JP2003297163A - エナメル線製造方法 - Google Patents
エナメル線製造方法Info
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- JP2003297163A JP2003297163A JP2002101598A JP2002101598A JP2003297163A JP 2003297163 A JP2003297163 A JP 2003297163A JP 2002101598 A JP2002101598 A JP 2002101598A JP 2002101598 A JP2002101598 A JP 2002101598A JP 2003297163 A JP2003297163 A JP 2003297163A
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- wire
- enamel
- coating
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Processes Specially Adapted For Manufacturing Cables (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】塗装品質が良く、生産効率のよいエナメル線製
造方法を提供すること。 【解決手段】導線７を矢印の進行方向に移動させなが
ら、ワニスポット２、塗装ダイス３、誘導加熱装置４、
加熱乾燥炉５の中を順に通過させ、ワニスポット２中の
エナメル塗料６を導線７に塗布し、塗装ダイス３でエナ
メル線塗装膜８が所定の被覆厚さになるようエナメル塗
料６を除去し、誘導加熱装置４で導線７を内部から加熱
し、熱風乾燥炉５で外側からも加熱乾燥させてエナメル
線９を製造する。
造方法を提供すること。 【解決手段】導線７を矢印の進行方向に移動させなが
ら、ワニスポット２、塗装ダイス３、誘導加熱装置４、
加熱乾燥炉５の中を順に通過させ、ワニスポット２中の
エナメル塗料６を導線７に塗布し、塗装ダイス３でエナ
メル線塗装膜８が所定の被覆厚さになるようエナメル塗
料６を除去し、誘導加熱装置４で導線７を内部から加熱
し、熱風乾燥炉５で外側からも加熱乾燥させてエナメル
線９を製造する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、エナメル線製造方
法に関し、特に塗装品質が良く、生産性の高いエナメル
線製造方法に関するものである。
法に関し、特に塗装品質が良く、生産性の高いエナメル
線製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図７は、従来のエナメル線製造装置１１
を示す図である。従来のエナメル線製造装置１１は、ワ
ニスポット２、塗装ダイス３、熱風乾燥炉５等からな
り、ワニスポット２中にエナメル塗料６が入れてある。
図７に示すように、導線７を矢印の進行方向に移動させ
ながら、ワニスポット２、塗装ダイス３、熱風乾燥炉５
の中を順に通過させ、ワニスポット２中のエナメル塗料
６を導線７に塗布し、塗装ダイス３でエナメル線塗装膜
８が所定の被覆厚さになるようエナメル塗料６を除去
し、熱風乾燥炉５で加熱乾燥させてエナメル線９を製造
する。
を示す図である。従来のエナメル線製造装置１１は、ワ
ニスポット２、塗装ダイス３、熱風乾燥炉５等からな
り、ワニスポット２中にエナメル塗料６が入れてある。
図７に示すように、導線７を矢印の進行方向に移動させ
ながら、ワニスポット２、塗装ダイス３、熱風乾燥炉５
の中を順に通過させ、ワニスポット２中のエナメル塗料
６を導線７に塗布し、塗装ダイス３でエナメル線塗装膜
８が所定の被覆厚さになるようエナメル塗料６を除去
し、熱風乾燥炉５で加熱乾燥させてエナメル線９を製造
する。
【０００３】図８は、従来のエナメル線製造装置１１を
用いたエナメル線製造方法の概要を示すフローチャート
である。エナメル線製造方法は、初め、導線７をワニス
ポット２中に通過させ、導線７表面にエナメル塗料６を
