JP2003270566A - 光源装置及びこれを用いた光学走査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 加工コストが安く、干渉による光量変動がな
く、ビームを分離・合成できる光源装置を得る。 【解決手段】 ビームＡをウェッジプリズム１４のハー
フミラー面１４Ａへ、第２光源から出射されたビームＢ
をウェッジプリズム１４の透過面１４Ｂへそれぞれ入射
させ、各ビームを２方向に分離する。ハーフミラー面１
４Ａを透過したビームＡと反射したビームＢが略同一方
向となり、ハーフミラー面１４Ａを反射したビームＡと
透過したビームＢが略同一方向となる。ウェッジプリズ
ム１４の２面、すなわち、ハーフミラー面１４Ａと透過
面１４Ｂは、平行ではなく面間角度差が設けられている
ので、表裏面の反射光が平行とならない。このため、多
重反射しても平行平面板のように干渉が発生することが
ない。また、ウェッジプリズム１４は、製造工程が張り
合わせプリズムよりも少ないので張り合わせプリズムよ
りもコストが安い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光源装置に係わり、
特に複数の光源から出射したビームを光学素子で同一の
２方向に分離させる装置に関する。また、本発明はその
光源装置を用いた光学走査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来から、複数のビームを出射する光源
を光ディスク装置やレーザプリンタに用いることによっ
て、装置を高出力化、高速化、多色化することが行われ
ている。

【０００３】複数のビームを出射する光源を備えた光源
装置として、図１２に示す特開昭６０−１２６６２０号
がある。この光源装置では、２つのレーザ５２，５４か
ら出射されたレーザビームをビームスプリッタ６０で１
本のビームに合成し、レンズ５８で感光材料面５６上に
結像している。そして、感光材料面５６上で２つのビー
ム位置を制御するため、光路内にビームスプリッタ６２
を配置して、ビームの一部を分離し、光位置検出器６４
でビームの位置を検出している。

【０００４】この特開昭６０−１２６６２０号では、ビ
ームを合成する目的とビームを分離する目的で、２つの
ビームスプリッタ６０、６２が設けられているが、図１
３に示す、特開昭６１−２４５１７４号では、１つのビ
ームスプリッタ６６でビームを分離・合成している。

【０００５】すなわち、２つのレーザ６８，７０から出
射されたビームは、ビームスプリッタ６６により回転多
面鏡７２へ向かう第１の方向と光位置検出器７４へ向か
う第２の方向にそれぞれ分離され、それぞれの方向にお
いて２つのビームは合成（近接して配置）されている。

【０００６】上記先行技術は、複数の光源から出射され
たビーム位置を検出するためにビームを分離した例であ
るが、ビームの光量を検出するためにビームを分離する
例が特開平６−３１９８０や特開平８−３３０６６１に
記載されている。

【０００７】図１４に示す特開平６−３１９８０号は、
半導体レーザアレイ７６から出射される複数ビームの光
量を個別に検出するため、半導体レーザアレイ７６から
出射されたビームをコリメートレンズ７８で平行光にし
た後、平行平面板のハーフミラー８０でビームの一部を
分離して光検出器８２で光量を検出している。

【０００８】また、図１５に示すように、特開平８−３
３０６６１号では、光源に面発光レーザ８４を用いてい
る。面発光レーザ８４は端面発光レーザと違い、出射方
向の後ろ側にビームを出すことが出来ないため、出射さ
れたビームをビームスプリッタ８６で分離して、光検出
器８７で光量を検出することが必要となる。

【０００９】また、発散光に挿入するビームスプリッタ
として平行平面板を用いた例も特開平６−１６４０５６
号に記載されており、また、多色化のためにビームを合
成する例も特開平７−２５６９２６号に開示されてお
り、カラー画像を構成する４色に対応する４つの光源か
らのビームをミラーで近接させている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上述した先行技術にお
いては、ビームを分離・合成するために直角三角形のプ
リズムを２枚張り合わせた形状か平行平面板（ハーフミ
ラー）のビームスプリッタを用いているが、この２種類
のビームスプリッタを用いると次のような問題がある。

