JP2003270795A

JP2003270795A - 露光システム、及び該露光システムを応用した液晶パネルのカラーフィルタ形成方法。

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Publication number: JP2003270795A
Application number: JP2002067133A
Authority: JP
Inventors: Shunta O; 俊太王; Keiryu Cho; 景隆丁
Original assignee: Chi Mei Electronics Corp
Current assignee: Chi Mei Optoelectronics Corp
Priority date: 2002-03-12
Filing date: 2002-03-12
Publication date: 2003-09-25
Anticipated expiration: 2022-03-12
Also published as: JP4503212B2

Abstract

(57)【要約】【課題】フォトマスクのサイズを効率よく縮小して製
造コストを低減することのできる露光システムと、該露
光システムを応用した液晶パネルのカラーフィルタ形成
方法を提供する。【解決方法】特定の波長の光線を照射するための光源
と、該光源の下方に設けられ、所定のパターンを有する
フォトマスクと、該フォトマスクの所定のパターンを該
基板上の異なる露光領域に移転させるために該基板を載
置して移動させるベース・ステージとによって露光シス
テムを構成し、該フォトマスクの所定のパターンを該基
板上の複数の液晶パネルの一に移転する場合、該ベース
・ステージが該基板を該フォトマスクに対応するように
移動させ、該基板上の異なる位置の露光領域に当たるそ
れぞれの液晶パネルに該フォトマスクのパターンを移転
する。また、該所定のパターンは複数の規則的に配列さ
れたスリットを具える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は露光システムに関
し、特に液晶表示パネルのカラーフィルタを形成するた
めの露光システムと、その形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】薄膜トランジスタフラットパネル表示装
置の内、特に薄膜トランジスタ液晶表示装置（以下ＴＦ
Ｔ−ＬＣＤと称する）は、矩形状に配列した薄膜トラン
ジスタに、適宜なコンデンサ、コネクタパッドなどの電
子素子を併合させて液晶が祖を駆動するものであって、
色彩が鮮やかで豊富なパターンを表示することができ
る。ＴＦＴ−ＬＣＤは外観が薄く、消費電力が少なく、
輻射汚染がないなどの特性を具えるため、例えばノート
ブックタイプのコンピュータ、もしくはパーソナル・デ
ジィタル・アシスト（ＰＤＡ）などのモバイルタイプの
情報産業製品に応用される以外に。デスクトップタイプ
のコンピュータについても、従来のＣＲＴモニターに取
って代わろうとする趨勢にある。

【０００３】従来のＴＦＴ−ＬＣＤは、下部基板と、該
下部基板上にアレイを配列して形成する薄膜トランジス
タと、画素電極と、互いに交差する走査線と、データ信
号線と、該下部基板上に設けられ、カラーフィルタを具
える上部基板と、該上部基板と下部基板の間に充填され
る液晶材料とによってなる。該上部基板と下部基板と、
いずれも透明ガラスによってなる。また、ＴＦＴ−ＬＣ
Ｄに使用される素子の内、カラーフィルタのコストは全
体の約三分の一を占める。一般にカラーフィルタは、下
部基盤にネガタイプのフォトレジスト材料を塗布し、露
光、現像の工程を経て作成される。

【０００４】但し、現在使用されているフォトマスクは
サイズが大きすぎるため、フォトマスクの作成にかなり
のコストを掛けなければならない。しかも、ＴＦＴ−Ｌ
ＣＤの市場競争がますます熾烈になっており、どのメー
カーも製造コストを低減して、低価格でユーザーを獲得
することを課題として、全力を挙げて研究を重ねてい
る。ここにおいて、フォトマスクのサイズを縮小するこ
とは、コスト低減の一つの方法となっている。

