CN110780546A - 一种数字曝光机及其曝光控制方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种数字曝光机及其曝光控制方法，涉及曝光技术领域，采用该方法可以避免因相邻两次扫描的交叠区落在像素图形区导致曝光后的像素图形产生错位和位置拼接差异的问题，极大减小TFT关键尺寸差异，减轻周期性MURA现象。一种数字曝光机的曝光控制方法，应用于待曝光显示母板，待曝光显示母板至少包括第一待曝光显示基板，第一待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素，该方法包括：从沿数字曝光机的扫描方向上位于第一排的子像素的外侧开始，经过多次扫描完成对第一待曝光显示基板的显示区域的曝光，每次扫描采用的扫描间距均为沿扫描方向上第一待曝光显示基板中相邻两排子像素的间距的整数倍。本发明适用于显示基板的曝光。

Description

一种数字曝光机及其曝光控制方法
技术领域
本发明涉及曝光技术领域，尤其涉及一种数字曝光机及其曝光控制方法。
背景技术
TFT-LCD(Thin Film Transis tor-Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器)凭借低重量、低功耗、高清晰度等诸多优点，广泛应用于手机、电脑、TV(电视机)、Monitor(显示器)等电子显示产品中。随着VR(Virtual Reality，虚拟现实技术)、MobilePhone(手机)近几年的爆发式发展，TFT-LCD向高PPI(Pixels Per Inch，图像分辨率)、轻薄化发展。这就需要TFT-LCD不断减小像素尺寸和像素间距，以满足高PPI的要求。而减小像素尺寸主要是通过减小TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)的关键尺寸(CriticalDimension，CD)来实现。
制作TFT的核心技术是光刻工艺。一般地，一道光刻工艺子流程使用一张掩膜板，包括：清洗、成膜、涂布、曝光、显影、PR(光刻胶)剥离、刻蚀、检查等工艺。其中，曝光工艺可以直接影响TFT的关键尺寸。
传统的光刻工艺是将设计版图图形转变为实体掩模板，再通过紫外光照射到掩模板上，透过掩模板图形缝隙的紫外光与光刻胶发生光学反应，从而将掩模板上的图形转移到玻璃基板上。随着技术的发展，目前多采用数字光刻工艺。数字光刻工艺是将设计版图图形转变为虚拟掩模板，通过数字曝光机将虚拟掩模板上的图形转移到玻璃基板上。
但是由于高PPI的要求，使得TFT的关键尺寸越来越小，那么采用数字曝光机对显示基板进行曝光时，相邻两次激光扫描的交叠区容易落在像素图形区，从而导致曝光后的像素图形产生错位和位置拼接差异，进而导致各个TFT的关键尺寸不同(即形成CD差异)。而TFT的关键尺寸不同，一方面直接影响各像素点的透光面积，从而影响光通量的均一性；另一方面影响TFT的驱动电路，从而影响液晶偏转进而导致光通量的差异变大。这两方面最终导致显示面板在显示过程中出现周期性MURA(明暗不均)现象，从而降低了显示效果。
发明内容
本发明的实施例提供一种数字曝光机及其曝光控制方法，采用该曝光控制方法可以避免因相邻两次扫描的交叠区落在像素图形区导致曝光后的像素图形产生错位和位置拼接差异的问题，从而极大减小TFT关键尺寸差异，进而减轻周期性MURA现象，提高了显示效果，同时提升了显示面板的质量。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
一方面，提供了一种数字曝光机的曝光控制方法，应用于待曝光显示母板，所述待曝光显示母板至少包括第一待曝光显示基板，所述第一待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素，所述曝光控制方法包括：从沿所述数字曝光机的扫描方向上位于第一排的所述子像素的外侧开始，经过多次扫描完成对所述第一待曝光显示基板的显示区域的曝光，其中，每次扫描采用的扫描间距均为沿所述扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。
可选的，所述多次扫描包括第一扫描，所述第一扫描需要扫描的区域为第一扫描区域；在所述第一扫描之前，所述曝光控制方法还包括:
设置多个辅助层，每个所述辅助层对应一个待曝光区域；
识别所述第一扫描区域对应的所述辅助层；
确定所述第一扫描区域对应的所述辅助层关联的第一曝光程式，所述第一曝光程式中设置所述扫描间距为沿所述扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。
可选的，所述待曝光显示母板还包括第二待曝光显示基板；沿所述扫描方向，所述第二待曝光显示基板与所述第一待曝光显示基板相邻；
沿所述扫描方向，相邻两个所述辅助层存在交叠区，所述交叠区对应所述第一待曝光显示基板和所述第二待曝光显示基板的显示区之间的区域。
可选的，所述多次扫描还包括第二扫描，所述第二扫描需要扫描的区域为第二扫描区域；
在所述第一扫描之后，所述曝光控制方法还包括：
判断所述第二扫描区域是否与所述交叠区对应；
若是，则将所述第一曝光程式切换为与所述第二扫描区域对应的所述交叠区关联的第二曝光程式；所述第二曝光程式中，设置所述扫描间距为沿所述扫描方向上，所述第一待曝光显示基板与所述第二待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍；