【００１１】直角三角形のプリズムを２枚張り合わせた
ビームスプリッタは研磨面が多く、また、張り合わせ工
程が必要なことから単価が高い。さらに、厚みが大き
く、レーザから出射した直後の発散光に挿入すると大き
な収差が発生してしまう。

【００１２】一方、平行平面板（ハーフミラー）はコス
トが安く、発散光に挿入しても収差の発生が少ないとい
うメリットはあるが、レーザから出射した直後の発散光
の状態でビームを合成させるにはレーザ、コリメートレ
ンズ、平行平面板を非常に近接させて構成しなければな
らず実装が難しい。

【００１３】このため、コリメートレンズの後にビーム
スプリッタを配置した方が実装は容易であるが、平行平
面板をコリメート光に挿入すると、図１６に示すよう
に、平行平面板８８の表裏面での多重反射により反射光
Lが平行となって干渉が発生し、光量変動が発生すると
いう問題がある。

【００１４】この問題を解決するにはハーフミラー面８
８Ａではない方の透過面８８Ｂの反射率を限りなくゼロ
に近づけなければならず、多層膜コーティングが必要と
なり単価が高くなってしまう。

【００１５】また、図１２に示すような、張り合わせプ
リズムのビームスプリッタ６０、６２は平行平面板のよ
うな干渉の心配はないが、前述したように加工コストが
高いという問題がある。

【００１６】本発明は、加工コストが安く、干渉による
光量変動がなく、ビームを分離・合成できる光源装置及
び光学走査装置を提供することを課題とする。

【００１７】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、透過面とハーフミラー面を持つウェッジプリズム
と、前記ウェッジプリズムのハーフミラー面へ第１ビー
ムを入射させる第１光源と、前記ウェッジプリズムの透
過面へ第２ビームを入射させる第２光源と、を備え、前
記ハーフミラー面を透過した第１ビームと反射した第２
ビームが略同一方向となり、前記ハーフミラー面を反射
した第１ビームと透過した第２ビームが略同一方向とな
るように、前記第１光源と前記第２光源を配置したこと
を特徴としている。

【００１８】上記構成では、第１光源から出射された第
１ビームをウェッジプリズムのハーフミラー面へ、第２
光源から出射された第２ビームをウェッジプリズムの透
過面へそれぞれ入射させ、各ビームを２方向に分離す
る。 そして、ハーフミラー面を透過した第１ビームと
反射した第２ビームが略同一方向となり、ハーフミラー
面を反射した第１ビームと透過した第２ビームが略同一
方向となる。

【００１９】ここで、ウェッジプリズムの２面、すなわ
ち、ハーフミラー面と透過面は、平行ではなく面間角度
差が設けられているので、表裏面の反射光が平行となら
ない。このため、多重反射しても平行平面板のように干
渉が発生することがない。また、ウェッジプリズムは、
製造工程が張り合わせプリズムよりも少ないので張り合
わせプリズムよりもコストが安い。

【００２０】また、ウェッジプリズムを用いる場合に
は、張り合わせプリズムや平行平面板とは異なり、入射
ビームが屈折により曲げられるため、張り合わせプリズ
ムや平行平板のように直角平行方向の合成・分離となら
ないが、２方向から入射する複数ビーム間の角度差を適
当な値に設定することにより、合成・分離後のビームを
同一方向とすることが出来る。

【００２１】なお、ここで言う、第１光源と第２光源
は、文字通り、２つの光源という意味だけではなく、複
数の光源、たとえば、３つ４つの光源という意味でも使
用しており、分離・合成されるビームの数が２本に限定
されるわけではない。

