KR100775921B1 - 노광 시스템 및 색 필터를 형성하는데 있어서의 그 응용 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (16)
- 소정의 파장을 가진 광빔들을 발생시키기 위한 광원;소정의 패턴을 가진 상기 광원 아래에 고정된 마스크; 및상기 마스크의 상기 소정의 패턴이 상기 기판의 다른 영역들 상에 전사될 수 있도록 상기 기판을 이동시키기 위한 스테이지를 포함하며,상기 소정의 패턴을 복수의 액정 디스플레이 패널들 중 하나에 대응하는 상기 기판의 일부분 상에 전사할 때, 상기 스테이지는, 상기 마스크의 소정의 패턴이 상기 액정 디스플레이 패널에 대응하는 상기 기판의 일부분의 다른 영역들상에 전사되도록 상기 마스크와 관련하여 상기 기판을 이동시키는 것을 특징으로 하는 복수의 액정 디스플레이 패널들을 형성하기 위하여 기판을 노광시키는 스텝형 노광 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 소정의 패턴은 주기적으로 배열된 복수의 개구부를 갖는 것을 특징으로 하는 스텝형 노광 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 광원은 상기 마스크 상에 원호형 조명 영역을 형성하고 상기 스테이지의 이동 방향과 수직인 상기 원호형 조명 영역의 양단간의 거리는 실질적으로 상기 마스크의 길이와 동일한 것을 특징으로 하는 스텝형 노광 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 광원은 상기 마스크 상에 원호형 조명 영역을 형성하고 상기 스테이지의 이동 방향과 평행한 상기 원호형 조명 영역의 양단간의 거리는 실질적으로 상기 마스크의 폭과 동일한 것을 특징으로 하는 스텝형 노광 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 광원은 상기 마스크 상에 직사각형 형태의 조명 영역을 형성하고 상기 스테이지의 이동 방향과 수직인 상기 직사각형 형태의 조명 영역의 양단간의 거리는 실질적으로 상기 마스크의 길이와 동일한 것을 특징으로 하는 스텝형 노광 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 광원은 상기 마스크 상에 직사각형 형태의 조명 영역을 형성하고 상기 스테이지의 이동 방향과 평행한 상기 직사각형 형태의 조명 영역의 양단간의 거리는 실질적으로 상기 마스크의 폭과 동일한 것을 특징으로 하는 스텝형 노광 시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 기판은 네거티브형 포토레지스트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스텝형 노광 시스템.
- 제7항에 있어서, 상기 네거티브형 포토레지스트는 R 포토레지스트, G 포토레지스트, B 포토레지스트로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 스텝형 노광 시스템.
- 소정의 파장을 가진 광빔들을 발생시키기 위한 광원을 제공하는 단계;상기 광원 아래에 고정되며 소정의 패턴을 가진 마스크를 제공하는 단계;복수의 액정 디스플레이 패널들 중 하나에 대응하는 적어도 제1 영역을 포함하는 기판을 제공하는 단계;상기 기판을 운반하기 위한 스테이지를 제공하는 단계; 및상기 제1 영역을 노광시키기 위한 노광 절차를 수행하는 단계를 포함하며, 상기 제1 영역을 노광시킬 때, 상기 스테이지는 상기 마스크의 소정의 패턴이 상기 제1 영역의 다른 부분들 상에 전사되도록 상기 마스크와 관련하여 상기 기판을 이동시키는 것을 특징으로 하는 스텝형 노광 시스템을 이용하여 복수의 액정 패널들의 색 필터들을 형성하는 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 소정의 패턴은 주기적으로 배열된 복수의 개구부를 갖는 것을 특징으로 하는 스텝형 노광 시스템을 이용하여 복수의 액정 패널들의 색 필터들을 형성하는 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 광원은 상기 마스크 상에 원호형 조명 영역을 형성하고 상기 스테이지의 이동 방향과 수직인 상기 원호형 조명 영역의 양단간의 거리는 실질적으로 상기 마스크의 길이와 동일한 것을 특징으로 하는 스텝형 노광 시스템을 이용하여 복수의 액정 패널들의 색 필터들을 형성하는 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 광원은 상기 마스크 상에 원호형 조명 영역을 형성하고 상기 스테이지의 이동 방향과 평행한 상기 원호형 조명 영역의 양단간의 거리는 실질적으로 상기 마스크의 폭과 동일한 것을 특징으로 하는 스텝형 노광 시스템을 이용하여 복수의 액정 패널들의 색 필터들을 형성하는 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 광원은 상기 마스크 상에 직사각형 형태의 조명 영역을 형성하고 상기 스테이지의 이동 방향과 수직인 상기 직사각형 형태의 조명 영역의 양단간의 거리는 실질적으로 상기 마스크의 길이와 동일한 것을 특징으로 하는 스텝형 노광 시스템을 이용하여 복수의 액정 패널들의 색 필터들을 형성하는 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 광원은 상기 마스크 상에 직사각형 형태의 조명 영역을 형성하고 상기 스테이지의 이동 방향과 평행한 상기 직사각형 형태의 조명 영역의 양단간의 거리는 실질적으로 상기 마스크의 폭과 동일한 것을 스텝형 노광 시스템을 이용하여 복수의 액정 패널들의 색 필터들을 형성하는 방법.
- 제9항에 있어서, 상기 기판은 네거티브형 포토레지스트를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 스텝형 노광 시스템을 이용하여 복수의 액정 패널들의 색 필터들을 형성하는 방법.
- 제15항에 있어서, 상기 네거티브형 포토레지스트는 R 포토레지스트, G 포토레지스트, B 포토레지스트로 이루어진 그룹 중에서 선택된 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 스텝형 노광 시스템을 이용하여 복수의 액정 패널들의 색 필터들을 형성하는 방법.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
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Country Status (1)
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100360557B1 (ko) * | 1993-12-08 | 2002-11-13 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 방법 및 노광 장치 |
KR100500199B1 (ko) * | 1995-05-29 | 2005-11-01 | 가부시키가이샤 니콘 | 마스크패턴을겹쳐서노광하는노광방법 |
-
2002
- 2002-01-10 KR KR1020020001397A patent/KR100775921B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100360557B1 (ko) * | 1993-12-08 | 2002-11-13 | 가부시키가이샤 니콘 | 노광 방법 및 노광 장치 |
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