JP2003285095A - オキシデーションディッチ方法および装置 - Google Patents
オキシデーションディッチ方法および装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 脱窒素処理を確実に行え、オキシデーション
ディッチにおける窒素除去率を向上できるオキシデーシ
ョンディッチ方法および装置を提供する。 【解決手段】 環状の水路２を槽内混合液が好気ゾーン
Ａと嫌気ゾーンＢにわたって循環し、好気ゾーンＡで槽
内混合液を好気性処理し、嫌気ゾーンＢで槽内混合液を
脱窒素処理する。嫌気ゾーンＢの流入部５から嫌気ゾー
ンＢへ槽内混合液を導入するとともに、原水供給系８か
ら新たな原水を嫌気ゾーンＢへ導入する。流入部５から
の槽内混合液の導入量を、嫌気ゾーンＢ内の槽内混合液
の酸化還元電位値に基づいて、酸化還元電位値が無酸素
状態を示す設定値よりも低下するのに追従して槽内混合
液の導入量を増加させ、酸化還元電位値が前記設定値よ
りも上昇するのに追従して槽内混合液の導入量を減少さ
せるよう流入部５に設けた流量制御手段を調整すること
で制御する。
ディッチにおける窒素除去率を向上できるオキシデーシ
ョンディッチ方法および装置を提供する。 【解決手段】 環状の水路２を槽内混合液が好気ゾーン
Ａと嫌気ゾーンＢにわたって循環し、好気ゾーンＡで槽
内混合液を好気性処理し、嫌気ゾーンＢで槽内混合液を
脱窒素処理する。嫌気ゾーンＢの流入部５から嫌気ゾー
ンＢへ槽内混合液を導入するとともに、原水供給系８か
ら新たな原水を嫌気ゾーンＢへ導入する。流入部５から
の槽内混合液の導入量を、嫌気ゾーンＢ内の槽内混合液
の酸化還元電位値に基づいて、酸化還元電位値が無酸素
状態を示す設定値よりも低下するのに追従して槽内混合
液の導入量を増加させ、酸化還元電位値が前記設定値よ
りも上昇するのに追従して槽内混合液の導入量を減少さ
せるよう流入部５に設けた流量制御手段を調整すること
で制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、オキシデーション
ディッチに関し、畜産排水処理、生ゴミのリサイクルな
どにおける排水処理技術に関するものである。
ディッチに関し、畜産排水処理、生ゴミのリサイクルな
どにおける排水処理技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図５は、従来の硝化脱窒処理によるオキ
シデーションディッチ装置を示す。この図において、処
理水槽１ｃの環状の水路２（水深１〜２ｍ）には好気ゾ
ーンＡと嫌気ゾーンＢとが形成されており、水路２を流
れる槽内混合液を好気ゾーンＡと嫌気ゾーンＢにわたっ
て循環させることにより排水処理を行っている。
シデーションディッチ装置を示す。この図において、処
理水槽１ｃの環状の水路２（水深１〜２ｍ）には好気ゾ
ーンＡと嫌気ゾーンＢとが形成されており、水路２を流
れる槽内混合液を好気ゾーンＡと嫌気ゾーンＢにわたっ
て循環させることにより排水処理を行っている。
【０００３】好気ゾーンＡの水路２には攪拌曝気装置３
があり、この攪拌曝気装置の攪拌によって槽内混合液の
水路２の循環に要する推力が発生する。循環する槽内混
合液は、好気ゾーンＡで好気性処理を行い、嫌気ゾーン
Ｂで脱窒素処理を行うことで槽内混合液の活性汚泥処理
を行っている。具体的には、好気ゾーンＡで槽内混合液
中のＮＨ3−Ｎを硝化菌によりＮＯ2−ＮもしくはＮＯ3
−Ｎに酸化し、ＮＯ2−ＮもしくはＮＯ3−Ｎを含む槽内
混合液を硝化液として好気ゾーンＡから嫌気ゾーンＢへ
循環し、嫌気ゾーンＢに原水を供給してＢＯＤ源補給を
行いながら溶存酸素のない嫌気的な条件下で脱窒素菌に
より槽内混合液中のＮＯ2−Ｎ、ＮＯ3−ＮをＮ2ガスへ
還元している。
があり、この攪拌曝気装置の攪拌によって槽内混合液の
水路２の循環に要する推力が発生する。循環する槽内混
合液は、好気ゾーンＡで好気性処理を行い、嫌気ゾーン
Ｂで脱窒素処理を行うことで槽内混合液の活性汚泥処理
を行っている。具体的には、好気ゾーンＡで槽内混合液
中のＮＨ3−Ｎを硝化菌によりＮＯ2−ＮもしくはＮＯ3
−Ｎに酸化し、ＮＯ2−ＮもしくはＮＯ3−Ｎを含む槽内
混合液を硝化液として好気ゾーンＡから嫌気ゾーンＢへ
循環し、嫌気ゾーンＢに原水を供給してＢＯＤ源補給を
行いながら溶存酸素のない嫌気的な条件下で脱窒素菌に
より槽内混合液中のＮＯ2−Ｎ、ＮＯ3−ＮをＮ2ガスへ
還元している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のオキシデーションディッチ装置では、好気ゾーンＡ
の微生物濃度が一定でなく変動していることから、好気
ゾーンＡの微生物濃度が低いとき、ＢＯＤ負荷量が低す
ぎるときには酸素を消費しきれず、溶存酸素濃度が高い
