスプレーコーティング
法により塗布して第１釉薬層５を形成し、ボール面のお
もて面（第１の面）７側の第１釉薬層５の上に上層とし
て第二の釉薬Ｂをスプレーコーティング法により塗布し
て第１釉薬層６を形成した。その後、８００〜１３００
℃で焼成することにより衛生陶器洗面器を得た。

【００５０】得られた衛生陶器洗面器について、比較例
１と同様の評価を行った。その結果、第２釉薬層６には
ピンホール状あるいは斑点状の外観欠点が認められなか
った。また、平滑性においては、鉛筆の残痕が確認でき
ず、満足する平滑性を得ることができた。

【００５１】（実施例２）比較例２で準備したものと同
一の壁掛け洗面器を用意し、図２に示すように、洗面器
の成形体素地１のボール面の裏面（第２の面）８に水溶
液Ｃをスプレーコーティング法で塗布して水溶液含侵層
２を形成した。成形体を５０℃で３時間乾燥した。次
に、ボール面のおもて面（第１の面）７にエンゴーベと
して、泥漿Ｄをスプレーコーティング法で塗布してエン
ゴーベ層３を形成した。

【００５２】さらに、ボール面の表裏両面を含む必要な
部分に下層として第一の釉薬Ａをスプレーコーティング
法により塗布して第１釉薬層５を形成し、ボール面のお
もて面（第１の面）７側の第１釉薬層５上に上層として
第二の釉薬Ｂをスプレーコーティング法により塗布して
第２釉薬層６を形成した。その後、８００〜１３００℃
で焼成することにより衛生陶器洗面器を得た。

【００５３】得られた衛生陶器洗面器について、比較例
１と同様の評価を行った。その結果、第２釉薬層６には
ピンホール状あるいは斑点状の外観欠点が認められなか
った。また、平滑性においては、鉛筆の残痕が確認でき
ず、満足する平滑性を得ることができた。

【００５４】（実施例３）比較例２で準備したものと同
一の壁掛け洗面器を用意し、図３に示すように、洗面器
の成形体素地１のボール面の表裏両面に水溶液Ｃをスプ
レーコーティング法で塗布して水溶液含侵層２を形成し
た。次に、成形体を５０℃で３時間乾燥した。次に、ボ
ール面のおもて面（第１の面）７にエンゴーベとして、
泥漿Ｄをスプレーコーティング法で塗布してエンゴーベ
層３を形成した。

【００５５】さらに、ボール面の表裏両面を含む必要な
部分に下層として第一の釉薬Ａをスプレーコーティング
法により塗布して第１釉薬層５を形成し、ボール面のお
もて面（第１の面）７側の第１釉薬層５の上に上層とし
て第二の釉薬Ｂをスプレーコーティング法により塗布し
て第２釉薬層６を形成した。その後、８００〜１３００
℃で焼成することにより衛生陶器洗面器を得た。

【００５６】得られた衛生陶器洗面器について、比較例
１と同様の評価を行った。その結果、第２釉薬層６には
ピンホール状あるいは斑点状の外観欠点が認められなか
った。また、平滑性においては、鉛筆の残痕が確認でき
ず、満足する平滑性を得ることができた。

【００５７】（実施例４）比較例２で準備したものと同
一の壁掛け洗面器を用意し、図４に示すように、洗面器
の成形体素地１のボール面のおもて面（第１の面）７に
水溶液Ｃをスプレーコーティング法で塗布して水溶液含
侵層２を形成した。次に、成形体を５０℃で３時間乾燥
した。次に、ボール面の裏面（第２の面）８にエンゴー
ベとして、泥漿Ｅをスプレーコーティング法で塗布して
エンゴーベ層４を形成した。

【００５８】さらに、ボール面の表裏両面を含む必要な
部分に下層として第一の釉薬Ａをスプレーコーティング
法により塗布して第１釉薬層５を形成し、ボール面のお
もて面（第１の面）７側の第１釉薬層５の上に上層とし
て第二の釉薬Ｂをスプレーコーティング法により塗布し
て第２釉薬層６を行った。その後、８００〜１３００℃
で焼成することにより衛生陶器洗面器を得た。

【００５９】得られた衛生陶器洗面器について、比較例
１と同様の評価を行った。その結果、第２釉薬層６には
ピンホール状あるいは斑点状の外観欠点が認められなか
った。また、平滑性においては、鉛筆の残痕が確認でき
ず、満足する平滑性を得ることができた。