充分付着させた（ステップ８０１）後、塗装ダイス３で
所定の被覆厚さになるように余分なエナメル塗料６を除
去し（ステップ８０２）、導線７の表面にエナメル線塗
装膜８を形成させる。
用いたエナメル線製造方法の概要を示すフローチャート
である。エナメル線製造方法は、初め、導線７をワニス
ポット２中に通過させ、導線７表面にエナメル塗料６を
充分付着させた（ステップ８０１）後、塗装ダイス３で
所定の被覆厚さになるように余分なエナメル塗料６を除
去し（ステップ８０２）、導線７の表面にエナメル線塗
装膜８を形成させる。
【０００４】次に、導線７を熱風乾燥炉５に入れ、熱風
乾燥炉５で導線７に塗布されたエナメル線塗装膜８の表
面を熱風により加熱すると（ステップ８０３）、エナメ
ル線塗装膜８は表面から乾燥する。
乾燥炉５で導線７に塗布されたエナメル線塗装膜８の表
面を熱風により加熱すると（ステップ８０３）、エナメ
ル線塗装膜８は表面から乾燥する。
【０００５】ステップ８０１から８０３の塗装工程は、
導線６に塗布されたエナメル線塗装膜８が所定の被膜厚
さになるまで（ステップ８０４）、塗装ダイス３を替え
ながら（ステップ８０５）、繰り返される。従来の塗装
回数は８〜１０回、ステップ８０１から８０３の塗装工
程を繰り返して、所望のエナメル線塗装膜８の厚さを得
ている。
導線６に塗布されたエナメル線塗装膜８が所定の被膜厚
さになるまで（ステップ８０４）、塗装ダイス３を替え
ながら（ステップ８０５）、繰り返される。従来の塗装
回数は８〜１０回、ステップ８０１から８０３の塗装工
程を繰り返して、所望のエナメル線塗装膜８の厚さを得
ている。
【０００６】
【発明が解決しょうとする課題】しかしながら、従来の
方法では、エナメル線塗装膜８の内層は表面に比べ乾燥
が遅れるので、溶剤がエナメル線塗装膜８内層に残留し
やすい。溶剤が残留している状態で外部からの加熱量が
多いと内部の溶剤が気化してエナメル線塗装膜８に粒が
発生することがある。また、粒が発生しなくても塗装の
外観が悪化する。
方法では、エナメル線塗装膜８の内層は表面に比べ乾燥
が遅れるので、溶剤がエナメル線塗装膜８内層に残留し
やすい。溶剤が残留している状態で外部からの加熱量が
多いと内部の溶剤が気化してエナメル線塗装膜８に粒が
発生することがある。また、粒が発生しなくても塗装の
外観が悪化する。
【０００７】このような問題を回避するため、1回の塗
装の厚さを薄くすると、所望のエナメル線塗装膜８の厚
さを得るためには、塗装回数を増やさなくてはならな
い。そのため、生産効率が低下する。また、粒発生、塗
装外観の悪化を回避するため、加熱温度を低く抑える
と、加熱時間がかかり、生産速度が遅くなるなどの問題
があった。
装の厚さを薄くすると、所望のエナメル線塗装膜８の厚
さを得るためには、塗装回数を増やさなくてはならな
い。そのため、生産効率が低下する。また、粒発生、塗
装外観の悪化を回避するため、加熱温度を低く抑える
と、加熱時間がかかり、生産速度が遅くなるなどの問題
があった。
【０００８】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たもので、その目的とするところは、塗装品質が良く、
生産効率のよいエナメル線製造方法を提供することにあ
る。
たもので、その目的とするところは、塗装品質が良く、
生産効率のよいエナメル線製造方法を提供することにあ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、導線の表面にエナメル塗料を塗装してエ
ナメル線塗装膜を形成するエナメル塗装工程と、前記導
線の前記エナメル線塗装膜が所定の被膜厚さになるよう
に前記導線から余分な前記エナメル塗料を除去する工程
と、前記エナメル線塗装膜を外側から加熱して乾燥させ
る外部乾燥工程とを備えるエナメル線製造方法におい
て、前記外部乾燥工程の前に前記導線に電流を流して前
記導線に塗装された前記エナメル線塗装膜を内部から加
熱させる内部加熱工程を設けたことを特徴とするエナメ
ル線製造方法を提供する。
め、本発明は、導線の表面にエナメル塗料を塗装してエ
ナメル線塗装膜を形成するエナメル塗装工程と、前記導