若否，则采用与所述第二扫描区域对应的辅助层关联的第三曝光程式进行所述第二扫描，所述第三曝光程式中设置所述扫描间距为沿扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。
可选的，在所述将所述第一曝光程式切换为与所述第二扫描区域对应的所述交叠区关联的第二曝光程式之后，所述曝光控制方法还包括：
采用所述第二曝光程式对所述第二扫描区域进行扫描。
可选的，在所述采用所述第二曝光程式对所述第二扫描区域进行扫描之后，所述曝光控制方法还包括：
判断当前扫描区域是否与所述第二待曝光显示基板的待曝光区域对应的所述辅助层对应；
若是，则将所述第二曝光程式切换为与所述当前扫描区域对应的所述辅助层关联的第四曝光程式；所述第四曝光程式中设置所述扫描间距为沿扫描方向上，所述第二待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍；
若否，则采用与所述当前扫描区域对应的所述交叠区关联的第五曝光程式对所述当前扫描区域进行扫描；所述第五曝光程式中设置所述扫描间距为沿所述扫描方向上，所述第一待曝光显示基板与所述第二待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍。
可选的，在所述将所述第二曝光程式切换为与所述当前扫描区域对应的所述辅助层关联的第四曝光程式之后，所述曝光控制方法还包括：
采用所述第四曝光程式对所述当前扫描区域进行扫描。
本发明的实施例提供了一种数字曝光机的曝光控制方法，应用于待曝光显示母板，该待曝光显示母板至少包括第一待曝光显示基板，该第一待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素，该曝光控制方法包括：从沿数字曝光机的扫描方向上位于第一排的子像素的外侧开始，经过多次扫描完成对第一待曝光显示基板的显示区域的曝光，其中，每次扫描采用的扫描间距均为沿所述扫描方向上第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。那么，相邻两次扫描的交叠区便会落在相邻两排子像素之间的区域，而相邻两排子像素之间的区域不需要设置图形，属于非有效图形区；这样可以避免因相邻两次扫描的交叠区落在像素图形区导致曝光后的像素图形产生错位和位置拼接差异的问题，极大减小TFT关键尺寸差异，进而减轻周期性MURA现象，提高了显示效果，同时提升了显示面板的质量。
另一方面，提供了一种数字曝光机，应用于待曝光显示母板，所述待曝光显示母板至少包括第一待曝光显示基板，所述第一待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素，所述数字曝光机包括：
扫描模块，用于从沿所述数字曝光机的扫描方向上位于第一排的所述子像素的外侧开始，经过多次扫描完成对所述第一待曝光显示基板的显示区域的曝光，其中，每次扫描采用的扫描间距均为沿所述扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。
可选的，多次扫描包括第一扫描，所述第一扫描需要扫描的区域为第一扫描区域；所述扫描模块包括第一扫描单元，用于所述第一扫描；
在所述第一扫描单元之前，所述数字曝光机包括：
设置模块，用于设置多个辅助层，每个所述辅助层对应一个待曝光区域；
识别模块，用于识别所述第一扫描区域对应的所述辅助层；
确定模块，用于确定所述第一扫描区域对应的所述辅助层关联的第一曝光程式，所述第一曝光程式中设置所述扫描间距为沿所述扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。
可选的，所述待曝光显示母板还包括第二待曝光显示基板；沿所述扫描方向，所述第二待曝光显示基板与所述第一待曝光显示基板相邻；
沿所述扫描方向，相邻两个所述辅助层存在交叠区，所述交叠区对应第一待曝光显示基板和所述第二待曝光显示基板的显示区之间的区域。
可选的，所述多次扫描还包括第二扫描，所述第二扫描需要扫描的区域为第二扫描区域；
在所述第一扫描单元之后，所述数字曝光机还包括：
第一判断模块，用于判断所述第二扫描区域是否与所述第一待曝光显示基板和所述第二待曝光显示基板的显示区之间的区域对应的交叠区对应；
第一切换模块，用于在所述第二扫描区域与所述交叠区对应的前提下，将所述第一曝光程式切换为与所述第二扫描区域对应的所述交叠区关联的第二曝光程式；所述第二曝光程式中，设置所述扫描间距为沿所述扫描方向上，所述第一待曝光显示基板与所述第二待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍；
所述扫描模块还包括第二扫描单元，用于在所述第二扫描区域与所述交叠区不对应的前提下，采用与所述第二扫描区域对应的辅助层关联的第三曝光程式进行所述第二扫描，所述第三曝光程式中设置所述扫描间距为沿扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。
可选的，所述扫描模块还包括第三扫描单元，用于采用所述第二曝光程式对所述第二扫描区域进行扫描。
可选的，在所述第三扫描单元之后，所述数字曝光机还包括：
第二判断模块，用于判断当前扫描区域是否与所述第二待曝光显示基板的待曝光区域对应的所述辅助层对应；
第二切换模块，用于在所述当前扫描区域与所述第二待曝光显示基板的待曝光区域对应的所述辅助层对应的前提下，将所述第二曝光程式切换为与所述当前扫描区域对应的所述辅助层关联的第四曝光程式；所述第四曝光程式中设置所述扫描间距为沿扫描方向上，所述第二待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍；