【００６０】（実施例５）比較例２で準備したものと同
一の壁掛け洗面器を用意し、図５に示すように、洗面器
の成形体素地１のボール面の裏面（第２の面）８に水溶
液Ｃをスプレーコーティング法で塗布して水溶液含浸層
２を形成した。次に、成形体を５０℃で３時間乾燥し
た。次に、ボール面の裏面（第２の面）８にエンゴーベ
として、泥漿Ｅをスプレーコーティング法で塗布してエ
ンゴーベ層４を形成した。

【００６１】さらに、ボール面の表裏両面を含む必要な
部分に下層として第一の釉薬Ａをスプレーコーティング
法により塗布して第１釉薬層５を形成し、ボール面のお
もて面（第１の面）７側の第１釉薬層５の上に上層とし
て第二の釉薬Ｂをスプレーコーティング法により塗布し
て第２釉薬層６を形成した。その後、８００〜１３００
℃で焼成することにより衛生陶器洗面器を得た。

【００６２】得られた衛生陶器洗面器について、比較例
１と同様の評価を行った。その結果、第２釉薬層６には
ピンホール状あるいは斑点状の外観欠点が認められなか
った。また、平滑性においては、鉛筆の残痕が確認でき
ず、満足する平滑性を得ることができた。

【００６３】（実施例６）比較例２で準備したものと同
一の壁掛け洗面器を用意し、図６に示すように、洗面器
の成形体素地１のボール面の表裏両面に水溶液Ｃをスプ
レーコーティング法で塗布して水溶液含侵層２を形成し
た。次に、成形体を５０℃で３時間乾燥した。次に、ボ
ール面の裏面（第２の面）８にエンゴーベとして、泥漿
Ｅをスプレーコーティング法で塗布してエンゴーベ層４
を形成した。

【００６４】さらに、ボール面の表裏両面を含む必要な
部分に下層として第一の釉薬Ａをスプレーコーティング
法により塗布して第１釉薬層５を形成し、ボール面のお
もて面（第１の面）７側の第１釉薬層５の上に上層とし
て第２の釉薬Ｂをスプレーコーティング法により塗布し
て第２釉薬層６を形成した。その後、８００〜１３００
℃で焼成することにより衛生陶器洗面器を得た。

【００６５】得られた衛生陶器洗面器について、比較例
１と同様の評価を行った。その結果、第２釉薬層６には
ピンホール状あるいは斑点状の外観欠点が認められなか
った。また、平滑性においては、鉛筆の残痕が確認でき
ず、満足する平滑性を得ることができた。

【００６６】（実施例７）比較例２で準備したものと同
一の壁掛け洗面器を用意し、図７に示すように、洗面器
の成形体素地１のボール面のおもて面（第１の面）７に
エンゴーベとして、泥漿Ｄをスプレーコーティング法で
塗布してエンゴーベ層３を形成し、裏面（第２の面）８
にはエンゴーベとして、泥漿Ｅをスプレーコーティング
法で塗布してエンゴーベ層４を形成した。

【００６７】さらに、ボール面の表裏両面を含む必要な
部分に下層として第一の釉薬Ａをスプレーコーティング
法により塗布して第１釉薬層５を形成し、ボール面のお
もて面（第１の面）７側の第１釉薬層５上に上層として
第２の釉薬Ｂをスプレーコーティング法により塗布して
第２釉薬層６を形成した。その後、８００〜１３００℃
で焼成することにより衛生陶器洗面器を得た。

【００６８】得られた衛生陶器洗面器について、比較例
１と同様の評価を行った。その結果、第２釉薬層６には
ピンホール状あるいは斑点状の外観欠点が認められなか
った。また、平滑性においては、鉛筆の残痕が確認でき
ず、満足する平滑性を得ることができた。

【００６９】（実施例８）比較例２で準備したものと同
一の壁掛け洗面器を用意し、図８に示すように、洗面器
の成形体素地１のボール面のおもて面（第１の面）７に
水溶液Ｃをスプレーコーティング法で塗布して水溶液含
侵層２を形成した。次に、成形体を５０℃で３時間乾燥
した。次に、ボール面のおもて面（第１の面）７にエン
ゴーベとして、泥漿Ｄをスプレーコーティング法で塗布
してエンゴーベ層３を形成し、さらに、ボール面の裏面
（第２の面）８にエンゴーベとして、泥漿Ｅをスプレー
コーティング法で塗布してエンゴーベ層３を形成した。

【００７０】さらに、ボール面の表裏両面を含む必要な
部分に下層として第一の釉薬Ａをスプレーコーティング
法により塗布して第１釉薬層５を形成し、ボール面のお
もて面（第１の面）７側の第１釉薬層５の上に上層とし
て第二の釉薬Ｂをスプレーコーティング法により塗布し
て第２釉薬層６を形成した。その後、８００〜１３００
℃で焼成することにより衛生陶器洗面器を得た。

