JP2003297969A - 多層配線板および半導体デバイス - Google Patents

多層配線板および半導体デバイス

Info

Publication number
JP2003297969A
JP2003297969A JP2003020082A JP2003020082A JP2003297969A JP 2003297969 A JP2003297969 A JP 2003297969A JP 2003020082 A JP2003020082 A JP 2003020082A JP 2003020082 A JP2003020082 A JP 2003020082A JP 2003297969 A JP2003297969 A JP 2003297969A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring board
conductor
multilayer wiring
board according
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003020082A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4380167B2 (ja
Inventor
Hitoshi Aoki
仁 青木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP2003020082A priority Critical patent/JP4380167B2/ja
Publication of JP2003297969A publication Critical patent/JP2003297969A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4380167B2 publication Critical patent/JP4380167B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/1517Multilayer substrate
    • H01L2924/15172Fan-out arrangement of the internal vias
    • H01L2924/15174Fan-out arrangement of the internal vias in different layers of the multilayer substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電磁ノイズ放射の少ない多層配線板および半
導体デバイスを提供する。 【解決手段】 導体回路と電気的に絶縁された導体枠を
各層に形成し、導体枠同士が導通接続されていることを
特徴とする多層配線板であり、前記導体枠同士の導通接
続が、導体ポストによる。また、前記導体枠が、グラウ
ンド電位に接続された多層配線板である。更にはこれら
の多層配線板に、半導体チップがフリップチップ接続に
より実装されていることを特徴とする半導体デバイスで
ある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、多層配線板および
半導体デバイスに関するものである。更に詳しくは、半
導体チップを搭載する多層配線板、および、多層配線板
に半導体チップが実装された半導体デバイスに関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】近年の電子機器の高機能化並びに軽薄短
小化の要求に伴い、電子部品の高密度集積化、さらには
高密度実装化が進んできており、これらの電子機器に使
用される半導体パッケージは、従来にも増して、益々小
型化かつ多ピン化が進んできている。また、電子機器の
高機能化に伴い、半導体チップの高クロック周波数化が
進んでおり、半導体チップを搭載する回路基板のインピ
ーダンス整合が益々重要になってきている。
【0003】従来の回路基板はプリント配線板と呼ば
れ、ガラス繊維の織布にエポキシ樹脂を含浸させた積層
板からなるガラスエポキシ板に貼り付けられた銅箔をパ
ターニング後、複数枚重ねて積層接着し、ドリルで貫通
穴を開けて、この穴の壁面に銅めっきを行ってビアを形
成し層間の電気接続を行った配線基板の使用が主流であ
った。しかし、搭載部品の小型化、高密度化が進み、上
記の配線基板では配線密度が不足して部品の搭載に問題
が生じるようになってきている。
【0004】このような背景により、近年、ビルドアッ
プ多層配線板が採用されている。ビルドアップ多層配線
板は、樹脂のみで構成される絶縁層と導体とを積み重ね
ながら成形される。ビア形成方法としては、従来のドリ
ル加工に代わって、レーザ法、プラズマ法やフォト法
等、多岐にわたり、小径のビアホールを自由に配置する
ことで高密度化を達成するものである。層間接続部とし
ては、ブライドビア(Blind Via)やバリード
ビア(Buried Via:ビアを導電体で充填した
構造、以下、本発明の説明に用いる導体ポストに統一し
て呼ぶこととする)等があり、ビアの上にビアを形成す
るスタックドビアが可能なバリードビアホールが特に注
目されている。このような多層配線板を用いることによ
り、多ピンの半導体チップを搭載できるようになってき
ている。
【0005】高クロック周波数の半導体チップを実装す
るための多層配線板においてはインピーダンス整合が非
常に重要である。現在では、絶縁層の厚みや誘電率、信
号配線の幅や厚み、グラウンド層および電源層の配置の
仕方により、高精度のインピーダンス整合が実現できつ
つあるため、高周波信号を伝送することが可能になって
きている。
【0006】また、高クロック周波数の半導体チップの
消費電力が高くなるにつれて、安定した電源供給や電磁
ノイズ抑制のために、グラウンド層や電源層をそれぞれ