状態で槽内混合液が嫌気ゾーンに送られることがある。
そのため、嫌気ゾーンＢを無酸素状態に維持できず、嫌
気ゾーンＢを必ずしも十分に形成することができないと
いう問題がある。また、嫌気ゾーンＢに供給する原水の
ＢＯＤが一定でないため、十分な脱窒素処理が行えない
という問題がある。
来のオキシデーションディッチ装置では、好気ゾーンＡ
の微生物濃度が一定でなく変動していることから、好気
ゾーンＡの微生物濃度が低いとき、ＢＯＤ負荷量が低す
ぎるときには酸素を消費しきれず、溶存酸素濃度が高い
状態で槽内混合液が嫌気ゾーンに送られることがある。
そのため、嫌気ゾーンＢを無酸素状態に維持できず、嫌
気ゾーンＢを必ずしも十分に形成することができないと
いう問題がある。また、嫌気ゾーンＢに供給する原水の
ＢＯＤが一定でないため、十分な脱窒素処理が行えない
という問題がある。
【０００５】本発明は前記問題点を解決するものであ
り、脱窒素処理を確実に行え、オキシデーションディッ
チにおける窒素除去率を向上できるオキシデーションデ
ィッチ方法および装置を提供することを目的とする。
り、脱窒素処理を確実に行え、オキシデーションディッ
チにおける窒素除去率を向上できるオキシデーションデ
ィッチ方法および装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に請求項１に係る本発明のオキシデーションディッチ
は、処理水槽の環状の水路を槽内混合液が好気ゾーンと
嫌気ゾーンにわたって循環し、好気ゾーンで槽内混合液
を好気性処理し、嫌気ゾーンで槽内混合液を脱窒素処理
するに際し、嫌気ゾーンの槽内混合液の流れ方向の上流
側に設けた流入部から前記嫌気ゾーンへ槽内混合液を導
入するとともに、原水供給系から新たな原水を前記嫌気
ゾーンへ導入し、前記流入部からの槽内混合液の導入量
を嫌気ゾーン内の槽内混合液の酸化還元電位値に基づい
て前記流入部に設けた流量制御手段を調整することで制
御し、酸化還元電位値が無酸素状態を示す設定値よりも
低下するのに追従して槽内混合液の導入量を増加させ、
酸化還元電位値が無酸素状態を示す設定値よりも上昇す
るのに追従して槽内混合液の導入量を減少させて、嫌気
ゾーンにおける無酸素状態を維持するものである。
に請求項１に係る本発明のオキシデーションディッチ
は、処理水槽の環状の水路を槽内混合液が好気ゾーンと
嫌気ゾーンにわたって循環し、好気ゾーンで槽内混合液
を好気性処理し、嫌気ゾーンで槽内混合液を脱窒素処理
するに際し、嫌気ゾーンの槽内混合液の流れ方向の上流
側に設けた流入部から前記嫌気ゾーンへ槽内混合液を導
入するとともに、原水供給系から新たな原水を前記嫌気
ゾーンへ導入し、前記流入部からの槽内混合液の導入量
を嫌気ゾーン内の槽内混合液の酸化還元電位値に基づい
て前記流入部に設けた流量制御手段を調整することで制
御し、酸化還元電位値が無酸素状態を示す設定値よりも
低下するのに追従して槽内混合液の導入量を増加させ、
酸化還元電位値が無酸素状態を示す設定値よりも上昇す
るのに追従して槽内混合液の導入量を減少させて、嫌気
ゾーンにおける無酸素状態を維持するものである。
【０００７】この構成によると、酸化還元電位値に基づ
いて嫌気ゾーンへの処理液導入量を調整することで嫌気
ゾーンにおける槽内混合液の無酸素状態の形成を促進し
て脱窒素処理を安定して行えるため、窒素除去率を向上
できる。
いて嫌気ゾーンへの処理液導入量を調整することで嫌気
ゾーンにおける槽内混合液の無酸素状態の形成を促進し
て脱窒素処理を安定して行えるため、窒素除去率を向上
できる。
【０００８】請求項２に係る本発明のオキシデーション
ディッチ装置は、処理水槽の槽内混合液が好気ゾーンと
嫌気ゾーンとにわたって循環する環状の水路と、前記水
路の好気ゾーン内に配置して槽内混合液を攪拌曝気する
とともに槽内混合液に循環に要する推力を与える攪拌曝
気装置とを有し、前記好気ゾーンで槽内混合液を好気性
処理し、前記嫌気ゾーンで槽内混合液を脱窒素処理する
オキシデーションディッチ装置であって、嫌気ゾーンの
形成位置における水路は、嫌気ゾーンの底板によって嫌
気ゾーンと槽内混合液が流れる流路とに仕切られ、嫌気
ゾーンは、槽内混合液の流れ方向の上流側に設けられた
流入部と下流側に設けられた流出部と新たな原水を導入
する原水供給系とを有し、前記流入部は、嫌気ゾーンが
無酸素状態となる槽内滞留時間を維持するために必要な
流入量となる開口面積を有するものである。
ディッチ装置は、処理水槽の槽内混合液が好気ゾーンと
嫌気ゾーンとにわたって循環する環状の水路と、前記水
路の好気ゾーン内に配置して槽内混合液を攪拌曝気する
とともに槽内混合液に循環に要する推力を与える攪拌曝
気装置とを有し、前記好気ゾーンで槽内混合液を好気性
処理し、前記嫌気ゾーンで槽内混合液を脱窒素処理する
オキシデーションディッチ装置であって、嫌気ゾーンの
