JP2003286209A - 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 - Google Patents
1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法Info
- Publication number
- JP2003286209A JP2003286209A JP2002087359A JP2002087359A JP2003286209A JP 2003286209 A JP2003286209 A JP 2003286209A JP 2002087359 A JP2002087359 A JP 2002087359A JP 2002087359 A JP2002087359 A JP 2002087359A JP 2003286209 A JP2003286209 A JP 2003286209A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reaction
- iron
- catalyst
- carbon tetrachloride
- vinyl chloride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
1,1,3,3−ペンタクロロプロパンを得る方法にお
いて、大量生産に適し、収率が高く且つ選択性のよい
1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法
を提供する。 【解決手段】四塩化炭素と塩化ビニルとを触媒の存在下
反応させて1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパン
を製造する方法であって、触媒として鉄と反応促進効果
を呈するのに十分な量のアミド化合物を用いる際に、溶
媒として塩素系有機化合物を添加することにより、反応
を促進する。
Description
3−ペンタフルオロプロパン製造の前駆体となりうる
1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法
に関する。
カ−ボン(CFC)の生産が禁止され、それらの代替物
質としてハイドロクロロフルオロカ−ボン(HCF
C)、またはハイドロフルオロカ−ボン(HFC)等が
使用されているが、HCFCは分子中に塩素原子を有す
るため少ないながらもオゾン層破壊能があり、近々に生
産全廃が予定されている。
ンは、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリウレタンフ
ォーム、ポリイソシアヌレート等の発泡剤またはターボ
冷凍機用冷媒として期待される1,1,1,3,3−ペ
ンタフルオロプロパンの原料となりうる化合物である。
ロパンの塩素化反応、塩素化メタン類と炭素数2のオレ
フィン類とのラジカル付加反応、同様に塩素化メタン類
と炭素数2のオレフィン類とのイオン付加反応またはラ
ジカル付加反応による方法が知られている。たとえば、
オレフィン系炭化水素(エチレン等)と四塩化炭素との
反応によりテトラクロロアルカンを得る方法としては、
触媒として有機過酸化物を用いる方法(USP 2,4
40,800号)、有機酸金属塩または無機酸金属塩に
アミン類等を組合わせた触媒により反応させる方法(特
公昭37−18389号、特公昭39−28306号、
特公昭40−19740号、特公昭41−20692
号)、金属銅およびアルカリ金属ハロゲン化物からなる
触媒の存在下反応させる方法(特開昭47−31907
号)、ポリアルコキシ化合物および塩化鉄からなる触媒
の存在下に反応させる方法(特開昭52−59102
号)ならびに亜リン酸アルキルエステル、塩化鉄および
ニトリル化合物からなる触媒の存在下に反応させる方法
(特開昭52−59103号)、鉄とトリアルキルホス
フィンまたはトリアリールホスフィンとの組み合わせよ
りなる触媒を用いて反応する方法(特開昭52−121
02)、金属鉄とアルキルフォスフェートとを組み合わ
せた触媒により反応する方法(特公平2−4769)等
が挙げられる。
ンの製造方法としては、塩化ビニリデンとクロロホルム
とを銅アミン触媒存在下に反応させる方法(M.Kot
oraら、React.Kinet.Catal.Le
tt.,44巻,2号,415頁,1991年)、四塩
化炭素と塩化ビニルとを銅アミン触媒またはルテニウム
−トリフェニルホスフィン錯体存在下に反応させる方法
(M.Kotoraら、J.of Mol. Cata
l.77巻,51頁,1992年)、四塩化炭素と塩化
ビニルを鉄カルボニル触媒存在下に反応させる方法
(T.A.Onishchenko、Izv.Aka
d.Nauk SSSR、Ser.Khim8巻 17
70頁 1972年)、四塩化炭素と塩化ビニルをブチ
ルアミン−塩化第一鉄触媒の存在下反応させる方法(K
ogyo Kagaku Zasshi 72巻 15
16頁 1969年)、四塩化炭素と塩化ビニルをイソ
プロパノール溶媒中で塩化第1鉄触媒の存在下反応させ
る方法(E.N.Zil’bermanら,J.of
Org.Chem.USSR,3巻、2101頁、19