【００７１】得られた衛生陶器洗面器について、比較例
１と同様の評価を行った。その結果、第２釉薬層６には
ピンホール状あるいは斑点状の外観欠点が認められなか
った。また、平滑性においては、鉛筆の残痕が確認でき
ず、満足する平滑性を得ることができた。

【００７２】（実施例９）比較例２で準備したものと同
一の壁掛け洗面器を用意し、図９に示すように、洗面器
の成形体素地１のボール面の裏面（第２の面）８に水溶
液Ｃをスプレーコーティング法で塗布して水溶液含侵層
２を形成した。次に、成形体を５０℃で３時間乾燥し
た。次に、ボール面のおもて面（第１の面）７にエンゴ
ーベとして、泥漿Ｄをスプレーコーティング法で塗布し
てエンゴーベ層３を形成し、さらに、ボール面の裏面
（第２の面）にエンゴーベとして、泥漿Ｅをスプレーコ
ーティング法で塗布してエンゴーベ層４を形成した。

【００７３】さらに、ボール面の表裏両面を含む必要な
部分に下層として第一の釉薬Ａをスプレーコーティング
法により塗布して第１釉薬層５を形成し、ボール面のお
もて面（第１の面）側７の第１釉薬層５の上に上層とし
て第二の釉薬Ｂをスプレーコーティング法により塗布し
て第２釉薬層６を形成した。その後、８００〜１３００
℃で焼成することにより衛生陶器洗面器を得た。

【００７４】その結果、第２釉薬層６にはピンホール状
あるいは斑点状の外観欠点が認められなかった。また、
平滑性においては、鉛筆の残痕が確認できず、満足する
平滑性を得ることができた。

【００７５】（実施例１０）比較例２で準備したものと
同一の壁掛け洗面器を用意し、図１０に示すように、洗
面器の成形体素地１のボール面の表裏両面に水溶液Ｃを
スプレーコーティング法で塗布して水溶液含侵層２を形
成した。次に、成形体を５０℃で３時間乾燥した。次
に、ボール面のおもて面（第１の面）７にエンゴーベと
して、泥漿Ｄをスプレーコーティング法で塗布してエン
ゴーベ層３を形成し、さらに、ボール面の裏面（第２の
面）にエンゴーベとして、泥漿Ｅをスプレーコーティン
グ法で塗布してエンゴーベ層４を形成した。

【００７６】さらに、ボール面の表裏両面を含む必要な
部分に下層として第一の釉薬Ａをスプレーコーティング
法により塗布して第１釉薬層５を形成し、ボール面のお
もて面（第１の面）７側の第１釉薬層５の上に上層とし
て第二の釉薬Ｂをスプレーコーティング法により塗布し
て第１釉薬層６を形成した。その後、８００〜１３００
℃で焼成することにより衛生陶器洗面器を得た。

【００７７】その結果、第２釉薬層６にはピンホール状
あるいは斑点状の外観欠点が認められなかった。また、
平滑性においては、鉛筆の残痕が確認できず、満足する
平滑性を得ることができた。

【００７８】

【表３】

【００７９】比較例及び実施例における水溶液と塗布エ
ンゴーベ形成の有無、外観評価の結果を合わせて上記表
３に示した。表３における外観評価のピンホールにおけ
る「○」はピンホールが確認されないことを示し、
「△」は部分的にピンホールが確認されたことを示す。
また、斑点模様の「○」は斑点模様が確認されないこと
を示し、「△」は部分的に斑点模様が確認されたことを
示す。平滑性においては、「○」は鉛筆の残痕が確認さ
れないことを示し、「▲」はピンホール及び斑点模様の
部分だけ鉛筆の残痕が確認されたことを示し、「×」は
全体的に鉛筆の残痕が確認されたことを示す。表３から
素地のおもて面及び／または裏面に上記水溶液を含浸さ
せることによる素地内部から発生するガスの影響を前記
素地おもて面の第二の釉薬層が受けにくくなり、また、
素地のおもて面及び／または裏面に上記エンゴーベを形
成することによる素地内部から発生するガスの影響を前
記素地おもて面の第二の釉薬層が受けにくくなった。こ
れにより、第一の釉薬層を素地表裏両面に施した衛生陶
器の第二の釉薬層におけるピンホール及び斑点模様など
の外観不良が発生しにくくなるとともに、表面の平滑性
が保たれることが確認できた。

