JP2003277408A

JP2003277408A - 水溶性高分子の製造方法

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Publication number: JP2003277408A
Application number: JP2002086019A
Authority: JP
Inventors: Kazuyuki Hirata; 和之平田; Yumi Yamano; 由美山野
Original assignee: Hymo Corp
Current assignee: Hymo Corp
Priority date: 2002-03-26
Filing date: 2002-03-26
Publication date: 2003-10-02

Abstract

(57)【要約】【課題】低重合度水溶性高分子を高温度で重合した場
合の側鎖活性基の変性を抑制し、またエネルギー消費的
にも低くて済む低温度下、低濃度で重合する方法を提供
する。【解決手段】特定の水溶性単量体あるいは前記単水溶
性量体混合物を主体とする単量体の濃度を１０重量％以
下に保ち、１０℃以下の温度において、レドクッス系開
始剤を用いて重合体を合成することにより達成できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、水溶性高分子の製
造方法に関するものであり、詳しくは水溶性単量体を主
体とする一種以上の単量体総濃度を５質量％以下に保
ち、１０℃以下の温度において、レドクッス系開始剤を
用いて高分子を合成することからなる水溶性高分子の製
造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】水溶性高分子物質のうち、特に低重合度
高分子は各種印刷用紙の表面コーテイング剤、セメント
用添加剤、顔料分散剤、作動液、金属捕集剤あるいは洗
剤などのビルダーとして応用され、今後の展開が期待さ
れている。従来、低重合度高分子は、ビニル化合物の重
合あるいは重縮合反応によって合成されている。このう
ちビニル化合物の重合による方法は、連鎖移動剤や重合
開始剤を多量に共存させる、高温で重合するなどの方法
が採られていた。一方、重縮合系高分子は、重合度的に
は、低分子量のものしか生成しないが、イオン性の面か
らはカチオン性のものが生成しやすく、重合度やイオン
性など自由度は選択しにくい。従って、応用面を考慮す
るとビニル化合物の重合物が最も便利である。

【０００３】反応温度的に見ると、低重合度高分子は高
温で重合するという処方が常識的であったし、重合の理
論の一つにはかなっていた。高温で実施する根拠は、重
合開始剤の分解速度が速いこと、連鎖移動反応が加速さ
れることに基いている。その結果、重合度が低下する。
高温度で重合すると、側鎖の活性基の変性などが起き、
その後、目的と応用面に好ましくない場合もある。しか
し、低温下において低重合度高分子を合成する処方は、
まだ検討されていない。また、低濃度の単量体溶液を低
温下において重合するという組み合わせも検討されてい
ない。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高温
度で重合した場合の側鎖活性基の変性を抑制し、またエ
ネルギー消費的にも低くて済む低温度下、低濃度で重合
する方法を開発することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意検討を
重ねた結果、下記のような発明に到達した。すなわち本
発明の請求項１の発明は、下記一般式（１）〜（４）で
表される水溶性単量体から一つ以上選択される単量体あ
るいは単量体混合物を主体とする単量体の濃度を１０質
量％以下に保ち、１０℃以下の温度において、レドクッ
ス系開始剤を用いて重合することを特徴とする水溶性高
分子の製造方法に関する。

【化１】一般式（１）Ｒ１は水素、メチル基またはカルボキシメチル基、Ａは
ＳＯ３、Ｃ６Ｈ４ＳＯ３、ＣＯＮＨＣ（ＣＨ３）２ＣＨ
２ＳＯ３、Ｃ６Ｈ４ＣＯＯあるいはＣＯＯ、Ｒ２は水素
またはＣＯＯＹ２、Ｙ１あるいはＹ２は水素または陽イ
オン

【化２】一般式（２）Ｒ３は水素又はメチル基、Ｒ４、Ｒ５は炭素数１〜３の
アルキルあるいはアルコキシル基、Ｒ６は水素、炭素数
１〜３のアルキル基、アルコキシル基あるいはベンジル
基であり、同種でも異種でも良い、Ａは酸素またはＮ
Ｈ、Ｂは炭素数２〜４のアルキレン基またはアルコキシ
レン基を表わす、Ｘ１は陰イオンをそれぞれ表わす。