形成位置における水路は、嫌気ゾーンの底板によって嫌
気ゾーンと槽内混合液が流れる流路とに仕切られ、嫌気
ゾーンは、槽内混合液の流れ方向の上流側に設けられた
流入部と下流側に設けられた流出部と新たな原水を導入
する原水供給系とを有し、前記流入部は、嫌気ゾーンが
無酸素状態となる槽内滞留時間を維持するために必要な
流入量となる開口面積を有するものである。
【０００９】この構成によると、本発明のオキシデーシ
ョンディッチ方法を容易に実現できる。本発明の請求項
３に係るオキシデーションディッチ装置は、流路は、槽
内混合液の流れ方向の上流側から下流側に向かって流路
が狭くなるように形成されているものである。
ョンディッチ方法を容易に実現できる。本発明の請求項
３に係るオキシデーションディッチ装置は、流路は、槽
内混合液の流れ方向の上流側から下流側に向かって流路
が狭くなるように形成されているものである。
【００１０】この構成によると、流路を流れる槽内混合
液の流速が高まり、流路における汚泥沈降を低減でき
る。本発明の請求項４に係るオキシデーションディッチ
装置は、嫌気ゾーンは、槽内混合液の酸化還元電位値を
測定する酸化還元電位計と、流入部に設けられた流量制
御手段と、前記酸化還元電位計で測定した酸化還元電位
値に基づいて前記流量制御手段を調整して導入する槽内
混合液の流量を制御する制御手段とを有し、前記制御手
段は、酸化還元電位値が無酸素状態を示す設定値よりも
低下するのに追従して槽内混合液の導入量を増加させ、
酸化還元電位値が無酸素状態を示す設定値よりも上昇す
るのに追従して槽内混合液の導入量を減少させて嫌気ゾ
ーンにおける無酸素状態を維持するものである。
液の流速が高まり、流路における汚泥沈降を低減でき
る。本発明の請求項４に係るオキシデーションディッチ
装置は、嫌気ゾーンは、槽内混合液の酸化還元電位値を
測定する酸化還元電位計と、流入部に設けられた流量制
御手段と、前記酸化還元電位計で測定した酸化還元電位
値に基づいて前記流量制御手段を調整して導入する槽内
混合液の流量を制御する制御手段とを有し、前記制御手
段は、酸化還元電位値が無酸素状態を示す設定値よりも
低下するのに追従して槽内混合液の導入量を増加させ、
酸化還元電位値が無酸素状態を示す設定値よりも上昇す
るのに追従して槽内混合液の導入量を減少させて嫌気ゾ
ーンにおける無酸素状態を維持するものである。
【００１１】この構成によると、嫌気ゾーンを確実に無
酸素状態とすることができ、脱窒素効率を高めることが
できる。本発明の請求項５記載のオキシデーションディ
ッチ装置は、水路に連通して膜分離装置を設け、前記膜
分離装置は水路の好気ゾーン内の槽内混合液を膜分離
し、濃縮した槽内混合液を水路の嫌気ゾーンに返送し、
膜透過水を槽外へ取り出すものである。
酸素状態とすることができ、脱窒素効率を高めることが
できる。本発明の請求項５記載のオキシデーションディ
ッチ装置は、水路に連通して膜分離装置を設け、前記膜
分離装置は水路の好気ゾーン内の槽内混合液を膜分離
し、濃縮した槽内混合液を水路の嫌気ゾーンに返送し、
膜透過水を槽外へ取り出すものである。
【００１２】この構成によると、槽内槽内混合液中の汚
泥濃度が高まって好気ゾーンにおける生物学的処理によ
る槽内混合液中の溶存酸素の消費量が多くなるため、よ
り一層効果的に排水処理を行える。
泥濃度が高まって好気ゾーンにおける生物学的処理によ
る槽内混合液中の溶存酸素の消費量が多くなるため、よ
り一層効果的に排水処理を行える。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。なお、上記従来例と同様の作用を
なすものには同一の符号を付けて説明する。
に基づいて説明する。なお、上記従来例と同様の作用を
なすものには同一の符号を付けて説明する。
【００１４】図１において、処理水槽１ａの楕円形の環
状の水路２には好気ゾーンＡと嫌気ゾーンＢとが形成さ
れており、槽内混合液が好気ゾーンＡと嫌気ゾーンＢと
にわたって矢印方向に循環している。
状の水路２には好気ゾーンＡと嫌気ゾーンＢとが形成さ
れており、槽内混合液が好気ゾーンＡと嫌気ゾーンＢと
にわたって矢印方向に循環している。
【００１５】好気ゾーンＡの水路２には、槽内混合液に
環状の水路２を循環させる推力を発生させるための攪拌
曝気装置３が設置されており、この攪拌曝気装置３に
は、スクリュー攪拌曝気装置や機械攪拌曝気装置を使用
することができる。
環状の水路２を循環させる推力を発生させるための攪拌
曝気装置３が設置されており、この攪拌曝気装置３に
は、スクリュー攪拌曝気装置や機械攪拌曝気装置を使用
することができる。
【００１６】嫌気ゾーンＢは水路２の一部を隔壁４ａ，
４ｂで仕切られてなり、槽内混合液の流れ方向の上流側
の隔壁４ａには槽内混合液を嫌気ゾーンＢに導入する流
入部５に流入ゲート５ａが設けられており、槽内混合液