【０００５】図１、２に従来の方法による液晶パネルの
露光システムを開示する。図１は従来の液晶パネルのカ
ラーフィルタを形成する露光システムであって、図２は
従来の方法によって作成される液晶パネルの溝膜トラン
ジスタ基板露光システムである。図１に開示するよう
に、露光システム１０は固定的な光源１２と、光源１２
の下方に設けられるフォトマスク１４と、フォトマスク
１４の下方に設けられる基板１６とを含んでなり、フォ
トマスク１４と基板１６とは、サイズがほぼ同等であ
る。基板１６はガラス基板であって、その上面にブラッ
クマトリックス（図示せず）を形成して、液晶表示装置
のコントラストを高め、薄膜トランジスタ素子の遺漏電
流の発生を防ぎ、液晶表示装置の斜めの遺漏光線を防
ぐ。また、基板１６上にはネガタイプのフォトレジスト
層を塗布してブラックマトリクスを被覆する。該ネガタ
イプのフォトレジストによってカラーフィルタの赤／緑
／青色層（以下Ｒ／Ｇ／Ｂ色層と称する）を形成する。

【０００６】次いで、フォトマスク１４上の所定のパタ
ーンを基板１６に移転させるための露光の工程を行う。
次に、現像の工程を行い、光源に照射されていないフォ
トレジスト層を除去し、さらに該露光と現像の工程を複
数回繰り返してカラーフィルタ上のＲ／Ｇ／Ｂ色層を基
板１６上に形成する。

【０００７】上述の工程において、光源１４と基板１６
は固定されて動かない。このため光源１２がフォトマス
ク１４全体を長時間に、かつ全面的に照射してフォトマ
スク１４上の所定パターンが完全に基板１６上の長タイ
プのフォトレジスト層に移転される。この露光の工程近
接式（proximity）露光技術であって、フォトマスク１
４と基板１６との間の距離ｇは約１００〜２００μmで
ある。

【０００８】図２に開示する露光システム２０は、固定
的な光源２２と、光源２２の下方に設けられるフォトマ
スク２４と、フォトマスク２４の下方に設けられる基板
２６とを含んでなり、フォトマスク２４のサイズは基板
の約四分の一である。また、フォトマスク２４と基板２
６との間にはオプティカルシステム２８を設けて、フォ
トマスク２４を通過する光線を基板２６上に照射させ
る。前述と同様に基板２６はガラス基板であって、その
表面には実際の必要に応じてネガタイプのフォトレジス
タ層か、もしくはポジタイプのフォトレジスト層を塗布
する、基板２６は４つの液晶パネルのガラス基板を含
む。

【０００９】その工程は、先ず露光の工程を行う。即
ち、フォトマスク２４を基板２６上の一露光領域である
２６ａ上に位置させて、一定の速度で同時にフォトマス
ク２４と基板２６を移動させて、フォトマスク２４上の
所定のパターンを基板２６上の露光領域２６に移転させ
る。露光領域２６ａに対する露光が完了した後、基板２
６とフォトマスク２４を移動して露光領域２６ｂに合わ
せて、同様の露光の工程を繰り返し、さらに光源２２に
よって照射されていないフォトレジスト層を除去する。

【００１０】ＴＦＴ−ＬＣＤの製造工程において、移転
される所定のパターンの解像度に対する要求は、半導体
の製造工程に比して高くはない。よって、上述の二種類
の技術はカラーフィルタの作成に広く応用されている。

【００１１】但し、基板１６と基板２６のサイズは約６
２０ｍｍ×７５０ｍｍであって、必要とされるフォトマ
スクの費用は相対的に高いものとなる。よって、フォト
マスクのサイズを効率よく縮小することができれば、Ｔ
ＦＴ−ＬＣＤの製造コストを大幅に低減することができ
る。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、フォトマス
クのサイズを効率よく縮小して製造コストを低減するこ
とのできる露光システムを提供することを課題とする。

【００１３】また、本発明は、さらに前記フォトマスク
のサイズを縮小した露光システムを利用して行う液晶パ
ネルのカラーフィルタ形成方法であって、製造コストを
低減し、製品の市場における競争力を高めることのでき
る液晶パネルのカラーフィルタ形成方法を提供すること
を課題とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】そこで、本発明者は従来
の技術に見られる欠点に鑑み鋭意研究を重ね、光源と、
液晶パネルとなる複数の露光領域を有する基板と、所定
のパターンを具えるフォトマスクと、該基板を載置して
移動させるベース・ステージとによって露光システムを
構成して前記課題を解決することに着目し、かかる見地
に基づいて本発明の完成に至った。