所述扫描模块还包括第四扫描单元，用于在所述当前扫描区域与所述第二待曝光显示基板的待曝光区域对应的所述辅助层不对应的前提下，采用与所述当前扫描区域对应的所述交叠区关联的第五曝光程式对所述当前扫描区域进行扫描；所述第五曝光程式中设置所述扫描间距为沿所述扫描方向上，所述第一待曝光显示基板与所述第二待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍。
可选的，在所述第二切换模块之后，所述数字曝光机还包括：
所述扫描模块还包括第五扫描单元，用于采用所述第四曝光程式对所述当前扫描区域进行扫描。
本发明的实施例提供了一种数字曝光机，应用于待曝光显示母板，待曝光显示母板至少包括第一待曝光显示基板，第一待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素，数字曝光机包括：扫描模块，用于从沿数字曝光机的扫描方向上位于第一排的子像素的外侧开始，经过多次扫描完成对第一待曝光显示基板的显示区域的曝光，其中，每次扫描采用的扫描间距均为沿扫描方向上第一待曝光显示基板中相邻两排子像素的间距的整数倍。通过该数字曝光机曝光的显示基板可以避免因相邻两次扫描的交叠区落在像素图形区导致曝光后的像素图形产生错位和位置拼接差异的问题，极大减小TFT关键尺寸差异，进而减轻周期性MURA现象，包括该显示基板的显示面板的显示效果好，质量高。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种数字曝光机的曝光控制方法流程示意图；
图2为本发明实施例提供的一种第一待曝光显示基板的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的另一种第一待曝光显示基板的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的第一种数字微镜装置的结构示意图；
图5为本发明实施例提供的第二种数字微镜装置的结构示意图；
图6为本发明实施例提供的第三种数字微镜装置的结构示意图；
图7为本发明实施例提供的第四种图像表示方法流程示意图；
图8为本发明实施例提供的第五种图像表示方法流程示意图；
图9为本发明实施例提供的改善前的测试效果图；
图10为本发明实施例提供的改善后的测试效果图；
图11为本发明实施例提供的另一种数字曝光机的曝光控制方法流程示意图；
图12为本发明实施例提供的一种待曝光显示母板的结构示意图；
图13为本发明实施例提供的一种对应图12的辅助层示意图；
图14为本发明实施例提供的另一种待曝光显示母板的结构示意图；
图15为本发明实施例提供的又一种数字曝光机的曝光控制方法流程示意图；
图16为本发明实施例提供的再一种数字曝光机的曝光控制方法流程示意图；
图17为本发明实施例提供的另一种辅助层示意图；
图18为本发明实施例提供的一种辅助层与曝光程式的关联示意图；
图19为本发明实施例提供的一种辅助层的设置方法流程示意图；
图20为本发明实施例提供的又一种辅助层示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
为了便于清楚描述本发明实施例的技术方案，在本发明的实施例中，采用了“第一”、“第二”……“第五”等字样对功能和作用基本相同的相同项或相似项进行区分，本领域技术人员可以理解“第一”、“第二”……“第五”等字样并不对数量和执行次序进行限定。
实施例一
本发明实施例提供了一种数字曝光机的曝光控制方法，应用于待曝光显示母板，待曝光显示母板至少包括第一待曝光显示基板，第一待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素，参考图1所示，该曝光控制方法包括：
S101、从沿数字曝光机的扫描方向上位于第一排的子像素的外侧开始，经过多次扫描完成对第一待曝光显示基板的显示区域的曝光，其中，每次扫描采用的扫描间距均为沿扫描方向上第一待曝光显示基板中相邻两排子像素的间距的整数倍。
上述待曝光显示母板至少包括第一待曝光显示基板是指待曝光显示母板可以仅包括第一待曝光显示基板，也可以是包括其它(两个及以上)待曝光显示基板，具体根据待曝光显示基板的尺寸确定。
参考图2所示，上述第一待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素1，其中，相邻的至少三个子像素可以构成一个像素。示例的，相邻的三个子像素可以是红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素，从而构成一个像素；或者，相邻的四个子像素可以是红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素和白色子像素，从而构成一个子像素。这里对此不作具体限定。
这里对于上述第一待曝光显示基板的类型不做限定。示例的，第一待曝光显示基板可以是彩膜基板，其与阵列基板对盒可以形成液晶显示面板；或者，第一待曝光显示基板还可以是阵列基板，其与彩膜基板对盒可以形成液晶显示面板；或者，第一待曝光显示基板可以是衬底基板，衬底基板上可以设置薄膜晶体管、OLED(Organic Light-EmittingDiode，有机发光二极管)等，该衬底基板与封装基板对盒可以形成OLED显示面板。