【００８０】

【発明の効果】本発明によれば、陶器素地の第１の面に
着色顔料を含む第１釉薬層とさらに前記第１釉薬層の上
に第２釉薬層を形成し、前記陶器素地の肉厚方向で前記
第１の面と反対側の第２の面に第１釉薬層を形成した
後、焼成して得られる衛生陶器の前記第２釉薬層が形成
されている部分において、外観が良好で、長期にわたっ
て表面の平滑性が維持され、汚れを容易に除去し得る衛
生陶器を提供することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１を示す図である。

【図２】本発明の実施例２を示す図である。

【図３】本発明の実施例３を示す図である。

【図４】本発明の実施例４を示す図である。

【図５】本発明の実施例５を示す図である。

【図６】本発明の実施例６を示す図である。

【図７】本発明の実施例７を示す図である。

【図８】本発明の実施例８を示す図である。

【図９】本発明の実施例９を示す図である。

【図１０】本発明の実施例１０を示す図である。

【符号の説明】１…成形体素地２…水溶液含浸層３、４…エンゴーベ層５…第１釉薬層（着色性釉薬層）６…第２釉薬層（透明性釉薬層）７…おもて面（第１の面）８…裏面（第２の面）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者堀内智福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１号東陶機器株式会社内 (72)発明者町田光義福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１号東陶機器株式会社内 (72)発明者川上克博福岡県北九州市小倉北区中島２丁目１番１号東陶機器株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】陶器素地の第１の面に着色顔料を含む第
１釉薬層とさらに前記第１釉薬層の上に第２釉薬層を形
成し、前記陶器素地の肉厚方向で前記第１の面と反対側
の第２の面に前記第１釉薬層を形成した後、８００〜１
３００℃で焼成して得られる衛生陶器であって、前記第１の面と前記第１釉薬層との間に水溶性金属塩水
溶液及び／または水溶性金属イオン含有水溶液及び／ま
たは水溶性ハロゲン化物水溶液を前記陶器素地に含浸さ
せて水溶液含浸層を形成し、さらにその上にエンゴーベ
層を形成することを特徴とする衛生陶器。
【請求項２】前記第２の面と前記第１釉薬層との間に
水溶性金属塩水溶液及び／または水溶性金属イオン含有
水溶液及び／または水溶性ハロゲン化物水溶液を前記陶
器素地に含浸させて水溶液含浸層を形成、またはエンゴ
ーベ層を形成することを特徴とする請求項１記載の衛生
陶器。
【請求項３】前記第２の面と前記第１釉薬層との間に
水溶性金属塩水溶液及び／または水溶性金属イオン含有
水溶液及び／または水溶性ハロゲン化物水溶液を前記陶
器素地に含浸させて水溶液含浸層を形成し、さらにその
上にエンゴーベ層を形成することを特徴とする請求項１
記載の衛生陶器。
【請求項４】陶器素地の第１の面に着色顔料を含む第
１釉薬層とさらに前記第１釉薬層の上に第２釉薬層を形
成し、前記陶器素地の肉厚方向で前記第１の面と反対側
の第２面に前記第１釉薬層を形成した後、８００〜１３
００℃で焼成して得られる衛生陶器であって、前記第１の面と前記第１釉薬層との間にエンゴーベ層を
形成すると共に、前記第２の面と前記第１釉薬層との間
に水溶性金属塩水溶液及び／または水溶性金属イオン含
有水溶液及び／または水溶性ハロゲン化物水溶液を前記
陶器素地に含浸させて水溶液含浸層を形成、またはエン
ゴーベ層を形成することを特徴とする衛生陶器。
【請求項５】陶器素地の第１の面に着色顔料を含む第
１釉薬層とさらに前記第１釉薬層の上に第２釉薬層を形
成し、前記陶器素地の肉厚方向で前記第１の表面と反対
側の第２の面に前記第１釉薬層を形成した後、８００〜
１３００℃で焼成して得られる衛生陶器であって、前記第１の面と前記第１釉薬層との間にエンゴーベ層を
形成すると共に、前記第２の面と前記第１釉薬層との間
に水溶性金属塩水溶液及び／または水溶性金属イオン含