線の前記エナメル線塗装膜が所定の被膜厚さになるよう
に前記導線から余分な前記エナメル塗料を除去する工程
と、前記エナメル線塗装膜を外側から加熱して乾燥させ
る外部乾燥工程とを備えるエナメル線製造方法におい
て、前記外部乾燥工程の前に前記導線に電流を流して前
記導線に塗装された前記エナメル線塗装膜を内部から加
熱させる内部加熱工程を設けたことを特徴とするエナメ
ル線製造方法を提供する。
【００１０】本発明の要旨は、エナメル線の製造工程に
おいて、エナメル線塗装膜の外部乾燥工程の前に、導線
に電流を流してエナメル線塗装膜を内部から加熱する内
部加熱工程を配置したことであり、それによって、塗装
品質と生産効率を大幅に向上させたものである。尚、内
部加熱工程は、外部乾燥工程の前であれば、エナメル塗
装工程の前に行ってもよいし、エナメル塗装工程の後に
行ってもよい。
おいて、エナメル線塗装膜の外部乾燥工程の前に、導線
に電流を流してエナメル線塗装膜を内部から加熱する内
部加熱工程を配置したことであり、それによって、塗装
品質と生産効率を大幅に向上させたものである。尚、内
部加熱工程は、外部乾燥工程の前であれば、エナメル塗
装工程の前に行ってもよいし、エナメル塗装工程の後に
行ってもよい。
【００１１】内部加熱工程は、導線７に電流を流して導
体を内部から加熱するためのものであり、導線７内部か
らエナメル線塗装膜８を伝導加熱することができる。
体を内部から加熱するためのものであり、導線７内部か
らエナメル線塗装膜８を伝導加熱することができる。
【００１２】内部加熱工程は、誘導加熱装置を用いて導
線７に電流を発生させて加熱させる場合と、導線７に直
接交流電流を通電して加熱する場合とがある。誘導加熱
装置を用いる場合は、誘導コイルに鉄心を入れると漏洩
磁束が減少し、エネルギ効率を向上させることができ
る。
線７に電流を発生させて加熱させる場合と、導線７に直
接交流電流を通電して加熱する場合とがある。誘導加熱
装置を用いる場合は、誘導コイルに鉄心を入れると漏洩
磁束が減少し、エネルギ効率を向上させることができ
る。
【００１３】誘導加熱装置の鉄心に切り欠き部を設け、
導線が切り欠き部を通過するようにすると、段取り作業
が楽になる。
導線が切り欠き部を通過するようにすると、段取り作業
が楽になる。
【００１４】鉄心の切り欠き部に凹凸を設ければ、切り
欠き部の磁界が局部磁界に分割され加熱効率が上昇す
る。さらに鉄心の凸部先端を細くし、磁束を集中させる
ようにすれば、前記導線を通過する磁束密度を増大させ
ることができ、切り欠き部の鉄心の凸部先端の幅と導線
の直径とをほぼ同じにすれば最も漏洩磁束が少なく、最
もエネルギ効率を向上することができる
欠き部の磁界が局部磁界に分割され加熱効率が上昇す
る。さらに鉄心の凸部先端を細くし、磁束を集中させる
ようにすれば、前記導線を通過する磁束密度を増大させ
ることができ、切り欠き部の鉄心の凸部先端の幅と導線
の直径とをほぼ同じにすれば最も漏洩磁束が少なく、最
もエネルギ効率を向上することができる
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明の形態を図面に基づいて詳
細に説明する。図１は、本発明の実施の形態に係るエナ
メル線製造装置１を示す図である。本発明に係るエナメ
ル線製造装置１と図７に示した従来のエナメル線製造装
置１１との同一部分には、同一の引用数字、符号を付し
たので重複する説明は省略する。
細に説明する。図１は、本発明の実施の形態に係るエナ
メル線製造装置１を示す図である。本発明に係るエナメ
ル線製造装置１と図７に示した従来のエナメル線製造装
置１１との同一部分には、同一の引用数字、符号を付し
たので重複する説明は省略する。
【００１６】エナメル線製造装置１は、ワニスポット
２、塗装ダイス３、誘導加熱装置４、熱風乾燥炉５等か
らなり、ワニスポット２中にエナメル塗料６が入れてあ
る。
２、塗装ダイス３、誘導加熱装置４、熱風乾燥炉５等か
らなり、ワニスポット２中にエナメル塗料６が入れてあ
る。
【００１７】図１に示すように、導線７を矢印の進行方
向に移動させながら、ワニスポット２、塗装ダイス３、