【００２２】請求項２に記載の発明は、前記ウェッジプ
リズムの透過面とハーフミラー面がなす面間角度をσ、
ウェッジプリズムの屈折率をＮ、第２ビームと前記透過
面の法線との角度をｉとしたとき、第１ビームと第２ビ
ーム間の角度差が下式で求められる角度差θに略等しい
ことを特徴としている。

【００２３】（単位：ｒａｄ） 上記の計算式からウェッジプリズムに対して２方向（ハ
ーフミラー面側と逆の透過面の２方向）から入射する第
１ビームと第２ビームの間の角度差θを求めることで、
ウェッジプリズムによって分離される２つのビームの方
向が同一となる。

【００２４】請求項３に記載の発明は、前記ハーフミラ
ー面の反射率が第１ビームと第２ビームの反射位置で異
なることを特徴としている。

【００２５】上記構成では、ウェッジプリズムによるビ
ームの分離比率（２方向に分離される光量比）が５０：
５０の場合はウェッジプリズムのハーフミラー面の反射
率をすべて５０％とすれば問題なく分離できるが、一方
に分離されたビームと他方に分離されたビームで用途が
違う場合等では、分離比率を２０：８０とか３０：７０
というように不均等にしたい場合がある。

【００２６】このような場合は、第１ビームと第２ビー
ムの反射位置をずらし、反射位置に応じてハーフミラー
コーティングを変え、反射率をビーム毎に異ならせれば
よい。

【００２７】請求項４に記載の発明は、前記ハーフミラ
ー面の反射率が異なる２つのウェッジプリズムを設け、
前記第１ビームを一方のウェッジプリズムのハーフミラ
ー面から入射させ、前記第２ビームを他方のウェッジプ
リズムの透過面から入射させると共に、２つのウェッジ
プリズムの屈折率、面間角度、及び第１ビーム、第２ビ
ームに対するウェッジプリズムの設置角度を同じにした
ことを特徴としている。

【００２８】上記構成では、第１ビームと第２ビームに
対してハーフミラー面の反射率が異なるウェッジプリズ
ムをそれぞれ設け、ウェッジプリズムの屈折率、面間角
度、第１ビームと第２ビームに対する設置角度を同じに
している。請求項３のように、１つのウェッジプリズム
に異なるハーフミラーコーティングを施す必要がなくな
り、ウェッジプリズムの製造が容易となる。

【００２９】請求項５に記載の発明は、前記ウェッジプ
リズムによって２方向に分離されたビームの１方向側に
ビームの位置を検出する光位置検出装置が設けられたこ
とを特徴としている。

【００３０】上記構成では、分離された２方向のうち、
１方向側にビームの位置を検出する光位置検出装置を設
けることで、複数ビームの位置関係を精度良く合わせる
ことができる。これによって複数ビームで感光体に書き
込まれる複数の走査線間隔を制御したり、複数ビームで
カラー画像を書き込む際の色ずれを補正することができ
る。

【００３１】請求項６に記載の発明は、前記ウェッジプ
リズムによって２方向に分離されたビームの１方向側に
ビームの光量を検出する光量検出装置が設けられたこと
を特徴としている。

【００３２】上記構成では、光源として、ビームを分離
して光量を検出することが必要な面発光レーザを用いた
場合等に、分離された２方向のうち１方向側に光量検出
装置を配置することによって、それぞれのビームの光量
を検出し、各ビームの光量を所定量に合わせることがで
きる。

【００３３】請求項７に記載の発明は、前記ウェッジプ
リズムと前記光源の間には、光源から出射したビームを
略平行光にするコリメートレンズが設けられていること
を特徴としている。

【００３４】上記構成では、ウェッジプリズムに対して
は平行光・発散光・収束光のどのようなビームを入射さ
せてもよいが、コリメートされた略平行光を入射させる
ことで、ウェッジプリズムの配置場所の制約も少なくな
る。なお、ウェッジプリズムは、多重反射による干渉防
止機能をもっているので、略平行光を入射させても問題
は生じない。請求項８に記載の発明では、請求項１〜７
記載の光源装置から出射された複数のビームを同一の光
偏向器で偏向させて被走査面を走査露光することを特徴
としている。