67年)、鉄触媒とホスフェートエステル類を組合せて
反応させる方法(特開2000−86545)等が報告
されている。
いた四塩化炭素と塩化ビニルとの反応により1,1,
1,3,3−ペンタクロロプロパンを得る方法に関し、
本発明者等はこれまで検討を進めてきたが、元素状の鉄
とアセトニトリルなどの非プロトン性の極性有機溶媒存
在下四塩化炭素と塩化ビニルを反応させて1,1,1,
3,3−ペンタクロロプロパンを製造する方法(特開平
8−239333号)においては、アミド化合物は溶媒
としても用いられるため反応器材質に対する腐食等の問
題があった。また、アミド化合物を鉄可溶化剤として同
様に反応する方法(特開2001−335517号)にお
いては、アミド化合物と鉄との錯体は反応系での溶解度
が低く、そのため反応系外での触媒層と生成物との分離
が容易であるものの、反応触媒として有効に使用され
ず、反応速度が小さい等の欠点があった。
に適し、収率が高く且つ選択性のよい1,1,1,3,
3−ペンタクロロプロパンの製造方法を提供する。
素と塩化ビニルの反応系について鋭意検討を加えたとこ
ろ、鉄を用いアミド化合物と組み合わせた触媒により反
応させ、さらに該反応系に塩素系有機化合物を共存させ
ることで良好な収率でかつ選択的に目的とする1,1,
1,3,3−ペンタクロロプロパンが生成することを見
出した。具体的には、鉄触媒の種類、添加方法ならびに
反応を促進する添加物量等を鋭意検討することにより優
位な方法を見出し、本発明に到達したものである。
ルとを、鉄触媒とアミド化合物により反応させる際に溶
媒として塩素系有機化合物を添加することを特徴とする
1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法
である。
反応系に不活性な炭素数1〜6の化合物であればよい。
好ましくは非重合性のオレフィンまたは極性を有する飽
和炭化水素化合物、例えばジクロロメタン、クロロホル
ム、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、1,
1,2−トリクロロエタン、1,1,2,2−テトラク
ロロエタン、1,2−ジクロロプロパン、1,1,2−
トリクロロプロパン、1−クロロブタン、1−クロロペ
ンタン、モノクロロシクロヘキサン、1,1,1,3,
3−ペンタクロロプロパン等が挙げられる。これらのう
ち、副生成物または生成物であるクロロホルム、トリク
ロロエチレン、テトラクロロエチレン、1,1,1,
3,3−ペンタクロロプロパン等が特に好ましい。
鉄は、還元鉄、金属鉄、純鉄、軟鉄、炭素等が含まれる
鉄鋼または成分として鉄を含む合金、例えば各種のステ
ンレス鋼、フェロシリコン等が使用でき、粉、粒、塊、
線、棒、球、板またはそれらを任意の形状に加工した金
属片、例えば、ラシヒリング、ヘリックスなどの蒸留充
填物、スチールウール、金網、コイル、その他不定形の
金属片など、いずれの形態でも使用可能である。しかし
ながら、鉄以外に触媒活性を有さない成分が多量に含ま
れる合金では、それらの成分が反応系中に溶出しまたは
不溶成分として存在するため、反応後にそれらの処理が
複雑となり、触媒としては好ましくなく、比較的品質が
安定している還元鉄または純鉄が好ましい。
との錯体を用いることもでき、ハロゲン化物、硝酸塩、
酢酸塩、ナフテン酸塩、シクロペンタジエン錯体または
アセチルアセトン錯体などが挙げられる。
合物、金属錯体などを併用することができ、そのような
金属として好ましい金属には周期律表のVIII族また
はIB族の金属元素が挙げられる。具体的には、例え
ば、ニッケル、コバルト、鉄、パラジウム、ルテニウ
ム、銅、銀等のハロゲン化物、酸化物、硝酸塩、酢酸
塩、シクロペンタジエン錯体またはアセチルアセトン錯
体などが挙げられ、ニッケル、鉄、コバルトおよび銅か
ら選ばれる金属のハロゲン化物が特に優れている。その
様なハロゲン化物としては、フッ化物、塩化物、臭化
物、ヨウ化物が挙げられるが、塩化物が反応性、物質の
汎用性、取り扱いやすさ等から優れている。具体的に
は、塩化第二鉄、塩化ニッケル、塩化コバルト、塩化第
一銅、塩化第二銅を好ましいものとして挙げることがで
きる。
炭素1モルに対し、少なくとも0.001モルを必要と
するが、反応系中で鉄触媒は、鉄塊であれば固体として
存在するので反応容器が大きくなる点を除けば過剰量で
あることには特に不都合はない。連続反応系で鉄粉を用
いる場合は、鉄粉は反応系中、塩化鉄となりアミド化合
物と錯体として溶解するので、生成物を反応系外に取り
出す場合同伴した固体粉末は装置の目詰まり等の原因と
なるため、溶解量のみ加えることが望ましく、四塩化炭
素1モルに対して0.8モル以下に抑えることが好まし
い。したがって、バッチ式反応または半バッチ式反応に
おいては通常0.001〜1モルとし、0.005〜
0.8モルが好ましく、0.01〜0.5モルの範囲が
より好ましいが、触媒の量が0.001モル未満では反
応収率が低下するので好ましくない。一方、助触媒の量
は、四塩化炭素1モルに対し、通常0.001〜1モル
であるが、0.05〜0.5モルが好ましく、0.01
〜0.1モルの範囲がより好ましい。助触媒の量が0.