【化３】一般式（３）Ｒ７は水素又はメチル基、Ｒ８、Ｒ９は炭素数１〜３の
アルキル、アルコキシル基あるいはベンジル基であり、
Ｘ２は陰イオンをそれぞれ表わす。

【化４】Ｒ１０は、ＱはＮＨＣＯＲ１１、Ｒ１１は水素又は低級
アルキル基、ＣＯＡＢＲ１２、ＡはＮＨまたはＯ、Ｒ１
２は水素又は低級アルキル基を表す。一般式（４）

【０００６】請求項２の発明は、反応溶液中の前記単量
体の総濃度を１０質量％以下に保ちつつ、前記単量体の
必要量を数回に分割し反応溶液中に添加することを特徴
とする請求項１に記載の水溶性高分子の製造方法であ
る。

【０００７】請求項３の発明は、反応溶液中の前記単量
体の総濃度を１０質量％以下に保ちつつ、前記単量体の
必要量を連続的に反応溶液中に添加することを特徴とす
る請求項１に記載の水溶性高分子の製造方法である。

【０００８】請求項４の発明は、前記水溶性高分子が非
イオン性であることを特徴とする請求項１に記載の水溶
性重合体の製造方法である。

【０００９】請求項５の発明は、前記水溶性高分子がカ
チオン性あるいは両性であることを特徴とする請求項１
に記載の水溶性高分子の製造方法である。

【００１０】請求項６の発明は、前記水溶性高分子がア
ニオン性であることを特徴とする請求項１に記載の水溶
性高分子の製造方法である。

【００１１】請求項７の発明は、前記水溶性高分子の重
量平均分子量が、１０００〜２００，０００であること
を特徴とする請求項１に記載の水溶性高分子の製造方法
である。

【００１２】請求項８の発明は、前記水溶液中に連鎖移
動剤を共存させることを特徴とする請求項１に記載の水
溶性高分子の製造方法である。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明の水溶性高分子の製造方法
は、１０℃以下の低温度において、また１０質量％以下
の単量体の濃度において重合することに特徴がある。す
なわち高分子化合物の重合度を決めるのは、停止反応で
あるが、連鎖移動反応も重要な要因となる。つまり連鎖
移動反応が成長反応よりも速ければ事実上、重合反応は
起こらないか、少なくとも重合度は高くならない。その
ような例がアリル化合物の重合ありは共重合である。重
合度を高くしないようにするには、成長反応を相対的に
連鎖移動反応よりも低下させればよい。成長反応は、成
長ラジカル濃度と単量体濃度の積による。従ってそのた
めには、重合温度を低下させ開始剤の分解速度を低下さ
せることにより、結果的に成長ラジカル濃度を低下さ
せ、成長反応速度を低下させることができる。また、単
量体濃度との積であるから、単量体濃度を低く抑えるこ
とにより、成長反応速度をさらに低下することができ
る。

【００１４】本発明で使用する単量体は、水溶性単量
体、水溶性単量体混合物、又は一種以上の水溶性単量体
あるいは水溶性単量体混合物を主体とする単量体混合物
を原料とする。そのような単量体の例として、カチオン
性では、アクリル系あるいはジアリルアミン系がある。
具体的には、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル
やジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミドなど
の無機酸や有機酸の塩、あるいは塩化メチルや塩化ベン
ジルによる四級アンモニウム塩である。すなわち（メ
タ）アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウム
塩化物、（メタ）アクリロイルオキシ２−ヒドロキシプ
ロピルトリメチルアンモニウム塩化物、（メタ）アクリ
ロイルアミノプロピルトリメチルアンモニウム塩化物、
（メタ）アクリロイルオキシエチルジメチルベンジルア
ンモニウム塩化物、（メタ）アクリロイルオキシ２−ヒ
ドロキシプロピルジメチルベンジルアンモニウム塩化
物、（メタ）アクリロイルアミノプロピルジメチルベン
ジルアンモニウム塩化物などがあげられる。ジアリルア
ミン系では、メチルジアリルアミンの有機酸・無機酸の
塩、ジメチルジアリルアンモニウム塩化物重合体、メチ
ルベンジルアリルアンモニウム塩化物重合体などであ
る。

【００１５】アニオン性単量体の例としては、（メタ）
アクリル酸、マレイン酸、イタコン酸、アクリルアミド
２−メチルプロパンスルホン酸（塩）やスチレンスルホ
ン酸（塩）、ビニルスルフォン酸などである。また非イ
オン性単量体の例は、アクリルアミド、Ｎ−ビニルホル
ムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルピロリ
ドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、ジアセトンア
クリルアミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
−トのなどが挙げられる。