【００３５】請求項１〜７記載の光源装置を光学走査装
置に適用することで、高出力化、高速化、多色化のプリ
ンターを得ることができる。

【００３６】

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
の形態を説明する。

【００３７】図１及び図２は本実施形態の光源装置１１
が搭載された光学走査装置１３が示されている。

【００３８】光源としての面発光レーザ１０Ａ，１０Ｂ
から出射された発散光はコリメートレンズ１２Ａ，１２
Ｂで略平行光とされる。平行光となった各レーザ光はウ
ェッジプリズム１４により２方向に分離される。このウ
ェッジプリズム１４は、面発光レーザ１０Ａからのビー
ムが入射するハーフミラー面１４Ａがハーフミラーコー
トされている。

【００３９】面発光レーザ１０Ａ、１０Ｂはウェッジプ
リズム１４によって分離されるビームＡ、Ｂの２つの方
向が各レーザで同じ方向となるように、後述する角度差
θで配置される。

【００４０】レンズ１６はウェッジプリズム１４によっ
て分離されたビームＡ，Ｂを光量検出器１８の受光面上
に収束させる。光量検出器１８の出力はレーザ光量制御
装置２０に入力され、面発光レーザ１０Ａ，１０Ｂの出
力が所定の出力となるよう、面発光レーザ１０Ａ，１０
Ｂの駆動電流量を制御する。

【００４１】もう一方のビームは副走査方向にのみパワ
ーを有するシリンドリカルレンズ２２により、ポリゴン
ミラー２４の反射面上に主走査方向に長い線状に結像さ
れ、Ｆθレンズ２６によって感光体２８上にスポット状
に結像され、ポリゴンミラー２４が回転することによっ
て感光体２８上を走査露光する。

【００４２】図２に示すウェッジプリズム１４に入射す
る２つのビームの角度差θは、下記の式で表される。 （単位：ｒａｄ） ―（１）式 σはウェッジプリズムを構成する２つの面（透過面１４
Ｂとハーフコート面１４A）の面間角度、Ｎはウェッジ
プリズムの材料の屈折率、ｉはビームＡとウェッジプリ
ズム１４の透過面の法線との角度である。ここで、表１
及び図３〜図５に幾つかの例を示す。

【表１】 図３〜図５を見るとわかる通り、（１）式を用いてウェ
ッジプリズムに入射する２つのビームの角度差θを設定
すると、ウェッジプリズムの設置角度や入射角度が変わ
っても、２方向から入射する２つのビームがウェッジプ
リズムによって同じ２方向に分離される。但し、透過面
側から入射するビームがハーフミラー面で反射された
後、透過面側で全反射されてしまう角度差θには設定は
しない。

【００４３】このように、ウェッジプリズムでは、ハー
フミラー面１４Aと透過面１４Ｂは、平行ではなく面間
角度差が設けられているので、図２に示す表裏面の反射
光Ｌ１が平行とならない。このため、多重反射しても平
行平面板のように干渉が発生することがない。

【００４４】一方、面発光レーザは偏光方向の制御が難
しく、ハーフミラー面で入射角度が大きくなると反射率
の偏光方向依存性が大きくなる。そこで、ハーフミラー
面での反射率が面発光レーザの偏光方向のばらつきの影
響を受けない様にするためには、図３、図５に示すウェ
ッジプリズム３０，３４のようにハーフミラー面３０
A、３４Aへの入射角度が小さくなるようにした方がよ
い。また、従来技術の図１３に示すように、レーザ６
８，７０や光位置検出器７４を出来るだけ直角平行に近
い配置にする場合は、図４のウェッジプリズム３２のよ
うに配置すればよい。