001モル未満では反応速度が低下するので好ましくな
い。鉄触媒に対する助触媒の使用量比は、特に限定され
ないが、通常0.1以下とすることが好ましい。
N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトア
ミド、N,N−ジメチルアセトアセトアミド、N,N−
ジメチルアクリルアミド、アセトアミドおよびN,N−
ジメチルホルムアミド等が挙げられるが、これらのうち
N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセ
トアミドが特に好ましい。これらのアミド化合物は単独
または組み合わせ使用することができる。 本発明に使
用されるアミド化合物の下限量は、鉄触媒に対し少なく
とも1/10当量、好ましくは1/5当量必要であり、
上限はいくらでもよいが、経済的な適正量としては10
倍当量、好ましくは5倍当量でよい。
化合物と錯体を形成し、反応後有機生成物とともに系外
に出されるが、二層分離、蒸留分離等の手段により分離
した触媒層を再び反応系に戻すことができる。回収した
触媒は、反応液と混合した液状または固体状で存在する
が、液状の場合ポンプ等で再び反応系に戻すことがで
き、固体の場合は四塩化炭素等に縣濁し、戻すことがで
きる。戻す量は通常新規の鉄触媒と等モル量以上あれば
良く、特に限定されない。使用触媒に含まれる3価の鉄
は触媒作用を有さないため、鉄粉等の還元剤を添加する
ことが必要となる。分離する箇所は反応直後、未反応四
塩化炭素を除いたフラッシュ蒸留後または精製蒸留後の
釜残液のいずれでもよい。
類を添加することもでき、アミン類はアルキル基として
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチ
ル等のトリ、ジ、モノ置換アルキルアミンが使用でき、
また水酸基を含むエタノールアミン、トリエタノールア
ミン等を用いることができる。アミン類の使用量は鉄触
媒に対し当量以下であればよい。
の極性有機媒体を併せて用いることもできる。好ましい
媒体としては、ニトリル類その他が挙げられる。ニトリ
ル類としては、例えば、アセトニトリル、プロピオニト
リル、n−ブチロニトリル、イソプチロニトリル、バレ
ロニトリル、フェニルアセトニトリル、ベンゾニトリ
ル、イソフタロニトリル、2−ペンテンニトリル、3−
ペンテンニトリル等が挙げられ、その他の溶媒としては
ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリドン、
1,3−ジメチル−2−イメダゾリジノン、γ−ブチロ
ラクトンなどが挙げられる。
を大きくするため界面活性剤を添加することもできる。
用いる界面活性剤としてはノニオン系、カチオン系、ア
ニオン系いずれの界面活性剤を用いることができるが、
反応に悪影響を及ぼさない界面活性剤が好ましい。この
ような界面活性剤としては、ジエチレングリコール−モ
ノ−n−ブチルエーテル、ポリエチレングリコール−モ
ノ−p−ノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
セチルアルコールエーテル、ポリオキシエチレンソルビ
タンモノオレート、ソルビタンモノラウレート等が挙げ
られる。
物の生産性を低下しないよう四塩化炭素1モルに対し
て、1モル以下であることが望ましい。
対して0.1〜5モル%、好ましくは0.5〜2モル%
であり、5モル%より多すぎる場合には鉄の塩素化が進
みすぎ塩化第二鉄が生成するため好ましくなく、0.1
モル%より少ない場合には反応速度に対する効果は低
い。本発明にかかる反応において塩素が存在しない場