複数層設けることが当然になってきている。半導体チッ
プから出力された高周波信号電流は、信号配線を流れて
他のデバイスに伝送され、グラウンド層あるいは電源層
を帰路として、半導体チップに戻ってくる。そのような
高周波信号電流が大きくなる(半導体チップの消費電力
が大きくなる)につれて、グラウンド層や電源層に流れ
る高周波信号電流が、グラウンド層や電源層の電位を変
動させるようになる。それに伴い、グラウンド層と電源
層の寸法や構造あるいはインピーダンスの周波数特性に
より、ある特定の周波数で共振し、グラウンド層と電源
層がアンテナとして作用することになる。その結果、グ
ラウンド層と電源層が途切れる多層配線板の端面が、ア
ンテナの放射面として作用し、その部分から電磁ノイズ
が放射されることになる。この電磁ノイズにより、周囲
の電子デバイスが誤動作する場合があるため、多層配線
板全体をシールドするなどの対策が必要になるという問
題点がある。
【0007】このような従来の多層配線板の構造につい
て、具体的に図6および図7を用いて説明する。多層配
線板1aは、導体回路11a〜17aおよび絶縁層21
a〜26aからなる7層配線板であり、導体回路12
a、15aは信号配線が引き回された信号層、導体回路
11a、14aはグラウンド層、導体回路13a、16
aは電源層からなる。また、各層間は、導体ポスト40
aにより電気的に接続されている。また、最外層の導体
回路11aの中央部には半導体チップを搭載するための
インナーパッド51aが形成され、反対側の最外層の導
体回路17aには外部接続用端子としてのアウターパッ
ド52aが形成されている。これらの構造の中で、多層
配線板1aの端面ではグラウンド層および電源層が途切
れているため、その部分がアンテナの放射面として作用
し、電磁ノイズが放射されることになる。
【0008】そのような問題点を解決するために、多層
配線板の周囲4辺にU字型のアース板を嵌める方法が公
開されている(例えば、特許文献1参照。)。このよう
な方法では、電磁ノイズ抑制効果は高いが、多層配線板
製造後にアース板を嵌めるという追加工程・追加部材が
必要になる。また、多層配線板の厚み・サイズが大きく
なり、軽薄短小化に対応できなくなる。
【0009】
【特許文献1】特開2001−237505号公報(第
6頁、第3図)
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、半導体チッ
プを搭載する多層配線板、および、多層配線板に半導体
チップが実装された半導体デバイスにおける、このよう
な問題点に鑑み、電磁ノイズ放射の少ない多層配線板お
よび半導体デバイスを提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、 1. 導体回路と電気的に絶縁された導体枠を各層に形
成し、導体枠同士が導通接続されていることを特徴とす
る多層配線板、 2. 前記導体枠が、グラウンド電位に接続されてなる
第1項記載の多層配線板、 3. 最外層の導体回路の少なくとも一部が導体枠と接
続されてなる第1項または第2項に記載の多層配線板、 4. 導体枠同士の導通接続が、導体ポストによる第1
項〜第3項のいずれかに記載の多層配線板、 5. 前記導体ポストが、多層配線板の4辺に沿って2
列以上配置されてなる第4項記載の多層配線板、 6. 前記導体ポストが、千鳥配置されてなる第4項ま
たは第5項に記載の多層配線板、 7. 一方の面にインナーパッドが形成され、他方の面
にアウターパッドが形成されてなる第1項〜第6項のい
ずれかに記載の多層配線板、 8. アウターパッドが、ボールグリッドアレイ(BG
A)構造またはピングリッドアレイ(PGA)構造で形
成された第7項記載の多層配線板、 9. 第1項〜第8項のいずれかに記載の多層配線板
に、半導体チップがフリップチップ接続により実装され
ていることを特徴とする半導体デバイス、である。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態について説明するが、本発明はこれによって何ら
限定されるものではない。
【0013】図1および図2は、本発明による多層配線
板の構造の一例を示す斜視図および断面図である。多層
配線板1は、導体回路11〜17、絶縁層21〜26お
よび導体枠31〜37からなる7層配線板である。これ
らの構造において、導体回路12、15は信号配線が引
き回された信号層、導体回路11、14はグラウンド
層、導体回路13、16は電源層である。導体枠31〜
37は、導体回路11〜17を形成する工程において、
同時に形成されるものである。例えば、導体回路11〜
17が銅箔をエッチングすることにより形成される場合
には、導体枠31〜37も、エッチングにより形成され
ることになる。従って、導体枠31〜37を形成するこ
とで、追加の工程が必要になるわけではない。
【0014】導体枠31〜37の各層間は、導体ポスト
40により電気的に接続されている。導体回路11〜1
7の各層間においても、必要箇所に導体ポスト40が形
成され、電気的に接続されている。ここで、導体枠31
〜37接続用の導体ポストと導体回路11〜17接続用
の導体ポストは、同一工程で形成されるため、追加の工
程が必要になるわけではない。例えば、導体ポスト40
を形成する方法としては、絶縁層に21〜26に、レー
ザーなどにより孔を形成して、導電ペーストや電解銅め
っきにより充填する方法などが挙げられる。このような
方法によれば、各層の導体ポスト40を形成する工程に
おいて、導体枠31〜37接続用の導体ポスト40も、
一括して形成されることになり、追加工程は必要ない。
【0015】最外層の導体回路11の中央部には、半導
体チップを搭載するためのインナーパッド51が形成さ
れ、反対側の最外層の導体回路17には、外部接続用端
子としてのアウターパッド52が形成されている。
【0016】図5は、本発明の半導体デバイスの構造の