【００１６】また、生成重合体が水溶性を保つ程度に、
上記水溶性単量体に水に微溶解性あるいは非溶解性の単
量体を共重合することもできる。そのような単量体の例
として、アクリロニトリル、スチレン、アクリル酸メチ
ル、メタクリル酸メチルあるいはアクリル酸オクチルな
どがあげられる。また適宜、適当な連鎖移動剤を添加す
ることや、あるいは複数のビニル基を有する単量体を共
重合することもできる。

【００１７】本発明で使用する重合開始剤は、低温用ア
ゾ系開始剤として２、２’−アゾビス〔２−（５−メチ
ル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン〕二塩化水
素化物や、４，４−アゾビス４−メトキシル２，４ジメ
チルバレロニトリルなど使用することもできるが、低温
で重合するためレドクッス系開始剤が好ましい。そのよ
うな例の酸化剤としては、ペルオクソ二硫酸アンモニウ
ム、ペルオクソ二硫酸カリウムあるいは過酸化水素など
が挙げられ、還元剤としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸水素ナトリウム、トリメチルアミン、テトラメチルエ
チレンジアミンなどがあり、これらの組み合わせを使用
する。好ましい組み合わせとしては、ペルオクソ二硫酸
アンモニウムあるいはペルオクソ二硫酸カリウムと亜硫
酸水素ナトリウムである。

【００１８】重合濃度は、前記一般式（１）〜（４）で
表される水溶性単量体から一つ以上選択される単量体あ
るいは単量体混合物を主体とする単量体の濃度を１０質
量％以下にして行なう。また、特に１０，０００以下な
ど低分子量を重合する場合は５質量％以下で行なうと良
い。１０％以上であると、成長反応が相対的に速くな
り、低重合度高分子が生成しにくい。従って好ましくは
２〜１０質量％であり、更に好ましくは４〜１０質量％
である。

【００１９】本発明の重合方法は、低濃度で重合するた
め生成した溶液濃度中の重合体濃度は低く、実用的では
ない。そのため重合反応自体は１０質量％以下で行なう
が、供給した単量体が重合した後、更に単量体を追加し
て重合を行なうことを繰りかえせば最終的に濃度の高い
製品を製造することができる。この追加する単量体の供
給は、二つの方法がある。一つには必要量の単量体を数
回に分割して供給する方法と、必要量の単量体を連続的
に重合装置の中に供給していく方法である。いずれの場
合も重合中の単量体の濃度は、１０質量％以下に保ち反
応を行う。

【００２０】重合温度は、１０℃以下で行なう。１０℃
より高いと、重合開始剤の分解速度が速くなり、その結
果成長ラジカル濃度が上がり、やはり成長反応が相対的
に速くなり、低重合度高分子が生成しにくくなる。ま
た、あまり低いと反応が遅くなり効率的ではない。従っ
て−５〜１０℃であり、好ましくは０〜１０℃である。

【００２１】本発明の水溶性重合体の製造方法により生
成する高分子は、非イオン性、カチオン性、アニオン性
あるいは両性のいずれでも製造可能である。分子量は１
０００〜２００，０００である。この範囲の水溶性高分
子は、低重合度高分子を使用した種々の用途に応用可能
であり、最も工業的に有用である。重合度は、重合時の
単量体濃度や、重合開始剤添加量、重合温度、また適宜
共存させる連鎖移動剤の種類あるいは添加量によって調
節することができる。

【００２２】重合は水溶液中で行なうので、カチオン性
高分子や両性高分子を合成する場合は、水溶液のｐＨを
通常２〜６に調節して行なう。すなわち、一級〜三級ア
ミノ基含有単量体を重合あるいは共重合する場合は、酸
で中和後、上記ｐＨに調節する。四級アンモニウム塩基
含有単量体の場合は、通常弱酸性側に保たれているの
で、酸で上記ｐＨに調節する。アニオン性単量体の場合
は、アルカリ物質で中和後、アルカリから弱酸性側に調
節し重合する。