合、触媒となる鉄は四塩化炭素または塩化第二鉄から塩
素を引き抜き塩化第一鉄となると推定される。従って触
媒量に見合う四塩化炭素が消費すると考えられるので、
塩素が存在すれば原料四塩化炭素の無駄な消費は避けら
れる。さらに塩素以外の臭素、沃素を用いても同様の効
果が期待できる。
合反応液中に塩化ビニルガスおよび塩素を導入させ、反
応することもできる。この場合塩化ビニル吹込み量は、
四塩化炭素に対して化学量論以下でよい。塩化ビニル導
入量が化学量論以下の場合、塩化ビニルが完全に反応消
費された時点で反応液を取り出し、フラッシュ蒸留等に
より未反応四塩化炭素を分離、微量水分をモレキュラー
シーブ4A等のゼオライトを用いて除き再び反応系にリ
サイクルすることができる。
3,3−ペンタクロロプロパンの選択率が最大になる量
比が好ましく、四塩化炭素に対して等モル量またはそれ
以下とすることが好ましいが必ずしも限定されない。塩
化ビニル量を等モル量以上とすると塩化ビニルの高次重
合物の生成量が増加し、また過剰量の塩化ビニルは未反
応のまま反応器を通り抜けることとなり好ましくない。
また、等モル量以下の場合、四塩化炭素は一部が未反応
のまま反応器に残留することになるが、これは反応液か
ら蒸留などの公知の方法で回収しリサイクルすることが
できるので特に問題はない。連続的に塩化ビニル導入す
る場合、導入量が一時的に過剰になる場合には副生する
高分子量生成物(C5)が増加して好ましくないので、
可能な限り供給量の変動を避けることが好ましい。
活性なガスで希釈して使用することができる。希釈する
程度は任意でよいが、塩化ビニルに対する希釈ガスの割
合が増えると塩化ビニルの高次重合物の生成量が減少す
るので好ましい。しかし、その場合、装置の効率の低下
を伴うので通常塩化ビニル/希釈ガスの容量比は0.1
〜10程度とするのが好ましい。希釈ガスとしては、反
応系において不活性でありラジカル捕捉剤として働かな
い物質であれば限定されないが、例えば、窒素、水素、
アルゴン、ヘリウムなどを使用できる。
加量に依存し、塩化ビニルの転化率、1,1,1,3,
3−ペンタクロロプロパン選択率、触媒および助触媒の
寿命に影響を与えるが、60〜180℃、より好ましく
は100〜140℃の範囲が推奨される。60℃より低
い場合には転化率が低く、180℃を越えると反応器の
圧力が高くする必要がありそれぞれこのましくない。反
応器の圧力は、各温度のおける四塩化炭素と未反応塩化
ビニル等の分圧の和となるが、通常0.05〜5.0M
PaG(ゲージ圧)であり、0.1〜1.5MPaGが
好ましい。
応、半流通式、流通式反応のいずれでも良いが、例え
ば、塩素存在または非存在下四塩化炭素に鉄触媒とN,
Nージメチルアセトアミドとを混合し、その中に塩化ビ
ニルをガス状または液体状で連続的あるいは断続的に導
入して反応を開始し、さらに継続的に四塩化炭素、鉄触
媒、N,Nージメチルアセトアミドならびに塩化ビニル
を導入させることが望ましい。バッチ式で反応初期に触
媒、溶媒、反応試剤を予め装入しておく方法、および塩
化ビニルを液体で逐次添加方式で送入する方法はいずれ
も塩化ビニルの高次重合物の生成量が増える傾向となる
ので本発明の方法としては避けることが好ましい。本発
明の方法で塩素を反応系に存在させる方法は特に限定さ
れない。例えば、塩素は気体または液体として単独で直
接反応器へ導入してもよく、四塩化炭素もしくはその他
の溶媒に溶解して導入してもよい。
液とともに攪拌により系内を浮遊または流動する様にし
てもよいが、鉄触媒は固定して他の反応試剤のみを流動
させる様にすることも好ましい。何れの反応形式をとる