一例を示す断面図である。半導体デバイス2は、主とし
て、半導体チップ61およびそれを実装する多層配線板
1からなる。半導体チップ61は、多層配線板1のイン
ナーパッド51上に、バンプ63によりフリップチップ
実装され、バンプ63はアンダーフィル62により封止
されることにより保護されている。多層配線板1の半導
体チップ61実装面と反対側の面には、マザーボード
(図示せず)との接続に必要な半田ボール64が実装さ
れており、いわゆるBGA構造となっている。あるい
は、マザーボードにソケットが実装されている場合に
は、半田ボール64の代わりに、ピン(図示せず)を設
けて実装することも可能であり、いわゆるPGA構造と
することも可能である。
【0017】本発明の多層配線板は、多層配線板1の各
層における導体回路、特に、グラウンド層および電源層
は、端面付近で途切れており、その更に端面側に導体枠
31〜37が形成されている。また、各層の導体枠31
〜37が、導体ポスト40により導通接続されている。
導体ポスト40による導通接続以外に、一般的な貫通ス
ルーホールによる導通接続も適用可能であるが、貫通ス
ルーホールの場合、ドリルによる穴明けとなるため、導
通接続部の占有面積が大きくなる。それに伴い、導体枠
31〜37の幅が大きくなり、それに応じて、多層配線
板1の寸法が大きくなるため、導体枠31〜37の幅を
小さくできる導体ポスト40を適用することが好まし
い。導通接続された導体枠31〜37は、同電位に保持
されているため、ある特定の周波数で共振することがな
く、多層配線板の端面であっても、アンテナの放射面と
して作用することがなく、端面からの電磁ノイズ放射を
抑制することができる。電磁放射ノイズを、より低減す
るためには、各層の導体枠31〜37を、グラウンド電
位に接続することが好ましい。
【0018】本発明の半導体デバイスにおいて、半導体
チップ61を駆動する場合には、クロック信号を用い、
それに同期して、高周波信号を入出力する。グラウンド
層や電源層には、高周波信号電流が流れるため、グラン
ド層や電源層の電位が変動し、グランド層や電源層の途
切れた端面がアンテナの放射面として作用するが、多層
配線板1の端面は、同電位に保持された導電枠31〜3
7を有するため、電磁ノイズ放射を抑制することができ
る。
【0019】各層の導体枠31〜37の幅は、電磁ノイ
ズ放射の抑制効果に応じて決めればよいが、導体枠31
〜37の幅に応じて、多層配線板1の寸法が大きくなる
ため、1mm以下が好ましく、さらには0.5mm以下
が好ましく、あるいは、100μm以下がより一層好ま
しい。また、図1においては、導体枠31〜37を四角
形状として示したが、電磁ノイズ放射抑制機能を有する
のであれば、四角形状以外でも差支えない。さらには、
導体枠31〜37を途切れの無い枠として示している
が、電磁ノイズ放射抑制機能を有するのであれば、途切
れがある形状でも差支えない。
【0020】最外層の導体回路11または17がグラン
ド層である場合には、少なくともその一部が導体枠31
または37と接続されていることが好ましく、導体回路
11または17の全周において導体枠31または37と
接続されている状態、すなわち、導体回路11または1
7と導体枠31または37との間に隙間の無い状態が、
より一層好ましい。これにより、導体枠31または37
の電位と導体回路11または3の電位とが完全な同電位
となるため、多層配線板1の最外層面からの電磁ノイズ
発生を、より一層抑制することができる。
【0021】各層の導体枠31〜37を導通接続する導
体ポスト40の直径(円柱状の場合)は、多層配線板1
の製造プロセスに適したものであれば、どのようなサイ
ズでも良いが、50μm以下が好ましく、さらには30
μm以下、あるいは、10μm以下が、より一層好まし
い。また、前記導体ポスト40のピッチは、電磁ノイズ
放射の抑制効果に応じて決めればよいが、導体ポストの
直径の2倍以下が好ましく、さらには1.5倍以下が好
ましく、あるいは、導体ポスト40の直径と同じである
ことが好ましい。
【0022】図3および図4は、多層配線板の導体ポス
ト配置の一例を示す平面図であり、一例として第2層目
の導体回路12および導体枠32と、導体ポスト40と
の位置関係を示している。導体ポスト40の配置方法と
しては、多層配線板1の4辺に沿って2列以上配置され
ていることが好ましい(図3)。さらには、導体ポスト
40が千鳥配列されてなることが、より一層好ましい
(図4)。これにより、多層配線板1の端面からの電磁
ノイズ発生を、より一層抑制することができる。
【0023】
【発明の効果】本発明によれば、各層の導体回路の周辺
に導体枠を設置し、各層の導体枠を導通接続すること
で、特別な追加工程を必要とせず、電磁ノイズ放射が抑
制された多層配線板および半導体デバイスを得ることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施形態による多層配線板の一例を
示す斜視図である。
【図2】 本発明の実施形態による多層配線板の一例を
示す断面図である。
【図3】 本発明の実施形態による多層配線板の導体ポ
スト配置の一例を示す平面図(第2層目)である。
【図4】 本発明の実施形態による多層配線板の導体ポ
スト配置の他の例を示す平面図(第2層目)である。
【図5】 本発明の実施形態による半導体デバイスの一
例を示す断面図である。
【図6】 従来の多層配線板の一例を示す斜視図であ
る。
【図7】 従来の多層配線板の一例を示す断面図であ
る。
【符号の説明】
1、1a:多層配線板 2、2a:半導体デバイス 11〜17、11a〜17a:導体回路 21〜26、21a〜26a:絶縁層 31〜37、31a〜37a:導体枠 40、40a:導体ポスト 51、51a:インナーパッド 52、52a:アウターパッド 61:半導体チップ 62:アンダーフィル 63:バンプ 64:半田ボール