【００２３】本発明で合成した低分子量水溶性高分子
は、古紙や機械パルプの配合量が高い製紙原料の前処理
剤として、インクジェット印刷用紙の表面処理剤とし
て、分散重合用の分散剤として、無機凝結剤の代替とし
て汚泥脱水や排水処理への応用、エマルジョン製品の安
定剤、洗剤用その他のビルダー、重合中あるいは重合後
反応性基付与し、反応性低分子ポリマーの原料として用
い各種コーテイング剤などに応用が期待できる。

【００２４】

【実施例】以下、実施例および比較例によって本発明を
さらに詳しく説明するが、本発明はその要旨を超えない
限り、以下の実施例に制約されるものではない。

【００２５】

【実施例１】温度計、攪拌機、窒素導入管、ペリスタポ
ンプ（ＳＭＰ−２１型、東京理化器械製）に接続した単
量体供給管およびコンデンサ−を備えた５００mＬの４
ツ口フラスコ内にイオン交換水１３５．０ｇ、アクリロ
イルオキシエチルトリメチルアンモニウム塩化物の８０
％水溶液を６．９ｇ、アクリルアミド５０％水溶液４．
０ｇを仕込み、水溶液ｐＨを４．２に調節した。この時
の単量体濃度として５％である。反応器内の温度を７〜
９℃に保ち、３０分間窒素置換をした後、開始剤とし
て、ペルオキソニ硫酸アンモニウム２．０％水溶液０．
７ｇ（対単量体０．２％）、亜硫酸水素ナトリウム２．
０％水溶液０．７ｇ（対単量体０．２％）をそれぞれ添
加し、重合を開始させた。重合開始３時間後、液体クロ
マトグラフィーにより重合率を測定すると、９７．５％
であった。この後、同じモル比の単量体溶液を、単量体
濃度として５％となるように５０％水溶液を１６．７ｇ
に前記レドクッス開始剤溶液を同様な比率で加えた溶液
を反応器に仕込んだ。反応器内の温度を７〜９℃に保
ち、窒素気流中重合を継続した。単量体溶液追加３時間
後、同様な操作で反応率を測定すると、９８．０％であ
った。更に５０％溶液を２６．２ｇと前記レドクッス開
始剤溶液を同様な比率で加えた溶液を反応器に仕込ん
だ。この時の単量体濃度は６．８％である。単量体溶液
追加３時間後、同様な操作で反応率を測定すると、９
８．１％であった。また更に５０％溶液を３１．６ｇと
前記レドクッス開始剤溶液を同様な比率で加えた溶液を
反応器に仕込んだ。仕込み後の単量体濃度は７．０％で
ある。仕込み後、１０時間反応させ終了した。反応率を
測定すると９８．２％であった。また、静的光散乱法に
より（大塚電子製ＤＬＳ−７０００）重量平均分子量を
測定すると９,０００であった。結果を表１に示す。

【００２６】

【実施例２】温度計、攪拌機、窒素導入管、ペリスタポ
ンプ（ＳＭＰ−２１型、東京理化器械製）に接続した単
量体供給管およびコンデンサ−を備えた５００mＬの４
ツ口フラスコ内にイオン交換水１２０．０ｇ、アクリル
酸の６０％水溶液を４．０ｇ、アクリルアミド５０％水
溶液１９．２ｇを仕込み、水酸化ナトリウム３０％水溶
液４．０ｇにより中和しｐＨを６．８に調節した。単量
体モル比はアクリル酸２０モル％、アクリルアミド８０
％であり、単量体濃度として８％である。反応器内の温
度を７〜９℃に保ち、３０分間窒素置換をした後、開始
剤として、ペルオキソニ硫酸アンモニウム２．０％水溶
液０．６ｇ（対単量体０．１％）、亜硫酸水素ナトリウ
ム２．０％水溶液０．６ｇ（対単量体０．１％）をそれ
ぞれ添加し、重合を開始させた。重合開始２時間後、液
体クロマトグラフィーにより重合率を測定すると、９
８．０％であった。この後、同じモル比の単量体溶液、
単量体濃度として８％となるように５０％水溶液を２
８．６ｇに前記レドクッス開始剤溶液０．６ｇづつ加え
た溶液を反応器に仕込んだ。同様に反応器内の温度を７
〜９℃に保ち、窒素気流中重合を継続した。単量体溶液
追加３時間後、同様な操作で反応率を測定すると、９
８．６％であった。更に５０％溶液を３１．４ｇと前記
レドクッス開始剤溶液を同様な比率で加えた溶液を反応
器に仕込んだ。この時の単量体濃度は７．５％である。
単量体溶液追加３時間後、同様な操作で反応率を測定す
ると、９７．８％であった。また更に５０％溶液を４
２．０ｇと前記レドクッス開始剤溶液を同様な比率で加
えた溶液を反応器に仕込んだ。仕込み後の単量体濃度は
８．３％である。仕込み後、１０時間反応させ終了し
た。反応率を測定すると９９．０％であった。静的光散
乱法により（大塚電子製ＤＬＳ−７０００）重量平均分
子量を測定すると１５，０００であった。結果を表１に
示す。