場合においても、本反応は気体と液体の接触が重要な過
程となるので反応系にそれらの接触を図るための公知の
機器または装置を備えることは好ましい。そのような装
置としては、例えば、攪拌機、スパージャーなどを挙げ
ることができるが各種の公知装置を適用すればよい。
化ビニルが反応液中に速やかに拡散されるよう、10〜
1000rpmの範囲が好ましい。
材質は、ステンレス鋼、ガラス、樹脂からなるかまたは
ガラスもしくは樹脂でライニングされた材料を採用す
る。これらに使用される樹脂としては、フッ素樹脂であ
ることが好ましく、例えば、ポリテトラフルオロエチレ
ン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニ
リデン、ポリパーフルオロアルキルビニルエーテル、ポ
リヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン
−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テト
ラフルオロエチレン−エチレン共重合体、ヘキサフルオ
ロエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体などを挙
げることができるが、本発明の反応系において不活性な
樹脂であれば当然使用することができる。
は、ステンレス鋼、ガラス、樹脂からなるかまたはガラ
スもしくは樹脂でライニングされた材料を使用できる
が、ステンレス製の蒸留塔では触媒残さが蒸留塔ボトム
に存在すると、ステンレス鋼等金属との接触により反応
液が分解する可能性があるため、安定剤を添加すること
が好ましい。このような蒸留安定剤としては通常塩化物
の蒸留に用いられるブチルグリシジルエーテル、フェニ
ルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジル
エーテル、ステアリルグリシジルエーテル、メチルオク
チルグリシジルエーテル、オクチル/デシルグリシジル
エーテル等のグリシジルエーテル類から選ばれる。安定
剤の添加量は、粗生成物に対し10〜10000ppm
が好ましい。
3,3−ペンタクロロプロパンは、反応器から取り出し
た後、触媒、金属化合物などを除去する操作、未反応原
料を除く操作に付し、さらに乾燥、精留することで高純
度の1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンを得る
ことができる。
明する。実施例において、圧力はゲージ圧で表す。
の硝子製オートクレーブに、四塩化炭素3.2モル、ク
ロロホルム0.8モル、N,N−ジメチルアセトアミド
(DMAC)0.04モル(1.25モル%対四塩化炭
素)、鉄粉0.02モル(0.625モル%対四塩化炭
素)および回収触媒(Fe3Cl8・6DMAC)0.0
2モルを仕込み、反応器内の空気を窒素ガスで置換した
後、密封して250rpmで攪拌を行いながら140℃
に加熱し30分間保持した。このときの圧力は0.25
MPaGになった。30分後塩化ビニルを圧入して圧力
をほぼ0.33MpaGとし、反応の進行にともない圧
力を保つように塩化ビニルを添加し2モル加えた。反応
時間は153分間であった。
だして金属塩を除去した後、これをガスクロマトグラフ
で分析した。
1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンへの収率
は、56.5モル%であった。また残った四塩化炭素は
1.25モル(仕込み量に対し39.1%)であった。
一方、そのときの塩化ビニル反応率および1,1,1,
3,3−ペンタクロロプロパン選択率はそれぞれ98.