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 導体回路と電気的に絶縁された導体枠を
    各層に形成し、導体枠同士が導通接続されていることを
    特徴とする多層配線板。
  2. 【請求項2】 前記導体枠が、グラウンド電位に接続さ
    れてなる請求項1記載の多層配線板。
  3. 【請求項3】 最外層の導体回路の少なくとも一部が導
    体枠と接続されてなる請求項1または2に記載の多層配
    線板。
  4. 【請求項4】 導体枠同士の導通接続が、導体ポストに
    よる請求項1〜3のいずれかに記載の多層配線板。
  5. 【請求項5】 前記導体ポストが、多層配線板の4辺に
    沿って2列以上配置されてなる請求項4記載の多層配線
    板。
  6. 【請求項6】 前記導体ポストが、千鳥配置されてなる
    請求項4または5に記載の多層配線板。
  7. 【請求項7】 一方の面にインナーパッドが形成され、
    他方の面にアウターパッドが形成されてなる請求項1〜
    6のいずれかに記載の多層配線板。
  8. 【請求項8】 アウターパッドが、ボールグリッドアレ
    イ構造またはピングリッドアレイ構造で形成された請求
    項7記載の多層配線板。
  9. 【請求項9】 請求項1〜8のいずれかに記載の多層配
    線板に、半導体チップがフリップチップ接続により実装
    されていることを特徴とする半導体デバイス。
JP2003020082A 2002-01-31 2003-01-29 多層配線板および半導体デバイス Expired - Fee Related JP4380167B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003020082A JP4380167B2 (ja) 2002-01-31 2003-01-29 多層配線板および半導体デバイス