【００１５】即ち、該光源とフォトマスクとの間にビー
ムフォーミング・オプティカルシステムを設けて該フォ
トマスク上に円弧線を描く被照射領域（もしくは矩形の
被照射領域）を形成するとともに、該フォトマスクには
複数のスリットを配列し、該基板を載置したベース・ス
テージを移動させて該基板をフォトマスクに対応するよ
うに移動し、該基板上の異なる位置の露光領域に当たる
それぞれの液晶パネルにフォトマスクの所定のパターン
を移転する。

【００１６】請求項１に記載する露光システムは、一基
板に露光を行い、複数の液晶パネルのカラーフィルタを
形成するステップ式の露光システムであって、特定の波
長の光線を照射するための光源と、該光源の下方に設け
られ、所定のパターンを有するフォトマスクと、該フォ
トマスクの所定のパターンを該基板上の異なる露光領域
に移転させるために、該基板を載置して移動させるベー
ス・ステージとを含んでなり、該フォトマスクの所定の
パターンを該基板の複数の液晶パネルの一に移転する場
合、該ベース・ステージが該基板を該フォトマスクに対
応するように移動させ、該基板上の異なる位置の露光領
域に当たるそれぞれの液晶パネルに該フォトマスクのパ
ターンを移転する。

【００１７】請求項２に記載する露光システムは、請求
項１におけるフォトマスクに形成される所定のパターン
が、複数の規則的に配列されたスリットを具える。

【００１８】請求項３に記載する露光システムは、請求
項１における記光源が該フォトマスク上に円弧線を描く
弓形の被照射領域を形成し、該被照射領域は、該基板の
移動方向に直交する線上の左右両端の距離が、該フォト
マスクの長さとほぼ同等である。

【００１９】請求項４に記載する露光システムは、請求
項１における光源が該フォトマスク上に円弧線を描く弓
形の被照射領域を形成し、該被照射領域は、該基板の移
動方向に平行する線上の前後両端の距離が、該フォトマ
スクの幅とほぼ同等である。

【００２０】請求項５に記載する露光システムは、請求
項１における光源が該フォトマスク上に矩形の被照射領
域を形成し、該被照射領域は、該基板の移動方向に直交
する線上の左右両端の距離が、該フォトマスクの長さと
ほぼ同等である。

【００２１】請求項６に記載する露光システムは、請求
項１における光源が該フォトマスク上に矩形の被照射領
域を形成し、該被照射領域は、該基板の移動方向に平行
する線上の前後両端の距離が、該フォトマスクの幅とほ
ぼ同等である。

【００２２】請求項７に記載する露光システムは、請求
項１における基板が、さらにネガタイプのフォトレジス
タ層を含む。

【００２３】請求項８に記載する露光システムは、請求
項１におけるフォトレスト層が赤色フォトレジストと、
緑色ファとレジストと、青色フォトレジストである。

【００２４】請求項９に記載する液晶パネルのカラーフ
ィルタを形成する方法は、ステップ式の露光システムを
利用して複数の液晶パネルのカラーフィルタを形成する
方法であって、特定の波長の光線を照射する光源を設
け、所定のパターンを有するフォトマスクを該光源の下
方に設け、少なくとも１以上の露光領域を具え、かつ該
露光領域が複数の液晶パネルの一となる基板を設け、該
基板を移動させるベース・ステージを設け、露光を行
い、該露光領域を露光する工程を含んでなり、該露光領
域を露光する場合、該ベース・ステージが該フォトマス
クに対応して該基板を移動させて、該フォトマスクに形
成した所定のパターンを該基板の異なる位置の露光領域
にそれぞれ移転する。