誘導加熱装置４、加熱乾燥炉５の中を順に通過させ、ワ
ニスポット２中のエナメル塗料６を導線７に塗布し、塗
装ダイス３でエナメル線塗装膜８が所定の被覆厚さにな
るようエナメル塗料６を除去し、誘導加熱装置４で導線
７を内部から加熱し、熱風乾燥炉５で外側からも加熱乾
燥させてエナメル線９を製造する。尚、誘導加熱装置４
は、熱風乾燥炉５の前であれば、図１のように熱風乾燥
炉５の直前に設置してもよいし、ワニスポット２の前に
設置してもよい。
向に移動させながら、ワニスポット２、塗装ダイス３、
誘導加熱装置４、加熱乾燥炉５の中を順に通過させ、ワ
ニスポット２中のエナメル塗料６を導線７に塗布し、塗
装ダイス３でエナメル線塗装膜８が所定の被覆厚さにな
るようエナメル塗料６を除去し、誘導加熱装置４で導線
７を内部から加熱し、熱風乾燥炉５で外側からも加熱乾
燥させてエナメル線９を製造する。尚、誘導加熱装置４
は、熱風乾燥炉５の前であれば、図１のように熱風乾燥
炉５の直前に設置してもよいし、ワニスポット２の前に
設置してもよい。
【００１８】図２は、本発明の実施の形態にかかるエナ
メル線製造装置１を用いたエナメル線製造方法の概要を
示すフローチャートである。本願発明のエナメル線製造
方法は、初め、導線７をワニスポット２中に通過させ、
導線７表面にエナメル塗料６を充分付着させた（ステッ
プ１０１）後、塗装ダイス３で所定の被覆厚さになるよ
うに余分なエナメル塗料６を除去し（ステップ１０
２）、導線７の表面にエナメル線塗装膜８を形成させ
る。
メル線製造装置１を用いたエナメル線製造方法の概要を
示すフローチャートである。本願発明のエナメル線製造
方法は、初め、導線７をワニスポット２中に通過させ、
導線７表面にエナメル塗料６を充分付着させた（ステッ
プ１０１）後、塗装ダイス３で所定の被覆厚さになるよ
うに余分なエナメル塗料６を除去し（ステップ１０
２）、導線７の表面にエナメル線塗装膜８を形成させ
る。
【００１９】次に、導線７を誘導加熱装置４に入れ、誘
導加熱装置４のコイルに交流電流を流すと、導線７に誘
導電流が発生し、誘導電流によって導線７は内部から発
熱する（ステップ１０３）。
導加熱装置４のコイルに交流電流を流すと、導線７に誘
導電流が発生し、誘導電流によって導線７は内部から発
熱する（ステップ１０３）。
【００２０】次に、導線７を熱風乾燥炉５に入れ、熱風
乾燥炉５で導線７の表面に塗布されたエナメル線塗装膜
８の表面を熱風により加熱すると（ステップ１０４）、
エナメル線塗装膜８は同時に内部と外部から乾燥され
る。
乾燥炉５で導線７の表面に塗布されたエナメル線塗装膜
８の表面を熱風により加熱すると（ステップ１０４）、
エナメル線塗装膜８は同時に内部と外部から乾燥され
る。
【００２１】ステップ１０１から１０４の塗装工程は、
導線６に塗布されたエナメル線塗装膜８が所定の被膜厚
さになるまで（ステップ１０５）、塗装ダイス３を替え
ながら（ステップ１０６）、繰り返して行われる。エナ
メル線塗装膜８は、内部と外部から均等に加熱されるた
め、１回の塗装厚さを２倍に厚くしても粒が発生しない
し、塗装の外観もよい。よって、塗装回数を４〜５回と
減らすことができるので、生産効率が良くなる。
導線６に塗布されたエナメル線塗装膜８が所定の被膜厚
さになるまで（ステップ１０５）、塗装ダイス３を替え
ながら（ステップ１０６）、繰り返して行われる。エナ
メル線塗装膜８は、内部と外部から均等に加熱されるた
め、１回の塗装厚さを２倍に厚くしても粒が発生しない
し、塗装の外観もよい。よって、塗装回数を４〜５回と
減らすことができるので、生産効率が良くなる。
【００２２】図３は、誘導加熱装置４の構造を示す図で
ある。誘導加熱装置４は、誘導コイル１２に切り欠き部
１４を有する鉄心１３を入れた構造を有する。誘導加熱
装置４は、漏洩磁束を減少させ、エネルギ効率を向上さ
せるため、誘導コイル１２に鉄心１３を入れてある。
ある。誘導加熱装置４は、誘導コイル１２に切り欠き部
１４を有する鉄心１３を入れた構造を有する。誘導加熱
装置４は、漏洩磁束を減少させ、エネルギ効率を向上さ
せるため、誘導コイル１２に鉄心１３を入れてある。