【００４５】ウェッジプリズムのハーフミラー面が透
過：反射＝５０：５０の場合は、ウェッジプリズムによ
って分離される２方向（図２に示すビームＡＢ）の分割
比率が５０：５０となるので、図１では面発光レーザ１
０Ａのビームも面発光レーザ１０ＢのビームＢもポリゴ
ンミラー２４側に５０％，光量検出器１８側に５０％振
り分けられる。

【００４６】しかし、感光体２８を露光する光量を光量
検出に用いる光量よりも大きくしたいというような場
合、例えば、ウェッジプリズム１４のハーフミラーコー
トティングを反射：透過＝７０：３０のようにすると、
面発光レーザ１０Ａの光量はポリゴンミラー側７０％、
光量検出側３０％、面発光レーザ１０Ｂの光量はポリゴ
ンミラー側３０％、光量検出側７０％になってしまい、
所望の光量比を得ることができない。

【００４７】この場合、図６に示すウェッジプリズム３
６のように、各ビームが通過する位置においてハーフミ
ラー面３６Ａ、３６Ｂを別のコーティングとすればよ
い。例えばビームＡが透過するハーフミラー面３６Ａ
を、反射：透過＝７０：３０とし、ビームＢが透過する
ハーフミラー面３６Ｂを、反射：透過＝３０：７０とす
れば、光量検出器１８へ向かうビームを３０％、ポリゴ
ンミラー２４に向かうビームを７０％とすることができ
る。

【００４８】また、同一のウェッジプリズムに、図６に
示すような２種類のコーティングを施すことが難しい場
合は、図７に示すように、ビームＡ用とビームＢ用のウ
ェッジプリズム４０、４２を２つ用い、それに施すコー
ティングを別のものとすればよい。

【００４９】この場合、図７に示すように、２つのウェ
ッジプリズム４０，４２を上下に２つ重ねても良いが、
図８に示すように、形状と材料が同じウェッジプリズム
４４，４６を平行にずらした位置に配置してもよい。

【００５０】なお、ここで言う形状とは２面の面間角度
差だけを指し、厚みは違うものであっても構わない。ま
た、ポリゴンミラー２４に向かう２つのビームＡ、Ｂは
上下に重なっており、光量検出器１８に向かう２つのビ
ームは紙面と平行な方向において位置がずれるように配
置されている。

【００５１】これは、光量検出器１８の前にはビームを
集光させるレンズ１６が設けられており、ビーム位置が
ずれていてもそれが平行であればレンズ１６によって２
本のビームは光量検出器１８の同一個所に集光されるの
で特に問題ないことに対して、ポリゴンミラー２４へ向
かうビームは平行であっても位置がずれているとポリゴ
ンミラー２４への入射位置がずれるため、ポリゴンミラ
ー２４の反射位置が異なって感光体２８上に結像された
ときの光学性能に違いが生じたり、ポリゴンミラー２４
の反射面からビームがけられないために、ポリゴンミラ
ー２４の径を大きくしたりしなければならない。

【００５２】そのため、ポリゴンミラー２４へ向かうビ
ームが上下に重なり、光量検出器１８に向かうビームは
横方向にずれた位置にしている。

【００５３】図９は、ウェッジプリズム１４で分離され
たビームの位置を検出して、面発光レーザ１０Ａ、１０
Ｂの位置関係を制御する例を示したものである。

【００５４】ウェッジプリズム１４で分離されたビーム
はそのまま（レンズを介さずに）ビーム位置検出器４８
に入射する。ビーム位置検出器４８はＣＣＤカメラやポ
ジションセンサ等の位置情報を出力するものである。ビ
ームによって感光体を露光しないタイミングで面発光レ
ーザ１０Ａ、１０Ｂの点灯を切り替えることによって、
ビーム位置検出器４８上の面発光レーザ１０Ａ、１０Ｂ
から出射されたビーム位置を検出し、その位置関係が所
定の位置にあるかどうかを制御装置５０によって判断す
る。