の流れ方向の下流側の隔壁４ｂには槽内混合液を嫌気ゾ
ーンＢから排出する流出部６が形成されている。流入ゲ
ート５ａは、その開口面積を調整可能に構成されてお
り、流量調整手段としての作用をなす。また、流出部６
の開口面積は流入ゲート５ａの全開口面積よりも大きい
ことが好ましい。
４ｂで仕切られてなり、槽内混合液の流れ方向の上流側
の隔壁４ａには槽内混合液を嫌気ゾーンＢに導入する流
入部５に流入ゲート５ａが設けられており、槽内混合液
の流れ方向の下流側の隔壁４ｂには槽内混合液を嫌気ゾ
ーンＢから排出する流出部６が形成されている。流入ゲ
ート５ａは、その開口面積を調整可能に構成されてお
り、流量調整手段としての作用をなす。また、流出部６
の開口面積は流入ゲート５ａの全開口面積よりも大きい
ことが好ましい。
【００１７】隔壁４ａ，４ｂの間には、図２に示すよう
に底板４ｃが設けられており、この底板４ｃによって水
路２を嫌気ゾーンＢとその下に形成された流路７とに仕
切っている。流路７は、槽内混合液の流れ方向の上流側
から下流側に向かって流路が狭くなるように構成されて
おり、ここでは、底板４ｃを槽内混合液の流れ方向の上
流側から下流側に向かって下勾配で傾斜させている。
に底板４ｃが設けられており、この底板４ｃによって水
路２を嫌気ゾーンＢとその下に形成された流路７とに仕
切っている。流路７は、槽内混合液の流れ方向の上流側
から下流側に向かって流路が狭くなるように構成されて
おり、ここでは、底板４ｃを槽内混合液の流れ方向の上
流側から下流側に向かって下勾配で傾斜させている。
【００１８】上記のように構成された嫌気ゾーンＢに
は、ＢＯＤ源として新たな原水を導入するための原水供
給系８と、嫌気ゾーンＢ内の槽内混合液の酸化還元電位
値を測定する酸化還元電位計９とが設けられている。ま
た、流入ゲート５ａの制御手段として制御装置１０を設
けており、制御装置１０は、流入ゲート５ａの開口面積
を調整して嫌気ゾーンＢにおける無酸素状態を維持可能
な槽内滞留時間を維持する。この嫌気ゾーンＢには、さ
らに必要に応じてメタノール等のＢＯＤ源の投入ライ
ン、苛性ソーダなどの薬注ラインを接続する。
は、ＢＯＤ源として新たな原水を導入するための原水供
給系８と、嫌気ゾーンＢ内の槽内混合液の酸化還元電位
値を測定する酸化還元電位計９とが設けられている。ま
た、流入ゲート５ａの制御手段として制御装置１０を設
けており、制御装置１０は、流入ゲート５ａの開口面積
を調整して嫌気ゾーンＢにおける無酸素状態を維持可能
な槽内滞留時間を維持する。この嫌気ゾーンＢには、さ
らに必要に応じてメタノール等のＢＯＤ源の投入ライ
ン、苛性ソーダなどの薬注ラインを接続する。
【００１９】以下に、上記構成における作用を説明す
る。槽内混合液は攪拌曝気装置３により攪拌曝気するこ
とで環状の水路２を循環する推力が発生し、好気ゾーン
Ａと嫌気ゾーンＢとにわたって循環する。
る。槽内混合液は攪拌曝気装置３により攪拌曝気するこ
とで環状の水路２を循環する推力が発生し、好気ゾーン
Ａと嫌気ゾーンＢとにわたって循環する。
【００２０】好気ゾーンＡでは、槽内混合液中のＮＨ3
−Ｎを硝化菌によりＮＯ2−ＮもしくはＮＯ3−Ｎに酸化
し、ＮＯ2−ＮもしくはＮＯ3−Ｎを含む槽内混合液を硝
化液として槽内混合液を好気性処理する。
−Ｎを硝化菌によりＮＯ2−ＮもしくはＮＯ3−Ｎに酸化
し、ＮＯ2−ＮもしくはＮＯ3−Ｎを含む槽内混合液を硝
化液として槽内混合液を好気性処理する。
【００２１】嫌気ゾーンＢでは、原水供給系８から供給
する原水によりＢＯＤ源補給を行いながら溶存酸素のな
い無酸素状態で脱窒素菌により槽内混合液中のＮＯ2−
ＮもしくはＮＯ3−ＮをＮ2ガスへ還元して槽内混合液を
脱窒素処理する。
する原水によりＢＯＤ源補給を行いながら溶存酸素のな
い無酸素状態で脱窒素菌により槽内混合液中のＮＯ2−
ＮもしくはＮＯ3−ＮをＮ2ガスへ還元して槽内混合液を
脱窒素処理する。
【００２２】嫌気ゾーンＢの形成位置における水路２
は、嫌気ゾーンＢと流路７とに仕切られているため、好
気ゾーンＡで好気性処理した槽内混合液の一部は流入ゲ
ート５ａから嫌気ゾーンＢへ流入し、残りの槽内混合液
は流路７を流れて嫌気ゾーンＢの流出口６から排出され
た処理液ともに水路２を循環する。
は、嫌気ゾーンＢと流路７とに仕切られているため、好
気ゾーンＡで好気性処理した槽内混合液の一部は流入ゲ
ート５ａから嫌気ゾーンＢへ流入し、残りの槽内混合液
は流路７を流れて嫌気ゾーンＢの流出口６から排出され
た処理液ともに水路２を循環する。
【００２３】嫌気ゾーンＢへの槽内混合液の導入量は、
制御装置１０によって、酸化還元電位計９により測定し
た酸化還元電位値に基づいて流入ゲート５ａの開口面積
を調整することで行う。具体的には、あらかじめ嫌気ゾ
ーンＢの無酸素状態を維持可能な槽内滞留時間を維持す