【００２３】鉄心１３は導線７へのエネルギ伝達効率を
向上させるため、導線７の進行方向を長辺とする長方形
にする。鉄心１３に切り欠き部１４を設け、導線７を切
り欠き部１４に通過させることにより、誘導コイル１２
中に導線７を貫通させる必要が無く段取り作業が楽にな
る。
向上させるため、導線７の進行方向を長辺とする長方形
にする。鉄心１３に切り欠き部１４を設け、導線７を切
り欠き部１４に通過させることにより、誘導コイル１２
中に導線７を貫通させる必要が無く段取り作業が楽にな
る。
【００２４】図４は、誘導加熱装置４の鉄心１３の切り
欠き部１４に発生する局部磁界１７を説明するための図
である。鉄心１３は、加熱効率を向上させるため、切り
欠き部１４に凹凸を付けて、凹部１５の磁力線を凸部１
６に集め、切り欠き部１４に発生する磁界を局部磁界１
７に分割する。
欠き部１４に発生する局部磁界１７を説明するための図
である。鉄心１３は、加熱効率を向上させるため、切り
欠き部１４に凹凸を付けて、凹部１５の磁力線を凸部１
６に集め、切り欠き部１４に発生する磁界を局部磁界１
７に分割する。
【００２５】図５は、図３の誘導加熱装置４を断面Ａ−
Ａ‘で切断し、鉄心１３の切り欠き部１４の凸部１６と
導線７を通る磁力線を示した図である。鉄心１３の切り
欠き部１４の凸部１６の形状は、エナメル線に近い先端
側を細くして、導線７を通過する磁束密度を増大させる
ようにする。切り欠き部１４の凸部１６の先端の寸法Ｗ
はエナメル塗料を塗装された導線７の直径ｄと同じ位に
すると加熱効率が最もよい。
Ａ‘で切断し、鉄心１３の切り欠き部１４の凸部１６と
導線７を通る磁力線を示した図である。鉄心１３の切り
欠き部１４の凸部１６の形状は、エナメル線に近い先端
側を細くして、導線７を通過する磁束密度を増大させる
ようにする。切り欠き部１４の凸部１６の先端の寸法Ｗ
はエナメル塗料を塗装された導線７の直径ｄと同じ位に
すると加熱効率が最もよい。
【００２６】尚、誘導加熱装置４によらず、導線７に直
接交流電流を流して加熱してもよい。図６は、本発明の
他の実施の形態に係るエナメル線製造装置２１を示す図
である。図６では、エナメル塗料を塗布する前に、直接
交流電源１８により交流電流を通電して導線７の内部加
熱を行っている。導線７の内部加熱は、外部乾燥の前で
あれば、ワニスポット２によるエナメル塗装の前に行っ
てもよいし、エナメル塗装の後に行ってもよい。
接交流電流を流して加熱してもよい。図６は、本発明の
他の実施の形態に係るエナメル線製造装置２１を示す図
である。図６では、エナメル塗料を塗布する前に、直接
交流電源１８により交流電流を通電して導線７の内部加
熱を行っている。導線７の内部加熱は、外部乾燥の前で
あれば、ワニスポット２によるエナメル塗装の前に行っ
てもよいし、エナメル塗装の後に行ってもよい。
【００２７】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明のエ
ナメル線製造方法によれば、エナメル線塗装膜８の熱風
による加熱乾燥前に導線７に電流を流して内部から加熱
したので、エナメル線塗装膜８が内部と外部から均等に
加熱乾燥されるため、エナメル線塗装膜８内の残留溶剤
による粒発生が抑制できるので、塗装品質が良いだけで
なく、１回の塗装の厚さを厚くすることができる。その
ため、所定のエナメル線塗装膜８の厚さを得るための塗
装回数が減り、塗装ダイス３を替える等の作業回数、お
よび作業時間が短縮され、生産効率が向上した。さら
に、鉄心１３に導線７を通す切り欠き部１４を設け、段
取り作業を容易にし、切り欠き部１４に凹凸を設けて、
磁界を局部磁界に分割し、加熱効率を向上させた。
ナメル線製造方法によれば、エナメル線塗装膜８の熱風
による加熱乾燥前に導線７に電流を流して内部から加熱
したので、エナメル線塗装膜８が内部と外部から均等に
加熱乾燥されるため、エナメル線塗装膜８内の残留溶剤
による粒発生が抑制できるので、塗装品質が良いだけで
なく、１回の塗装の厚さを厚くすることができる。その
ため、所定のエナメル線塗装膜８の厚さを得るための塗
装回数が減り、塗装ダイス３を替える等の作業回数、お