【００５５】制御装置５０は、必要であれば面発光レー
ザ１０Ａ、１０Ｂ（両方又はどちらか一方）に設けられ
たアクチュエータ（図示省略）で面発光レーザの位置を
調整し、複数のビーム位置関係が所定の関係となるよう
に制御する。

【００５６】なお、アクチュエータで動かすものはコリ
メータレンズ１２Ａ，１２Ｂであってもよいし、面発光
レーザとコリメータレンズのユニットであってもよい。

【００５７】図９は面発光レーザ１０Ａ、１０Ｂのビー
ムＡ，Ｂが同じ感光体２８を露光することによって光学
走査装置５０の露光速度を増大させる構成を示したもの
であるが、感光体２８とＦθレンズ２６の間で合成され
た２つのビームを分離し、ミラー等によって各ビームを
別々の感光体に露光するカラー用光学走査装置に適用し
てもよい。この場合、ビームの位置補正はカラーレジス
トレーションの補正に用いることになる。

【００５８】図１及び図９において、ウェッジプリズム
１４は面発光レーザからの発散光がコリメートレンズに
よって平行光とされたところに配置しているが、図１０
のように面発光レーザ１０Ａ，１０Ｂとコリメートレン
ズ１２Ａ，１２Ｂの間に入れることも可能である。しか
し、この場合は表裏面の干渉の影響が小さいので、ウェ
ッジプリズム１４を用いるメリットが小さくなること、
コリメートレンズが２つのビームで共通となるので、フ
ォーカス調整を光源側で行なう必要があること、面発光
レーザ、コリメートレンズ、ウェッジプリズムを非常に
近接させて配置することになるのでレイアウトが難しい
等の問題があるので、ウェッジプリズムはコリメートレ
ンズの後ろに置いたほうがよい。

【００５９】これまでの説明においては、光源が２つの
例を示したが、光源を上下に重ねれば光源の数は２つに
限定されることはない。例えば、図１１の面発光レーザ
１０Ｂの位置に紙面垂直方向にずらした位置にもう一つ
の面発光レーザ１０Ｃを配置するしても本発明の効果が
変わるわけではない。

【００６０】また、本実施例では、光源として面発光レ
ーザを例に取って説明したが、これに特定される訳では
なく、端面発光レーザでも同様な効果を得ることができ
る。

【００６１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
複数の光源からのビームをウェッジプリズムで同一方向
へ合成・分離することで、平行平面板を用いるよりも多
重反射による干渉問題を回避することができ、また、張
り合わせプリズムを用いるよりもコストを安くすること
ができる。このため、低コストで良好な性能の光源装置
を実現することができる。

【００６２】また、本光源装置を光学走査装置に適用す
ることによって、複数の光源を用いて装置の高速化・カ
ラー化を計る場合に、出射したビームの一部を分離して
光量を検出したりビーム位置関係を検出することが可能
となるので、光学走査装置を良好な性能に保つことがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施形態に係る光学走査装置の平面図であ
る。