【００２５】請求項１０に記載する液晶パネルのカラー
フィルタ形成方法は、請求項９におけるフォトマスクに
形成される所定のパターンは複数の規則的に配列された
スリットを具える。

【００２６】請求項１１に記載する液晶パネルのカラー
フィルタ形成方法は、請求項９における光源が該フォト
マスク上に円弧線を描く弓形の被照射領域を形成し、該
被照射領域は、該基板の移動方向に直交する線上の左右
両端の距離が、該フォトマスクの長さとほぼ同等であ
る。

【００２７】請求項１２に記載する液晶パネルのカラー
フィルタ形成方法は、請求９における光源が該フォトマ
スク上に円弧線を描く弓形の被照射領域を形成し、該被
照射領域は、該基板の移動方向に平行する線上の前後両
端の距離が、該フォトマスクの幅とほぼ同等である。

【００２８】請求項１３に記載する液晶パネルのカラー
フィルタ形成方法は、請求項９における光源が該フォト
マスク上に矩形の被照射領域を形成し、該被照射領域
は、該基板の移動方向に直交する線上の左右両端の距離
が、該フォトマスクの長さとほぼ同等である。

【００２９】請求項１４に記載する液晶パネルのカラー
フィルタ形成方法は、請求項９における光源が該フォト
マスク上に矩形の被照射領域を形成し、該被照射領域
は、該基板の移動方向に平行する線上の前後両端の距離
が、該フォトマスクの幅とほぼ同等である。

【００３０】請求項１５に記載する液晶パネルのカラー
フィルタ形成方法は、請求項９における記基板が、さら
にネガタイプのフォトレジスタ層を含む。

【００３１】請求項１６に記載する液晶パネルのカラー
フィルタ形成方法は、請求項９におけるフォトレスト層
が赤色フォトレジストと、緑色フォトレジストと、青色
フォトレジストである。

【００３２】

【発明の実施の形態】本発明は、フォトマスクのコスト
を大幅に低減できる露光システムと、該露光システムを
応用した液晶パネルのカラーフィルタの形成方法に関
し、光源と、液晶パネルとなる複数の露光領域を有する
基板と、所定のパターンを具え、かつ複数のスリットを
配列したフォトマスクと、該基板を載置して移動させる
ベース・ステージとによって露光システムを構成する。

【００３３】かかる露光システムの構造と特徴、及び液
晶カラーフィルタの形成方法の特徴を詳述するために、
具体的な実施例を挙げ、図示に基づいて以下に説明す
る。

【００３４】

【実施例】図３に、本発明による露光システムの好まし
い実施例を開示する。図示によれば、露光システム３０
は特定の波長の光線を照射する光源３１と、光源３１の
下方に設けられるフォトマスク３２と、該フォトマスク
上に形成され、円弧線を描く弓形の被照射領域３３と、
フォトマスク３２の下方に設けられるオプティカルシス
テム３４とを含んでなり、フォトマスク３２には複数の
スリット３２ａを規則的に配列して形成する。オプティ
カルシステム３４は、台形ミラー３４ａと、凹面鏡３４
ｂと、該台形ミラーと凹面鏡３４ｂとの間に設けられる
凸面鏡３４ｃとによってなる。

【００３５】また、露光システム３０は、さらにベース
・ステージ３５とベース・ステージ３５上に載置される
基板３６とを含み、ベース・ステージ３６によって基板
３６を載置して移動させて、逐一所定のパターンを移転
するステップ式の露光システムを構成する。

【００３６】また、光源３１とフォトマスク３２との間
には、光源３１の照射する光線を弓形光束３３ａに転換
してフォトマスク３２上の被照射領域３２に投射するた
めのビームフォーミング・オプティカルシステム（図示
せず）を設ける。

【００３７】被照射領域３２は、基板３６の移動方向に
直交する線上の左右両端の距離を該フォトマスク３２の
長さとほぼ同等にし、基板３６の移動方向に平行する線
上の前後両端の距離をフォトマスク３２の幅とほぼ同等
にする。