よび作業時間が短縮され、生産効率が向上した。さら
に、鉄心１３に導線７を通す切り欠き部１４を設け、段
取り作業を容易にし、切り欠き部１４に凹凸を設けて、
磁界を局部磁界に分割し、加熱効率を向上させた。
【図１】本発明の実施の形態に係るエナメル線製造装置
１を示す図
１を示す図
【図２】本発明の実施の形態にかかるエナメル線製造装
置１を用いたエナメル線製造方法の概要を示すフローチ
ャート
置１を用いたエナメル線製造方法の概要を示すフローチ
ャート
【図３】誘導加熱装置４の構造を示す図
【図４】誘導加熱装置４の鉄心１３の切り欠き部１４に
発生する局部磁界１７を説明するための図
発生する局部磁界１７を説明するための図
【図５】誘導加熱装置４を断面Ａ−Ａ‘で切断し鉄心１
３の切り欠き部１４の凸部１６と導線７を通る磁力線を
示した図
３の切り欠き部１４の凸部１６と導線７を通る磁力線を
示した図
【図６】本発明の他の実施の形態に係るエナメル線製造
装置２１を示す図
装置２１を示す図
【図７】従来のエナメル線製造装置１１を示す図
【図８】従来のエナメル線製造装置１１を用いたエナメ
ル線製造方法の概要を示すフローチャート
ル線製造方法の概要を示すフローチャート
１、１１、２１………エナメル線製造装置
２………ワニスポット
３………塗装ダイス
４………誘導加熱装置
５………熱風乾燥炉
６………エナメル塗料
７………導線
８………エナメル線塗装膜
９………エナメル線
１２………誘導コイル
１３………鉄心
１４………切り欠き部
１５………凹部
１６………凸部
１７………局部磁界
１８………交流電源
フロントページの続き
(72)発明者 中野西 克己
東京都千代田区大手町一丁目６番１号 日
立電線株式会社内
(72)発明者 森 政美
東京都千代田区大手町一丁目６番１号 日
立電線株式会社内
(72)発明者 高野 修一
東京都千代田区大手町一丁目６番１号 日
立電線株式会社内
(72)発明者 堀口 正
東京都千代田区大手町一丁目６番１号 日
立電線株式会社内
Ｆターム(参考） 4D075 AB03 AB14 AB36 BB33Z
BB35Z CA23 CA47 DA01
DB06 DC18
5G325 KA01 KB19
Claims (7)
- 【請求項１】 導線の表面にエナメル塗料を塗装してエ
ナメル線塗装膜を形成するエナメル塗装工程と、 前記導線の前記エナメル線塗装膜が所定の被膜厚さにな
るように前記導線から余分な前記エナメル塗料を除去す
る工程と、 前記エナメル線塗装膜を外側から加熱して乾燥させる外
部乾燥工程とを備えるエナメル線製造方法において、 前記外部乾燥工程の前に前記導線に電流を流して前記導
線に塗装された前記エナメル線塗装膜を内部から加熱さ
せる内部加熱工程を設けたことを特徴とするエナメル線
製造方法。 - 【請求項２】 前記エナメル線製造方法の前記内部加熱
工程は、 磁気回路を構成する鉄心と、 前記磁気回路に巻回されたコイルとを配置した誘導加熱
装置を用いて行うことを特徴とする請求項１記載のエナ
メル線製造方法。 - 【請求項３】 前記誘導加熱装置の前記鉄心は、前記導
線が通過する切り欠き部を有することを特徴とする請求
項２記載のエナメル線製造方法。 - 【請求項４】 前記切り欠き部の鉄心は、凹凸を有する
ことを特徴とする請求項３記載のエナメル線製造方法。 - 【請求項５】 前記切り欠き部の鉄心は、前記凸部先端
を細く形成して、前記凸部先端に近接する前記導線を通
過する磁束密度を増大させることを特徴とする請求項４
記載のエナメル線製造方法。 - 【請求項６】 前記切り欠き部の前記凸部先端の鉄心の
幅は、前記エナメル塗料を塗布した前記導線の直径とほ
ぼ同じ長さとすることを特徴とする請求項４および請求
項５記載のエナメル線製造方法。 - 【請求項７】 前記エナメル線製造方法の前記内部加熱
工程は、前記導線に直接交流電流を通電して加熱するこ
とを特徴とする請求項１記載のエナメル線製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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