【図２】本実施形態に係る光源装置のウェッジプリズム
を示す平面図である。

【図３】本実施形態に係る光源装置のウェッジプリズム
の設定角度を変えたバリエーションを示す平面図であ
る。

【図４】本実施形態に係る光源装置のウェッジプリズム
の設定角度を変えたバリエーションを示す平面図であ
る。

【図５】本実施形態に係る光源装置のウェッジプリズム
の設定角度を変えたバリエーションを示す平面図であ
る。

【図６】ハーフミラー面の反射率を変えたウェッジプリ
ズムを示す斜視図である。

【図７】ハーフミラー面の反射率を変えたウェッジプリ
ズムを上下に２枚組み合わせた態様を示す斜視図であ
る。

【図８】ハーフミラー面の反射率を変えたウェッジプリ
ズムを左右に２枚組み合わせた態様を示す斜視図であ
る。

【図９】変形例に係る光学走査装置の平面図である。

【図１０】光源とコリメートレンズとの間にウェッジプ
リズムを挿入した例を示す説明図である。

【図１１】ウェッジプリズムに３つのビームを入射させ
た例を示す斜視図である。

【図１２】従来の光学走査装置の平面図である。

【図１３】従来の光学走査装置の平面図である。

【図１４】従来の光源装置の平面図である。

【図１５】従来の光源装置の平面図である。

【図１６】平行平面板で多重反射が生じている様子を示
す説明図である。

【符号の説明】

１０Ａ 面発光レーザ（第１光源） １０Ｂ 面発光レーザ（第２光源） １２Ａ コリメートレンズ １２Ｂ コリメートレンズ １４ ウェッジプリズム １４Ａ 透過面 １４Ｂ ハーフミラー面 １８ 光位置検出装置 ４８ 光量検出装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2C362 AA00 AA07 AA11 BA04 BA58 BA64 BA69 BA82 2H045 AA01 BA02 BA22 BA33 CB63 CB65 DA02 5C051 AA02 CA07 DB22 DB24 DB30 5C072 AA03 DA02 DA04 DA10 HA02 HA09 HA10 HA13

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透過面とハーフミラー面を持つウェッジ
   プリズムと、前記ウェッジプリズムのハーフミラー面へ
   第１ビームを入射させる第１光源と、前記ウェッジプリ
   ズムの透過面へ第２ビームを入射させる第２光源と、を
   備え、前記ハーフミラー面を透過した第１ビームと反射
   した第２ビームが略同一方向となり、前記ハーフミラー
   面を反射した第１ビームと透過した第２ビームが略同一
   方向となるように、前記第１光源と前記第２光源を配置
   したことを特徴とする光源装置。
2. 【請求項２】 前記ウェッジプリズムの透過面とハーフ
   ミラー面がなす面間角度をσ、ウェッジプリズムの屈折
   率をＮ、第２ビームと前記透過面の法線との角度をｉと
   したとき、第１ビームと第２ビーム間の角度差が下式で
   求められる角度差θに略等しいことを特徴とする請求項
   １に記載の光源装置。（単位：ｒａｄ）
3. 【請求項３】 前記ハーフミラー面の反射率が第１ビー
   ムと第２ビームの反射位置で異なることを特徴とする請
   求項１又は請求項２に記載の光源装置。
4. 【請求項４】 前記ハーフミラー面の反射率が異なる２
   つのウェッジプリズムを設け、前記第１ビームを一方の
   ウェッジプリズムのハーフミラー面から入射させ、前記
   第２ビームを他方のウェッジプリズムの透過面から入射
   させると共に、２つのウェッジプリズムの屈折率、面間
   角度、及び第１ビーム、第２ビームに対するウェッジプ
   リズムの設置角度を同じにしたことを特徴とする請求項
   １又は請求項２に記載の光源装置。
5. 【請求項５】 前記ウェッジプリズムによって２方向に
   分離されたビームの１方向側にビームの位置を検出する
   光位置検出装置が設けられたことを特徴とする請求項１
   〜請求項４の何れかに記載の光源装置。
6. 【請求項６】 前記ウェッジプリズムによって２方向に
   分離されたビームの１方向側にビームの光量を検出する
   光量検出装置が設けられたことを特徴とする請求項１〜
   請求項４の何れかに光源装置。
7. 【請求項７】 前記ウェッジプリズムと前記光源の間に
   は、光源から出射したビームを略平行光にするコリメー
   トレンズが設けられていることを特徴とする請求項１〜
   請求項６の何れかに記載の光源装置。
8. 【請求項８】 請求項１〜７記載の光源装置から出射さ
   れた複数のビームを同一の光偏向器で偏向させて被走査
   面を走査露光することを特徴とする光学走査装置。