【００３８】本実施例の他の形態として、ビームフォー
ミング・オプティカルシステム（図示せず）が、光源３
１の照射する光線を矩形束に転換してもよい。この場
合、該矩形の被照射領域は、基板３６の移動方向に直交
する線上の左右両端の距離をフォトマスク３２の長さと
ほぼ同等にし、基板３６の移動方向に平行する線上の前
後両端の距離をフォトマスク３６の幅とほぼ同等にす
る。

【００３９】露光の工程を行う場合、光源３１とフォト
マスク３２のいずれもが固定されて動かないようにし、
ベース・ステージ３５の移動によって該ベース・ステー
ジ上の基板３６を移動させて、フォトマスク３２上のパ
ターンを基板３８上に逐一移転させる。

【００４０】以下に、本発明による露光システムによっ
て行う露光の工程を説明する。

【００４１】図４に、図３におけるステップ式の露光シ
ステムの表示を簡略化し、拡大した説明図を開示する。
図示によれば、基板３６上には４面の液晶パネルに当た
る露光領域３６ａ、３６ｂ、３６ｃ、３６ｄを設け、そ
の表面にはブラックマトリクス（図示せず）を形成し、
かつネガタイプのフォトレジストを塗布する。

【００４２】先ず、露光の工程を行う。先にベース・ス
テージ３５によって基板３６を移動し、基板３６上の露
光領域３６ａをフォトマスク３２及び被照射領域３３下
方の適宜な位置に移動させる。次いで、ベース・ステー
ジ３５を所定の速度で図示の矢印Ａの方向に移動させて
フォトマスク３２上の所定のパターンを露光領域３６ａ
上のネガタイプのフォトレジスト層に移転する。フォト
マスク３２上の所定のパターンとネガタイプのフォトレ
ジスト層上に移転したパターンの大きさの比例は一対一
である。

【００４３】露光領域３６ａの露光が完了した後、基板
３６をさらに矢印Ａの方向に移動させて、フォトマスク
３２上の所定のパターンを露光領域３６ｂ上のネガタイ
プのフォトレスト層に移転する。

【００４４】露光領域３５ａ、３６ａの露光が完了した
後、基板３６を移動して、基板３６上の露光領域３６ｃ
をフォトマスク３２及び被照射領域３３の下方の適宜な
位置に移動させて、フォトマスク３２上の所定のパター
ンを露光領域３６ｃ及び３６ｄ上のネガタイプのフォト
レジスト層に移転する。

【００４５】次いで、基板３６を矢印Ａの方向に移動し
て露光領域３６ｃ、３６ｄ上のネガタイプのフォトレジ
スト層に所定のパターンを移転させる。

【００４６】露光領域３６ａ、３６ｂ、３６ｃ、３６ｄ
を露光する順序は、必ずしも上述の順でなければならい
ことはなく、適宜に変更してもよい。即ち、本発明露光
の工程は、ベース・ステージ３５によって基板３６を移
動して露光の工程を行うことを主な特徴とする。

【００４７】図示において、フォトマスク３２の幅をＷ
で、長さをＬでそれぞれ表示する。また、被露光領域の
幅をＷ’で、長さをＬ’でそれぞれ表示する。さらに、
基板３６の幅をＷ”で、長さをＬ”で、開口の幅をｔで
それぞれ表示する。以上のサイズに関して、本実施例に
おける好ましい数値を挙げると、フォトマスクは幅Ｗが
約１５０ｍｍ、長さＬが約３９０ｍｍであって、被露光
領域は幅Ｗ’が約９５ｍｍ、長さＬ’が約３３０mm、開
口の幅ｔが約１４mmである。また、基板３６は、幅W”
が約７５０mmで、長さＬ”が約６２０ｍｍである。即
ち、フォトマスク３２のサイズは基板３６の約十分の一
であって、従来の技術におけるフォトマスクのサイズに
比して、かなり縮小される。

【００４８】次いで、現像の工程を行い、基板３６上の
照射されていないフォトレジスト層を除去し、前述のフ
ォトレジスト層の塗布、露光、及び現像の工程を複数回
繰り返してカラーフィルタのＲ／Ｇ／Ｂ色層を露光領域
３６ａ、３６ｂ、３６ｃ、３６ｄに設けた４面の液晶パ
ネルのガラス基板上に形成する。

【００４９】また、基板３６の周辺領域３６ｅは光線の
照射を避けるべき領域のため、別途遮蔽手段（図示せ
ず）をフォトマスク３２と基板３６との間に設けて、周
辺領域３６ｅ上のネガタイプのフォトレスト層が照射さ
れないようにする。

【００５０】図５は、図４におけるＢ−Ｂ’線に沿った
断面図である。図示において矢印で表示するカラーフィ
ルタのＲ／Ｇ／Ｂ色層の端縁部Ｃは、後続のフィルム貼
着の工程においてフィルム貼着を容易に貼着するため
に、一般に傾斜面を形成して輪郭を描く。よって、フォ
トマスク３２上の所定のパターンのスリットは、図６に
開示する形状にしてもよい。

【００５１】また、本発明における露光の工程は、ベー
ス・ステージ３５を固定して、光源３１、フォトマスク
３２が移動できるようにして、フォトマスク３２の所定
のパターンを基板３６に移転してもよい。

【００５２】以上は本発明の好ましい実施例であって、
本発明の実施の範囲を限定するものではない。よって、
当業者のなし得る修正、もしくは変更であって、本発明
の精神の下においてなされ、本発明に対して均等の効果
有するものは、いずれも本発明の特許請求の範囲に含ま
れるものとする。

【００５３】

【発明の効果】本発明においては、フォトマスクのサイ
ズをフォトマスク上の被照射領域とほぼ同等のサイズに
縮小し、フォトマスクと光源を固定して、ベース・ステ
ージによって基板を移動させるか、もしくは基板を固定
してフォトマスクと光源を移動させて、フォトマスクの
パターンを基板に移転させる。よって、フォトマスクの
サイズが従来の技術に比して約十分の一に縮小すること
ができる。このため、本発明による露光システム、及び
該露光システムを応用して製造されるカラーフィルタ
は、フォトマスクのコストを大幅に低減しうる。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の液晶パネルの露光システムを表わす説明
図である。

【図２】従来の液晶パネルの他の露光システムを表わす
説明図である。

【図３】本発明によるステップ式露光システムを表わす
説明図である。

【図４】図３に開示する露光システムの開示を簡略にし
た拡大図である。

【図５】図４に開示するＢ−Ｂ線の断面図である。

【図６】フォトマスクの所定のパターンに形成するスリ
ットの形状を表わす説明図である。

【符号の説明】

３０露光システム３１光源３２フォトマスク３６基板３６ａ、３６ｂ、３６ｃ、３６ｄ露光領域３４オプティカルシステム３２ａスリット３３被照射領域３３ａ弓形光束３４ａ台形ミラー３４ｂ凹面鏡３４ｃ凸面鏡３５ベース・ステージ３６ｅ周辺領域

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一基板に露光を行い、複数の液晶パネル
のカラーフィルタを形成するステップ式の露光システム
において、特定の波長の光線を照射するための光源と、該光源の下方に設けられ、所定のパターンを有するフォ
トマスクと、該フォトマスクの所定のパターンを該基板上の異なる露
光領域に移転させるために、該基板を載置して移動させ
るベース・ステージとを含んでなり、該フォトマスクの所定のパターンを該基板の複数の液晶
パネルの一に移転する場合、該ベース・ステージが該基
板を該フォトマスクに対応するように移動させ、該基板
上の異なる位置の露光領域に当たるそれぞれの液晶パネ
ルに該フォトマスクのパターンを移転することを特徴と
する露光システム。
【請求項２】前記フォトマスクに形成される所定のパ
ターンは複数の規則的に配列されたスリットを具えるこ
とを特徴とする請求項１に記載の露光システム。
【請求項３】前記光源は該フォトマスク上に円弧線を
描く弓形の被照射領域を形成し、該被照射領域は、該基
板の移動方向に直交する線上の左右両端の距離が、該フ
ォトマスクの長さとほぼ同等であることを特徴とする請
求項１に記載の露光システム。
【請求項４】前記光源は該フォトマスク上に円弧線を
描く弓形の被照射領域を形成し、該被照射領域は、該基
板の移動方向に平行する線上の前後両端の距離が、該フ
ォトマスクの幅とほぼ同等であることを特徴とする請求
項１に記載の露光システム。
【請求項５】前記光源は該フォトマスク上に矩形の被
照射領域を形成し、該被照射領域は、該基板の移動方向
に直交する線上の左右両端の距離が、該フォトマスクの
長さとほぼ同等であることを特徴とする請求項１に記載
の露光システム。
【請求項６】前記光源は該フォトマスク上に矩形の被
照射領域を形成し、該被照射領域は、該基板の移動方向
に平行する線上の前後両端の距離が、該フォトマスクの
幅とほぼ同等であることを特徴とする請求項１に記載の
露光システム。
【請求項７】前記基板は、さらにネガタイプのフォト
レジスタ層を含むことを特徴とする請求項１に記載の露
光システム。
【請求項８】前記フォトレスト層が赤色フォトレジス
トと、緑色ファとレジストと、青色フォトレジストであ
ることを特徴とする請求項１に記載の露光システム。
【請求項９】ステップ式の露光システムを利用して複
数の液晶パネルのカラーフィルタを形成する方法におい
て、特定の波長の光線を照射する光源を設け、所定のパターンを有するフォトマスクを該光源の下方に
設け、少なくとも１以上の露光領域を具え、かつ該露光領域が
複数の液晶パネルの一となる基板を設け、該基板を移動させるベース・ステージを設け、露光を行い、該露光領域を露光する工程を含んでなり、該露光領域を露光する場合、該ベース・ステージが該フ
ォトマスクに対応して該基板を移動させて、該フォトマ
スクに形成した所定のパターンを該基板の異なる位置の
露光領域にそれぞれ移転することを特徴とする液晶パネ
ルのカラーフィルタ形成方法。
【請求項１０】前記フォトマスクに形成される所定の
パターンは複数の規則的に配列されたスリットを具える
ことを特徴とする請求項９に記載の液晶パネルのカラー
フィルタ形成方法。
【請求項１１】前記光源は該フォトマスク上に円弧線
を描く弓形の被照射領域を形成し、該被照射領域は、該
基板の移動方向に直交する線上の左右両端の距離が、該
フォトマスクの長さとほぼ同等であることを特徴とする
請求項９記載の液晶パネルのカラーフィルタ形成方法。
【請求項１２】前記光源は該フォトマスク上に円弧線
を描く弓形の被照射領域を形成し、該被照射領域は、該
基板の移動方向に平行する線上の前後両端の距離が、該
フォトマスクの幅とほぼ同等であることを特徴とする請
求項９に記載の液晶パネルのカラーフィルタ形成方法。
【請求項１３】前記光源は該フォトマスク上に矩形の
被照射領域を形成し、該被照射領域は、該基板の移動方
向に直交する線上の左右両端の距離が、該フォトマスク
の長さとほぼ同等であることを特徴とする請求項９に記
載の液晶パネルのカラーフィルタ形成方法。
【請求項１４】前記光源は該フォトマスク上に矩形の
被照射領域を形成し、該被照射領域は、該基板の移動方
向に平行する線上の前後両端の距離が、該フォトマスク
の幅とほぼ同等であることを特徴とする請求項９に記載
の液晶パネルのカラーフィルタ形成方法。
【請求項１５】前記基板は、さらにネガタイプのフォ
トレジスタ層を含むことを特徴とする請求項９に記載の
液晶パネルのカラーフィルタ形成方法。
【請求項１６】前記フォトレスト層が赤色フォトレジ
ストと、緑色ファとレジストと、青色フォトレジストで
あることを特徴とする請求項１に記載の液晶パネルのカ
ラーフィルタ形成方法。