上述第一待曝光显示基板可以划分为图2所示的显示区(Active Area，AA区)100和包围该显示区的非显示区(图2未标注)。参考图2所示，上述阵列排布的多个子像素1位于显示区100。上述非显示区可以包括图2所示的引线区(Fanout区)20、FPC(FlexiblePrinted Circuit，柔性印刷电路板)22、IC(Integrated Circuit，集成电路)23、ESD(Electro Static Discharge，静电释放)区24、MUX((Multiplexer，数据选择器)25等，这里仅详细说明与本发明点相关的结构或者膜层，此处不再赘述，具体可以根据现有技术和公知常识获得。
上述每次扫描采用的扫描间距均为沿扫描方向上第一待曝光显示基板中相邻两排子像素的间距的整数倍中，参考图2所示，相邻两排子像素的间距d是指当前排子像素的上端与相邻排子像素的下端之间的距离；这里整数倍可以是一倍、两倍、三倍等，具体需要根据数字曝光机的分辨率以及第一待曝光显示基板的尺寸来确定。图2是以扫描间距均为沿扫描方向上第一待曝光显示基板中相邻两排子像素的间距的1倍为例进行绘示。
上述每次扫描采用的扫描间距可以相同，也可以不同，这里不做限定。考虑到降低该曝光控制方法的复杂度，选择前者。上述每次扫描采用的具体射线不做限定，示例的，可以采用激光进行扫描。
上述扫描间距可以通过调整数字微镜装置(Digital Micromirror Device，DMD)来实现。结合图4和图5所示，数字曝光机的DMD包括阵列排布的多个微镜(mirror)1组成。图4中，在CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor，互补金属氧化物半导体)基板30上设置有两个微镜31，微镜31通过hinge(铰链)32、yoke(轭)33、spring tip(弹簧顶端)34等实现固定和转动。
现有工艺中常用的DMD包括2560*1600个微镜，每个微镜的大小为1.26um*1.26um，如果开启整个DMD，则DMD的尺寸为3225.6um*2016um。通过调整DMD的开启数量，从而可以实现扫描间距的改变。参考图6-8所示，沿扫描方向OA，每一列包括1600个微镜；沿步进方向OB，每一行包括2560个微镜。如图6所示，若沿扫描方向OA相邻两排子像素的间距是P1，则对应打开M1列，其中，M1*1.26能够被P1整除；如图7所示，若扫描方向OA相邻两排子像素的间距是P2，则对应打开M2列，其中，M2*1.26能够被P2整除；如图8所示，若扫描方向OA相邻两排子像素的间距是P3，则对应打开M3列，其中，M3*1.26能够被P3整除。图6-8只是示意性地绘示DMD，并没有将DMD包括的微镜数量全部绘示出来。
本发明的实施例提供了一种数字曝光机的曝光控制方法，应用于待曝光显示母板，该待曝光显示母板至少包括第一待曝光显示基板，该第一待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素，该曝光控制方法包括：从沿数字曝光机的扫描方向上位于第一排的子像素的外侧开始，经过多次扫描完成对第一待曝光显示基板的显示区域的曝光，其中，每次扫描采用的扫描间距均为沿扫描方向上第一待曝光显示基板中相邻两排子像素的间距的整数倍。
那么，参考图2所示，相邻两次扫描的交叠区11便会落在第一待曝光显示基板中相邻两排子像素之间的区域，而相邻两排子像素之间的区域不需要设置图形(pattern)，属于非有效图形区；这样可以避免如图3所示的因相邻两次扫描的交叠区11落在像素图形区12导致曝光后的像素图形产生错位和位置拼接差异的问题，极大减小TFT关键尺寸差异，进而减轻周期性MURA现象，提高了显示效果，同时提升了显示面板的质量。
Mura是TFT-LCD生产过程中比较常见的现象，其产生的不良，对于画面品质有较大影响。Mura来源于日文，主要是指一种明暗不均的现象。Mura从产生原因上分为三类：第一类，由于陈列成型工艺过程中薄膜晶体管关键尺寸参数差异造成的电气性和光学性MURA；第二类，是填充液晶过程中取向膜或液晶本身造成的差异；第三类是发光源本身所引起的差异。
本发明实施例所要解决的是第二类Mura。图9是改善前出现的Mura图，图10是采用本发明实施例提供的曝光控制方法后的Mura图，相比前者，Mura现象极大减轻。图9和图10均是在半成品阶段的测试效果图，在后期形成显示面板的成品测试中，图10对应的显示面板的Mura完全在合格范围内。
可选的，上述多次扫描包括第一扫描，第一扫描需要扫描的区域为第一扫描区域；在第一扫描之前，参考图11所示，曝光控制方法还包括:
S101、设置多个辅助层，每个辅助层对应一个待曝光区域。
这里对于辅助层的个数和大小均不作限定，具体可以根据待曝光的显示基板确定。该辅助层可以通过数字曝光机的软件设置。该待曝光区域可以是一个待曝光显示基板的显示区域中的部分区域，即该待曝光显示基板可以对应多个辅助层。若一个待曝光显示基板对应多个辅助层，各个辅助层关联的曝光程式中设置的扫描间距可以相同，也可以不同，考虑降低该曝光控制方法的复杂度，选择前者。该待曝光区域还可以是一个待曝光显示基板的整个显示区域，即该待曝光显示基板仅对应一个辅助层。该待曝光区域还可以是包括多个待曝光显示基板的整个显示区域，即多个待曝光显示基板仅对应一个辅助层。
S102、识别第一扫描区域对应的辅助层。
这里对于具体的识别方法不做限定，示例的，可以通过坐标参数进行识别。
S103、确定第一扫描区域对应的辅助层关联的第一曝光程式，第一曝光程式中设置扫描间距为沿扫描方向上第一待曝光显示基板中相邻两排子像素的间距的整数倍。