るために必要な所定開口面積に設定しておき、嫌気ゾー
ンＢ内の槽内混合液の酸化還元電位値が無酸素状態を示
す設定値よりも低下するのに伴って流入ゲート５ａの開
口面積を大きくして槽内混合液の導入量を増加させ、酸
化還元電位値が設定値よりも上昇するのにともなって流
入ゲート５ａの開口面積を小さくして槽内混合液の導入
量を減少させて、嫌気ゾーンを無酸素状態に維持する。
制御装置１０によって、酸化還元電位計９により測定し
た酸化還元電位値に基づいて流入ゲート５ａの開口面積
を調整することで行う。具体的には、あらかじめ嫌気ゾ
ーンＢの無酸素状態を維持可能な槽内滞留時間を維持す
るために必要な所定開口面積に設定しておき、嫌気ゾー
ンＢ内の槽内混合液の酸化還元電位値が無酸素状態を示
す設定値よりも低下するのに伴って流入ゲート５ａの開
口面積を大きくして槽内混合液の導入量を増加させ、酸
化還元電位値が設定値よりも上昇するのにともなって流
入ゲート５ａの開口面積を小さくして槽内混合液の導入
量を減少させて、嫌気ゾーンを無酸素状態に維持する。
【００２４】このように、酸化還元電位値に基づいて嫌
気ゾーンＢへの槽内混合液の導入量を制御することで、
原水のＢＯＤが変動しても、嫌気ゾーンＢにおける無酸
素状態を確実に実現でき、窒素除去率を高めることがで
きる。
気ゾーンＢへの槽内混合液の導入量を制御することで、
原水のＢＯＤが変動しても、嫌気ゾーンＢにおける無酸
素状態を確実に実現でき、窒素除去率を高めることがで
きる。
【００２５】また、嫌気ゾーンＢに供給されずに流路７
を通過する槽内混合液は、上述のように流路７が槽内混
合液の流れ方向の上流側から下流側に向かって狭くなっ
ているために流速が速くなり、嫌気ゾーン下部のメンテ
ナンスしにくい場所における汚泥沈降を防止できる。
を通過する槽内混合液は、上述のように流路７が槽内混
合液の流れ方向の上流側から下流側に向かって狭くなっ
ているために流速が速くなり、嫌気ゾーン下部のメンテ
ナンスしにくい場所における汚泥沈降を防止できる。
【００２６】なお、上記説明では、酸化還元電位計９の
測定値に基づいて嫌気ゾーンＢの開口ゲート５ａの開口
面積を制御することで嫌気ゾーンＢの溶存酸素濃度を調
整したが、本発明はこれに限定されるものではなく、原
水のＢＯＤがほぼ一定である場合には、嫌気ゾーンＢの
開口ゲート５ａの開口度を固定的にすることも可能であ
る。
測定値に基づいて嫌気ゾーンＢの開口ゲート５ａの開口
面積を制御することで嫌気ゾーンＢの溶存酸素濃度を調
整したが、本発明はこれに限定されるものではなく、原
水のＢＯＤがほぼ一定である場合には、嫌気ゾーンＢの
開口ゲート５ａの開口度を固定的にすることも可能であ
る。
【００２７】また、本発明においては、図３に示すよう
に、好気ゾーンＡと嫌気ゾーンＢとの間に膜分離装置１
１を設けたオキシデーションディッチ装置１ｂとしても
よい。
に、好気ゾーンＡと嫌気ゾーンＢとの間に膜分離装置１
１を設けたオキシデーションディッチ装置１ｂとしても
よい。
【００２８】膜分離装置１１は水路２の内部もしくは外
部に配置し、水路２の槽内混合液を膜分離して膜透過水
を槽外へ取り出して処理水槽１ｂの内部の汚泥濃度を高
度に維持するものであり、ここでは膜分離装置１１を水
路２の外部に配置した例を挙げて説明する。分離膜の形
態としては浸漬型平膜、回転円盤平膜などを使用するこ
とができる。
部に配置し、水路２の槽内混合液を膜分離して膜透過水
を槽外へ取り出して処理水槽１ｂの内部の汚泥濃度を高
度に維持するものであり、ここでは膜分離装置１１を水
路２の外部に配置した例を挙げて説明する。分離膜の形
態としては浸漬型平膜、回転円盤平膜などを使用するこ
とができる。
【００２９】図４に示すように、膜分離装置１１は、膜
分離槽１２の内部に複数の平膜型膜カートリッジ１３を
鉛直方向に沿ってかつ平行に配置しており、各平膜型カ
ートリッジ１３の透過液流路に連通して透過液排出系１
４を設けている。透過液排出系１４は吸引ポンプ１５に
より各平膜型膜カートリッジ１３に駆動圧として吸引圧
を作用させるものであるが、膜分離装置１１の駆動圧と
しては重力を利用することも可能である。各平膜型膜カ
ートリッジ１３の下方には散気装置１６を配置し、散気
装置１６にはブロワ１７を接続している。
分離槽１２の内部に複数の平膜型膜カートリッジ１３を
鉛直方向に沿ってかつ平行に配置しており、各平膜型カ
ートリッジ１３の透過液流路に連通して透過液排出系１
４を設けている。透過液排出系１４は吸引ポンプ１５に
より各平膜型膜カートリッジ１３に駆動圧として吸引圧
を作用させるものであるが、膜分離装置１１の駆動圧と
しては重力を利用することも可能である。各平膜型膜カ
ートリッジ１３の下方には散気装置１６を配置し、散気
装置１６にはブロワ１７を接続している。
【００３０】膜分離槽１２は槽下部が導入系を介して水
路２の好気ゾーンに連通しており、槽上部が汚泥返送系
１８を介して水路２の嫌気ゾーンＢに連通している。こ
の実施の形態では、散気装置１６から噴出する空気のエ
アリフト作用によって膜分離槽１２に上向流を発生さ
せ、導入系１９を通して槽内に導入した槽内混合液をオ
ーバーフローにより汚泥返送系１８を通して水路２に返
送するが、水路２の槽内混合液を膜分離槽１２へ供給す
る手段としては、導入系１９にポンプを設けることも可
能である。
路２の好気ゾーンに連通しており、槽上部が汚泥返送系
１８を介して水路２の嫌気ゾーンＢに連通している。こ
の実施の形態では、散気装置１６から噴出する空気のエ
アリフト作用によって膜分離槽１２に上向流を発生さ
せ、導入系１９を通して槽内に導入した槽内混合液をオ
ーバーフローにより汚泥返送系１８を通して水路２に返
送するが、水路２の槽内混合液を膜分離槽１２へ供給す
る手段としては、導入系１９にポンプを設けることも可
能である。
【００３１】また、汚泥返送系１８は水路２の嫌気ゾー
ンへの接続位置を変更（図中に二点鎖線で表示）するこ
とができる。水路２の嫌気ゾーンには処理対象原水を供
給する原水供給系８を設けている。
ンへの接続位置を変更（図中に二点鎖線で表示）するこ
とができる。水路２の嫌気ゾーンには処理対象原水を供
給する原水供給系８を設けている。
【００３２】以下、上記した構成における作用を説明す
る。処理水槽１ｂの槽内混合液は攪拌曝気装置３によっ
て曝気されるとともに推力を与えられて水路２を循環
し、原水供給系８から流入する原水を伴って好気ゾーン
Ａおよび嫌気ゾーンＢを循環する間に生物学的に処理さ
れる。
る。処理水槽１ｂの槽内混合液は攪拌曝気装置３によっ
て曝気されるとともに推力を与えられて水路２を循環
し、原水供給系８から流入する原水を伴って好気ゾーン
Ａおよび嫌気ゾーンＢを循環する間に生物学的に処理さ
れる。
【００３３】膜分離装置１１は導入系１９を通して膜分
離槽１２に流入する水路２の槽内混合液を、散気装置１
６から噴出する空気のエアリフト作用によってクロスフ
ローで各平膜型膜カートリッジ１３の膜面に供給して膜
分離し、膜透過水を処理水として透過液排出系を通して
槽外へ排出するとともに、濃縮した槽内混合液を汚泥返
送系１８を通して水路２に返送する。膜分離槽１２は間
欠曝気を行うことで嫌気状態とすることも可能である。
離槽１２に流入する水路２の槽内混合液を、散気装置１
６から噴出する空気のエアリフト作用によってクロスフ
ローで各平膜型膜カートリッジ１３の膜面に供給して膜
分離し、膜透過水を処理水として透過液排出系を通して
槽外へ排出するとともに、濃縮した槽内混合液を汚泥返
送系１８を通して水路２に返送する。膜分離槽１２は間
欠曝気を行うことで嫌気状態とすることも可能である。
【００３４】このように、槽内混合液を膜分離装置４で
濃縮して処理水槽１ｂにおける汚泥濃度を１００００〜
２００００ｍｇ／Ｌの高濃度に維持することで、生物学
的処理による槽内混合液中の溶存酸素の消費量が多くな
り、攪拌曝気装置３による曝気によって与えられた槽内
混合液中の溶存酸素は好気ゾーンで消費され、嫌気ゾー
ンにおける槽内混合液は無酸素状態となる。
濃縮して処理水槽１ｂにおける汚泥濃度を１００００〜
２００００ｍｇ／Ｌの高濃度に維持することで、生物学
的処理による槽内混合液中の溶存酸素の消費量が多くな
り、攪拌曝気装置３による曝気によって与えられた槽内
混合液中の溶存酸素は好気ゾーンで消費され、嫌気ゾー
ンにおける槽内混合液は無酸素状態となる。
【００３５】このため、攪拌曝気装置３によって推力を
与えられた槽内混合液が環状の水路２を循環する間に、
好気ゾーンＡでは槽内混合液中のＮＨ3−Ｎを硝化菌に
よりＮＯ2−ＮもしくはＮＯ3−Ｎに酸化し、ＮＯ2−Ｎ
もしくはＮＯ3−Ｎを含む槽内混合液が硝化液として嫌
気ゾーンＢに流入し、嫌気ゾーンＢでは原水供給系８か
ら供給する原水によってＢＯＤ源補給を行いながら溶存
酸素のない無酸素状態下で脱窒素菌により槽内混合液中
のＮＯ2−Ｎ、ＮＯ3−ＮをＮ2ガスへ還元する。嫌気ゾ
ーンＢでは脱窒制御のために、ＢＯＤ源（メタノール
等）を別途に投入することも可能である。
与えられた槽内混合液が環状の水路２を循環する間に、
好気ゾーンＡでは槽内混合液中のＮＨ3−Ｎを硝化菌に
よりＮＯ2−ＮもしくはＮＯ3−Ｎに酸化し、ＮＯ2−Ｎ
もしくはＮＯ3−Ｎを含む槽内混合液が硝化液として嫌
気ゾーンＢに流入し、嫌気ゾーンＢでは原水供給系８か
ら供給する原水によってＢＯＤ源補給を行いながら溶存
酸素のない無酸素状態下で脱窒素菌により槽内混合液中
のＮＯ2−Ｎ、ＮＯ3−ＮをＮ2ガスへ還元する。嫌気ゾ
ーンＢでは脱窒制御のために、ＢＯＤ源（メタノール
等）を別途に投入することも可能である。
【００３６】このように膜分離装置１１を設けること
で、槽内混合液を濃縮して処理水槽中の汚泥濃度を高濃
度に維持することができ、好気ゾーンＡにおける生物学
的処理による槽内混合液中の溶存酸素の消費量が多くな
って槽内混合液中の溶存酸素が好気ゾーンＡで消費され
るため、槽内混合液を確実に溶存酸素濃度の低い状態で
嫌気ゾーンＢに供給することができ、より一層、脱窒素
処理効率を高めることができる。また、汚泥返送系１８
による槽内混合液の返送位置を変更することで、槽内混
合液が好気ゾーンＡおよび嫌気ゾーンＢを流れる槽内滞
留時間を調整することができる。
で、槽内混合液を濃縮して処理水槽中の汚泥濃度を高濃
度に維持することができ、好気ゾーンＡにおける生物学
的処理による槽内混合液中の溶存酸素の消費量が多くな
って槽内混合液中の溶存酸素が好気ゾーンＡで消費され
るため、槽内混合液を確実に溶存酸素濃度の低い状態で
嫌気ゾーンＢに供給することができ、より一層、脱窒素
処理効率を高めることができる。また、汚泥返送系１８
による槽内混合液の返送位置を変更することで、槽内混
合液が好気ゾーンＡおよび嫌気ゾーンＢを流れる槽内滞
留時間を調整することができる。
【００３７】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、嫌気ゾー
ンの酸化還元電位値に基づいて槽内混合液の嫌気ゾーン
への供給量を調整することで、好気ゾーンの微生物濃度
が低い場合でも確実に嫌気ゾーンを構成することがで
き、また、嫌気ゾーンに供給する原水のＢＯＤが一定で
ない場合でも窒素除去率を向上させて硝化脱窒処理を行
うことができる。
ンの酸化還元電位値に基づいて槽内混合液の嫌気ゾーン
への供給量を調整することで、好気ゾーンの微生物濃度
が低い場合でも確実に嫌気ゾーンを構成することがで
き、また、嫌気ゾーンに供給する原水のＢＯＤが一定で
ない場合でも窒素除去率を向上させて硝化脱窒処理を行
うことができる。
【００３８】また、本発明のオキシデーションディッチ
装置によれば、嫌気ゾーンが無酸素状態となる槽内滞留
時間を維持するために必要な流入量となる開口面積を有
するように設定されていることで、本発明のオキシデー
ションディッチ方法を容易に実現できる。
装置によれば、嫌気ゾーンが無酸素状態となる槽内滞留
時間を維持するために必要な流入量となる開口面積を有
するように設定されていることで、本発明のオキシデー
ションディッチ方法を容易に実現できる。
【００３９】また、水路を嫌気ゾーンとその下に形成さ
れた流路とに仕切り、この流路を、槽内混合液の流れ方
向の上流側から下流側に向かって流路が狭くなるように
構成することで、汚泥詰まりを防止できる。
れた流路とに仕切り、この流路を、槽内混合液の流れ方
向の上流側から下流側に向かって流路が狭くなるように
構成することで、汚泥詰まりを防止できる。
【図１】本発明の実施の形態におけるオキシデーション
ディッチ装置を示す平面模式図である。
ディッチ装置を示す平面模式図である。
【図２】図１の要部を示す拡大縦断面模式図である。
【図３】同実施の形態における膜分離装置を設けたオキ
シデーションディッチ装置を示す平面模式図である。
シデーションディッチ装置を示す平面模式図である。
【図４】図３の膜分離装置を示す模式図である。
【図５】従来のオキシデーションディッチ装置を示す平
面模式図である。
面模式図である。
１ａ，１ｂ 処理水槽
２ 水路
３ 攪拌曝気装置
４ａ，４ｂ 隔壁
４ｃ 底板
５ 流入部
５ａ 流入ゲート
６ 流出部
７ 流路
８ 原水供給系
９ 酸化還元電位計
１０ 制御装置
１１ 膜分離装置
１２ 膜分離槽
１３ 平膜型カートリッジ
１４ 透過液排出系
１５ 吸引ポンプ
１６ 散気装置
１７ ブロワ
１８ 汚泥返送系
１９ 導入系
Ａ 好気ゾーン
Ｂ 嫌気ゾーン
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 藤井 芳晴
大阪府大阪市浪速区敷津東一丁目２番47号
株式会社クボタ内
Ｆターム(参考） 4D006 GA02 HA83 HA93 KA01 KA12
KA44 KA72 KB22 KB23 MA03
PA02 PB08 PC64
4D040 BB07 BB63 BB91 BB92 BB93
Claims (5)
- 【請求項１】 処理水槽の環状の水路を槽内混合液が好
気ゾーンと嫌気ゾーンにわたって循環し、好気ゾーンで
槽内混合液を好気性処理し、嫌気ゾーンで槽内混合液を
脱窒素処理するに際し、嫌気ゾーンの槽内混合液の流れ
方向の上流側に設けた流入部から前記嫌気ゾーンへ槽内
混合液を導入するとともに、原水供給系から新たな原水
を前記嫌気ゾーンへ導入し、前記流入部からの槽内混合
液の導入量を嫌気ゾーン内の槽内混合液の酸化還元電位
値に基づいて前記流入部に設けた流量制御手段を調整す
ることで制御し、酸化還元電位値が無酸素状態を示す設
定値よりも低下するのに追従して槽内混合液の導入量を