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002-24600 2002-01-31
JP2002024600 2002-01-31
JP2003020082A JP4380167B2 (ja) 2002-01-31 2003-01-29 多層配線板および半導体デバイス

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007148560A Division JP2007266623A (ja) 2002-01-31 2007-06-04 多層配線板および半導体デバイス

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003297969A true JP2003297969A (ja) 2003-10-17
JP4380167B2 JP4380167B2 (ja) 2009-12-09

Family

ID=29404793

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003020082A Expired - Fee Related JP4380167B2 (ja) 2002-01-31 2003-01-29 多層配線板および半導体デバイス

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4380167B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007115772A (ja) * 2005-10-18 2007-05-10 Nec Corp 印刷配線板及びその電源雑音抑制方法
JP2011003584A (ja) * 2009-06-16 2011-01-06 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JP2018101682A (ja) * 2016-12-20 2018-06-28 オンキヨー株式会社 多層基板

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007115772A (ja) * 2005-10-18 2007-05-10 Nec Corp 印刷配線板及びその電源雑音抑制方法
JP2011003584A (ja) * 2009-06-16 2011-01-06 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JP2018101682A (ja) * 2016-12-20 2018-06-28 オンキヨー株式会社 多層基板
US10206281B2 (en) 2016-12-20 2019-02-12 Onkyo Corporation Multilayer substrate

Also Published As

Publication number Publication date
JP4380167B2 (ja) 2009-12-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100896026B1 (ko) 반도체 패키지
US6461895B1 (en) Process for making active interposer for high performance packaging applications
US6876088B2 (en) Flex-based IC package construction employing a balanced lamination
US7889509B2 (en) Ceramic capacitor
US6888240B2 (en) High performance, low cost microelectronic circuit package with interposer
US7087988B2 (en) Semiconductor packaging apparatus
US7754538B2 (en) Packaging substrate structure with electronic components embedded therein and method for manufacturing the same
JP2005294383A (ja) キャパシタ実装配線基板及びその製造方法
KR20150025449A (ko) 전자부품 내장기판
KR102134933B1 (ko) 배선 기판 및 배선 기판의 제조 방법
US10321574B2 (en) Electronic component-embedded substrate and electronic component device
KR20140079203A (ko) 임베디드 패키지 및 제조 방법
US8022513B2 (en) Packaging substrate structure with electronic components embedded in a cavity of a metal block and method for fabricating the same
JP2005277389A (ja) 多層配線基板及び半導体パッケージ
JP2007305692A (ja) 電子部品及びその製造方法並びに電子部品内蔵基板及びその製造方法
JP2003051427A (ja) キャパシタシートおよびその製造方法、キャパシタ内蔵基板、ならびに半導体装置
JP4380167B2 (ja) 多層配線板および半導体デバイス
JP2002171072A (ja) 配線基板
JP2006013029A (ja) 半導体パッケージ
JP2008153482A (ja) インターポーザ基板を備えた半導体パッケージ
JP5045599B2 (ja) 多層配線板および半導体デバイス
JP2007266623A (ja) 多層配線板および半導体デバイス
JP2004165318A (ja) 多層プリント配線板
JP2010040669A (ja) 半導体パッケージ
JP2003289121A (ja) 多層配線板および半導体デバイス

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051024

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060307

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070403

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070604

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080430

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080627

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090616

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090811

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090901

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090914

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121002

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121002

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131002

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees