JP6689020B2
(ja )
2020-04-28
プラズマ処理装置
JP2008172168A5
(enrdf_load_stackoverflow )
2009-10-08
JP2006210726A5
(enrdf_load_stackoverflow )
2006-12-21
JP2010003958A
(ja )
2010-01-07
バッフル板及び基板処理装置
KR890017787A
(ko )
1989-12-18
에칭 장치 및 에칭방법
WO2016167233A1
(ja )
2016-10-20
基板保持機構、成膜装置、および基板の保持方法
JP2000331995A5
(enrdf_load_stackoverflow )
2006-10-12
JP2003283124A5
(enrdf_load_stackoverflow )
2005-09-15
JP2009280882A5
(enrdf_load_stackoverflow )
2010-12-16
JP2002319577A5
(ja )
2006-04-27
プラズマ処理装置用のプレート
CA2048470A1
(en )
1992-02-08
Plasma processing apparatus having an electrode enclosing the space between cathode and anode
JP2001093882A5
(enrdf_load_stackoverflow )
2005-11-04
JP5764789B2
(ja )
2015-08-19
プラズマcvd装置及び磁気記録媒体の製造方法
JP2004047653A5
(enrdf_load_stackoverflow )
2005-10-27
JP2013525611A5
(enrdf_load_stackoverflow )
2014-03-20
KR20120026248A
(ko )
2012-03-19
플라즈마 조사 장치
JP2003077903A5
(enrdf_load_stackoverflow )
2004-12-16
JPS5933250B2
(ja )
1984-08-14
コンデンサ型ガスプラズマ処理装置
JP2004124171A
(ja )
2004-04-22
プラズマ処理装置及び方法
JPH0469465U
(enrdf_load_stackoverflow )
1992-06-19
CN110677970B
(zh )
2023-08-01
基于混合型等离子体结构的平板式等离子体发生装置
TW200725729A
(en )
2007-07-01
Plasma etching system
JPH02294029A
(ja )
1990-12-05
ドライエッチング装置
JP6103919B2
(ja )
2017-03-29
高速原子ビーム源、常温接合装置および常温接合方法
JP2008266699A5
(enrdf_load_stackoverflow )
2009-05-21