第一曝光程式中可以设置曝光参数，例如：可以对扫描间距、曝光时间等进行设置。上述辅助层与第一曝光程式的具体关联方法不做限定。示例的，可以将辅助层的坐标区域与第一曝光程式关联。
通过设置辅助层，可以实现不同扫描区域关联不同的曝光程式，从而满足各区域对曝光参数的要求。
可选的，参考图12所示，待曝光显示母板还包括第二待曝光显示基板42；沿扫描方向OC，第二待曝光显示基板42与第一待曝光显示基板41相邻；参考图13所示，沿扫描方向OC，相邻两个辅助层即辅助层51和辅助层52存在交叠区53，交叠区53对应第一待曝光显示基板和第二待曝光显示基板的显示区之间的区域。
上述第二待曝光显示基板与第一待曝光显示基板可以是同种规格(即尺寸、形状等均相同)，也可以是不同规格。图12是以第二待曝光显示基板与第一待曝光显示基板是同种规格为例进行说明。
上述交叠区关联一种曝光程式，该曝光程式中设置扫描间距为第一待曝光显示基板和第二待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍。图12中是以扫描间距为第一待曝光显示基板41和第二待曝光显示基板42的显示区之间的距离d1的1倍为例进行绘示。上述交叠区与曝光程式的具体关联方法不做限定。示例的，可以将交叠区的坐标区域与曝光程式关联。
通过设置交叠区，可以实现从曝光第一待曝光显示基板的显示区到曝光第二待曝光显示基板的显示区的过渡，从而有利于曝光程式的切换。
进一步可选的，多次扫描还包括第二扫描，第二扫描需要扫描的区域为第二扫描区域；
在第一扫描之后，参考图15所示，曝光控制方法还包括：
S501、判断第二扫描区域是否与交叠区对应。
S502、若是，则将第一曝光程式切换为与第二扫描区域对应的交叠区关联的第二曝光程式；第二曝光程式中，设置扫描间距为沿扫描方向上，第一待曝光显示基板与第二待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍。
在该情况下，说明第一待曝光显示基板的显示区的曝光已经完成。与第二扫描区域对应的交叠区关联的第二曝光程式中，将扫描间距设置为沿扫描方向上，第一待曝光显示基板与第二待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍，这样可以保证在交叠区对应的第一待曝光显示基板和第二待曝光显示基板的显示区之间的区域完成扫描后，上述第二待曝光显示基板的起始扫描位置在该交叠区对应的区域内，即在第二待曝光显示基板的显示区的外侧。
S503、若否，则采用与第二扫描区域对应的辅助层关联的第三曝光程式进行第二扫描，第三曝光程式中设置扫描间距为沿扫描方向上相邻两排子像素的间距的整数倍。
在该情况下，说明第一待曝光显示基板的曝光还未完成。第三曝光程式和第一曝光程式可以是同一曝光程式，也可以是不同的曝光程式。为了简化曝光控制方法和得到更均一的图形，选择第三曝光程式和第一曝光程式是同一曝光程式。此时，第三曝光程式设置的扫描间距和第一曝光程式设置的扫描间距相同。
在S503、采用与第二扫描区域对应的辅助层关联的第三曝光程式进行第二扫描之后，重复步骤S501、S503直到完成对第一待曝光显示基板的显示区域的曝光。
可选的，在S502、将第一曝光程式切换为与第二扫描区域对应的交叠区关联的第二曝光程式之后，参考图15所示，上述曝光控制方法还包括：
S504、采用第二曝光程式对所述第二扫描区域进行扫描。
可选的，在S504、采用第二曝光程式对第二扫描区域进行扫描之后，参考图15所示，曝光控制方法还包括：
S505、判断当前扫描区域是否与第二待曝光显示基板的待曝光区域对应的辅助层对应。
S506、若是，则将第二曝光程式切换为与当前扫描区域对应的辅助层关联的第四曝光程式；第四曝光程式中设置扫描间距为沿扫描方向上，第二待曝光显示基板中相邻两排子像素的间距的整数倍。
在该情况下，说明第一待曝光显示基板和第二待曝光显示基板的显示区之间的区域的曝光已经完成，开始对第二待曝光显示基板进行扫描。
若第一待曝光显示基板和第二待曝光显示基板属于同规格的显示基板，为了简化曝光控制方法和降低同种产品的差异性，选择第四曝光程式和第一曝光程式是同一曝光程式。此时，第四曝光程式设置的扫描间距和第一曝光程式设置的扫描间距相同。
这里，第四曝光程式中设置扫描间距为沿扫描方向上，第二待曝光显示基板中相邻两排子像素的间距的整数倍，则可以避免当前扫描与下次扫描的交叠区位于像素图形区。
S507、若否，则采用与当前扫描区域对应的交叠区关联的第五曝光程式对当前扫描区域进行扫描；第五曝光程式中设置扫描间距为沿扫描方向上，第一待曝光显示基板与第二待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍。
在该情况下，说明第一待曝光显示基板和第二待曝光显示基板的显示区之间的区域的曝光没有完成。第五曝光程式和第二曝光程式可以是同一曝光程式，也可以是不同的曝光程式。为了简化曝光控制方法，选择第五曝光程式和第二曝光程式是同一曝光程式。此时，第五曝光程式设置的扫描间距和第二曝光程式设置的扫描间距相同。
在S507、采用与当前扫描区域对应的交叠区关联的第五曝光程式对当前扫描区域进行扫描之后，重复步骤S505、S507直到完成对第一待曝光显示基板与第二待曝光显示基板的显示区之间区域的曝光。
可选的，在S506、将第二曝光程式切换为与当前扫描区域对应的辅助层关联的第四曝光程式之后，参考图15所示，该曝光控制方法还包括：
S508、采用第四曝光程式对当前扫描区域进行扫描。
第四曝光程式中设置扫描间距为沿扫描方向上，第二待曝光显示基板中相邻两排子像素的间距的整数倍，采用第四曝光程式对当前扫描区域进行扫描，可以避免当前扫描与下次扫描的交叠区位于像素图形区。从而有利于解决第二待曝光显示基板出现因相邻两次扫描的交叠区落在像素图形区导致曝光后的像素图形产生错位和位置拼接差异的问题。
在S508、采用所述第四曝光程式对当前扫描区域进行扫描之后，重复步骤S508直到完成对第二待曝光显示基板的显示区域的曝光。这样可以避免第二待曝光显示基板出现因相邻两次扫描的交叠区落在像素图形区导致曝光后的像素图形产生错位和位置拼接差异的问题。
需要说明的是，现有技术中单一的待曝光显示基板的曝光中存在因相邻两次扫描的交叠区落在像素图形区导致曝光后的像素图形产生错位和位置拼接差异的问题，而在曝光相邻两个待曝光显示基板中，参考图14所示，曝光第一待曝光显示基板41中未出现相邻两次扫描的交叠区落在像素图形区的问题，但是在曝光第二待曝光显示基板42中，仍存在两次扫描的交叠区45落在像素图形区44的问题。通过上述曝光控制方法，可以解决上述问题。采用上述曝光控制方法后，参考图12所示，第一待曝光显示基板41和第二待曝光显示基板42中均未出现相邻两次扫描的交叠区43落在像素图形区的问题，从而同时减小第一待曝光显示基板和第二待曝光显示基板的TFT关键尺寸差异，进而减轻周期性MURA现象，提高了显示效果。
实施例二
本发明实施例提供了一种曝光控制方法，参考图16所示，该曝光控制方法包括：
S600、通过软件设置辅助层。
辅助层可限定相应激光头的曝光区域，沿扫描方向上的辅助层设置一定范围的交叠区，交叠区对应非有效图形区。参考图17所示，图17中绘示了辅助层61、辅助层62、辅助层61和辅助层62的交叠区60，辅助层61对应的待曝光区域包括两个同尺寸的待曝光显示基板64，辅助层62对应的待曝光区域包括18个同尺寸的待曝光显示基板65。
上述辅助层是在虚拟mask设计时，在版图中添加的一类限制曝光参数及曝光区域的图层。常规情况下，每个激光头设置一个辅助层贯穿有效曝光区，数字曝光机曝光时需识别读取该图层。参考图19所示，虚拟mask文件导入数字曝光机后，其可以根据“图层名”“图层编号”等特征识别该层，并记录该图层区域所占坐标，然后根据坐标范围确定曝光程式。参考图20所示，每个激光头下不止设置一个辅助图层，至少设置辅助层A和B，不同激光头编号下的辅助层可依次设置为A-1，B-1，A-2，B-2等，以此类推。同一激光头扫描方向上的辅助层设置一定范围的交叠区A&B，A&B设置于非有效图形区，其宽度可调。
S601、识别辅助层，以当前辅助层坐标区域关联的曝光程式进行曝光。
参考图18所示，辅助层A坐标区域关联A曝光程式，辅助层B坐标区域关联B曝光程式，辅助层A和辅助层B的交叠区坐标区域关联交叠区曝光控制程式。交叠区曝光控制程式中，前半程执行A曝光程式，后半程执行B曝光程式，可确保A曝光程式和B曝光程式在玻璃基台运动过程中有足够时长进行切换，且使得曝光程式的切换不影响两个尺寸的面板效果。以图17所示的辅助层为例，当激光头控制系统识别为曝光辅助层61时，执行对应曝光程式，可确保大尺寸的曝光效果；识别为辅助层62时，执行对应曝光程式，可确保小尺寸的曝光效果；当识别到辅助层61和61的交叠区60时，进行曝光程式的切换准备，前半程执行辅助层61对应的曝光程式，后半程执行辅助层62对应的曝光程式。
S602、判断是否超出所记录的坐标范围，这样能够判断是否识别到其它辅助层。
S603、若是，则将当前曝光程式切换为新坐标范围关联的曝光程式。
S604、若否，则以当前辅助层坐标区域关联的曝光程式持续进行曝光。
在S604之后，该曝光控制方法还包括：
S605、判断所记录坐标区域是否结束。
S606、若是，则判断是否有未曝光坐标区域。
S607、若否，则曝光结束，数字曝光机的玻璃基台回到初始位置。
若是则执行S603，对未曝光坐标区域进行曝光。
需要说明的是，面板设计中，整张玻璃基板上通常是排列同样尺寸同样图形密度的面板。当玻璃基板上设计有不同尺寸的面板时，各尺寸图形密度不同导致曝光的光学效应发生变化，同一个曝光程式使用同一张mask(掩膜版)以shot(投射)的方式曝光并不能保证每个尺寸的面板达到预计的曝光效果。因此现有曝光机在使用一张mask曝光同一张玻璃基板上不同尺寸的面板时，往往只能保证其中一种尺寸的面板曝光效果而牺牲其它尺寸，或者是通过曝光实验的对其它尺寸的设计图形进行补偿，耗时耗力。
本发明实施例中，当待曝光显示母板上包括多个不同尺寸的待曝光显示基板时，通过设置多个辅助层来对应不同尺寸的待曝光显示基板，从而将不同尺寸的待曝光显示基板关联到不同的曝光程式，这样在后续完成曝光后，可以得到不同尺寸的曝光图形。即能够实现使用一张mask(掩膜版)曝光同一张玻璃基板上不同尺寸的面板时，调用不同的曝光程式，确保不同尺寸图形的曝光效果。
实施例三
本发明实施例提供了一种数字曝光机，应用于待曝光显示母板，待曝光显示母板包括至少一个待曝光显示基板，待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素，
数字曝光机包括：
扫描模块，用于从沿数字曝光机的扫描方向上位于第一排的子像素的外侧开始，经过多次扫描完成对待曝光显示基板的显示区域的曝光，其中，每次扫描采用的扫描间距均为沿扫描方向上相邻两排子像素的间距的整数倍。