有水溶液及び／または水溶性ハロゲン化物水溶液を前記
陶器素地に含浸させて水溶液含浸層を形成し、さらにそ
の上にエンゴーベ層を形成することを特徴とする衛生陶
器。
【請求項６】陶器素地の第１の面に着色顔料を含む第
１釉薬層とさらに前記第１釉薬層の上に第２釉薬層を形
成し、前記陶器素地の肉厚方向で前記第１の表面と反対
側の第２の面に前記第１釉薬層を形成した後、８００〜
１３００℃で焼成して得られる衛生陶器であって、前記第１の面と前記第１釉薬層との間に水溶性金属塩水
溶液及び／または水溶性金属イオン含有水溶液及び／ま
たは水溶性ハロゲン化物水溶液を前記陶器素地に含浸さ
せて水溶液含浸層を形成すると共に、前記２の面と前記
第１釉薬層との間にエンゴーベ層を形成することを特徴
とする衛生陶器。
【請求項７】前記２の面と前記エンゴーベ層との間に
水溶性金属塩水溶液及び／または水溶性金属イオン含有
水溶液及び／または水溶性ハロゲン化物水溶液を前記陶
器素地に含浸させて水溶液含浸層を形成することを特徴
とする請求項６に記載の衛生陶器。
【請求項８】陶器素地の第１の面に着色顔料を含む第
１釉薬層とさらに前記第１釉薬層の上に第２釉薬層を形
成し、前記陶器素地の肉厚方向で前記第１の表面と反対
側の第２の面に前記第１釉薬層を形成した後、８００〜
１３００℃で焼成して得られる衛生陶器であって、前記第２の面と前記第１釉薬層との間に水溶性金属塩水
溶液及び／または水溶性金属イオン含有水溶液及び／ま
たは水溶性ハロゲン化物水溶液を前記陶器素地に含浸さ
せて水溶液含浸層を形成し、さらにその上にエンゴーベ
層を形成することを特徴とする衛生陶器。
【請求項９】前記第１の面側に形成するエンゴーベ層
の気孔率が前記陶器素地の気孔率より小さいことを特徴
とする請求項１〜５記載の衛生陶器。
【請求項１０】前記第１の面側に形成するエンゴーベ
層の組成は前記陶器素地の組成より焼結開始温度が低い
ことを特徴とする請求項１〜５、９記載の衛生陶器。
【請求項１１】前記第１の面側に形成するエンゴーベ
層は前記陶器素地より焼結終了温度が低いことを特徴と
する請求項１〜５、９、１０記載の衛生陶器。
【請求項１２】前記第１の面側に形成するエンゴーベ
層は前記陶器素地より焼成収縮率が大きいことを特徴と
する請求項１〜５、９〜１１記載の衛生陶器。
【請求項１３】前記第１の面側に形成するエンゴーベ
層の原料は、５０％粒径（Ｄ５０）が６μｍ以下の粉体
原料であることを特徴とする請求項１〜５、９〜１２記
載の衛生陶器。
【請求項１４】前記第１の面側に形成するエンゴーベ
層の原料は、陶石３０〜５０重量％、粘土３０〜５０重
量％、熔剤１０〜３０重量％からなることを特徴とする
請求項１〜５、９〜１３記載の衛生陶器。
【請求項１５】前記第２の面側に形成するエンゴーベ
層の気孔率が前記陶器素地の気孔率より大きいことを特
徴とする請求項２〜８記載の衛生陶器。
【請求項１６】前記第２の面側に形成するエンゴーベ
層の組成は前記陶器素地の組成より焼結開始温度が高く
なる組成であることを特徴とする請求項２〜８、１５記
載の衛生陶器。
【請求項１７】前記第２の面側に形成するエンゴーベ
層は前記陶器素地より焼成収縮率が小さいことを特徴と
する請求項２〜８、１５、１６記載の衛生陶器
【請求項１８】前記第２の面側に形成するエンゴーベ
層の原料は、５０％粒径（Ｄ５０）が７μｍ〜１２μｍ
の粉体原料であることを特徴とする請求項２〜８、１５
〜１７に記載の衛生陶器。
【請求項１９】前記第２の面側に形成するエンゴーベ
層の原料は、陶石４０〜６０重量％、粘土４０〜６０重
量％、熔剤０．１〜１０重量％からなることを特徴とす
る請求項２〜８、１５〜１８記載の衛生陶器。
【請求項２０】前記水溶液含浸層を形成する前に、前
記陶器素地を加温することを特徴とする請求項１〜１９
記載の衛生陶器。
【請求項２１】前記水溶液含浸層を形成後、前記陶器
素地を乾燥することを特徴とする請求項１〜２０記載の
衛生陶器。
【請求項２２】前記第１の面側及び／または第２の面側
に形成するエンゴーベ層の焼成後の厚みは０．０２ｍｍ
以上０．０４ｍｍ未満であることを特徴とする請求項１
〜２１記載の衛生陶器。