増加させ、酸化還元電位値が無酸素状態を示す設定値よ
りも上昇するのに追従して槽内混合液の導入量を減少さ
せて、嫌気ゾーンにおける無酸素状態を維持することを
特徴とするオキシデーションディッチ方法。 - 【請求項２】 処理水槽の槽内混合液が好気ゾーンと嫌
気ゾーンとにわたって循環する環状の水路と、前記水路
の好気ゾーン内に配置して槽内混合液を攪拌曝気すると
ともに槽内混合液に循環に要する推力を与える攪拌曝気
装置とを有し、前記好気ゾーンで槽内混合液を好気性処
理し、前記嫌気ゾーンで槽内混合液を脱窒素処理するオ
キシデーションディッチ装置であって、嫌気ゾーンの形
成位置における水路は、嫌気ゾーンの底板によって嫌気
ゾーンと槽内混合液が流れる流路とに仕切られ、嫌気ゾ
ーンは、槽内混合液の流れ方向の上流側に設けられた流
入部と下流側に設けられた流出部と新たな原水を導入す
る原水供給系とを有し、前記流入部は、嫌気ゾーンが無
酸素状態となる槽内滞留時間を維持するために必要な流
入量となる開口面積を有することを特徴とするオキシデ
ーションディッチ装置。 - 【請求項３】 流路は、槽内混合液の流れ方向の上流側
から下流側に向かって流路が狭くなるように形成されて
いることを特徴とする請求項２記載のオキシデーション
ディッチ装置。 - 【請求項４】 嫌気ゾーンは、槽内混合液の酸化還元電
位値を測定する酸化還元電位計と、流入部に設けられた
流量制御手段と、前記酸化還元電位計で測定した酸化還
元電位値に基づいて前記流量制御手段を調整して導入す
る槽内混合液の流量を制御する制御手段とを有し、前記
制御手段は、酸化還元電位値が無酸素状態を示す設定値
よりも低下するのに追従して槽内混合液の導入量を増加
させ、酸化還元電位値が無酸素状態を示す設定値よりも
上昇するのに追従して槽内混合液の導入量を減少させて
嫌気ゾーンにおける無酸素状態を維持することを特徴と
する請求項２または３記載のオキシデーションディッチ
装置。 - 【請求項５】 水路に連通して膜分離装置を設け、前記
膜分離装置は水路の好気ゾーン内の槽内混合液を膜分離
し、濃縮した槽内混合液を水路の嫌気ゾーンに返送し、
膜透過水を槽外へ取り出すことを特徴とする請求項２か
ら４までのいずれか１項に記載のオキシデーションディ
ッチ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002093426A JP2003285095A (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | オキシデーションディッチ方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002093426A JP2003285095A (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | オキシデーションディッチ方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003285095A true JP2003285095A (ja) | 2003-10-07 |
Family
ID=29237893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002093426A Pending JP2003285095A (ja) | 2002-03-29 | 2002-03-29 | オキシデーションディッチ方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003285095A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103964633A (zh) * | 2014-04-21 | 2014-08-06 | 河海大学 | 一体化高效生物反应器及其反应工艺 |
| CN113955854A (zh) * | 2021-11-26 | 2022-01-21 | 昆明理工大学 | 一种氧化沟污水处理工艺建模及智能控制方法 |
-
2002
- 2002-03-29 JP JP2002093426A patent/JP2003285095A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103964633A (zh) * | 2014-04-21 | 2014-08-06 | 河海大学 | 一体化高效生物反应器及其反应工艺 |
| CN113955854A (zh) * | 2021-11-26 | 2022-01-21 | 昆明理工大学 | 一种氧化沟污水处理工艺建模及智能控制方法 |
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