本发明的实施例提供了一种数字曝光机，应用于待曝光显示母板，待曝光显示母板包括至少一个待曝光显示基板，待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素，数字曝光机包括：扫描模块，用于从沿数字曝光机的扫描方向上位于第一排的子像素的外侧开始，经过多次扫描完成对待曝光显示基板的显示区域的曝光，其中，每次扫描采用的扫描间距均为沿扫描方向上相邻两排子像素的间距的整数倍。
通过该数字曝光机曝光的显示基板可以避免因相邻两次激光扫描的交叠区落在像素图形区导致曝光后的像素图形产生错位和位置拼接差异的问题，极大减小TFT关键尺寸差异，进而减轻周期性MURA现象，包括该显示基板的显示面板的显示效果好，质量高。
可选的，多次扫描包括第一扫描，第一扫描需要扫描的区域为第一扫描区域；扫描模块包括第一扫描单元，用于第一扫描；
在第一扫描单元之前，数字曝光机包括：
设置模块，用于设置多个辅助层，每个辅助层对应一个待曝光区域。
识别模块，用于识别第一扫描区域对应的辅助层。
确定模块，用于确定第一扫描区域对应的辅助层关联的第一曝光程式，第一曝光程式中设置扫描间距为沿扫描方向上相邻两排子像素的间距的整数倍。
可选的，沿扫描方向，相邻两个辅助层存在交叠区，且交叠区与相邻两个待曝光显示基板的显示区之间的区域对应。
可选的，多次扫描还包括第二扫描，第二扫描需要扫描的区域为第二扫描区域；
在第一扫描单元之后，数字曝光机还包括：
第一判断模块，用于判断第二扫描区域是否与交叠区对应。
第一切换模块，用于在第二扫描区域与交叠区对应的前提下，将第一曝光程式切换为与第二扫描区域对应的交叠区关联的第二曝光程式；第二曝光程式中，设置扫描间距为沿扫描方向上，第一扫描区域所属的待曝光显示基板与相邻的待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍。
扫描模块还包括第二扫描单元，用于在第二扫描区域与交叠区不对应的前提下，采用与第二扫描区域对应的辅助层关联的第三曝光程式进行第二扫描，第三曝光程式中设置扫描间距为沿扫描方向上相邻两排子像素的间距的整数倍。
可选的，多次扫描还包括第三扫描，第三扫描需要扫描的区域为第三扫描区域；
在第一切换单元之后，数字曝光机还包括：
第二判断模块，用于判断第三扫描区域是否与辅助层对应。
第二切换模块，用于在第三扫描区域与辅助层对应的前提下，将第二曝光程式切换为与第三扫描区域对应的辅助层关联的第四曝光程式；第四曝光程式中设置扫描间距为沿扫描方向上，第三扫描区域所属的待曝光显示基板中相邻两排子像素的间距的整数倍。
扫描模块还包括第三扫描单元，用于在第三扫描区域与辅助层不对应的前提下，采用与第三扫描区域对应的交叠区关联的第五曝光程式进行第三扫描；第五曝光程式中设置扫描间距为沿扫描方向上，第一扫描区域所属的待曝光显示基板与相邻的待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍。
需要说明的是，本发明实施例涉及到的曝光控制方法中的内容均在实施例一中体现，本实施例不再赘述，具体可以参考实施例一。
以上，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (14)

1.一种数字曝光机的曝光控制方法，应用于待曝光显示母板，所述待曝光显示母板至少包括第一待曝光显示基板，所述第一待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素，其特征在于，所述曝光控制方法包括：
从沿所述数字曝光机的扫描方向上位于第一排的所述子像素的外侧开始，经过多次扫描完成对所述第一待曝光显示基板的显示区域的曝光，其中，每次扫描采用的扫描间距均为沿所述扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。
2.根据权利要求1所述的曝光控制方法，其特征在于，所述多次扫描包括第一扫描，所述第一扫描需要扫描的区域为第一扫描区域；在所述第一扫描之前，所述曝光控制方法还包括:
设置多个辅助层，每个所述辅助层对应一个待曝光区域；
识别所述第一扫描区域对应的所述辅助层；
确定所述第一扫描区域对应的所述辅助层关联的第一曝光程式，所述第一曝光程式中设置所述扫描间距为沿所述扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。
3.根据权利要求2所述的曝光控制方法，其特征在于，所述待曝光显示母板还包括第二待曝光显示基板；沿所述扫描方向，所述第二待曝光显示基板与所述第一待曝光显示基板相邻；
沿所述扫描方向，相邻两个所述辅助层存在交叠区，所述交叠区对应所述第一待曝光显示基板和所述第二待曝光显示基板的显示区之间的区域。
4.根据权利要求3所述的曝光控制方法，其特征在于，
所述多次扫描还包括第二扫描，所述第二扫描需要扫描的区域为第二扫描区域；
在所述第一扫描之后，所述曝光控制方法还包括：
判断所述第二扫描区域是否与所述交叠区对应；
若是，则将所述第一曝光程式切换为与所述第二扫描区域对应的所述交叠区关联的第二曝光程式；所述第二曝光程式中，设置所述扫描间距为沿所述扫描方向上，所述第一待曝光显示基板与所述第二待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍；
若否，则采用与所述第二扫描区域对应的辅助层关联的第三曝光程式进行所述第二扫描，所述第三曝光程式中设置所述扫描间距为沿扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。
5.根据权利要求4所述的曝光控制方法，其特征在于，在所述将所述第一曝光程式切换为与所述第二扫描区域对应的所述交叠区关联的第二曝光程式之后，所述曝光控制方法还包括：