6%および92.9%であった。
ド0.08モル(2.5モル%)、鉄粉0.04モル
(1.25モル%)とし、回収触媒0.04モルとした
以外は実施例1と同様の攪拌、温度条件下で四塩化炭素
3.2モル、クロロホルム0.8モルを用いて実験を行
った。反応中の圧力をほぼ0.35MpaGとし、反応
の進行にともない圧力を保つように塩化ビニルを添加し
2モル加えた。反応時間は108分間であった。
た結果、1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンへ
の収率は、56.8%であった。また残った四塩化炭素
は1.26モル(仕込み量に対し39.4%)であっ
た。一方、そのときの塩化ビニル反応率および1,1,
1,3,3−ペンタクロロプロパン選択率はそれぞれ9
8.3%および93.7%であった。
塩化炭素4.0モルにした以外は実施例2と同様の条件
で反応を行った。反応中の圧力はほぼ0.33MpaG
であり、反応時間は160分間であった。生成物をガス
クロマトグラフにより分析した結果、1,1,1,3,
3−ペンタクロロプロパンへの収率は、44.0%であ
った。また残った四塩化炭素は2.1モル(仕込み量に
対し51.8%)であった。一方、そのときの塩化ビニ
ル反応率および1,1,1,3,3−ペンタクロロプロ
パン選択率はそれぞれ98.1%および91.3%であ
った。
パンの製造において、本発明の方法では反応中に副成す
る塩素系化合物等を添加することにより、反応速度の増
大並びに1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパン選
択率が向上する。このような簡単な操作で製造の効率化
が図れるため、本発明は工業的に有利な方法である。
Claims (7)
- 【請求項1】 四塩化炭素と塩化ビニルとを、鉄触媒と
反応促進剤存在下で反応させる際に溶媒として塩素系有
機化合物を添加することを特徴とする1,1,1,3,
3−ペンタクロロプロパンの製造方法。 - 【請求項2】 反応促進剤が窒素を含有するアミド化
合物であることを特徴とする請求項1記載の製造方法。 - 【請求項3】 鉄触媒が元素状の鉄または2価の鉄塩
であることを特徴とする請求項1記載の製造方法。 - 【請求項4】 塩素系有機化合物が炭素数1から6ま
での飽和または不飽和炭化水素にすくなくとも1個の塩
素を含み、四塩化炭素及び重合性のオレフィンを除く化
合物であることを特徴とする請求項1記載の製造方法。 - 【請求項5】 反応系に鉄触媒、四塩化炭素及び塩化
ビニルを連続的に導入して反応させ、生成物を連続的に
取り出すことを特徴とする請求項1乃至4に記載の製造
方法。 - 【請求項6】 連続的に取り出された生成物から未反
応の四塩化炭素ならびに塩化ビニルを分離し、再び反応
系に戻し反応することを特徴とする請求項1乃至5に記
載の製造方法。 - 【請求項7】 連続的に取り出された生成物からアミ
ド鉄錯体を含む触媒層を分離し、再び反応系に戻し反応
に供することを特徴とする請求項1乃至6に記載の製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002087359A JP4259808B2 (ja) | 2002-03-27 | 2002-03-27 | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002087359A JP4259808B2 (ja) | 2002-03-27 | 2002-03-27 | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003286209A true JP2003286209A (ja) | 2003-10-10 |
JP4259808B2 JP4259808B2 (ja) | 2009-04-30 |
Family
ID=29233577
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002087359A Expired - Fee Related JP4259808B2 (ja) | 2002-03-27 | 2002-03-27 | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4259808B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013099485A1 (ja) * | 2011-12-29 | 2013-07-04 | セントラル硝子株式会社 | 1-クロロ-3,3,3-トリフルオロプロペンの製造方法 |
JP2017039766A (ja) * | 2011-06-03 | 2017-02-23 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | ハロアルカン化合物の製造中における副生成物の生成を回避する方法 |
JP2017149689A (ja) * | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 株式会社トクヤマ | クロロプロパン類の製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62242635A (ja) * | 1986-04-10 | 1987-10-23 | チエスコスロベンスカ アカデミエ ベド | ハロゲン化された有機化合物の製造方法 |
JP2000086545A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-03-28 | Asahi Glass Co Ltd | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 |
WO2000068172A1 (en) * | 1999-05-12 | 2000-11-16 | Alliedsignal Inc. | Continuous process for preparing halogenated compounds |
JP2001151708A (ja) * | 1999-11-22 | 2001-06-05 | Central Glass Co Ltd | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 |
JP2001213820A (ja) * | 2000-01-31 | 2001-08-07 | Central Glass Co Ltd | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 |
JP2001335517A (ja) * | 2000-05-29 | 2001-12-04 | Central Glass Co Ltd | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 |
JP2002505667A (ja) * | 1997-05-05 | 2002-02-19 | ソルヴェイ | 1,1,1,3,3−ペンタクロロブタンの調製法 |
-
2002
- 2002-03-27 JP JP2002087359A patent/JP4259808B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62242635A (ja) * | 1986-04-10 | 1987-10-23 | チエスコスロベンスカ アカデミエ ベド | ハロゲン化された有機化合物の製造方法 |
JP2002505667A (ja) * | 1997-05-05 | 2002-02-19 | ソルヴェイ | 1,1,1,3,3−ペンタクロロブタンの調製法 |
JP2000086545A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-03-28 | Asahi Glass Co Ltd | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 |
WO2000068172A1 (en) * | 1999-05-12 | 2000-11-16 | Alliedsignal Inc. | Continuous process for preparing halogenated compounds |