【００２７】

【実施例３〜４】実施例１〜２と同様な操作により、非
イオン性水溶性高分子及び両性水溶性高分子を重合し
た。結果を表１に示す。

【００２８】

【比較例１】温度計、攪拌機、窒素導入管、ペリスタポ
ンプ（ＳＭＰ−２１型、東京理化器械製）に接続した単
量体供給管およびコンデンサ−を備えた５００mＬの４
ツ口フラスコ内にイオン交換水１３５．０ｇ、アクリロ
イルオキシエチルトリメチルアンモニウム塩化物の８０
％水溶液を６．９ｇ、アクリルアミド５０％水溶液４．
０ｇを仕込み、水溶液ｐＨを４．２に調節した。この時
の単量体濃度として５％である。反応器内の温度を１８
〜２０℃に保ち、３０分間窒素置換をした後、開始剤と
して、ペルオキソニ硫酸アンモニウム２．０％水溶液
０．７ｇ（対単量体０．２％）、亜硫酸水素ナトリウム
２．０％水溶液０．７ｇ（対単量体０．２％）をそれぞ
れ添加し、重合を開始させた。重合開始３時間後、液体
クロマトグラフィーにより重合率を測定すると、９９．
２％であった。この後、同じモル比の単量体溶液を、単
量体濃度として５％となるように５０％水溶液を１６．
７ｇに前記レドクッス開始剤溶液を同様な比率で加えた
溶液を反応器に仕込んだ。反応器内の温度を１８〜２０
℃に保ち、窒素気流中重合を継続した。単量体溶液追加
３時間後、同様な操作で反応率を測定すると、９８．７
％であった。更に５０％溶液を２６．２ｇと前記レドク
ッス開始剤溶液を同様な比率で加えた溶液を反応器に仕
込んだ。この時の単量体濃度は６．８％である。単量体
溶液追加３時間後、同様な操作で反応率を測定すると、
９８．１％であった。また更に５０％溶液を３１．６ｇ
と前記レドクッス開始剤溶液を同様な比率で加えた溶液
を反応器に仕込んだ。仕込み後の単量体濃度は７．０％
である。仕込み後、１０時間反応させ終了した。反応率
を測定すると９９．０％であった。また、静的光散乱法
により（大塚電子製ＤＬＳ−７０００）重量平均分子量
を測定すると３５０,０００であった。結果を表１に示
す。

【００２９】

【比較例２】温度計、攪拌機、窒素導入管、ペリスタポ
ンプ（ＳＭＰ−２１型、東京理化器械製）に接続した単
量体供給管およびコンデンサ−を備えた５００mＬの４
ツ口フラスコ内にイオン交換水１１１．０ｇ、アクリロ
イルオキシエチルトリメチルアンモニウム塩化物の８０
％水溶液を２０．７ｇ、アクリルアミド５０％水溶液１
２．０ｇを仕込み、水溶液ｐＨを４．２に調節した。こ
の時の単量体濃度として１５％である。反応器内の温度
を７〜９℃に保ち、３０分間窒素置換をした後、開始剤
として、ペルオキソニ硫酸アンモニウム２．０％水溶液
２．１ｇ（対単量体０．２％）、亜硫酸水素ナトリウム
２．０％水溶液２．１ｇ（対単量体０．２％）をそれぞ
れ添加し、重合を開始させた。重合温度は一次的に２１
℃まで上昇したが、ほぼ７〜９℃に保った。重合開始３
時間後、液体クロマトグラフィーにより重合率を測定す
ると、９９．５％であった。この後、同じモル比の単量
体溶液を、単量体濃度として１５％となるように５０％
水溶液を６４．３ｇに前記レドクッス開始剤溶液を同様
な比率で加えた溶液を反応器に仕込んだ。反応器内の温
度を７〜９℃に保ち、窒素気流中重合を継続した。単量
体溶液追加３時間後、同様な操作で反応率を測定する
と、９８．０％であった。静的光散乱法により（大塚電
子製ＤＬＳ−７０００）重量平均分子量を測定すると６
００，０００であった。結果を表１に示す。

【００３０】

【比較例３〜４】比較例１〜と同様な操作により、アニ
オン性水溶性高分子を、重合温度を１８〜２０℃に設定
した場合と単量体濃度を１５％において重合した場合と
の試験を行なった。結果を表１に示す。

【００３１】

【表１】ＡＡＭ：アクリルアミド、ＡＡＣ：アクリル酸、ＤＭＱ：アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニ
ウム塩化物単量体濃度：質量％、

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｃ０８Ｆ 22/02 Ｃ０８Ｆ 22/02 26/02 26/02 28/02 28/02 Ｆターム(参考） 4J011 AA01 AA05 AB02 BB18 HA02 NC07 4J015 CA03 CA15 4J100 AB07P AJ02P AJ08P AJ09P AL08P AM15P AM19P AM21P AN00P AN05P AN14P AQ08P BA03P BA13P BA14P BA31P BA32P BA56P BC43P DA01 DA38 FA04 FA08 FA19 FA28 FA30

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記一般式（１）〜（４）で表される水
溶性単量体から一つ以上選択される単量体あるいは単量
体混合物を主体とする単量体の濃度を１０質量％以下に
保ち、１０℃以下の温度において、レドクッス系開始剤
を用いて重合することを特徴とする水溶性高分子の製造
方法。【化１】一般式（１）Ｒ１は水素、メチル基またはカルボキシメチル基、Ａは
ＳＯ３、Ｃ６Ｈ４ＳＯ３、ＣＯＮＨＣ（ＣＨ３）２ＣＨ
２ＳＯ３、Ｃ６Ｈ４ＣＯＯあるいはＣＯＯ、Ｒ２は水素
またはＣＯＯＹ２、Ｙ１あるいはＹ２は水素または陽イ
オン【化２】一般式（２）Ｒ３は水素又はメチル基、Ｒ４、Ｒ５は炭素数１〜３の
アルキルあるいはアルコキシル基、Ｒ６は水素、炭素数
１〜３のアルキル基、アルコキシル基あるいはベンジル
基であり、同種でも異種でも良い、Ａは酸素またはＮ
Ｈ、Ｂは炭素数２〜４のアルキレン基またはアルコキシ
レン基を表わす、Ｘ１は陰イオンをそれぞれ表わす。【化３】一般式（３）Ｒ７は水素又はメチル基、Ｒ８、Ｒ９は炭素数１〜３の
アルキル、アルコキシル基あるいはベンジル基であり、
Ｘ２は陰イオンをそれぞれ表わす。【化４】Ｒ１０は、ＱはＮＨＣＯＲ１１、Ｒ１１は水素又は低級
アルキル基、ＣＯＡＢＲ１２、ＡはＮＨまたはＯ、Ｒ１
２は水素又は低級アルキル基を表す。一般式（４）
【請求項２】反応溶液中における前記単量体の総濃度
を１０質量％以下に保ちつつ、前記単量体の必要量を数
回に分割し反応溶液中に添加することを特徴とする請求
項１に記載の水溶性高分子の製造方法。
【請求項３】反応溶液中における前記単量体の総濃度
を１０質量％以下に保ちつつ、前記単量体の必要量を連
続的に反応溶液中に添加することを特徴とする請求項１
に記載の水溶性高分子の製造方法。
【請求項４】前記水溶性高分子が非イオン性であるこ
とを特徴とする請求項１に記載の水溶性高分子の製造方
法。
【請求項５】前記水溶性高分子がカチオン性あるいは
両性であることを特徴とする請求項１に記載の水溶性高
分子の製造方法。
【請求項６】前記水溶性高分子がアニオン性であるこ
とを特徴とする請求項１に記載の水溶性高分子の製造方
法。
【請求項７】前記水溶性高分子の重量平均分子量が、
１０００〜２００，０００であることを特徴とする請求
項１に記載の水溶性高分子の製造方法。
【請求項８】前記水溶液中に連鎖移動剤を共存させる
ことを特徴とする請求項１に記載の水溶性高分子の製造
方法。