采用所述第二曝光程式对所述第二扫描区域进行扫描。
6.根据权利要求5所述的曝光控制方法，其特征在于，
在所述采用所述第二曝光程式对所述第二扫描区域进行扫描之后，所述曝光控制方法还包括：
判断当前扫描区域是否与所述第二待曝光显示基板的待曝光区域对应的所述辅助层对应；
若是，则将所述第二曝光程式切换为与所述当前扫描区域对应的所述辅助层关联的第四曝光程式；所述第四曝光程式中设置所述扫描间距为沿扫描方向上，所述第二待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍；
若否，则采用与所述当前扫描区域对应的所述交叠区关联的第五曝光程式对所述当前扫描区域进行扫描；所述第五曝光程式中设置所述扫描间距为沿所述扫描方向上，所述第一待曝光显示基板与所述第二待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍。
7.根据权利要求6所述的曝光控制方法，其特征在于，在所述将所述第二曝光程式切换为与所述当前扫描区域对应的所述辅助层关联的第四曝光程式之后，所述曝光控制方法还包括：
采用所述第四曝光程式对所述当前扫描区域进行扫描。
8.一种数字曝光机，应用于待曝光显示母板，所述待曝光显示母板至少包括第一待曝光显示基板，所述第一待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素，
其特征在于，所述数字曝光机包括：
扫描模块，用于从沿所述数字曝光机的扫描方向上位于第一排的所述子像素的外侧开始，经过多次扫描完成对所述第一待曝光显示基板的显示区域的曝光，其中，每次扫描采用的扫描间距均为沿所述扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。
9.根据权利要求8所述的数字曝光机，其特征在于，多次扫描包括第一扫描，所述第一扫描需要扫描的区域为第一扫描区域；所述扫描模块包括第一扫描单元，用于所述第一扫描；
在所述第一扫描单元之前，所述数字曝光机包括：
设置模块，用于设置多个辅助层，每个所述辅助层对应一个待曝光区域；
识别模块，用于识别所述第一扫描区域对应的所述辅助层；
确定模块，用于确定所述第一扫描区域对应的所述辅助层关联的第一曝光程式，所述第一曝光程式中设置所述扫描间距为沿所述扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。
10.根据权利要求9所述的数字曝光机，其特征在于，所述待曝光显示母板还包括第二待曝光显示基板；沿所述扫描方向，所述第二待曝光显示基板与所述第一待曝光显示基板相邻；
沿所述扫描方向，相邻两个所述辅助层存在交叠区，所述交叠区对应第一待曝光显示基板和所述第二待曝光显示基板的显示区之间的区域。
11.根据权利要求10所述的数字曝光机，其特征在于，所述多次扫描还包括第二扫描，所述第二扫描需要扫描的区域为第二扫描区域；
在所述第一扫描单元之后，所述数字曝光机还包括：
第一判断模块，用于判断所述第二扫描区域是否与所述第一待曝光显示基板和所述第二待曝光显示基板的显示区之间的区域对应的交叠区对应；
第一切换模块，用于在所述第二扫描区域与所述交叠区对应的前提下，将所述第一曝光程式切换为与所述第二扫描区域对应的所述交叠区关联的第二曝光程式；所述第二曝光程式中，设置所述扫描间距为沿所述扫描方向上，所述第一待曝光显示基板与所述第二待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍；
所述扫描模块还包括第二扫描单元，用于在所述第二扫描区域与所述交叠区不对应的前提下，采用与所述第二扫描区域对应的辅助层关联的第三曝光程式进行所述第二扫描，所述第三曝光程式中设置所述扫描间距为沿扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。
12.根据权利要求11所述的数字曝光机，其特征在于，所述扫描模块还包括第三扫描单元，用于采用所述第二曝光程式对所述第二扫描区域进行扫描。
13.根据权利要求12所述的数字曝光机，其特征在于，在所述第三扫描单元之后，所述数字曝光机还包括：
第二判断模块，用于判断所述当前扫描区域是否与所述第二待曝光显示基板的待曝光区域对应的所述辅助层对应；
第二切换模块，用于在所述当前扫描区域与所述第二待曝光显示基板的待曝光区域对应的所述辅助层对应的前提下，将所述第二曝光程式切换为与所述当前扫描区域对应的所述辅助层关联的第四曝光程式；所述第四曝光程式中设置所述扫描间距为沿扫描方向上，所述第二待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍；
所述扫描模块还包括第四扫描单元，用于在所述当前扫描区域与所述第二待曝光显示基板的待曝光区域对应的所述辅助层不对应的前提下，采用与所述当前扫描区域对应的所述交叠区关联的第五曝光程式对所述当前扫描区域进行扫描；所述第五曝光程式中设置所述扫描间距为沿所述扫描方向上，所述第一待曝光显示基板与所述第二待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍。
14.根据权利要求13所述的数字曝光机，其特征在于，在所述第二切换模块之后，所述数字曝光机还包括：
所述扫描模块还包括第五扫描单元，用于采用所述第四曝光程式对所述当前扫描区域进行扫描。
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