JP2001151708A (ja) * | 1999-11-22 | 2001-06-05 | Central Glass Co Ltd | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 |
JP2001213820A (ja) * | 2000-01-31 | 2001-08-07 | Central Glass Co Ltd | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 |
JP2001335517A (ja) * | 2000-05-29 | 2001-12-04 | Central Glass Co Ltd | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017039766A (ja) * | 2011-06-03 | 2017-02-23 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | ハロアルカン化合物の製造中における副生成物の生成を回避する方法 |
WO2013099485A1 (ja) * | 2011-12-29 | 2013-07-04 | セントラル硝子株式会社 | 1-クロロ-3,3,3-トリフルオロプロペンの製造方法 |
JP2013139414A (ja) * | 2011-12-29 | 2013-07-18 | Central Glass Co Ltd | 1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの製造方法 |
CN104039745A (zh) * | 2011-12-29 | 2014-09-10 | 中央硝子株式会社 | 1-氯-3,3,3-三氟丙烯的制造方法 |
US8987533B2 (en) | 2011-12-29 | 2015-03-24 | Central Glass Company, Limited | Production method for 1-chloro-3,3,3-trifluoropropene |
JP2017149689A (ja) * | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 株式会社トクヤマ | クロロプロパン類の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4259808B2 (ja) | 2009-04-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3869170B2 (ja) | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 | |
US10676414B2 (en) | Process for the manufacture of 1,1,1,3,3-pentachloropropane | |
JP2001213820A (ja) | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 | |
US10464869B2 (en) | Processes for selective dehydrohalogenation of halogenated alkanes | |
KR101595196B1 (ko) | 2,3,3,3-테트라플루오로프로펜의 제조 방법 | |
JP6059246B2 (ja) | 塩素化アルカンの製造方法 | |
JP5884130B2 (ja) | 2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの液相フッ素化で2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロペンを製造する方法 | |
JP2016509001A (ja) | 1,1,2,3−テトラクロロプロペンの合成 | |
JP6137710B2 (ja) | 1,1,3−トリクロロ−1−プロペンの合成 | |
TW200800846A (en) | Method for producing 1,2,3,4-tetrachlorohexafluorobutane | |
JP2013139414A (ja) | 1−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンの製造方法 | |
JP4111548B2 (ja) | 1,1,1,3,3−ペンタクロロブタンの調製法 | |
CA2836075A1 (en) | Method for mitigating the formation of by-products during the production of haloalkane compounds | |
US20140058141A1 (en) | Catalytical synthesis of hydrohalocarbons | |
CN108779048B (zh) | 1-氯-2,3,3,3-四氟丙烯的制造方法 | |
US20120310020A1 (en) | Method for avoiding the generation of by-products during the production of haloalkane compounds | |
JP2016505578A (ja) | 1,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製法 | |
WO2003106023A1 (ja) | ポリフルオロアルキルエチルアイオダイド製造用金属銅触媒及びポリフルオロアルキルエチルアイオダイドの製造方法 | |
JP2001335517A (ja) | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 | |
AU4330000A (en) | Method for the preparation of 1,1,1,3,3-pentafluoropropene and 1,1,1,3,3-pentafluoropropane | |
JP4259808B2 (ja) | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 | |
EP3770139A1 (en) | Improved processes for preparing halogenated alkanes | |
WO2002102750A2 (en) | Water-enhanced production of 1,1,1,3,3-pentachloropropane | |
JP3456605B2 (ja) | 1,1,1,3,3−ペンタクロロプロパンの製造方法 | |
JP2004500339A (ja) | ハロゲン化炭化水素の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040902 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20060421 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080827 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080902 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081029 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090203 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090203 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4259808 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140220 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |